CN108727037B - 一种无光釉面的立体高仿真陶瓷砖及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种无光釉面的立体高仿真陶瓷砖及其制备方法，所述方法包括以下步骤：1)采用激光四维精雕系统精雕数码模具；2)正打压制坯体成型；3)通过控制瓷质砖砖坯干燥温度或陶质砖砖坯素烧温度控制砖坯上釉前吸水率为15％‑20％；4)高压喷施少量高钛不透水底釉；5)高压喷施少量无光面釉；6)采用数码喷墨打印机打印装饰墨水和功能墨水；7)装饰干粒熔块，采用可控负压吸干粒熔块设备吸走多余干粒熔块；8)烧成，即得无光釉面的立体高仿真陶瓷砖。本发明通过模具雕塑、釉料配方调控、高压喷釉、效果装饰等多方面协作创新制备得到立体仿真、釉面光泽度为2‑6光泽单位、表面装饰效果逼真的无光釉面的立体高仿真陶瓷砖。

Description

一种无光釉面的立体高仿真陶瓷砖及其制备方法
技术领域
本发明属于建筑陶瓷领域，具体涉及一种无光釉面的立体高仿真陶瓷砖及其制备方法。
背景技术
釉面砖是指表面经过烧釉处理的砖，是主要的建筑装饰材料之一，由于其色彩图案丰富、规格多、清洁方便、防污能力强、选择空间大等优点而被广泛运用于墙面和地面装修。
市场上的釉面砖因面釉配方种类的限制，按光泽来分类通常有亮光、柔光和哑光三种光泽效果的釉面砖，亮光釉面砖作为釉面砖的“开山砖”，是市面上最常见的釉面砖，光泽度在90-98光泽单位之间，因为亮光釉面砖太亮，反光性强，铺贴于室内会造成一定程度上的光污染，不利于营造舒适放松的家装氛围，柔光砖与哑光砖应运而生，其中市面上已有柔光砖的光泽度在30-80光泽单位之间，哑光砖的光泽度在10-30光泽单位之间。
现有的柔光砖、哑光砖多通过抛光釉面来实现釉面光泽度的降低，该措施存在如下缺点：其一，釉面需要抛光来达到光泽度，抛光会破坏釉面结晶晶体，釉层中间的微小气泡呈现于表面，使釉面容易藏污吸污，这样抛光的柔光就必须依靠抛后打蜡来弥补釉面吸污的缺陷。其二，当釉层中间微小气泡偏多时，打蜡会产生明显的蜡痕，蜡痕会让釉面的光泽度不均匀，从而影响釉面的整体美观。其三，抛光时容易造成砖面不平整不细腻，出现“水波纹”现象，影响铺贴效果。
专利号为201410490759.2(公开日2015年1月28日)的中国发明专利采用抛光机进行抛光，分别用弹性模块、研磨擦和抛光片作为分级抛光磨具依次将表面的熔块抛平，使产品表面呈现哑光效果，该专利中的多道分级抛光程序虽然在一定程度上改善了砖面不平的问题，但问题始终未彻底解决，且多道分级抛光工艺费时费工费料，无形之中增添了厂家成本，经抛光工艺的哑光瓷砖更是难以同时满足消费者对瓷砖立体仿真度和无光性的需求，装饰效果单一。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术哑光砖装饰效果单一，难以在哑光釉基础上通过激光精雕模具效果配合效果墨水和干粒熔块实现立体仿真化；通过改变釉料的悬浮性和流动性，解决高比重的高压雾化施釉、同时解决了精雕立体砖面的施釉装饰等问题，提供一种光泽度为2-6个光泽单位，陶瓷砖中陶质砖吸水率为10.5％-13％；瓷质砖吸水率为0.35％-0.45％，同时立体仿真效果优异、装饰效果丰富多层次的无光釉面高立体仿真砖及其制备方法。
本发明目的通过如下技术方案实现：
一种无光釉面的立体高仿真陶瓷砖的制备方法，包括以下步骤：
1)采用激光四维精雕系统精雕数码模具；
2)正打压制，成型坯体；
3)通过控制瓷质砖砖坯干燥温度或陶质砖砖坯素烧温度，控制砖坯上釉前吸水率为15％-20％；
4)高压喷施高钛不透水底釉，每平方米砖施釉需要220-290g；以质量份数计，所述高钛不透水底釉的化学组成为：二氧化硅50-70份，氧化钛10-20份，氧化锌2-5份，氧化钙18-25份，氧化铝1-5份，氧化镁1-2份，氧化钾1-2份，氧化钡1-3份，氧化钠0-0.5份，氧化铁0-0.3份；
所述的高钛不透水底釉的制备：将配制的原料在1180-1220℃下煅烧至熔融，倒入冷水中急冷制成玻璃熔块，然后球磨得到釉粉后，加入高钛不透水底釉原料质量0.3％-0.7％的按1:1—4:3混合的悬浮剂和快干剂，混合球磨，得到细度为300目-350目、干重0.4-0.7g/100ml、比重1.68-1.72g/cm3的高钛不透水底釉；
