CN109960438A - 基板及其制作方法、触控显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种基板及其制作方法、触控显示装置，属于触控技术领域。其中，基板，包括衬底基板和依次位于所述衬底基板上的第一导电图形、绝缘层和第二导电图形，所述第二导电图形通过贯穿所述绝缘层的过孔与所述第一导电图形连接，所述第一导电图形远离所述衬底基板的一侧表面上形成有凹槽，所述第二导电图形与所述凹槽的底部和侧壁相接触。通过本发明的技术方案，能够优化基板的电学性能，避免出现电学不良。

Description

基板及其制作方法、触控显示装置

技术领域

本发明涉及触控技术领域，特别是指一种基板及其制作方法、触控显示装置。

背景技术

现有触控显示产品中触控电极与触控信号线的接触方式是触控电极通过贯穿平坦层的过孔与触控电极线表面接触，随着触控显示产品的分辨率越来越高，像素密度越来越大，触控电极与触控信号线的接触面积也越来越小，使得触控电极与触控信号线之间的接触电阻过大，易产生传感不良。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种基板及其制作方法、触控显示装置，能够优化基板的电学性能，避免出现传感不良。

为解决上述技术问题，本发明的实施例提供技术方案如下：

一方面，提供一种基板，包括衬底基板和依次位于所述衬底基板上的第一导电图形、绝缘层和第二导电图形，所述第二导电图形通过贯穿所述绝缘层的过孔与所述第一导电图形连接，所述第一导电图形远离所述衬底基板的一侧表面上形成有凹槽，所述第二导电图形与所述凹槽的底部和侧壁相接触。

进一步地，所述基板为触控基板，所述第一导电图形为触控信号线，所述第二导电图形为触控电极。

进一步地，所述第一导电图形与所述基板的薄膜晶体管的源极和漏极同层同材料设置。

进一步地，所述第一导电图形采用Ti/Al/Ti的三层结构，所述凹槽的底部暴露出所述第一导电图形底部的Ti。

本发明实施例还提供了一种触控显示装置，包括如上所述的基板。

本发明实施例还提供了一种基板的制作方法，包括：

在衬底基板上形成第一导电图形，所述第一导电图形远离所述衬底基板的一侧表面上形成有凹槽；

形成覆盖所述第一导电图形的绝缘层，所述绝缘层具有暴露出所述凹槽的过孔；

在所述绝缘层上形成第二导电图形，所述第二导电图形与所述凹槽的底部和侧壁相接触。

进一步地，所述基板为触控基板，所述第一导电图形为触控信号线，所述第二导电图形为触控电极。

进一步地，所述在衬底基板上形成第一导电图形包括：

通过一次构图工艺形成所述第一导电图形、所述基板的薄膜晶体管的源极和漏极。

进一步地，所述通过一次构图工艺形成所述第一导电图形、所述基板的薄膜晶体管的源极和漏极包括：

形成导电层；

在所述导电层上涂覆光刻胶，利用灰色调掩膜板或半色调掩膜板对光刻胶进行曝光，显影后形成光刻胶完全保留区域、光刻胶部分保留区域和光刻胶去除区域，所述光刻胶去除区域对应除所述第一导电图形、所述源极和所述漏极之外的部分，所述光刻胶部分保留区域对应所述凹槽；

对所述光刻胶去除区域的导电层进行刻蚀，形成第一导电图形的过渡图形、所述源极和所述漏极；

去除所述光刻胶部分保留区域的光刻胶；

对所述光刻胶部分保留区域的导电层进行刻蚀，形成所述第一导电图形；

去除所述光刻胶完全保留区域的光刻胶。

进一步地，所述形成覆盖所述第一导电图形的绝缘层包括：

在形成有所述第一导电图形的衬底基板上涂覆亚克力材料层；

对所述亚克力材料层进行构图，形成暴露出所述凹槽的过孔；

对形成有所述过孔的亚克力材料层进行固化，形成所述绝缘层。

本发明的实施例具有以下有益效果：

上述方案中，第一导电图形远离衬底基板的一侧表面上形成有凹槽，第二导电图形与凹槽的底部和侧壁相接触，这样能够增加第一导电图形与第二导电图形的接触面积，降低第一导电图形与第二导电图形的接触电阻，优化异层的第一导电图形与第二导电图形之间的连接状况，保证基板的电学性能，避免出现传感不良。

