CN110992823A - 衬底结构、显示装置及衬底结构的制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明实施例涉及显示技术领域，公开了一种衬底结构、显示装置和衬底结构的制备方法，包括：第一衬底、第一衬底包括：相邻接的第一区域和第二区域；位于第一衬底上的阻挡膜层结构，阻挡膜层结构至少位于第二区域；位于阻挡膜层结构远离第一衬底一侧的第二衬底，第二衬底位于第一区域和第二区域；其中，位于第一区域的膜层数目小于位于第二区域的膜层数目。本发明提供的衬底结构、显示装置及衬底结构的制备方法，能够提高衬底结构的光线透过率，有利于屏下摄像头等需大量光线的器件的制备。

Description

衬底结构、显示装置及衬底结构的制备方法

技术领域

本发明实施例涉及显示技术领域，特别涉及一种衬底结构、显示装置及衬底结构的制备方法。

背景技术

随着手机、平板电脑等移动终端技术的发展，移动终端的结构形态越来越丰富，例如，折叠式移动终端以其较新颖的折叠性能，获得用户的亲赖。然而，现有的衬底结构的透过率不高，不利于屏下摄像头等需大量光线的器件的实现。

发明内容

本发明实施方式的目的在于提供一种衬底结构、显示装置及衬底结构的制备方法，能够提高衬底结构的光线透过率，有利于屏下摄像头等需大量光线的器件的制备。

为解决上述技术问题，本发明的实施方式提供了一种衬底结构，包括：第一衬底，第一衬底包括：相邻接的第一区域和第二区域；位于第一衬底上的阻挡膜层结构，阻挡膜层结构至少位于第二区域；位于阻挡膜层结构远离第一衬底一侧的第二衬底，第二衬底位于第一区域和第二区域；其中，位于第一区域的膜层数目小于位于第二区域的膜层数目。

本发明的实施方式还提供了一种显示装置，包括：如上述的衬底结构。

本发明的实施方式还提供了一种衬底结构的制备方法，包括：提供基板；在基板上制备第一衬底，第一衬底包括：相邻接的第一区域和第二区域；在第一衬底远离基板一侧形成阻挡膜层结构，阻挡膜层结构至少位于第二区域；在阻挡膜层结构远离第一衬底一侧制备第二衬底，第二衬底位于第一区域和第二区域；其中，位于第一区域的膜层数目小于位于第二区域的膜层数目。

另外，阻挡膜层结构包括至少两层膜层结构，至少两层膜层结构不同时位于第一区域。该方案提供了阻挡膜层结构的多种实施方式。

另外，阻挡膜层结构位于第二区域；位于第一区域的第二衬底与第一衬底接触。该方案中通过将阻挡膜层结构仅设置于第二区域，从而减少了第一区域的膜层数目，提高了第一区域的衬底结构的光线透过率。

另外，阻挡膜层结构包括：位于第一衬底的水氧阻隔层、以及位于水氧阻隔层远离第一衬底一侧的非晶硅层；水氧阻隔层位于第二区域，且非晶硅层位于第二区域；或，水氧阻隔层位于第二区域，且非晶硅层位于第一区域和第二区域；或，非晶硅层位于第二区域，且水氧阻隔层位于第一区域和第二区域。该方案中给出了阻挡膜层结构的一种具体实现方式，有利于衬底结构的多样化设计。

另外，阻挡膜层结构包括：位于第一衬底的第一非晶硅层、位于第一非晶硅层远离第一衬底一侧的水氧阻隔层、以及位于水氧阻隔层远离第一衬底一侧的第二非晶硅层；所述第二非晶硅层位于所述第二区域；

水氧阻隔层位于第二区域，且第一非晶硅层位于第二区域；或，水氧阻隔层位于第二区域，且第一非晶硅层位于第一区域和第二区域；或，第一非晶硅层位于第二区域，且水氧阻隔层位于第一区域和第二区域；或，水氧阻隔层位于第一区域和第二区域，且第一非晶硅层位于第一区域和第二区域。该方案中给出了另一种阻挡膜层结构的具体实现方式，有利于实现衬底结构的多样化设计。

另外，阻挡膜层结构包括：位于第一衬底的第一非晶硅层、位于第一非晶硅层远离第一衬底一侧的水氧阻隔层、以及位于水氧阻隔层远离第一衬底一侧的第二非晶硅层，第二非晶硅层位于第一区域和第二区域；