5)高压喷施无光面釉，每平方米砖施釉需要220-290g；以质量份数计，所述无光面釉的化学组成为：二氧化硅50-70份，氧化铝20-30份，氧化钙10-20份，氧化镁1-5份，氧化钾1-3份，氧化钠1-2份，氧化锆3-10份，氧化锌2-7份，氧化钡4-8份，氧化铁0.1-0.3份；
所述的无光面釉的制备：将配制的原料在1150-1180℃下煅烧至熔融，倒入冷水中急冷制成玻璃熔块，然后球磨得到釉粉后，加入无光面釉原料质量0.3％-0.7％添加剂混合球磨，添加剂是悬浮剂和快干剂按1:1—4:3比例范围配置而成，得到细度为300目-350目、干重0.4-0.7g/100ml、比重1.68-1.72g/cm3的无光面釉高钛不透水底釉；
6)采用数码喷墨打印机打印装饰墨水和功能墨水；
7)采用数码布施干粒熔块机在施好墨水的砖坯表面布施装饰干粒熔块，用可控负压吸干粒熔块设备吸走多余干粒熔块；
8)烧成，得无光釉面的立体高仿真陶瓷砖。
优选的，步骤1)所述数码精雕模具为采用激光四维精雕系统通过高能量激光束在模面上雕刻成型，模面精雕花纹高低落差最大值可达2.5mm，模面深浅过渡的弧度控制为R8-R20。
作为优选技术方案，R8-R20的深浅过渡弧度结合控制坯体干燥(瓷质砖)或素烧(陶质砖)后砖坯吸水率为15％-20％，使得高钛底釉一经高压喷釉机喷出雾化就能迅速润湿粘附且均匀铺展在素坯表面形成厚度范围为0.05～0.1mm的不透水底釉层，无光面釉由高压喷釉机雾化喷施到底釉表面后，面釉与底釉接触面微微润湿，而且面釉、底釉釉料配方中的C400悬浮剂保证了釉料的悬浮不沉淀和流动性能，有利于高压喷施时的雾化效果，保证在模具的凸(高)位和凹(低)位都能够均匀的施上釉料，而SM快干剂的加入能使釉料在素砖表面快速凝固，最后形成一种在R8-R20弧度的底釉面上薄珠成串、均匀覆盖、不流釉、不堆釉的结构，厚度范围为0.05～0.1mm的极薄高压喷施釉层不会错失激光雕刻模具的每一处细节，使得激光精雕数码模具造就的立体效果得以100％保留。
优选的，步骤3)所述通过控制瓷质砖坯体干燥温度是控制无光釉面高立体仿真陶瓷瓷质砖砖坯上釉前吸水率为15％-20％的工艺要求,所述瓷质砖的坯体干燥温度为150℃-250℃，干燥时间为45-60分钟。
优选的，步骤3)所述通过控制陶质砖砖坯素烧温度是控制无光釉面高立体仿真陶瓷陶质砖砖坯上釉前吸水率为15％-20％的工艺要求，所述陶质砖的素烧温度为1050-1080℃。
优选的，步骤4)所述的高钛不透水底釉和步骤5)无光面釉的高压喷施都为采用喷釉机，在压力达到25bar，物料流速为15-25秒条件下经喷釉口喷出，瞬间即雾化均匀。
优选的，步骤4)和5)所述高钛底釉的釉层厚度为0.05～0.1mm；所述无光面釉的釉层厚度为0.05～0.1mm。所述悬浮剂为C400悬浮剂，其成分为羟丙甲基纤维素；所述快干剂为SM快干剂。
优选的，步骤6)所述数码喷墨打印机有12通道，其中6通道为颜色墨水通道，分别装备蓝色墨水、棕色墨水、黄色墨水、橘色墨水、包裹红色墨水和黑色墨水；另外6通道为功能墨水通道，分别装备亮光墨水、浮雕墨水、金属闪光墨水、负离子抗菌墨水和2通道胶水墨水。6通道颜色墨水配合无光釉料的化学成分，使发色的色域更加丰富，更加利于开发生产不同颜色需求的产品，使开发生产调色更加简单；6通道效果功能墨水配合颜色墨水和无光釉料，可以在砖的表面根据模具效果和颜色图案，精准装饰上亮光、金属、浮雕、胶水干粒熔块效果，同时在瓷砖表面喷上负离子和抗菌墨水，瓷砖烧成后还具有抗菌和负离子的功能。立体仿真坯面结合无光釉、搭配不同墨水的组合可实现多维立体印花，达到高仿真自然原材的效果。
优选的，步骤7)所述布施装饰干粒熔块为采用数码全自动干粒熔块机在施好墨水的砖坯表面布施装饰干粒熔块，每平方米砖上布施200-240g；同时用可控负压吸干粒熔块设备吸走多余干粒熔块并回收再次利用。
优选的，步骤8)所述烧成温度:瓷质砖烧成温度为1150℃-1180℃，烧成周期为45-60min，陶质砖烧成温度为1030℃-1050℃，烧成周期为50-60min。