附图说明

图1为现有基板的结构示意图；

图2为本发明实施例基板的结构示意图；

图3为本发明实施例形成导电层后的示意图；

图4为本发明实施例对光刻胶进行曝光后的示意图；

图5为本发明实施例对导电层进行刻蚀后的示意图。

附图标记

1 衬底基板

2 缓冲层

3 层间绝缘层

4 栅绝缘层

5 平坦层

6 遮光层

7 有源层

8 栅极

9 源极

10 漏极

11 触控信号线

12 触控电极

21 第一钛层

22 铝层

23 第二钛层

24 光刻胶

具体实施方式

为使本发明的实施例要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。

图1为现有基板的结构示意图，如图1所示，现有的触控显示基板包括：衬底基板1、位于衬底基板1上的遮光层6，覆盖遮光层6的缓冲层2，位于缓冲层2上的有源层7，覆盖有源层7的层间绝缘层3，位于层间绝缘层3上的栅极8，覆盖栅极8的栅绝缘层4，位于栅绝缘层4上的触控信号线11、源极9和漏极10，覆盖触控信号线11、源极9和漏极10的平坦层5，位于平坦层5上的触控电极12，触控电极12通过贯穿平坦层5的过孔与触控信号线11连接。

如图1所示，触控电极12与触控信号线11仅是表面接触，随着触控显示产品的分辨率越来越高，像素密度越来越大，触控电极12与触控信号线11的接触面积也越来越小，使得触控电极12与触控信号线11之间的接触电阻过大，易产生传感不良。

本发明的实施例针对上述问题，提供一种基板及其制作方法、触控显示装置，能够优化基板的电学性能，避免出现传感不良。

本发明实施例提供一种基板，包括衬底基板和依次位于所述衬底基板上的第一导电图形、绝缘层和第二导电图形，所述第二导电图形通过贯穿所述绝缘层的过孔与所述第一导电图形连接，所述第一导电图形远离所述衬底基板的一侧表面上形成有凹槽，所述第二导电图形与所述凹槽的底部和侧壁相接触。

本实施例中，第一导电图形远离衬底基板的一侧表面上形成有凹槽，第二导电图形与凹槽的底部和侧壁相接触，这样能够增加第一导电图形与第二导电图形的接触面积，降低第一导电图形与第二导电图形的接触电阻，优化异层的第一导电图形与第二导电图形之间的连接状况，保证基板的电学性能，避免出现传感不良。

其中，上述基板可以是触控基板也可以是显示基板，还可以是触控显示基板。在上述基板为显示基板时，第一导电图形和第二导电图形可以为显示基板上任两个异层设置的导电图形，比如，第一导电图形可以为薄膜晶体管的漏极，第二导电图形可以为OLED显示基板的阳极，这样能够优化薄膜晶体管的漏极与OLED显示基板的阳极之间的连接情况，避免出现显示不良。在上述基板为触控基板时，所述第一导电图形可以为触控信号线，所述第二导电图形可以为触控电极，这样能够优化触控信号线与触控电极之间的连接情况，避免出现传感不良。

进一步地，在第一导电图形为触控信号线时，所述第一导电图形与所述基板的薄膜晶体管的源极和漏极同层同材料设置，这样可以通过一次构图工艺同时形成第一导电图形、基板的薄膜晶体管的源极和漏极，能够节省基板的构图工艺的次数，降低基板的生产成本。

为了保证第一导电图形的性能，所述第一导电图形可以采用Ti/Al/Ti的三层结构，其中，上下两层的Ti可以防止中间的Al出现氧化，具体地，所述凹槽的底部可以暴露出所述第一导电图形底部的Ti，这样第二导电图形与上层的Ti以及中间的Al接触，能够增加第一导电图形与第二导电图形的接触面积，降低第一导电图形与第二导电图形的接触电阻，优化异层的第一导电图形与第二导电图形之间的连接状况。

本发明实施例还提供了一种触控显示装置，包括如上所述的基板。所述触控显示装置可以为：液晶电视、液晶显示器、数码相框、手机、平板电脑等任何具有显示功能的产品或部件，其中，所述显示装置还包括柔性电路板、印刷电路板和背板。

本发明实施例还提供了一种基板的制作方法，包括：

在衬底基板上形成第一导电图形，所述第一导电图形远离所述衬底基板的一侧表面上形成有凹槽；

形成覆盖所述第一导电图形的绝缘层，所述绝缘层具有暴露出所述凹槽的过孔；

在所述绝缘层上形成第二导电图形，所述第二导电图形与所述凹槽的底部和侧壁相接触。

本实施例中，第一导电图形远离衬底基板的一侧表面上形成有凹槽，第二导电图形与凹槽的底部和侧壁相接触，这样能够增加第一导电图形与第二导电图形的接触面积，降低第一导电图形与第二导电图形的接触电阻，优化异层的第一导电图形与第二导电图形之间的连接状况，保证基板的电学性能，避免出现传感不良。