水氧阻隔层位于第二区域，且第一非晶硅层位于第二区域；或，水氧阻隔层位于第二区域，且第一非晶硅层位于第一区域和第二区域；或，第一非晶硅层位于第二区域，且水氧阻隔层位于第一区域和第二区域。该方案中给出了另一种阻挡膜层结构的具体实现方式，有利于实现衬底结构的多样化设计。

另外，第二区域包含：靠近第一区域的内边界以及远离第一区域的外边界；内边界与外边界的距离至少大于2毫米。该方案中将第二区域的内边界与外边界的距离至少大于2毫米，使得第一区域的衬底结构膜层数目减少后，第二区域的衬底结构能够支撑第一区域的衬底结构，避免第一区域的衬底结构褶皱。

另外，第一衬底和第二衬底的材料包括聚酰亚胺。该方案中第一衬底和第二衬底的材料均为聚酰亚胺，从而有利于提高衬底结构的光线透过率，有利于在衬底结构上制备摄像头等需要大量光线的器件的实现。

本发明实施方式相对于现有技术而言，提供了一种衬底结构，包括：第一衬底，第一衬底包括：相邻接的第一区域和第二区域；位于第一衬底上的阻挡膜层结构，阻挡膜层结构至少位于第二区域；位于阻挡膜层结构远离第一衬底一侧的第二衬底，第二衬底位于第一区域和第二区域；其中，位于第一区域的膜层数目小于位于第二区域的膜层数目。由于衬底结构的膜层数目太多，各膜层之间折射率的不同而造成衬底结构的光线反射率增加、光线透过率降低，本实施方式中阻挡膜层结构至少位于第二区域，第一区域的膜层数目小于第二区域的膜层数目，从而降低了位于第一区域的衬底结构的膜层数目，提高了第一区域衬底结构的光线透过率。

附图说明

一个或多个实施例通过与之对应的附图中的图片进行示例性说明，这些示例性说明并不构成对实施例的限定，附图中具有相同参考数字标号的元件表示为类似的元件，除非有特别申明，附图中的图不构成比例限制。

图1是根据本发明第一实施方式的衬底结构的剖视图；

图2是根据本发明第一实施方式的衬底结构区域划分示意图；

图3是根据本发明第二实施方式的一种衬底结构的剖视图；

图4是根据本发明第二实施方式的另一种衬底结构的剖视图；

图5是根据本发明第二实施方式的又一种衬底结构的剖视图；

图6是根据本发明第三实施方式的一种衬底结构的剖视图；

图7是根据本发明第三实施方式的另一种衬底结构的剖视图；

图8是根据本发明第三实施方式的又一种衬底结构的剖视图；

图9是根据本发明第三实施方式的再一种衬底结构的剖视图；

图10是根据本发明第三实施方式的另一种可替换的衬底结构的剖视图；

图11是根据本发明第三实施方式的又一种可替换的衬底结构的剖视图；

图12是根据本发明第三实施方式的再一种可替换的衬底结构的剖视图；

图13是根据本发明第五实施方式的衬底结构的制备方法的流程示意图。

具体实施方式

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明的各实施方式进行详细的阐述。然而，本领域的普通技术人员可以理解，在本发明各实施方式中，为了使读者更好地理解本申请而提出了许多技术细节。但是，即使没有这些技术细节和基于以下各实施方式的种种变化和修改，也可以实现本申请所要求保护的技术方案。

发明人发现目前显示屏的衬底结构多采用双层衬底膜层，以及夹设于双层衬底膜层之间的阻隔膜层来作为衬底结构，该结构的可量产性已经被广泛验证。但此种衬底结构的透过率不高，不利于屏下摄像头等需大量光线的器件的实现。