本发明的数码精雕模具模面采用激光加工，效果精细，其间花纹高低落差最大值可达2.5mm，能满足各类仿真原材的立体层次设计要求。坯体经正打压制后成型素烧，区别于反压压制的正打压制工艺不仅能在生产过程中避免坯体、模具表面摩擦破坏模具的表面效果，延长模具的使用寿命，且打造的素坯表面深浅层次立体、细节丰富。
本发明的高钛底釉严格控制钛含量和锌含量，符合陶质砖完全不透水(用蓝色墨水测试30分钟不透水)的要求；无光面釉严格控制钙、镁、锆、锌、钡的含量，符合釉面无光(光泽度2-6光泽单位)的要求，体现了更自然的光泽，避免了光污染，是釉面砖釉料的创新。同时，高钛底釉及无光面釉的釉料配方中添加的C400悬浮剂以保证釉料的悬浮不沉淀和流动性能，细度均要控制在300目-350目、干重0.4-0.7g/100ml、比重1.68-1.72g/cm3、流速15-25秒以确保高压喷施时的雾化效果，添加的SM快干剂使釉料在素砖表面快速凝固。
本发明采用高压喷釉机，压力达到25bar以上，使得比重为1.68-1.72g/cm3、流速15-25秒的釉料经喷釉口喷出瞬间即雾化均匀，每平方米砖施釉仅需要220-290克(含水)，总干料比普通产品减少60％，既降低釉料使用量又降低生产成本。对每台高压喷釉机采用实时压力监控，当发生堵喷枪和压力变化时发出警报，防止施釉重量变化和喷釉不均的异常发生；同时每台高压喷釉机配备四点吸尘装置，采用微负压环境，喷施过程回收利用多余的雾化釉料，防止釉渣污染釉面，釉尘不会外扬污染环境。
本发明采用数码全自动干粒熔块机布施装饰干粒熔块，装饰干粒熔块包括透明干粒熔块、哑光干粒熔块、金属干粒熔块、窑变干粒熔块、超白干粒熔块、混合效果干粒熔块等。全自动数码干粒熔块机把干粒熔块均匀的布施于数码喷墨打印机打印有胶水墨水的砖面上，干粒熔块布施量可由干粒熔块机的皮带运行速度和料斗的开口度调整；只要将干粒熔块倒入料仓，设备就能够自动加料，自动回收多于的干粒熔块；当砖坯触发光电传感器，机器就自动运转布施干粒熔块。每一款产品调试完成后，可以把每一款产品的参数记录在设备存储器中，便于下次生产时调取生产参数，防止干粒熔块的浪费损耗。同时用可控负压吸干粒熔块设备吸走多余干粒熔块，负压吸收的干粒熔块经过筛处理后可以全部回收使用，降低了生产损耗，保证了生产环境不被污染。
相比于现有技术，本发明的有益效果在于：
1)本发明创新性地使用激光四维精雕系统雕刻模具，通过高能量激光束在模面上精准雕刻出各类仿真原材的立体层次设计要求所需的四维立体花纹，花纹高低落差最大值可达2.5mm，立体效果突出，且模面深浅过渡处的弧度根据花纹立体度调整控制为R8-R20，过渡效果柔和不生涩。同时配合正打压制工艺，保证素坯表面深浅层次立体、细节丰富，还能在生产过程中避免坯体、模具表面摩擦破坏模具的表面效果，延长模具的使用寿命。
2)本发明采用高压喷釉机，全程实时监控压力达到25bar以上，使得比重为1.68-1.72g/cm3、流速15-25秒的釉料经喷釉口喷出瞬间即雾化均匀，每平方米砖施釉仅需要220-290克(含水)，总干料比普通产品减少60％，既降低釉料使用量又降低生产成本，同时每台高压喷釉机配备四点吸尘装置，采用微负压环境，喷施过程回收利用多余的雾化釉料，防止釉渣污染釉面，釉尘不会外扬污染环境。
3)本发明的高钛底釉经高压喷釉机喷出雾化到吸水率为15％-20％的素坯表面能完全润湿粘附且均匀铺展，在素坯表面形成不透水底釉层，无光面釉经高压喷釉机喷出雾化到底釉表面后，与底釉接触面微微润湿，形成一种在R8-R20弧度的底釉面上薄珠成串、均匀覆盖、不流釉、不堆釉的结构，使得激光精雕数码模具造就的立体效果得以100％保留，不因釉料流动、在坯面凹陷处堆积而遭受损失。
4)本发明6通道颜色墨水和6通道功能墨水的新型12个通道喷墨印花机，配合无光釉料的化学成分，可以在砖的表面根据模具效果和颜色图案，精准装饰上亮光、金属、浮雕、胶水干粒熔块等多重效果，还能搭配多重功能墨水使得瓷砖具备抗菌、负离子等功能性。
附图说明
图1为实施例1数码激光四维精雕文件放大图。
图2为实施例1数码激光四维精雕模具实样图。
图3为实施例1精雕模具素坯成型实样图(局部)。
图4为实施例1精雕素坯数码喷釉后实样图(局部)。
