CN110034152A - 显示面板及其制作方法、显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种显示面板及其制作方法、显示装置，属于显示技术领域。其中，所述显示面板包括有多层功能膜层，所述多层功能膜层中的至少一层包括去除部；所述显示面板还包括透光结构，所述透光结构包括所述去除部，所述透光结构的透光率大于阈值，所述透光结构用于允许光线通过并到达与其位置对应处设置的光学感测元件，且所述去除部在所述衬底基板上的正投影与所述光学感测元件在衬底基板上的正投影重合。本发明的技术方案能够提高显示装置的屏占比，优化显示装置的显示效果。

Description

显示面板及其制作方法、显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别是指一种显示面板及其制作方法、显示装置。
背景技术
随着工业设计和产品组件工艺的不断提升，智能手机内部空间的利用率随着尺寸的不断增长也在随时增加。消费者现在不仅仅追求的是简单的大屏幕，更是希望能够在保证屏幕尺寸的同时机身越紧凑越好，而得益于硬件的同质化，"屏占比"已经成为了手机外观中极为热门的词汇。
首先，窄边手机带来更高的屏占比，让手机在更小的机身尺度内融入更大的显示面板，带来了更加完美的视频和游戏体验，还提高了手机的易携带性。第二，窄边框手机带来的视觉效果是极佳的，同样大小的机身可以容纳下更大的屏幕、或者同样大小的屏幕可以让机身尺寸更加紧凑。
现在手机产品都有配备前置摄像头用于自拍，导致手机上边框一定需要有一定空间来放置前摄像头，而现如今手机大屏化越来越明显，如何在有限的尺寸内提高屏占比成了设计者追求的方向。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种显示面板及其制作方法、显示装置，能够提高显示装置的屏占比，优化显示装置的显示效果。
为解决上述技术问题，本发明的实施例提供技术方案如下：
一方面，提供一种显示面板，所述显示面板包括位于衬底基板上的多层功能膜层，所述多层功能膜层中的至少一层包括去除部；
所述显示面板还包括透光结构，所述透光结构包括所述去除部，所述透光结构的透光率大于阈值，所述透光结构用于允许光线通过并到达与其位置对应处设置的光学感测元件，且所述去除部在所述衬底基板上的正投影与所述光学感测元件在衬底基板上的正投影重合。
进一步地，所述去除部为凹槽或镂空结构。
进一步地，所述显示面板包括位于所述衬底基板上的平坦层，位于所述平坦层上的有机电致发光结构，所述有机电致发光结构包括依次层叠设置的阳极、发光层和阴极；
其中，所述平坦层、所述阳极、所述发光层和所述阴极中的至少一者包括所述去除部。
进一步地，所述显示面板还包括位于所述衬底基板上的走线层，所述走线层的走线在所述衬底基板上的正投影与所述透光结构在所述衬底基板上的正投影不重合。
进一步地，所述衬底基板为柔性衬底基板，所述柔性衬底基板采用单层聚酰亚胺薄膜或透明聚酰亚胺薄膜。
进一步地，所述透光结构位于所述显示面板的显示区域内。
进一步地，所述透光结构的透光率大于60％。
本发明实施例还提供了一种显示面板的制作方法，所述显示面板包括位于衬底基板上的多层功能膜层，所述制作方法包括：
去除所述多层功能膜层中至少一层的一部分以在所述多层功能膜层中至少一层上形成去除部，形成透光率大于阈值的透光结构，所述透光结构包括所述去除部，所述透光结构用于允许光线通过并到达与其位置对应处设置的光学感测元件，且所述去除部在所述衬底基板上的正投影与所述光学感测元件在衬底基板上的正投影重合。
进一步地，所述显示面板包括位于衬底基板上的平坦层，位于所述平坦层上的有机电致发光结构，所述有机电致发光结构包括依次层叠设置的阳极、发光层和阴极，所述制作方法具体包括：
