JP6469936B1 - 有機elデバイスの製造方法、成膜方法および成膜装置 - Google Patents
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Abstract
Description
図3から図5を参照して、本発明の実施形態1によるOLED表示装置の構造および製造方法を説明する。
実施形態1によるOLED表示装置の製造方法は、アクリルモノマーを偏在させるので、プロセスマージンが狭いという問題がある。以下に説明する実施形態2のOLED表示装置の製造方法は、少なくとも平坦部上の一部にも樹脂層(例えばアクリル樹脂層)を形成し、樹脂層を部分的にアッシングすることによって有機バリア層を形成する工程を包含している。なお、最初に形成する樹脂層の厚さを調整する(例えば、100nm未満とする)、および/または、アッシング条件(時間を含む)を調整することによって、種々の形態の有機バリア層を形成することができる。すなわち、実施形態1で説明したOLED表示装置100Aが有する有機バリア層14Aを形成することもできるし、平坦部の一部または全部を覆う有機バリア層(中実部)を形成することもできる。また、実施形態1のOLED表示装置100Aの製造方法において、有機バリア層14Aを形成した後、有機バリア層14Aを部分的にアッシングしてもよい。アッシングすることによって、後述するように、第2無機バリア層との密着性を向上させることができる。あるいは、最終的に残存させる有機バリア層14Aの領域や形態を調整することができる。
2 :回路(駆動回路またはバックプレーン回路)
3 :有機EL素子
4 :偏光板
10、10A、10B、10C、10E :薄膜封止構造(TFE構造)
12、12A、12B、12C、12E :第1無機バリア層(SiN層)
14、14A、14B、14E :有機バリア層(アクリル樹脂層)
14Ea :有機バリア層の開口部
14Eb :有機バリア層の中実部
14Es :有機バリア層の表面(アッシング後)
14Esa:有機バリア層の表面(アッシング前)
16A、16B、16C、16E :第2無機バリア層(SiN層)
16Ec :欠陥
16Ed :凹部
20 :素子基板
26 :アクリルモノマー
26p :アクリルモノマーの蒸気または霧状のアクリルモノマー
100、100A :有機EL表示装置
Claims (18)
- 表面に凸部を有する基板の前記表面の、前記凸部と前記基板との境界部を含む領域に、光硬化性樹脂の液膜を形成する工程Aと、
前記基板の前記表面の予め決められた第1領域であって、前記境界部を含む第1領域に選択的に赤外線または波長が550nm超の可視光を照射することによって、前記第1領域内の前記光硬化性樹脂を気化させる工程Bと、
前記工程Bと同時または前記工程Bの後で、前記光硬化性樹脂が感光性を有する光を前記基板の前記表面の、前記第1領域を含む第2領域に照射し、前記第2領域内の前記光硬化性樹脂を硬化させることによって、光硬化樹脂膜を得る工程Cとを包含する、成膜方法。 - 前記工程Aは、蒸気または霧状の前記光硬化性樹脂を含むチャンバー内で、前記基板上で前記蒸気または霧状の前記光硬化性樹脂を凝縮させる工程A1を包含する、請求項1に記載の成膜方法。
- 基板と、前記基板の表面に形成された駆動回路と、前記駆動回路に接続された複数の有機EL素子と、前記複数の有機EL素子が配置されているアクティブ領域の外側の周辺領域に配置された複数の端子と、前記駆動回路と前記複数の端子とを接続する複数の引出し配線とを有する素子基板を用意する工程と、前記素子基板における前記アクティブ領域の上および前記複数の引出し配線の前記アクティブ領域側の部分の上に薄膜封止構造を形成する工程とを包含する、有機ELデバイスの製造方法であって、
前記薄膜封止構造を形成する工程は、