图5为实施例1纺织品与精雕陶瓷板对比。
具体实施方式
为了更好的理解本发明，下面通过实施例对其进一步说明，但本发明要求保护的范围并不局限于实施例描述的范围。
实施例1
一种无光釉面高立体仿真陶质砖的制备方法，包括如下步骤：
步骤一，采用SIGMA200-300型激光四维精雕设备对母模的模面进行花纹精雕，模面精雕花纹高低落差达2.5mm，模面深浅过渡的弧度为R8，精雕模具实样图如图2所示，同时模具开模为开正压模，背纹是直条纹以便正压推坯脱模。图1为实施例1数码激光四维精雕文件放大图。
步骤二，采用本领域技术公知的普通砖坯原料配方进行配料，一般由钾长石，钠长石，滑石，石英，高岭土，泥，膨润土，氧化铝等组成，以质量分数计，其化学成分可以是二氧化硅65-70份、氧化铝17-22份、氧化钠1.5-3.5份、氧化钾2.5-4份、氧化镁0.5-1.5份、氧化铁1-1.5份、氧化钛0-0.2份、烧失量4-6份，配方实施例：二氧化硅68份、三氧化二铝18.8份、氧化钠2.2份、氧化钾3.9份、氧化镁0.8份、氧化钛0.1份、氧化铁1.1份，烧失量5.1。按上述组成配置原料后，原料经过混合湿法球磨9h得到陶瓷浆料，对陶瓷浆料进行喷雾造粒得到陶瓷粉料，粉料经过压力达300公斤/平方厘米的成型压机干压成型，并采用正打压制坯体成型，以控制生坯强度、变形及成型差；同时减少坯面残留坯粉影响立体效果设计，消除传统反打作业时模面与坯面顶出的相对摩擦对模具胶面和坯面造成的损伤。
步骤三，将成型好的坯体入窑素烧，素烧温度为1050℃，素烧后的素坯吸水率为20％。
步骤四，采用喷釉压力为25bar的Airpower JET50000型高压喷釉机，高压喷施220g/m2高钛底釉。以质量分数计，高钛底釉的化学组成为：二氧化硅50份，氧化钛11.2份，氧化锌5份，氧化钙25份，氧化铝5份，氧化镁1份，氧化钾1份，氧化钡1份，氧化钠0.5份，氧化铁0.3份。高钛底釉的制备：将配制的原料在1180℃下煅烧至熔融，然后迅速倒入冷水中急冷制成玻璃熔块，然后球磨得到釉粉后，加入高钛底釉釉粉质量分数为0.7％的按C400悬浮剂(羟丙甲基纤维素)：SM快干剂＝1:1配制的的混合物混合球磨6h，得到细度为300目、干重0.7g/100ml、比重1.72g/cm3、流速25秒的高钛底釉，高钛底釉经高压喷釉机喷出雾化后完全润湿粘附且均匀铺展在素坯表面与素坯结合紧密，经烧成后形成不透水且乳浊度高遮盖力强的厚0.05mm的高钛底釉层，施釉前后激光精雕模具营造的立体效果基本无损。
步骤五，采用喷釉压力为25bar的Airpower JET50000型高压喷釉机，高压喷施290g/m2无光面釉。以质量分数计，无光面釉的化学组成为：二氧化硅50份，氧化铝27.9份，氧化钙10份，氧化镁1份，氧化钾1份，氧化钠1份，氧化锆3份，氧化锌2份，氧化钡4份，氧化铁0.1份。无光面釉的制备：将配制的原料在1180℃下煅烧至熔融，然后迅速倒入冷水中急冷制成玻璃熔块，然后球磨得到釉粉后，加入无光面釉釉粉质量分数为0.7％的按C400悬浮剂(羟丙甲基纤维素)：SM快干剂＝1:1配制的的混合物混合球磨8h，得到细度为350目、干重0.7g/100ml、比重1.72g/cm3、流速25秒的的无光面釉。无光面釉经高压喷釉机喷出雾化到底釉表面后，与底釉接触面微微润湿，形成一种在R8弧度的底釉面上薄珠成串、均匀覆盖、不流釉、不堆釉的结构，烧成后厚度仅为0.1mm，施釉前后激光精雕数码模具造就的坯面立体效果100％保留，如图3和图4所示。
步骤六，根据公知的陶瓷砖喷墨工艺，采用TBX490-12-MC型12通道数码喷墨打印机在所述无光釉面上打印颜色墨水、功能墨水，丰富产品的装饰性及功能性。
步骤七，采用AirPower GRITS700SB型数码全自动干粒熔块机在施好颜色、功能墨水的砖坯表面布施200g卡罗比亚6204型干粒熔块，同时采用AirPower GRITS700SB型可控负压吸干粒熔块设备吸走多余干粒熔块，负压吸收的干粒熔块经过筛处理后可以全部回收使用，降低了生产损耗，保证了生产环境不被污染。
步骤八，将施好干粒熔块釉料的陶质砖坯体入窑煅烧，烧成温度为1030℃，烧成周期为60分钟，经烧成、磨边后得到无光釉面高立体仿真陶质砖。