基于此，本申请提供了一种衬底结构、显示装置及衬底结构的制备方法，能够提高衬底结构的光线透过率，有利于屏下摄像头等需大量光线的器件的制备。

本发明的第一实施方式涉及一种衬底结构，如图1所示，本实施方式的核心在于包括：第一衬底11，第一衬底11包括：相邻接的第一区域01和第二区域02；位于第一衬底11上的阻挡膜层结构12，阻挡膜层结构12至少位于第二区域02；位于阻挡膜层结构12远离第一衬底11一侧的第二衬底13，第二衬底13位于第一区域01和第二区域02；其中，位于第一区域01的膜层数目小于位于第二区域02的膜层数目。由于衬底结构的膜层数目太多，各膜层之间折射率的不同而造成衬底结构的光线反射率增加、光线透过率降低，本实施方式中阻挡膜层结构12至少位于第二区域02，第一区域01的膜层数目小于第二区域02的膜层数目，降低了第一区域01的衬底结构的膜层数目，提高了第一区域01衬底结构的光线透过率。

下面对本实施方式的衬底结构的实现细节进行具体的说明，以下内容仅为方便理解提供的实现细节，并非实施本方案的必须。

显示屏的衬底结构包括：层叠设置的第一衬底11、阻挡膜层结构12以及第二衬底13，但这种衬底结构的膜层数目较多，各膜层之间折射率的不同而造成衬底结构的光线反射率增加，不利于在衬底结构上制备摄像头等需要大量光线的器件。针对于此，如图2所示，本方案中将衬底结构划分为第一区域01和第二区域02，其中，第一区域01对应于显示屏中需要大量光线的器件所在的位置，第二区域02对应于显示屏的其他区域。本实施方式中阻挡膜层结构12至少位于第二区域02，第一区域01的膜层数目小于第二区域02的膜层数目，降低了第一区域01的衬底结构的膜层数目，提高了第一区域01的衬底结构的光线透过率，从而为对应于第一区域01需要大量光线的器件提供充足的光线。

与现有技术相比，本发明实施方式提供了一种衬底结构，包括：第一衬底11，第一衬底11包括：相邻接的第一区域01和第二区域02；位于第一衬底11上的阻挡膜层结构12，阻挡膜层结构12至少位于第二区域02；位于阻挡膜层结构12远离第一衬底11一侧的第二衬底13，第二衬底13位于第一区域01和第二区域02；其中，位于第一区域01的膜层数目小于位于第二区域02的膜层数目。由于衬底结构的膜层数目太多，各膜层之间折射率的不同而造成衬底结构的光线反射率增加、光线透过率降低，本实施方式中阻挡膜层结构12至少位于第二区域02，第一区域01的膜层数目小于第二区域02的膜层数目，降低了第一区域01的衬底结构的膜层数目，提高了第一区域01衬底结构的光线透过率。

值得说明的是，图2中的第一区域01为圆形，但可以理解的是，本实施方式中图2并不构成对第一区域01形状的限定，在实际制作中，第一区域01的形状根据所需安装的器件的形状的不同而不同，也可以为方形、多边形等等。

本实施方式中的第一衬底11和第二衬底13的材料包括聚酰亚胺，从而有利于提高衬底结构的光线透过率，有利于在衬底结构上制备摄像头等需要大量光线的器件的实现，同时还可提高衬底结构的可弯折性。

进一步地，第二区域02包含：靠近第一区域01的内边界以及远离第一区域01的外边界；内边界与外边界的距离至少大于2毫米。本实施方式中限定第二区域02包围第一区域01、且第二区域02的内边界及外边界之间的距离至少大于2毫米，使得第一区域01的衬底结构膜层数目减少后，第二区域02的衬底结构能够支撑第一区域01的衬底结构，避免第一区域01的衬底结构褶皱。

本实施方式中阻挡膜层结构12以水氧阻隔层为例进行说明，当水氧阻隔层位于第二区域02时，位于第一区域01的第二衬底13与第一衬底11接触。

本实施方式中水氧阻隔层位于第二区域02，第一区域01未覆盖有水氧阻隔层，则第一衬底11和第二衬底13相接触。由于第一衬底11和第二衬底13的材料相同均为聚酰亚胺，因此第一区域01的衬底结构的膜层数目为2，第二区域02的衬底结构的膜层数目为3；第一区域01的衬底结构中分界面数目为0，第二区域02的衬底结构中分界面数目为2，降低了第一区域01的衬底结构的膜层数目，提高了第一区域01的衬底结构的光线透过率。

可知的，当阻挡膜层结构12位于第二区域02时，位于第一区域01的第二衬底13与第一衬底11直接接触，也可以使得位于第一区域01的第二衬底13和第一衬底11之间空置，从而也能达到提高衬底结构的光线透过率、有利于屏下摄像头等需大量光线的器件的制备的目的。