去除所述平坦层、所述阳极、所述发光层和所述阴极中的至少一者的一部分以形成所述去除部。
进一步地，所述平坦层采用光感材料制成，去除所述平坦层的一部分包括：
在衬底基板上涂覆一层光感材料；
利用掩模板对所述光感材料进行曝光，所述掩模板包括有对应所述去除部的透光图形和对应其他部分的不透光图形；
显影掉与所述透光图形对应的部分以形成所述去除部。
进一步地，去除所述阳极的一部分包括：
在所述平坦层上形成阳极材料层；
在所述阳极材料层上涂覆光刻胶，利用掩模板对所述光刻胶进行曝光，显影后形成光刻胶保留区域和光刻胶去除区域；
对光刻胶去除区域的阳极材料层进行湿法刻蚀，去除阳极图形的一部分以形成所述去除部。
进一步地，去除所述发光层和所述阴极的一部分包括：
在形成所述发光层和所述阴极后，利用掩模板遮挡除待去除部分之外的其他区域，利用干法刻蚀同时去除所述发光层和所述阴极的一部分以形成所述去除部。
本发明实施例还提供了一种显示装置，包括如上所述的显示面板，还包括位于所述显示面板非显示侧的光学感测元件，所述光学感测元件正对所述透光结构。
进一步地，所述显示装置为柔性显示装置，所述显示装置还包括贴附在所述显示面板非显示侧的底层膜片、位于所述底层膜片背向所述显示面板一侧的缓冲屏蔽层，所述底层膜片和所述缓冲屏蔽层包括开口，所述开口在所述显示面板上的正投影与所述透光结构在所述显示面板上的正投影重合，所述光学感测元件设置在所述开口。
进一步地，所述显示装置为触控显示装置，所述显示装置还包括位于所述显示面板显示侧的触控屏、位于所述触控屏背向所述显示面板一侧的偏光片，所述触控屏和所述偏光片中的至少一者包括去除部，所述去除部在所述显示面板上的正投影与所述透光结构在所述显示面板上的正投影重合。
进一步地，所述光学感测元件为摄像头。
本发明的实施例具有以下有益效果：
上述方案中，显示面板的多层功能膜层中的至少一层包括有去除部，这样可以在显示面板上形成透光率大于阈值的透光结构，透光结构能够允许光线通过并到达与其位置对应处设置的光学感测元件，因此，无需将光学感测元件设置在显示装置的边框处，可以将光学感测元件设置在显示面板的非显示侧，通过透光结构接收外界光线，无需在显示装置边框预留空间来设置光学感测元件，从而能够提高显示装置的屏占比，优化显示装置的显示效果。
附图说明
图1为本发明实施例显示面板的平面示意图；
图2为本发明实施例显示面板的截面示意图；
图3为本发明实施例显示装置的截面示意图；
图4为本发明实施例柔性显示装置的截面示意图；
图5为本发明实施例刚性显示装置的截面示意图；
图6为本发明实施例走线层的走线避让透光结构的示意图；
图7为本发明实施例所使用的掩膜板的示意图；
图8-图9为本发明实施例对阴极和发光层进行刻蚀的示意图。
附图标记
1 有效显示区域
2 预设区域
3 光学感测元件
4 显示面板
11 缓冲屏蔽层
12 底层膜片
13 衬底基板
14 走线层及平坦层
15 有机电致发光结构
16 封装薄膜
17 光学胶
18 触控屏
19 偏光片
20 光学胶
21 封装盖板
22 光线
23 走线
31 掩膜板
32 开口
33 阳极
34 发光层
35 阴极
具体实施方式
为使本发明的实施例要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。
本发明的实施例提供一种显示面板及其制作方法、显示装置，能够提高显示装置的屏占比，优化显示装置的显示效果。
本发明实施例提供一种显示面板，所述显示面板包括有多层功能膜层，所述多层功能膜层中的至少一层包括去除部；
所述显示面板还包括透光结构，所述透光结构包括所述去除部，所述透光结构的透光率大于阈值，所述透光结构用于允许光线通过并到达与其位置对应处设置的光学感测元件，且所述去除部在所述衬底基板上的正投影与所述光学感测元件在衬底基板上的正投影重合。