经烧成得到的无光釉面高立体仿真陶质砖结合立体仿真坯面、无光釉、搭配颜色、功能墨水、装饰干粒熔块的组合最终实现本实施例仿真砖多维立体的印花效果，图案精准传神，花纹立体生动、仿真效果极佳，如图5所示。经国家陶瓷检测重点实验室联盟、国家建筑卫生陶瓷检测重点实验室、佛山出入境检验检疫局检验检疫综合技术中心依据GB/T13891-2008《建筑饰面材料镜向光泽度测定方法》检验釉面光泽度为2光泽单位、依据国家标准GB/T4100-2015《陶瓷砖》检测出成品砖吸水率为13％。
根据JIS的规定，光泽度的单位为％或者数字即可，记录时，原则上应明确测定角度，本发明实施例中光泽度的检测中入射角为60°。
实施例2
一种无光釉面高立体仿真陶质砖的制备方法，包括如下步骤：
步骤一，采用SIGMA200-300型激光四维精雕设备对母模的模面进行花纹精雕，模面精雕花纹高低落差达2.5mm，模面深浅过渡的弧度为R20，同时模具开模为开正压模，背纹是直条纹以便正压推坯脱模。
步骤二，采用本领域技术公知的普通砖坯原料配方进行配料，粉料经压力达300公斤/平方厘米的成型压机正打压制坯体成型，以控制生坯强度、变形及成型差；同时减少坯面残留坯粉影响立体效果设计，消除传统反打作业时模面与坯面顶出的相对摩擦对模具胶面和坯面造成的损伤。
步骤三，将成型好的坯体入窑素烧，素烧温度为1080℃，素烧后的素坯吸水率为15％。
步骤四，采用喷釉压力为25bar的Airpower JET50000型高压喷釉机，高压喷施290g/m2高钛底釉。以质量分数计，高钛底釉的的化学组成百分比为：二氧化硅61份，氧化钛10份，氧化锌2份，氧化钙18份，氧化铝2份，氧化镁2份，氧化钾2份，氧化钡3份。制备时，将配制的原料在1220℃下煅烧至熔融，然后迅速倒入冷水中急冷制成玻璃熔块，然后球磨得到釉粉后，加入高钛底釉釉粉质量分数为0.3％的按C400悬浮剂(羟丙甲基纤维素)：SM快干剂＝4:3配制的混合物混合球磨8h，得到细度为350目、比重1.68g/cm3、干重0.4g/100ml、流速15秒的高钛底釉，高钛底釉经高压喷釉机喷出雾化后完全润湿粘附且均匀铺展在素坯表面与素坯结合紧密，经烧成后形成不透水且乳浊度高遮盖力强的厚0.1mm的高钛底釉层，施釉前后激光精雕模具营造的立体效果基本无损。
步骤五，采用喷釉压力为25bar的Airpower JET50000型高压喷釉机，高压喷施220g/m2无光面釉。以质量分数计，无光面釉的化学组成为：二氧化硅54.2份，氧化铝20份，氧化钙12份，氧化镁5份，氧化钾2份，氧化钠2份，氧化锆5份，氧化锌3份，氧化钡5份，氧化铁0.2份。制备时，将配制的原料在1150℃下煅烧至熔融，然后迅速倒入冷水中急冷制成玻璃熔块，然后球磨得到釉粉后，加入无光面釉釉粉质量分数为0.3％的按C400悬浮剂(羟丙甲基纤维素)：SM快干剂＝4:3配制的的混合物混合球磨6h，得到细度为300目、比重1.68g/cm3、干重0.4g/100ml、流速15秒的的无光面釉，无光面釉经高压喷釉机喷出雾化到底釉表面后，与底釉接触面微微润湿，形成一种在R20弧度的底釉面上薄珠成串、均匀覆盖、不流釉、不堆釉的结构，烧成后厚度仅为0.05mm，施釉前后激光精雕数码模具造就的坯面立体效果100％保留。
步骤六，根据公知的陶瓷砖喷墨工艺，采用TBX490-12-MC型12通道数码喷墨打印机在所述无光釉面上打印颜色墨水、功能墨水，丰富产品的装饰性及功能性。
步骤七，采用AirPower GRITS700SB型数码全自动干粒熔块机在施好颜色、功能墨水的砖坯表面布施240g卡罗比亚1178型干粒熔块，同时采用AirPower GRITS700SB型可控负压吸干粒熔块设备吸走多余干粒熔块，负压吸收的干粒熔块经过筛处理后可以全部回收使用，降低了生产损耗，保证了生产环境不被污染。
步骤八，将施好干粒熔块釉料的陶瓷坯体入窑煅烧，烧成温度范围为1050℃，烧成周期为50分钟，经烧成、磨边后得到无光釉面高立体仿真陶质砖。
经烧成得到的无光釉面高立体仿真陶质砖图案精准传神，花纹立体生动、仿真效果极佳。经国家陶瓷检测重点实验室联盟、国家建筑卫生陶瓷检测重点实验室、佛山出入境检验检疫局检验检疫综合技术中心依据GB/T13891-2008《建筑饰面材料镜向光泽度测定方法》检验釉面光泽度为6光泽单位、依据国家标准GB/T4100-2015《陶瓷砖》检测出成品砖吸水率为10.5％。