可知的，当阻挡膜层结构12包括至少两层膜层结构时，至少两层膜层结构不同时位于第一区域01。此种设置方式使得第一区域01的膜层数目小于第二区域02的膜层数目，降低了第一区域01的衬底结构的膜层数目，提高了第一区域01衬底结构的光线透过率。

本发明的第二实施方式涉及一种衬底结构。如图3、4和5所示，第二实施方式与第一实施方式大致相同，不同之处在于，阻挡膜层结构12包括：位于第一衬底11的水氧阻隔层121、以及位于水氧阻隔层121远离第一衬底11一侧的非晶硅层122；水氧阻隔层121和非晶硅层122不同时位于第一区域01。本实施方式中阻挡膜层结构12包括两层膜层结构，即水氧阻隔层121和非晶硅层122，本实施方式给出了另外一种阻挡膜层结构12的实现方式。本实施方式中的水氧阻隔层121的材料可以为氧化硅，非晶硅层122可以增加水氧阻隔层121与第二衬底13的粘附力。

当阻挡膜层结构12包括两层膜层结构，即水氧阻隔层121和非晶硅层122时，具体存在以下三种可实现的结构：

水氧阻隔层121位于第二区域02，且非晶硅层122位于第一区域01和第二区域02；或者，水氧阻隔层121位于第二区域02，且非晶硅层122位于所述第二区域02；或者，非晶硅层122位于第二区域02，且水氧阻隔层121位于第一区域01和第二区域02。

第一种可实现的结构如图3所示：非晶硅层122和水氧阻隔层121均只位于第二区域02，则位于第一区域01的第二衬底13与第一衬底11接触。由于第一衬底11和第二衬底13的材料相同，均为聚酰亚胺，因此第一区域01的衬底结构的膜层数目为2，第二区域02的衬底结构的膜层数目为4；第一区域01的衬底结构中分界面数目为0，第二区域02的衬底结构中分界面数目为3，降低了第一区域01的衬底结构的膜层数目，提高了第一区域01的衬底结构的光线透过率。

第二种可实现的结构如图4所示：非晶硅层122位于第二区域02，水氧阻隔层121位于第一区域01和第二区域02，则位于第一区域01的第二衬底13与水氧阻隔层121接触。此时，第一区域01的衬底结构的膜层数目为3，第二区域02的衬底结构的膜层数目为4；第一区域01的衬底结构中分界面数目为2，第二区域02的衬底结构中分界面数目为3，降低了第一区域01的衬底结构的膜层数目，提高了第一区域01的衬底结构的光线透过率。

第三种可实现的结构如图5所示：非晶硅层122位于第一区域01和第二区域02，水氧阻隔层121只位于第二区域02；位于第一区域01的非晶硅层122与第一衬底11接触。此时，第一区域01的衬底结构的膜层数目为3，第二区域02的衬底结构的膜层数目为4；第一区域01的衬底结构中分界面数目为2，第二区域02的衬底结构中分界面数目为3，降低了第一区域01的衬底结构的膜层数目，提高了第一区域01的衬底结构的光线透过率。

本发明另一实施方式中提供了一种衬底结构，阻挡膜层结构12包括：位于第一衬底11的第一非晶硅层123、位于第一非晶硅层123远离第一衬底11一侧的水氧阻隔层121、以及位于水氧阻隔层121远离第一衬底11一侧的第二非晶硅层122；第一非晶硅层123、水氧阻隔层121和第二非晶硅层122不同时位于第一区域01。本实施方式中阻挡膜层结构12包括三层膜层结构，即第一非晶硅层123、水氧阻隔层121和第二非晶硅层122，本实施方式中给出了另外一种阻挡膜层结构12的实现方式，有利于实现衬底结构的结构的多样化设计。

本发明的第三实施方式涉及一种衬底结构。如图6-12所示，第三实施方式与第一实施方式大致相同，不同之处在于，阻挡膜层结构12包括：位于第一衬底11的第一非晶硅层123、位于第一非晶硅层123远离第一衬底11一侧的水氧阻隔层121、以及位于水氧阻隔层121远离第一衬底11一侧的第二非晶硅层122；第一非晶硅层123、水氧阻隔层121和第二非晶硅层122不同时位于第一区域01。本实施方式中给出了另外一种阻挡膜层结构12的实现方式。