其中，去除部可以为凹槽或者镂空结构。值得注意的是，去除部的尺寸与现有显示面板中用于连接信号线与电极的过孔的尺寸的量级相差较大，可以达到毫米量级。透光结构可以包括去除部和与去除部对应位置处其他的功能膜层，或者也可以仅包括去除部。
本实施例中，显示面板的多层功能膜层中的至少一层包括有去除部，这样可以在显示面板上形成透光率大于阈值的透光结构，透光结构能够允许光线通过并到达与其位置对应处设置的光学感测元件，因此，无需将光学感测元件设置在显示装置的边框处，可以将光学感测元件设置在显示面板的非显示侧，通过透光结构接收外界光线，无需在显示装置边框预留空间来设置光学感测元件，从而能够提高显示装置的屏占比，优化显示装置的显示效果。
一具体实施例中，显示面板为OLED显示面板，显示面板包括衬底基板，位于所述衬底基板上的平坦层，位于所述平坦层上的有机电致发光结构，还可以包括包覆于有机电致发光结构外侧的封装薄膜，所述有机电致发光结构包括依次层叠设置的阳极、发光层和阴极，其中，所述平坦层、所述阳极、所述发光层和所述阴极中的至少一者包括有去除部，且所包括的去除部在所述衬底基板上的正投影与所述透光结构在所述衬底基板上的正投影完全重合。
进一步地，所述显示面板还包括位于所述衬底基板上的走线层，所述走线层的走线在所述衬底基板上的正投影与所述透光结构在所述衬底基板上的正投影不重合。
进一步地，所述衬底基板可以包括柔性衬底基板和刚性衬底基板，在所述衬底基板为柔性衬底基板时，为了提高柔性衬底基板的透光率，所述柔性衬底基板采用单层聚酰亚胺薄膜或透明聚酰亚胺薄膜。
优选地，透光结构位于所述显示面板的显示区域内，这样可以减少显示面板的非显示区域的面积，有利于实现显示装置的窄边框甚至无边框。
具体地，透光结构的透光率大于60％，在透光结构的透光率大于60％时，光学感测元件可以接收到足够多的外界光线从而进行光学检测。光学感测元件具体可以为摄像头。
本发明实施例还提供了一种显示面板的制作方法，所述显示面板包括位于衬底基板上的多层功能膜层，所述制作方法包括：
去除所述多层功能膜层中至少一层的一部分以在所述多层功能膜层中至少一层上形成去除部，形成透光率大于阈值的透光结构，所述透光结构包括所述去除部，所述透光结构用于允许光线通过并到达与其位置对应处设置的光学感测元件，且所述去除部在所述衬底基板上的正投影与所述光学感测元件在衬底基板上的正投影重合。
本实施例中，去除显示面板的多层功能膜层中至少一层的一部分，这样可以在显示面板上形成透光率大于阈值的透光结构，透光结构能够允许光线通过并到达与其位置对应处设置的光学感测元件，因此，无需将光学感测元件设置在显示装置的边框处，可以将光学感测元件设置在显示面板的非显示侧，通过透光结构接收外界光线，无需在显示装置边框预留空间来设置光学感测元件，从而能够提高显示装置的屏占比，优化显示装置的显示效果。
一具体实施例中，显示面板为OLED显示面板，显示面板包括衬底基板，位于所述衬底基板上的平坦层，位于所述平坦层上的有机电致发光结构，还可以包括包覆于有机电致发光结构外侧的封装薄膜，所述有机电致发光结构包括依次层叠设置的阳极、发光层和阴极，具体可以去除所述平坦层、所述阳极、所述发光层和所述阴极中的至少一者的一部分，从而保证透光结构的透光率大于阈值。所述制作方法具体包括：
去除所述平坦层、所述阳极、所述发光层和所述阴极中的至少一者的一部分以形成所述去除部，且去除部在所述衬底基板上的正投影与所述透光结构在所述衬底基板上的正投影完全重合。
具体实施例中，平坦层采用光感材料制成，可以通过曝光工艺去除平坦层的一部分。去除所述平坦层的一部分包括：
在所述走线层的衬底基板上涂覆一层光感材料；
利用掩模板对所述光感材料进行曝光，所述掩模板包括有对应去除部的透光图形和对应其他部分的不透光图形；
显影掉与所述透光图形对应的部分以形成所述去除部，所述去除部在所述衬底基板上的正投影与所述透光结构在所述衬底基板上的正投影重合。