实施例3
一种无光釉面高立体仿真瓷质砖的制备方法，包括如下步骤：
步骤一，采用SIGMA200-300型激光四维精雕设备对母模的模面进行花纹精雕，模面精雕花纹高低落差达2.5mm，模面深浅过渡的弧度为R8，同时模具开模为开正压模，背纹是直条纹以便正压推坯脱模。
步骤二，采用本领域技术公知的普通砖坯原料配方进行配料，粉料经压力达300公斤/平方厘米的成型压机正打压制坯体成型，以控制生坯强度、变形及成型差；同时减少坯面残留坯粉影响立体效果设计，消除传统反打作业时模面与坯面顶出的相对摩擦对模具胶面和坯面造成的损伤。
步骤三，将成型好的坯体于150℃下干燥60分钟，得到的素坯吸水率为20％。
步骤四，采用喷釉压力为25bar的Airpower JET50000型高压喷釉机，高压喷施220g/m2底釉。以质量分数计，底釉的的化学组成百分比为：二氧化硅50份、三氧化二铝21份、氧化钙10份、氧化镁2份、氧化钾1.5份、氧化钠2.5份、氧化钡2份、氧化锌2.5份、氧化锆8.5份。制备时，将配制的原料在1200℃下煅烧至熔融，然后迅速倒入冷水中急冷制成玻璃熔块，然后球磨得到釉粉后，加入高钛底釉釉粉质量分数为0.5％的按C400悬浮剂(羟丙甲基纤维素)：SM快干剂＝1:1配制的的混合物混合球磨6h，得到细度为300目、干重0.6g/100ml、比重1.70g/cm3、流速20秒的底釉，高钛底釉经高压喷釉机喷出雾化后完全润湿粘附且均匀铺展在素坯表面与素坯结合紧密，经烧成后形成不透水且乳浊度高遮盖力强的厚0.05mm的高钛底釉层，施釉前后激光精雕模具营造的立体效果基本无损。
步骤五，采用喷釉压力为25bar的Airpower JET50000型高压喷釉机，高压喷施290g/m2无光面釉。以质量分数计，无光面釉的化学组成为：二氧化硅53份，氧化铝24份，氧化钙10份，氧化镁1.9份，氧化钾1份，氧化钠1份，氧化锆3份，氧化锌2份，氧化钡4份，氧化铁0.1份。制备时，将配制的原料在1160℃下煅烧至熔融，然后迅速倒入冷水中急冷制成玻璃熔块，然后球磨得到釉粉后，加入无光面釉釉粉质量分数为0.5％的按C400悬浮剂(羟丙甲基纤维素)：SM快干剂＝1:1配制的的混合物混合球磨6h，得到细度为300目、干重0.6g/100ml、比重1.70g/cm3、流速20秒的的无光面釉，无光面釉经高压喷釉机喷出雾化到底釉表面后，与底釉接触面微微润湿，形成一种在R8弧度的底釉面上薄珠成串、均匀覆盖、不流釉、不堆釉的结构，形成一种在R8弧度的底釉面上薄珠成串、均匀覆盖、不流釉、不堆釉的结构，烧成后厚度仅为0.1mm，施釉前后激光精雕数码模具造就的坯面立体效果100％保留。
步骤六，根据公知的陶瓷砖喷墨工艺，采用TBX490-12-MC型12通道数码喷墨打印机在所述无光釉面上打印颜色墨水、功能墨水，丰富产品的装饰性及功能性。
步骤七，采用AirPower GRITS700SB型数码全自动干粒熔块机在施好颜色、功能墨水的砖坯表面布施200g卡罗比亚6204型干粒熔块，同时采用AirPower GRITS700SB型可控负压吸干粒熔块设备吸走多余干粒熔块，负压吸收的干粒熔块经过筛处理后可以全部回收使用，降低了生产损耗，保证了生产环境不被污染。
步骤八，将施好干粒熔块釉料的瓷质砖坯体入窑煅烧，烧成温度为1150℃，烧成周期为60min，经烧成、磨边后得到无光釉面高立体仿真瓷质砖。
经烧成得到的无光釉面高立体仿真瓷质砖图案精准传神，花纹立体生动、仿真效果极佳。经国家陶瓷检测重点实验室联盟、国家建筑卫生陶瓷检测重点实验室、佛山出入境检验检疫局检验检疫综合技术中心依据GB/T13891-2008《建筑饰面材料镜向光泽度测定方法》检验釉面光泽度为4光泽单位、依据国家标准GB/T4100-2015《陶瓷砖》检测出成品砖吸水率为0.45％。
实施例4
一种无光釉面高立体仿真瓷质砖的制备方法，包括如下步骤：
步骤一，采用SIGMA200-300型激光四维精雕设备对母模的模面进行花纹精雕，模面精雕花纹高低落差达2.5mm，模面深浅过渡的弧度为R8，同时模具开模为开正压模，背纹是直条纹以便正压推坯脱模。
