CN109976056B - 阵列基板、其制作方法、显示面板及显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种阵列基板、其制作方法、显示面板及显示装置，该阵列基板包括衬底基板，衬底基板具有显示区域和包围显示区域的非显示区域；非显示区域包括位于衬底基板上的栅极驱动电路和用于向栅极驱动电路提供信号的信号线，以及包括位于栅极驱动电路和信号线所在膜层上方的屏蔽层；其中，屏蔽层在衬底基板上的正投影至少覆盖信号线在衬底基板上的正投影。本发明通过在栅极驱动电路和信号线所在膜层上方设置正投影至少覆盖信号线的屏蔽层，这样当触控面板采用本发明实施例提供的阵列基板时，由于屏蔽层可以屏蔽用于向栅极驱动电路提供信号的信号线上的高电平信号，因此可以减少信号线上的高电平信号对触控面板中触控信号的干扰，提高触控效果。

Description

阵列基板、其制作方法、显示面板及显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板、其制作方法、显示面板及显示装置。
背景技术
随着显示技术的飞速发展，显示器呈现出了高集成度和低成本的发展趋势。其中，栅极驱动(Gate Driver on Array，GOA，阵列基板行驱动)技术将TFT(Thin FilmTransistor，薄膜晶体管)栅极开关电路集成在显示面板的阵列基板上以形成对显示面板的扫描驱动，从而可以省去栅极集成电路(IC，Integrated Circuit)的绑定(Bonding)区域以及扇出(Fan-out)区域的布线空间，不仅可以在材料成本和制作工艺两方面降低产品成本，而且可以使显示面板做到两边对称和窄边框的美观设计；并且，这种集成工艺还可以省去栅极扫描线方向的Bonding工艺，从而提高了产能和良率。
但是，目前的触控式电容屏的Touch Sensor层采用自容或者互容的方式，在彩膜基板表面通过一层ITO来形成，而在传统的GOA设计中，高电平信号普遍存在，且不可避免，如一般的GOA设计中，时钟信号(CLK信号＝22V左右)，高电平VGH&VDD等信号均为22V左右，这些GOA信号的正上方就是Touch Sensor层，GOA高电平信号会严重干扰Touch效果，导致左右Touch Sensor触控效果比较差，严重的会无触控效果。
发明内容
有鉴于此，本发明实施例提供一种阵列基板、其制作方法及显示装置，用以解决GOA区域的高电平信号干扰触控信号的问题。
因此，本发明实施例提供了一种阵列基板，包括衬底基板，所述衬底基板具有显示区域和包围所述显示区域的非显示区域；所述非显示区域包括位于所述衬底基板上的栅极驱动电路和用于向所述栅极驱动电路提供信号的信号线，以及包括位于所述栅极驱动电路和所述信号线所在膜层上方的屏蔽层；其中，所述屏蔽层在所述衬底基板上的正投影至少覆盖所述信号线在所述衬底基板上的正投影。
可选地，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，所述屏蔽层在所述衬底基板上的正投影还覆盖所述栅极驱动电路在所述衬底基板上的正投影。
可选地，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，所述显示区域包括：位于所述衬底基板上的源漏电极层、像素电极层和公共电极层；所述源漏电极层位于所述像素电极层背离所述衬底基板一侧，所述公共电极层位于所述源漏电极层背离所述衬底基板一侧；其中，至少部分所述信号线与所述源漏电极层同层设置，所述屏蔽层与所述公共电极层同层设置。
可选地，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，所述显示区域包括：位于所述衬底基板上的源漏电极层、像素电极层和公共电极层；所述源漏电极层位于所述像素电极层与所述衬底基板之间，所述公共电极层位于所述像素电极层背离所述衬底基板一侧；其中，至少部分所述信号线与所述源漏电极层同层设置，所述屏蔽层与所述像素电极层同层设置，或所述屏蔽层与所述公共电极层同层设置。
可选地，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，所述信号线包括异层设置、且相互电连接的第一信号线和第二信号线。
可选地，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，所述第一信号线和所述第二信号线通过贯穿所述第一信号线与所述第二信号线之间绝缘层的过孔电连接。
可选地，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，所述第一信号线和所述第二信号线通过位于所述第一信号线和所述第二信号线所在膜层上方的导电连接线电连接，且所述导电连接线与所述屏蔽层相互绝缘。
可选地，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，所述导电连接线与所述屏蔽层同层设置，或所述导电连接线位于所述屏蔽层面向所述衬底基板一侧。
可选地，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，所述栅极驱动电路具有接地信号端，所述屏蔽层与所述接地信号端电连接。
相应地，本发明实施例还提供了一种显示面板，包括本发明实施例提供的上述阵列基板。