本实施方式中的第一非晶硅层123位于第一衬底11与水氧阻隔层121之间，增加水氧阻隔层121与第一衬底11的粘附力。第二非晶硅层122位于水氧阻隔层121和第二衬底13之间，增加了水氧阻隔层121与第二衬底13的粘附力。其中，水氧阻隔层121的材料可以为氧化硅。

具体存在以下七种可实现的结构：

当第二非晶硅层122位于第二区域02时，存在4种情况，具体如下：水氧阻隔层121位于第二区域02，且第一非晶硅层123位于第一区域01和第二区域02；或者，水氧阻隔层121位于第二区域02，且第一非晶硅层123位于第二区域02；或者，第一非晶硅层123位于第二区域02，且水氧阻隔层121位于第一区域01和第二区域02；或者，水氧阻隔层121位于第一区域01和第二区域02，且第一非晶硅层123位于第一区域01和第二区域02。

具体如下：

第一种可实现的结构如图6所示：水氧阻隔层121和第一非晶硅层123均位于第二区域02，第二非晶硅层122位于第二区域02，第一区域01未覆盖有第二非晶硅层122、水氧阻隔层121和第一非晶硅层123，则位于第一区域01的第二衬底13与第一衬底11接触。由于第一衬底11和第二衬底13的材料相同均为聚酰亚胺，因此第一区域01的衬底结构的膜层数目为2，第二区域02的衬底结构的膜层数目为5；第一区域01的衬底结构中分界面数目为0，第二区域02的衬底结构中分界面数目为4，降低了第一区域01的衬底结构的膜层数目，提高了第一区域01的衬底结构的光线透过率。

第二种可实现的结构如图7所示：水氧阻隔层121位于第二区域02，第一非晶硅层123位于第一区域01和第二区域02，第二非晶硅层122位于第二区域02，第一区域01未覆盖有第二非晶硅层122和水氧阻隔层121，则位于第一区域01的第二衬底13与第一非晶硅层123接触，且位于第一区域的第一衬底11与第一非晶硅层123接触。此时，第一区域01的衬底结构的膜层数目为3，第二区域02的衬底结构的膜层数目为5；第一区域01的衬底结构中分界面数目为2，第二区域02的衬底结构中分界面数目为4，降低了第一区域01的衬底结构的膜层数目，提高了第一区域01的衬底结构的光线透过率。

第三种可实现的结构如图8所示：水氧阻隔层121位于第一区域01和第二区域02，第一非晶硅层123位于第二区域02，第二非晶硅层122位于第二区域02，第一区域01未覆盖有第一非晶硅层123和第二非晶硅层122，则位于第一区域01的第二衬底13和第一衬底11均与水氧阻隔层121接触。此时，第一区域01的衬底结构的膜层数目为3，第二区域02的衬底结构的膜层数目为5；第一区域01的衬底结构中分界面数目为2，第二区域02的衬底结构中分界面数目为4，降低了第一区域01的衬底结构的膜层数目，提高了第一区域01的衬底结构的光线透过率。

第四种可实现的结构如图9所示：水氧阻隔层121位于第一区域01和第二区域02，第一非晶硅层123位于第一区域01和第二区域02，第二非晶硅层122只位于第二区域02，则第一区域01未覆盖有第二非晶硅层122，则位于第一区域01的第二衬底13与水氧阻隔层121接触且第一区域01的第一衬底11与第一非晶硅层123接触。此时，第一区域01的衬底结构的膜层数目为4，第二区域02的衬底结构的膜层数目为5；第一区域01的衬底结构中分界面数目为3，第二区域02的衬底结构中分界面数目为4，降低了第一区域01的衬底结构的膜层数目，提高了第一区域01的衬底结构的光线透过率。

另外，当第二非晶硅层122位于第二区域02和第一区域01时，存在3种情况，具体如下：水氧阻隔层121位于第二区域02，且第一非晶硅层123位于第一区域01和第二区域02；或者，水氧阻隔层121位于第二区域02，且第一非晶硅层123位于第二区域02；或者，第一非晶硅层123位于第二区域02，且水氧阻隔层121位于第一区域01和第二区域02。