步骤二，采用本领域技术公知的普通砖坯原料配方进行配料，粉料经压力达300公斤/平方厘米的成型压机正打压制坯体成型，以控制生坯强度、变形及成型差；同时减少坯面残留坯粉影响立体效果设计，消除传统反打作业时模面与坯面顶出的相对摩擦对模具胶面和坯面造成的损伤。
步骤三，将成型好的坯体于250℃下干燥45分钟，得到的素坯吸水率为15％。
步骤四，采用喷釉压力为25barAirpower JET50000型，高压喷施290g/m2底釉。以质量分数计，底釉的的化学组成百分比为：二氧化硅50份、三氧化二铝21份、氧化钙10份、氧化镁2份、氧化钾1.5份、氧化钠2.5份、氧化钡2份、氧化锌2.5份、氧化锆8.5份。制备时，将配制的原料在1200℃下煅烧至熔融，然后迅速倒入冷水中急冷制成玻璃熔块，然后球磨得到釉粉后，加入高钛底釉釉粉质量分数为0.5％的按C400悬浮剂(羟丙甲基纤维素)：SM快干剂＝4:3配制的的混合物混合球磨8h，得到细度为350目、干重0.6g/100ml、比重1.70g/cm3、流速20秒的底釉，高钛底釉经高压喷釉机喷出雾化后完全润湿粘附且均匀铺展在素坯表面与素坯结合紧密，经烧成后形成不透水且乳浊度高遮盖力强的厚0.1mm的高钛底釉层，施釉前后激光精雕模具营造的立体效果基本无损。
步骤五，采用喷釉压力为25bar的Airpower JET50000型高压喷釉机，高压喷施220g/m2无光面釉。以质量分数计，无光面釉的化学组成为：二氧化硅53份，氧化铝24份，氧化钙10份，氧化镁1.9份，氧化钾1份，氧化钠1份，氧化锆3份，氧化锌2份，氧化钡4份，氧化铁0.1份。制备时，将配制的原料在1180℃下煅烧至熔融，然后迅速倒入冷水中急冷制成玻璃熔块，然后球磨得到釉粉后，加入无光面釉釉粉质量分数为0.5％的按C400悬浮剂(羟丙甲基纤维素)：SM快干剂＝4:3配制的的混合物混合球磨8h，得到细度为350目、干重0.6g/100ml、比重1.70g/cm3、流速20秒的的无光面釉，无光面釉经高压喷釉机喷出雾化到底釉表面后，与底釉接触面微微润湿，形成一种在R8弧度的底釉面上薄珠成串、均匀覆盖、不流釉、不堆釉的结构，烧成后厚度仅为0.05mm，施釉前后激光精雕数码模具造就的坯面立体效果100％保留。
步骤六，根据公知的陶瓷砖喷墨工艺，采用TBX490-12-MC型12通道数码喷墨打印机在所述无光釉面上打印颜色墨水、功能墨水，丰富产品的装饰性及功能性。
步骤七，采用AirPower GRITS700SB型数码全自动干粒熔块机在施好颜色、功能墨水的砖坯表面布施240g卡罗比亚6204型干粒熔块，同时采用AirPower GRITS700SB型可控负压吸干粒熔块设备吸走多余干粒熔块，负压吸收的干粒熔块经过筛处理后可以全部回收使用，降低了生产损耗，保证了生产环境不被污染。
步骤八，将施好干粒熔块釉料的瓷质砖坯体入窑煅烧，烧成温度为1180℃，烧成周期为45分钟，经烧成、磨边后得到无光釉面高立体仿真瓷质砖。
经烧成得到的无光釉面高立体仿真瓷质砖图案精准传神，花纹立体生动、仿真效果极佳。经国家陶瓷检测重点实验室联盟、国家建筑卫生陶瓷检测重点实验室、佛山出入境检验检疫局检验检疫综合技术中心依据GB/T13891-2008《建筑饰面材料镜向光泽度测定方法》检验釉面光泽度为3光泽单位、依据国家标准GB/T4100-2015《陶瓷砖》检测出成品砖吸水率0.35％。
上述实施方式仅仅是为了清楚地说明本发明所作的举例，而并非是对本发明实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均包含在本发明权利要求的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种无光釉面的立体高仿真陶瓷砖的制备方法，其特征在于包括以下步骤：
1）采用激光四维精雕系统精雕数码模具，控制所述数码模具的模面深浅过渡的弧度为R8-R20；
2）正打压制，成型坯体；
3）通过控制瓷质砖砖坯干燥温度或陶质砖砖坯素烧温度，控制砖坯上釉前吸水率为15%-20%；