具体实施例中，可以采用湿刻工艺去除阳极的一部分。去除所述阳极的一部分包括：
在所述平坦层上形成阳极材料层；
在所述阳极材料层上涂覆光刻胶，利用掩模板对所述光刻胶进行曝光，显影后形成光刻胶保留区域和光刻胶去除区域；
对光刻胶去除区域的阳极材料层进行湿法刻蚀，去除阳极图形的一部分以形成所述去除部。
具体实施例中，可以在蒸镀形成发光层和阴极后，通过干刻工艺去除发光层和阴极的一部分。去除所述发光层和所述阴极的一部分包括：
在形成所述发光层和所述阴极后，利用掩模板遮挡除待去除部分之外的其他区域，利用干法刻蚀同时去除所述发光层和所述阴极的一部分以形成所述去除部，去除部在所述衬底基板上的正投影与所述透光结构在所述衬底基板上的正投影重合。
由于曝光工艺会引入水氧，因此，为了避免影响显示基板的性能，在对发光层和阴极进行刻蚀时，不会在发光层和阴极上涂覆光刻胶，而是直接利用掩膜板对发光层和阴极进行遮挡，利用干法刻蚀比如等离子体刻蚀去除发光层和阴极的一部分，刻蚀在真空环境中比如真空腔室中进行。其中，由于阴极的透光率弱于发光层的透光率，因此，可以仅去除阴极对应透光结构的部分或者同时去除发光层和阴极对应透光结构的部分。
本发明实施例还提供了一种显示装置，包括如上所述的显示面板，还包括位于所述显示面板非显示侧的光学感测元件，所述光学感测元件正对所述透光结构。
本实施例中，显示面板的多层功能膜层中的至少一层包括有去除部，这样可以在显示面板上形成透光率大于阈值的透光结构，透光结构能够允许光线通过并到达与其位置对应处设置的光学感测元件，因此，无需将光学感测元件设置在显示装置的边框处，可以将光学感测元件设置在显示面板的非显示侧，光学感测元件正对透光结构，通过透光结构接收外界光线，无需在显示装置边框预留空间来设置光学感测元件，从而能够提高显示装置的屏占比，优化显示装置的显示效果。
所述显示装置可以为：电视、显示器、数码相框、手机、平板电脑等任何具有显示功能的产品或部件，其中，所述显示装置还包括柔性电路板、印刷电路板和背板。
在显示装置为柔性显示装置时，显示装置还包括贴附在所述显示面板非显示侧的底层膜片、位于所述底层膜片背向所述显示面板一侧的缓冲屏蔽层，所述底层膜片和所述缓冲屏蔽层包括开口，所述开口在所述显示面板上的正投影与所述透光结构在所述显示面板上的正投影重合，以使得所述底层膜片和所述缓冲屏蔽层不会遮挡经过透光结构的光线，所述光学感测元件设置在所述开口。
在显示装置为触控显示装置时，显示装置还包括位于所述显示面板显示侧的触控屏、位于所述触控屏背向所述显示面板一侧的偏光片，所述触控屏和所述偏光片中的至少一者包括去除部，所述去除部在所述显示面板上的正投影与所述透光结构在所述显示面板上的正投影重合，以降低触控屏和偏光片对进入透光结构的光线的阻挡。
具体实施例中，光学感测元件为摄像头。
本发明实施例还提供了一种显示装置的制作方法，采用如上所述的制作方法制作显示面板后，在所述显示面板的非显示侧制作光学感测元件，所述光学感测元件正对所述透光结构。
在显示装置为柔性显示装置时，显示装置还包括贴附在所述显示面板非显示侧的底层膜片、位于所述底层膜片背向所述显示面板一侧的缓冲屏蔽层，还需要去除所述底层膜片和所述缓冲屏蔽层对应所述透光结构的部分，以使得所述底层膜片和所述缓冲屏蔽层不会遮挡经过透光结构的光线。
在显示装置为触控显示装置时，显示装置还包括位于所述显示面板显示侧的触控屏、位于所述触控屏背向所述显示面板一侧的偏光片，还需要去除触控屏和所述偏光片中的至少一者对应所述透光结构的部分，以降低触控屏和偏光片对进入透光结构的光线的阻挡。
下面以本发明的显示装置为OLED触控显示装置为例，结合附图对本发明的显示装置及其制作方法进行详细介绍：