其中，上述基板可以是触控基板也可以是显示基板，还可以是触控显示基板。在上述基板为显示基板时，第一导电图形和第二导电图形可以为显示基板上任两个异层设置的导电图形，比如，第一导电图形可以为薄膜晶体管的漏极，第二导电图形可以为OLED显示基板的阳极，这样能够优化薄膜晶体管的漏极与OLED显示基板的阳极之间的连接情况，避免出现显示不良。在上述基板为触控基板时，所述第一导电图形可以为触控信号线，所述第二导电图形可以为触控电极，这样能够优化触控信号线与触控电极之间的连接情况，避免出现传感不良。

进一步地，在第一导电图形为触控信号线时，所述第一导电图形与所述基板的薄膜晶体管的源极和漏极同层同材料设置，所述在衬底基板上形成第一导电图形包括：

通过一次构图工艺形成所述第一导电图形、所述基板的薄膜晶体管的源极和漏极。这样可以通过一次构图工艺同时形成第一导电图形、基板的薄膜晶体管的源极和漏极，能够节省基板的构图工艺的次数，降低基板的生产成本。

一具体示例中，所述通过一次构图工艺形成所述第一导电图形、所述基板的薄膜晶体管的源极和漏极包括：

形成导电层；

在所述导电层上涂覆光刻胶，利用灰色调掩膜板或半色调掩膜板对光刻胶进行曝光，显影后形成光刻胶完全保留区域、光刻胶部分保留区域和光刻胶去除区域，所述光刻胶去除区域对应除所述第一导电图形、所述源极和所述漏极之外的部分，所述光刻胶部分保留区域对应所述凹槽；

对所述光刻胶去除区域的导电层进行刻蚀，形成第一导电图形的过渡图形、所述源极和所述漏极；

去除所述光刻胶部分保留区域的光刻胶；

对所述光刻胶部分保留区域的导电层进行刻蚀，形成所述第一导电图形；

去除所述光刻胶完全保留区域的光刻胶。

一具体示例中，所述形成覆盖所述第一导电图形的绝缘层包括：

在形成有所述第一导电图形的衬底基板上涂覆亚克力材料层；

对所述亚克力材料层进行构图，形成暴露出所述凹槽的过孔；

对形成有所述过孔的亚克力材料层进行固化，形成所述绝缘层。

下面结合附图以及具体的实施例对本发明的技术方案进行进一步介绍：

以本实施例的基板为触控基板为例，图2为本发明实施例基板的结构示意图，如图2所示，本实施例的触控显示基板包括：衬底基板1、位于衬底基板1上的遮光层6，覆盖遮光层6的缓冲层2，位于缓冲层2上的有源层7，覆盖有源层7的层间绝缘层3，位于层间绝缘层3上的栅极8，覆盖栅极8的栅绝缘层4，位于栅绝缘层4上的触控信号线11、源极9和漏极10，覆盖触控信号线11、源极9和漏极10的平坦层5，位于平坦层5上的触控电极12，其中，触控信号线11远离衬底基板1的一侧表面上设置有凹槽，触控电极12通过贯穿平坦层5的过孔与触控信号线11表面的凹槽的侧壁和底部均接触，实现与触控信号线11的连接，这样可以增加触控信号11与触控电极12的接触面积，降低触控信号11与触控电极12的接触电阻，优化触控信号11与触控电极12的之间的连接状况，避免出现传感不良。

本实施例的触控信号线11可以采用Ti/Al/Ti的三层结构，如图3所示，在制作触控信号线11时，在形成有遮光层6，缓冲层2，有源层7，层间绝缘层3，栅极8，栅绝缘层4的衬底基板1上形成第一钛层21、铝层22和第二钛层23，由第一钛层21、铝层22和第二钛层23组成导电层；如图4所示，在第一钛层21上形成光刻胶24，利用灰色调掩膜板或半色调掩膜板对光刻胶24进行曝光，显影后形成光刻胶完全保留区域、光刻胶部分保留区域和光刻胶去除区域，所述光刻胶去除区域对应除所述触控信号线11、所述源极9和所述漏极10之外的部分，所述光刻胶部分保留区域对应所述凹槽；如图5所示，对所述光刻胶去除区域的导电层进行刻蚀，形成触控信号线11的过渡图形、所述源极9和所述漏极10；去除所述光刻胶部分保留区域的光刻胶；对所述光刻胶部分保留区域的导电层进行刻蚀，形成触控信号线11；去除所述光刻胶完全保留区域的光刻胶。