具体如下：

第五种可实现的结构如图10所示：第二非晶硅层122位于第一区域01和第二区域02，水氧阻隔层121和第一非晶硅层123均位于第二区域02，第一区域01未覆盖有水氧阻隔层121和第一非晶硅层123，则位于第一区域01的第二非晶硅层122与所述第一衬底11接触，且位于第一区域01的第二衬底13与所述第二非晶硅层122接触。此时，第一区域01的衬底结构的膜层数目为3，第二区域02的衬底结构的膜层数目为5；第一区域01的衬底结构中分界面数目为2，第二区域02的衬底结构中分界面数目为4，降低了第一区域01的衬底结构的膜层数目，提高了第一区域01的衬底结构的光线透过率。

第六种可实现的结构如图11所示：第二非晶硅层122位于第一区域01和第二区域02，水氧阻隔层121位于第一区域01和第二区域02，第一非晶硅层123位于第二区域02，第一区域01未覆盖有第一非晶硅层123，则位于第一区域01的水氧阻隔层121与第一衬底11接触。此时，第一区域01的衬底结构的膜层数目为4，第二区域02的衬底结构的膜层数目为5；第一区域01的衬底结构中分界面数目为3，第二区域02的衬底结构中分界面数目为4，降低了第一区域01的衬底结构的膜层数目，提高了第一区域01的衬底结构的光线透过率。

第七种可实现的结构如图12所示：第二非晶硅层122位于第一区域01和第二区域02，第一非晶硅层123位于第一区域01和第二区域02，水氧阻隔层121位于第二区域02，第一区域01未覆盖有水氧阻隔层121，则位于第一区域01的第一非晶硅层123与第二非晶硅层122接触。此时，第一区域01的衬底结构的膜层数目为4，第二区域02的衬底结构的膜层数目为5；第一区域01的衬底结构中分界面数目为3，第二区域02的衬底结构中分界面数目为4，降低了第一区域01的衬底结构的膜层数目，提高了第一区域01的衬底结构的光线透过率。

与现有技术相比，本发明实施方式提供了一种衬底结构，阻挡膜层结构12包括：位于第一衬底11的第一非晶硅层123、位于第一非晶硅层123远离第一衬底11一侧的水氧阻隔层121、以及位于水氧阻隔层121远离第一衬底11一侧的第二非晶硅层122；第一非晶硅层123、水氧阻隔层121和第二非晶硅层122不同时位于第一区域01。本实施方式中给出了另外一种阻挡膜层结构12的实现方式，有利于实现衬底结构的多样化设计。

本发明第四实施方式涉及一种显示装置，包括：如上述任意一实施方式的衬底结构。

本发明第五实施方式涉及一种衬底结构的制备方法，本实施方式中的衬底结构的制备方法的流程示意图如图13所示，具体包括：

步骤101：提供基板。

具体地说，提供刚性基板作为支撑台，在其上制作衬底结构。一般来说，在制作完成后，需将刚性基板剥离。

步骤102：在基板上制备第一衬底，第一衬底包括：相邻接的第一区域和第二区域。

步骤103：在第一衬底远离基板一侧形成阻挡膜层结构，阻挡膜层结构至少位于第二区域。

针对上述步骤102和步骤103，具体地说，利用聚酰亚胺材料在基板上涂布形成第一衬底11，第一衬底11包括：相邻接的第一区域01和第二区域02，该第一区域01和第二区域02的划分方法与上述各实施方式中的划分方法相同。

之后，在第一衬底11远离基板一侧形成阻挡膜层结构12，阻挡膜层结构12至少位于第二区域。若阻挡膜层结构12位于第二区域，则可先在第一区域和第二区域均形成阻挡膜层结构12，之后利用刻蚀法刻蚀掉第一区域的阻挡膜层结构12，并可得到位于第二区域的阻挡膜层结构12。

步骤104：在阻挡膜层结构远离第一衬底一侧制备第二衬底，第二衬底位于第一区域和第二区域。

具体地说，由于利用刻蚀法刻蚀掉第一区域的阻挡膜层结构12，因此，在阻挡膜层结构12远离第一衬底11一侧制备第二衬底13时，在涂布第二层聚酰亚胺时由于液体的流动性会将刻蚀掉的第一区域的凹陷部位填平，满足后续工艺要求。最后，形成的衬底结构中位于第一区域的膜层数目小于位于第二区域的膜层数目。