如图1和图2所示，本发明实施例OLED触控显示装置包括的显示面板4的有效显示区域1上具有预设区域2，预设区域2形成有透光率比较大的透光结构，比如透光率大于60％，这样可以将光学感测元件3设置在显示面板的非显示侧，光学感测元件3正对预设区域，可以通过透光结构接收外界光线，因此，无需在显示装置边框预留空间来设置光学感测元件3，从而能够提高显示装置的屏占比，优化显示装置的显示效果。值得注意的是，预设区域2形成透光结构的尺寸应与光学感测元件3相匹配，保证光学感测元件3能接收到足够多的光线。
如图3所示，OLED触控显示装置包括依次设置的缓冲屏蔽层11、衬底基板13、走线层及平坦层14、有机电致发光结构15、封装薄膜16、光学胶17、触控屏18、偏光片19、光学胶20和封装盖板21。
其中，缓冲屏蔽层11包括多孔材料、铜箔、石墨烯和胶带等，能够起到缓冲、散热和屏蔽的作用，在OLED触控显示装置为柔性显示装置时，OLED触控显示装置还包括底层膜片12，底层膜片12能够起到支撑作用。
其中，偏光片19的透光率为43％左右，有机电致发光结构15的透光率为50％左右，走线层及平坦层14的透光率为40％左右，底层膜片12的透光率为90％左右，现有OLED触控显示装置整体的透光率小于10％。如果对OLED触控显示装置板的像素界定层挖孔，可以提高有机电致发光结构15的透光率至50％左右，如果将走线层及平坦层14的走线设计为避让预设区域，可以使得走线层及平坦层14在预设区域的透光率为70％左右，这样OLED触控显示装置在预设区域整体的透光率可以提高至30％左右，但是仍不能满足光学感测元件比如摄像头对光线的要求。
为了提高OLED触控显示装置在预设区域的透光率，如图4和图5所示，本发明实施例的OLED触控显示装置去除预设区域的偏光片19、有机电致发光结构15、缓冲屏蔽层11，如图6所示，还将走线层及平坦层14的走线23设计为避让预设区域2，如图4所示，在OLED触控显示装置为柔性显示装置时，还去除预设区域的底层膜片12，使得柔性OLED触控显示装置的透光率可以提高至60％左右，刚性OLED触控显示装置的透光率可以提高至80％左右，从而满足光学感测元件对光线22的要求。
在光学感测元件设置在OLED触控显示装置非显示侧时，可以将OLED触控显示装置的边框降至0.3mm左右。
对于柔性的OLED触控显示装置，在去除预设区域的缓冲屏蔽层11时，可以通过等离子体刻蚀或者冲孔的方式去除预设区域的部分；在去除预设区域的底层膜片12时，可以通过等离子体刻蚀的方式去除预设区域的部分，或者直接采用在预设区域形成有开口的底层膜片12；OLED触控显示装置的柔性衬底基板可以由现有的双层聚酰亚胺薄膜改为采用单层聚酰亚胺薄膜或透明聚酰亚胺薄膜，这样可以提高柔性衬底基板的透光率；在制作走线层的走线时，走线需要避让预设区域，并且通过构图工艺去除平坦层对应预设区域的部分；在制作OLED触控显示装置的阳极时，可以在形成阳极图形的同时去除阳极对应预设区域的部分；在蒸镀形成发光层和阴极后，通过干刻工艺去除发光层和阴极对应预设区域的部分；为了保证OLED触控显示装置的封装效果，封装薄膜16仍然保持完整；在满足透光率要求的前提下，可以不去除触控屏18和偏光片19对应预设区域的部分，如果透光率达不到要求，则可以采用等离子体刻蚀的方式去除触控屏18和偏光片19对应预设区域的部分。
图7所示为去除发光层和阴极对应预设区域的部分时所采用的掩膜板31，其中，掩膜板31包括有对应预设区域的开口32。如图8所示，在蒸镀形成发光层和阴极后，走线层及平坦层14上形成有阳极33、发光层34和阴极35，走线层及平坦层14、阳极33对应预设区域的部分在之前的构图工艺中已经被去除，如图8所示，利用掩膜板31对发光层34和阴极35不需要去除的部分进行遮挡，开口32与预设区域对应，利用等离子体刻蚀去除发光层34和阴极35对应预设区域的部分，形成如图9所示的结构，如图9所示，发光层34和阴极35对应预设区域的部分被去除。