相应地，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的上述显示面板。
相应地，本发明实施例还提供了一种发明实施例提供的阵列基板的制作方法，包括：
在衬底基板的非显示区域形成栅极驱动电路和用于向所述栅极驱动电路提供信号的信号线；
在形成有所述栅极驱动电路和所述信号线的衬底基板上形成屏蔽层；其中，所述屏蔽层在所述衬底基板上的正投影至少覆盖所述信号线在所述衬底基板上的正投影。
可选地，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述阵列基板的制作方法中，通过一次构图工艺形成所述屏蔽层和所述公共电极层的图形；或
通过一次构图工艺形成所述屏蔽层和所述像素电极层的图形。
本发明有益效果如下：
本发明实施例提供的一种阵列基板、其制作方法、显示面板及显示装置，该阵列基板包括衬底基板，衬底基板具有显示区域和包围显示区域的非显示区域；非显示区域包括位于衬底基板上的栅极驱动电路和用于向栅极驱动电路提供信号的信号线，以及包括位于栅极驱动电路和信号线所在膜层上方的屏蔽层；其中，屏蔽层在衬底基板上的正投影至少覆盖信号线在衬底基板上的正投影。本发明通过在栅极驱动电路和信号线所在膜层上方设置正投影至少覆盖信号线的屏蔽层，这样当触控面板采用本发明实施例提供的阵列基板时，由于屏蔽层可以屏蔽用于向栅极驱动电路提供信号的信号线上的高电平信号，因此可以减少信号线上的高电平信号对触控面板中触控信号的干扰，提高触控效果。
附图说明
图1为本发明实施例提供的阵列基板的结构示意图之一；
图2为本发明实施例提供的阵列基板的结构示意图之二；
图3为本发明实施例提供的阵列基板的结构示意图之三；
图4为图3所示的阵列基板的俯视结构示意图；
图5为本发明实施例提供的阵列基板的结构示意图之四；
图6为本发明实施例提供的阵列基板的制作方法流程图；
图7为本发明实施例提供的显示面板的结构示意图。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明实施例提供的阵列基板、其制作方法、显示面板及显示装置的具体实施方式作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
附图中各层薄膜厚度和形状不反映阵列基板的真实比例，目的只是示意说明本发明内容。
本发明实施例提供的一种阵列基板，如图1所示，包括衬底基板10，衬底基板10具有显示区域AA和包围显示区域AA的非显示区域；非显示区域包括位于衬底基板10上的栅极驱动电路和用于向栅极驱动电路提供信号的信号线，图1中未具体示意出栅极驱动电路和信号线的结构示意图，以GOA区域代表栅极驱动电路和信号线的结构示意图，阵列基板还包括位于栅极驱动电路和信号线所在膜层上方(即GOA区域上方)的屏蔽层20；其中，屏蔽层20在衬底基板10上的正投影至少覆盖GOA区域中信号线在衬底基板10上的正投影。
本发明实施例提供的阵列基板，通过在栅极驱动电路和信号线所在膜层上方设置正投影至少覆盖信号线的屏蔽层，这样当触控面板采用本发明实施例提供的阵列基板时，由于屏蔽层可以屏蔽用于向栅极驱动电路提供信号的信号线上的高电平信号，因此可以减少信号线上的高电平信号对触控面板中触控信号的干扰，提高触控效果。
进一步地，在具体实施时，栅极驱动电路工作时，由于栅极驱动电路本身也存在磁场，为了防止栅极驱动电路本身存在的磁场干扰触控信号，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，如图1所示，屏蔽层20在衬底基板10上的正投影还覆盖栅极驱动电路20在衬底基板10上的正投影。这样屏蔽层20可以将整个GOA区域屏蔽，GOA区域所有的信号均不会干扰触控信号，进一步提高触控效果。
进一步地，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，显示区域包括：位于衬底基板上的源漏电极层、像素电极层和公共电极层；源漏电极层位于像素电极层背离衬底基板一侧，公共电极层位于源漏电极层背离衬底基板一侧；其中，至少部分信号线与源漏电极层同层设置，屏蔽层与公共电极层同层设置。这样，只需要在形成源漏电极层时改变原有的构图图形，即可通过一次构图工艺形成信号线与源漏电极层的图形，不用增加单独制备信号线的工艺；以及只需要在形成公共电极层时改变原有的构图图形，即可通过一次构图工艺形成屏蔽层与公共电极层的图形，不用增加单独制备屏蔽层的工艺，可以简化制备工艺流程，节省生产成本，提高生产效率。
进一步地，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，显示区域包括：位于衬底基板上的源漏电极层、像素电极层和公共电极层；源漏电极层位于像素电极层与衬底基板之间，公共电极层位于像素电极层背离衬底基板一侧；其中，至少部分信号线与源漏电极层同层设置，屏蔽层与像素电极层同层设置，或屏蔽层与公共电极层同层设置。这样，只需要在形成源漏电极层时改变原有的构图图形，即可通过一次构图工艺形成信号线与源漏电极层的图形，不用增加单独制备信号线的工艺；以及只需要在形成像素电极层或公共电极层时改变原有的构图图形，即可通过一次构图工艺形成屏蔽层与像素电极层或通过一次构图工艺形成屏蔽层与公共电极层的图形，不用增加单独制备屏蔽层的工艺，可以简化制备工艺流程，节省生产成本，提高生产效率。