之后在形成有触控信号线11的衬底基板1上涂覆亚克力材料层，对所述亚克力材料层进行构图，形成暴露出所述凹槽的过孔，再对形成有所述过孔的亚克力材料层进行固化，形成平坦层5；

之后在平坦层5上形成透明导电层，对透明导电层进行构图形成触控电极12，触控电极12通过贯穿平坦层5的过孔与触控信号线11的凹槽相接触，实现触控信号线11与触控电极12的连接。

经过上述步骤即可得到如图2所示的触控显示基板，本发明的技术方案可以增加触控信号11与触控电极12的接触面积，降低触控信号11与触控电极12的接触电阻，优化触控信号11与触控电极12的之间的连接状况，避免出现传感不良。

除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。

可以理解，当诸如层、膜、区域或基板之类的元件被称作位于另一元件“上”或“下”时，该元件可以“直接”位于另一元件“上”或“下”，或者可以存在中间元件。

以上所述的是本公开的优选实施方式，应当指出对于本技术领域的普通人员来说，在不脱离本公开所述的原理前提下还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也在本公开的保护范围内。

术人员来说，在不脱离本发明所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种基板，包括衬底基板和依次位于所述衬底基板上的第一导电图形、绝缘层和第二导电图形，所述第二导电图形通过贯穿所述绝缘层的过孔与所述第一导电图形连接，其特征在于，所述第一导电图形远离所述衬底基板的一侧表面上形成有凹槽，所述第二导电图形与所述凹槽的底部和侧壁相接触。

2.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，所述基板为触控基板，所述第一导电图形为触控信号线，所述第二导电图形为触控电极。

3.根据权利要求2所述的基板，其特征在于，所述第一导电图形与所述基板的薄膜晶体管的源极和漏极同层同材料设置。

4.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，所述第一导电图形采用Ti/Al/Ti的三层结构，所述凹槽的底部暴露出所述第一导电图形底部的Ti。

5.一种触控显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-4中任一项所述的基板。

6.一种基板的制作方法，其特征在于，包括：

在衬底基板上形成第一导电图形，所述第一导电图形远离所述衬底基板的一侧表面上形成有凹槽；

形成覆盖所述第一导电图形的绝缘层，所述绝缘层具有暴露出所述凹槽的过孔；

在所述绝缘层上形成第二导电图形，所述第二导电图形与所述凹槽的底部和侧壁相接触。

7.根据权利要求6所述的基板的制作方法，其特征在于，所述基板为触控基板，所述第一导电图形为触控信号线，所述第二导电图形为触控电极。

8.根据权利要求7所述的基板的制作方法，其特征在于，所述在衬底基板上形成第一导电图形包括：

通过一次构图工艺形成所述第一导电图形、所述基板的薄膜晶体管的源极和漏极。

9.根据权利要求8所述的基板的制作方法，其特征在于，所述通过一次构图工艺形成所述第一导电图形、所述基板的薄膜晶体管的源极和漏极包括：

形成导电层；

在所述导电层上涂覆光刻胶，利用灰色调掩膜板或半色调掩膜板对光刻胶进行曝光，显影后形成光刻胶完全保留区域、光刻胶部分保留区域和光刻胶去除区域，所述光刻胶去除区域对应除所述第一导电图形、所述源极和所述漏极之外的部分，所述光刻胶部分保留区域对应所述凹槽；

对所述光刻胶去除区域的导电层进行刻蚀，形成第一导电图形的过渡图形、所述源极和所述漏极；

去除所述光刻胶部分保留区域的光刻胶；

对所述光刻胶部分保留区域的导电层进行刻蚀，形成所述第一导电图形；

去除所述光刻胶完全保留区域的光刻胶。

10.根据权利要求6所述的基板的制作方法，其特征在于，所述形成覆盖所述第一导电图形的绝缘层包括：

在形成有所述第一导电图形的衬底基板上涂覆亚克力材料层；

对所述亚克力材料层进行构图，形成暴露出所述凹槽的过孔；

对形成有所述过孔的亚克力材料层进行固化，形成所述绝缘层。