由于曝光工艺会引入水氧，因此，为了避免影响显示基板的性能，在对发光层和阴极进行刻蚀时，不会在发光层和阴极上涂覆光刻胶，而是直接利用掩膜板对发光层和阴极进行遮挡，利用干法刻蚀比如等离子体刻蚀去除发光层和阴极的一部分，刻蚀在真空腔室中进行。
对于刚性的OLED触控显示装置，在去除预设区域的缓冲屏蔽层11时，可以通过等离子体刻蚀或者冲孔的方式去除预设区域的部分；在制作走线层的走线时，走线需要避让预设区域，并且通过构图工艺去除平坦层对应预设区域的部分；在制作OLED触控显示装置的阳极时，可以在形成阳极图形的同时去除阳极对应预设区域的部分；在蒸镀形成发光层和阴极后，通过干刻工艺去除发光层和阴极对应预设区域的部分；为了保证OLED触控显示装置的封装效果，封装薄膜16仍然保持完整；在满足透光率要求的前提下，可以不去除触控屏18和偏光片19对应预设区域的部分，如果透光率达不到要求，则可以采用等离子体刻蚀的方式去除触控屏18和偏光片19对应预设区域的部分。
图7所示为去除发光层和阴极对应预设区域的部分时所采用的掩膜板31，其中，掩膜板31包括有对应预设区域的开口32。如图8所示，在蒸镀形成发光层和阴极后，走线层及平坦层14上形成有阳极33、发光层34和阴极35，走线层及平坦层14、阳极33对应预设区域的部分在之前的构图工艺中已经被去除，如图8所示，利用掩膜板31对发光层34和阴极35不需要去除的部分进行遮挡，开口32与预设区域对应，利用等离子体刻蚀去除发光层34和阴极35对应预设区域的部分，形成如图9所示的结构，如图9所示，发光层34和阴极35对应预设区域的部分被去除。
由于曝光工艺会引入水氧，因此，为了避免影响显示基板的性能，在对发光层和阴极进行刻蚀时，不会在发光层和阴极上涂覆光刻胶，而是直接利用掩膜板对发光层和阴极进行遮挡，利用干法刻蚀比如等离子体刻蚀去除发光层和阴极的一部分，刻蚀在真空腔室中进行。
在对OLED触控显示装置进行封装后，将光学感测元件贴附在缓冲屏蔽层11的非显示侧(即背面)，并正对透光结构，这样光学感测元件可以通过预设区域形成的透光结构接收外界光线，进行光学感测。
除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
可以理解，当诸如层、膜、区域或基板之类的元件被称作位于另一元件“上”或“下”时，该元件可以“直接”位于另一元件“上”或“下”，或者可以存在中间元件。
以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (16)

1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括位于衬底基板上的多层功能膜层，所述多层功能膜层中的至少一层包括去除部；
所述显示面板还包括透光结构，所述透光结构包括所述去除部，所述透光结构的透光率大于阈值，所述透光结构用于允许光线通过并到达与其位置对应处设置的光学感测元件，且所述去除部在所述衬底基板上的正投影与所述光学感测元件在衬底基板上的正投影重合。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述去除部为凹槽或镂空结构。
3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板包括位于所述衬底基板上的平坦层，位于所述平坦层上的有机电致发光结构，所述有机电致发光结构包括依次层叠设置的阳极、发光层和阴极；
其中，所述平坦层、所述阳极、所述发光层和所述阴极中的至少一者包括所述去除部。
4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括位于所述衬底基板上的走线层，所述走线层的走线在所述衬底基板上的正投影与所述透光结构在所述衬底基板上的正投影不重合。