本领域的普通技术人员可以理解，上述各实施方式是实现本发明的具体实施例，而在实际应用中，可以在形式上和细节上对其作各种改变，而不偏离本发明的精神和范围。

Claims (10)

1.一种衬底结构，其特征在于，包括：第一衬底，所述第一衬底包括：相邻接的第一区域和第二区域；

位于所述第一衬底上的阻挡膜层结构，所述阻挡膜层结构至少位于所述第二区域；

位于所述阻挡膜层结构远离所述第一衬底一侧的第二衬底，所述第二衬底位于所述第一区域和所述第二区域；其中，位于所述第一区域的膜层数目小于位于所述第二区域的膜层数目。

2.根据权利要求1所述的衬底结构，其特征在于，所述阻挡膜层结构包括至少两层膜层结构，所述至少两层膜层结构不同时位于所述第一区域。

3.根据权利要求1或2所述的衬底结构，其特征在于，所述阻挡膜层结构位于所述第二区域；

位于所述第一区域的所述第二衬底与所述第一衬底接触。

4.根据权利要求1或2所述的衬底结构，其特征在于，所述阻挡膜层结构包括：位于所述第一衬底上的水氧阻隔层、以及位于所述水氧阻隔层远离所述第一衬底一侧的非晶硅层；

所述水氧阻隔层位于所述第二区域，且所述非晶硅层位于所述第二区域；或，所述水氧阻隔层位于所述第二区域，且所述非晶硅层位于所述第一区域和所述第二区域；或，所述非晶硅层位于所述第二区域，且所述水氧阻隔层位于所述第一区域和所述第二区域。

5.根据权利要求1或2所述的衬底结构，其特征在于，所述阻挡膜层结构包括：位于所述第一衬底的第一非晶硅层、位于所述第一非晶硅层远离所述第一衬底一侧的水氧阻隔层、以及位于所述水氧阻隔层远离所述第一衬底一侧的第二非晶硅层，所述第二非晶硅层位于所述第二区域；

所述水氧阻隔层位于所述第二区域，且所述第一非晶硅层位于所述第二区域；或，所述水氧阻隔层位于所述第二区域，且所述第一非晶硅层位于所述第一区域和所述第二区域；或，所述第一非晶硅层位于所述第二区域，且所述水氧阻隔层位于所述第一区域和所述第二区域；或，所述水氧阻隔层位于所述第一区域和所述第二区域，且所述第一非晶硅层位于所述第一区域和所述第二区域。

6.根据权利要求1或2所述的衬底结构，其特征在于，所述阻挡膜层结构包括：位于所述第一衬底的第一非晶硅层、位于所述第一非晶硅层远离所述第一衬底一侧的水氧阻隔层、以及位于所述水氧阻隔层远离所述第一衬底一侧的第二非晶硅层，所述第二非晶硅层位于所述第一区域和所述第二区域；

所述水氧阻隔层位于所述第二区域，且所述第一非晶硅层位于所述第二区域；或，所述水氧阻隔层位于所述第二区域，且所述第一非晶硅层位于所述第一区域和所述第二区域；或，所述第一非晶硅层位于所述第二区域，且所述水氧阻隔层位于所述第一区域和所述第二区域。

7.根据权利要求1至6任一项所述的衬底结构，其特征在于，所述第二区域包含：靠近所述第一区域的内边界以及远离所述第一区域的外边界；所述内边界与所述外边界的距离至少大于2毫米。

8.根据权利要求1至7任一项所述的衬底结构，其特征在于，所述第一衬底和所述第二衬底的材料包括聚酰亚胺。

9.一种显示装置，包括：如权利要求1至8中任一项所述的衬底结构。

10.一种衬底结构的制备方法，其特征在于，包括：

提供基板；

在所述基板上制备第一衬底，所述第一衬底包括：相邻接的第一区域和第二区域；

在所述第一衬底远离所述基板一侧形成阻挡膜层结构，所述阻挡膜层结构至少位于所述第二区域；

在所述阻挡膜层结构远离所述第一衬底一侧制备第二衬底，所述第二衬底位于所述第一区域和所述第二区域；其中，位于所述第一区域的膜层数目小于位于所述第二区域的膜层数目。

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