前記アクティブ領域の上および前記複数の引出し配線の前記アクティブ領域側の部分の上に選択的に第1無機バリア層を形成する工程S1と、
前記工程S1の後で、蒸気または霧状の光硬化性樹脂を含むチャンバー内において、前記第1無機バリア層の表面において前記光硬化性樹脂を凝縮させる工程S2と、
前記工程S2の後で、前記素子基板の表面の予め決められた、前記複数の引出し配線と交差する分断領域を含む第1領域に選択的に赤外線または波長が550nm超の可視光を照射することによって、前記第1領域内の前記光硬化性樹脂を気化させる工程S3と、
前記工程S3と同時または前記工程S3の後で、前記光硬化性樹脂が感光性を有する光を前記素子基板の前記表面の、前記第1領域を含む第2領域に照射し、前記第2領域内の前記光硬化性樹脂を硬化させることによって、光硬化樹脂からなる有機バリア層を形成する工程S4と、
前記工程S4の後に、前記アクティブ領域の上および前記複数の引出し配線の前記アクティブ領域側の部分の上に選択的に第2無機バリア層を形成することによって、前記第1無機バリア層と前記第2無機バリア層とが直接接触する無機バリア層接合部を前記第1領域内の少なくとも前記分断領域に形成する工程S5と
を包含する、製造方法。 - 前記工程S4の後かつ前記工程S5の前に、前記有機バリア層を部分的にアッシングする工程をさらに包含する、請求項3に記載の製造方法。
- 前記第1領域は、前記アクティブ領域を実質的に包囲する環状領域を含む、請求項3または4に記載の製造方法。
- 前記第1領域の幅は少なくとも0.01mmである、請求項3から5のいずれかに記載の製造方法。
- 前記有機バリア層の厚さは100nm以上500nm以下である、請求項3から6のいずれかに記載の製造方法。
- 前記光硬化性樹脂はビニル基含有モノマーを含む、請求項3から7のいずれかに記載の製造方法。
- 前記基板はフレキシブル基板である、請求項3から8のいずれかに記載の製造方法。
- チャンバーと、
チャンバー内に配置され、基板を受容する上面を有し、前記上面を冷却することができるステージと、
前記ステージの前記上面に配置された前記基板の表面の予め決められた第1領域に選択的に赤外線または波長が550nm超の可視光を照射する第1照射光学系と、
前記ステージの前記上面に配置された前記基板の前記表面の、前記第1領域を含む第2領域に紫外線および/または波長が450nm以下の可視光を照射する第2照射光学系と
を有する、成膜装置。 - 前記第1照射光学系は、赤外線発光半導体素子を有する、請求項10に記載の成膜装置。
- 前記第1照射光学系は、前記第1領域に対応する赤外線透過部を備えるフォトマスクをさらに有する、請求項10または11に記載の成膜装置。
- 前記第1照射光学系は、赤外線レーザ素子と、前記赤外線レーザ素子を走査する可動ミラーとをさらに有する、請求項10に記載の成膜装置。
- 前記第2照射光学系は、紫外線光源を有する、請求項10から13のいずれかに記載の成膜装置。
- 紫外線ランプと、前記第1領域に対応する赤外線透過部を備えるフォトマスクとをさらに有し、
前記第1照射光学系は、前記紫外線ランプと前記フォトマスクとを備え、
前記第2照射光学系は、前記第1照射光学系から前記フォトマスクを退避させることによって構成される、請求項10に記載に成膜装置。 - 前記フォトマスクは、ガラス基板と、前記ガラス基板の前記赤外線透過部となる領域の表面にコールドミラー構造を有する、請求項15に記載の成膜装置。
- 前記フォトマスクは、前記ガラス基板の前記赤外線透過部となる領域以外の領域の表面に金属膜を有し、前記金属膜の厚さは500nm以上である、請求項16に記載の成膜装置。
- 前記フォトマスクは、前記ガラス基板の前記赤外線透過部となる領域以外の領域の表面にコールドフィルター構造を有する、請求項16に記載の成膜装置。
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