5.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述衬底基板为柔性衬底基板，所述柔性衬底基板采用单层聚酰亚胺薄膜或透明聚酰亚胺薄膜。
6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述透光结构位于所述显示面板的显示区域内。
7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述透光结构的透光率大于60％。
8.一种显示面板的制作方法，其特征在于，所述显示面板包括位于衬底基板上的多层功能膜层，所述制作方法包括：
去除所述多层功能膜层中至少一层的一部分以在所述多层功能膜层中至少一层上形成去除部，形成透光率大于阈值的透光结构，所述透光结构包括所述去除部，所述透光结构用于允许光线通过并到达与其位置对应处设置的光学感测元件，且所述去除部在所述衬底基板上的正投影与所述光学感测元件在衬底基板上的正投影重合。
9.根据权利要求8所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述显示面板包括位于衬底基板上的平坦层，位于所述平坦层上的有机电致发光结构，所述有机电致发光结构包括依次层叠设置的阳极、发光层和阴极，所述制作方法具体包括：
去除所述平坦层、所述阳极、所述发光层和所述阴极中的至少一者的一部分以形成所述去除部。
10.根据权利要求9所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述平坦层采用光感材料制成，去除所述平坦层的一部分包括：
在衬底基板上涂覆一层光感材料；
利用掩模板对所述光感材料进行曝光，所述掩模板包括有对应所述去除部的透光图形和对应其他部分的不透光图形；
显影掉与所述透光图形对应的部分以形成所述去除部。
11.根据权利要求9所述的显示面板的制作方法，其特征在于，去除所述阳极的一部分包括：
在所述平坦层上形成阳极材料层；
在所述阳极材料层上涂覆光刻胶，利用掩模板对所述光刻胶进行曝光，显影后形成光刻胶保留区域和光刻胶去除区域；
对光刻胶去除区域的阳极材料层进行湿法刻蚀，去除阳极图形的一部分以形成所述去除部。
12.根据权利要求9所述的显示面板的制作方法，其特征在于，去除所述发光层和所述阴极的一部分包括：
在形成所述发光层和所述阴极后，利用掩模板遮挡除待去除部分之外的其他区域，利用干法刻蚀同时去除所述发光层和所述阴极的一部分以形成所述去除部。
13.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-7中任一项所述的显示面板，还包括位于所述显示面板非显示侧的光学感测元件，所述光学感测元件正对所述透光结构。
14.根据权利要求13所述的显示装置，其特征在于，所述显示装置为柔性显示装置，所述显示装置还包括贴附在所述显示面板非显示侧的底层膜片、位于所述底层膜片背向所述显示面板一侧的缓冲屏蔽层，所述底层膜片和所述缓冲屏蔽层包括开口，所述开口在所述显示面板上的正投影与所述透光结构在所述显示面板上的正投影重合，所述光学感测元件设置在所述开口。
15.根据权利要求13所述的显示装置，其特征在于，所述显示装置为触控显示装置，所述显示装置还包括位于所述显示面板显示侧的触控屏、位于所述触控屏背向所述显示面板一侧的偏光片，所述触控屏和所述偏光片中的至少一者包括去除部，所述去除部在所述显示面板上的正投影与所述透光结构在所述显示面板上的正投影重合。
16.根据权利要求13所述的显示装置，其特征在于，所述光学感测元件为摄像头。
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