4）高压喷施高钛不透水底釉，每平方米砖施釉需要220-290g；以质量份数计，所述高钛不透水底釉的化学组成为：二氧化硅50-70份，氧化钛10-20份，氧化锌2-5份，氧化钙 18-25份，氧化铝1-5份，氧化镁1-2份，氧化钾1-2份，氧化钡1-3份，氧化钠0-0.5份，氧化铁0-0.3份；
所述的高钛不透水底釉的制备：将配制的原料在1180-1220℃下煅烧至熔融，倒入冷水中急冷制成玻璃熔块，然后球磨得到釉粉后，加入高钛不透水底釉原料质量0.3%-0.7%的按1:1—4:3混合的悬浮剂和快干剂，混合球磨，得到细度为300目-350目、干重0.4-0.7g/100ml、比重1.68-1.72 g/cm3的高钛不透水底釉；
5）高压喷施无光面釉，每平方米砖施釉需要220-290g；以质量份数计，所述无光面釉的化学组成为：二氧化硅50-70份，氧化铝20-30份，氧化钙10-20份，氧化镁1-5份，氧化钾1-3份，氧化钠1-2份，氧化锆3-10份，氧化锌2-7份，氧化钡4-8份，氧化铁0.1-0.3份；
所述的无光面釉的制备：将配制的原料在1150-1180℃下煅烧至熔融，倒入冷水中急冷制成玻璃熔块，然后球磨得到釉粉后，加入无光面釉原料质量0.3%-0.7%添加剂混合球磨，添加剂是悬浮剂和快干剂按1:1—4:3比例范围配置而成，得到细度为300目-350目、干重0.4-0.7g/100ml、比重1.68-1.72 g/cm3的无光面釉高钛不透水底釉；
6）采用数码喷墨打印机打印装饰墨水和功能墨水；
7）采用数码布施干粒熔块机在施好墨水的砖坯表面布施装饰干粒熔块，用可控负压吸干粒熔块设备吸走多余干粒熔块；
8）烧成，得无光釉面的立体高仿真陶瓷砖。
2.根据权利要求1所述的无光釉面的立体高仿真陶瓷砖的制备方法，其特征在于，步骤1）所述数码精雕模具为采用激光四维精雕系统通过高能量激光束在所述模面上雕刻成型，所述模面精雕花纹高低落差最大值达2.5mm。
3.根据权利要求1所述的无光釉面的立体高仿真陶瓷砖的制备方法，其特征在于，步骤3）所述的干燥温度为150℃-250℃，干燥时间为45-60分钟；步骤3）所述的素烧温度为1050-1080℃。
4.根据权利要求1所述的无光釉面的立体高仿真陶瓷砖的制备方法，其特征在于，步骤4）所述的高钛不透水底釉和步骤5）无光面釉的高压喷施都为采用喷釉机，在压力达到25bar，物料流速为15-25秒条件下经喷釉口喷出，瞬间即雾化均匀。
5.根据权利要求1所述的无光釉面的立体高仿真陶瓷砖的制备方法，其特征在于，步骤4）、5）所述高钛底釉的釉层厚度为0.05～0.1mm；所述无光面釉的釉层厚度为0.05～0.1mm。
6.根据权利要求1所述的无光釉面的立体高仿真陶瓷砖的制备方法，其特征在于，步骤4）和步骤5）所述的悬浮剂为C400悬浮剂，成分为羟丙甲基纤维素；所述的快干剂为SM快干剂。
7.根据权利要求1所述的无光釉面的立体高仿真陶瓷砖的制备方法，其特征在于，步骤6）所述数码喷墨打印机有12通道，其中6通道为颜色墨水通道，分别装备蓝色墨水、棕色墨水、黄色墨水、橘色墨水、包裹红色墨水和黑色墨水；另外6通道为功能墨水通道，分别装备亮光墨水、浮雕墨水、金属闪光墨水、负离子抗菌墨水和2通道胶水墨水。
8.根据权利要求1所述的无光釉面的立体高仿真陶瓷砖的制备方法，其特征在于，步骤7）所述布施装饰干粒熔块为采用数码全自动干粒熔块机在施好墨水的砖坯表面布施装饰干粒熔块，每平方米砖上布施200-240g；所述多余干粒熔块回收再次利用。
9.根据权利要求1所述的无光釉面的立体高仿真陶瓷砖的制备方法，其特征在于，对于瓷质砖，步骤8）所述烧成的温度为1150℃-1180℃，烧成周期为45-60min；对于陶质砖，步骤8）所述烧成的温度为1030℃-1050℃，烧成周期为50-60min。
10.一种无光釉面的立体高仿真陶瓷砖，其特征在于，其由权利要求1-9任一项所述制备方法制得；所述的无光釉面的立体高仿真陶瓷砖实现精雕立体砖面的施釉装饰，光泽度为2-6个光泽单位；最终得到的陶瓷砖中陶质砖吸水率为10.5%-13%；瓷质砖吸水率为0.35%-0.45%。
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