具体实施时，还有部分信号线与栅电极金属层同层设置。
进一步地，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，如图2、图3、图4和图5所示，图2、图3、图4分别为图1所示的GOA区域中信号线和屏蔽层之间位置关系的结构示意图，图4为图3对应的俯视结构示意图，信号线包括位于衬底基板10上异层设置、且相互电连接的第一信号线31和第二信号线32。具体地，显示区域还包括栅电极金属层，第一信号线31与栅电极金属层同层设置，第二信号线32与源漏金属层同层设置。例如，GOA区域包括多条时钟信号线，而多条时钟信号线中部分时钟信号线与源漏金属层同层设置，部分时钟信号线与栅电极金属层同层设置，由于驱动IC是通过同一时钟信号端通过改变时序分时向多条时钟信号线输入信号，这就需要与源漏金属层同层设置的第二信号线32以及与栅电极金属层同层设置的第一信号线31电连接。本发明仅是以时钟信号为例进行说明，但不限于时钟信号。
进一步地，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，如图2所示，衬底基板10上依次设置第一信号线31、绝缘层40、第二信号线32、第二绝缘层50和屏蔽层20，第一信号线31和第二信号线32通过贯穿第一信号线31与第二信号线32之间绝缘层40的过孔电连接。这样屏蔽层可以完全覆盖信号线和栅极驱动电路。
进一步地，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，如图3、图4和图5所示，第一信号线31和第二信号线32通过位于第一信号线31和第二信号线32所在膜层上方的导电连接线60电连接，且导电连接线60与屏蔽层20相互绝缘。
进一步地，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，如图3和图4所示，导电连接线60与屏蔽层20同层设置，这样除通过导电连接线60连接的第一信号线31和第二信号线32以外区域的其余信号线区域全部用屏蔽层20覆盖，这样也可以实现对GOA区域信号的屏蔽，只不过在导电连接线60与第一信号线31和第二信号线32电连接的区域，会有一小部分的电磁信号对上层的Touch Sensor有影响；为了能够完全覆盖信号线，如图5所示，导电连接线60位于屏蔽层20面向衬底基板10一侧。具体地，当导电连接线与屏蔽层同层设置时，可以在形成像素电极层或公共电极层时改变原有的构图图形，即可通过一次构图工艺形成屏蔽层、导电连接线与像素电极层或通过一次构图工艺形成屏蔽层、导电连接线与公共电极层的图形，不用增加单独制备屏蔽层和导电连接线的工艺，可以进一步简化制备工艺流程，节省生产成本，提高生产效率。当导电连接线位于屏蔽层面向衬底基板一侧时，可以在形成像素电极层时改变原有的构图图形，即可通过一次构图工艺形成导电连接线与像素电极层的图形，不用增加单独制备导电连接线的工艺，可以进一步简化制备工艺流程，节省生产成本，提高生产效率；以及可以在形成公共电极层时改变原有的构图图形，即可通过一次构图工艺形成屏蔽层与公共电极层的图形，不用增加单独制备屏蔽层的工艺，可以进一步简化制备工艺流程，节省生产成本，提高生产效率
进一步地，在具体实施时，为了完全防止栅极驱动电路的磁场和信号线上的信号影响触控信号，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，栅极驱动电路具有接地信号端，屏蔽层与接地信号端电连接。具体地，接地信号端的信号为0V，因此GOA区域产生的干扰信号会被接地信号端的信号屏蔽，就不会对上层的Touch Sensor产生影响，避免了电磁干扰的问题。
基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种本发明实施例提供的阵列基板的制作方法，如图6所示，包括：
S601、在衬底基板的非显示区域形成栅极驱动电路和用于向栅极驱动电路提供信号的信号线；
S602、在形成有栅极驱动电路和信号线的衬底基板上形成屏蔽层；其中，屏蔽层在衬底基板上的正投影至少覆盖信号线在衬底基板上的正投影。
进一步地，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述阵列基板的制作方法中，通过一次构图工艺形成屏蔽层和公共电极层的图形；或
通过一次构图工艺形成屏蔽层和像素电极层的图形。
需要说明的是，在本发明实施例提供的上述阵列基板的制备方法中，构图工艺可只包括光刻工艺，或，可以包括光刻工艺以及刻蚀步骤，同时还可以包括打印、喷墨等其他用于形成预定图形的工艺；光刻工艺是指包括成膜、曝光、显影等工艺过程的利用光刻胶、掩模板、曝光机等形成图形的工艺。在具体实施时，可根据本发明中所形成的结构选择相应的构图工艺。
基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种显示面板，包括本发明实施例提供的上述阵列基板。该显示面板的实施可以参见上述阵列基板的实施例，重复之处不再赘述。
进一步地，本发明实施例提供的上述显示面板可以为液晶显示面板，也可以为有机发光显示面板。
具体地，以液晶显示面板为例，如图7所示，液晶显示面板包括相对设置的阵列基板100和彩膜基板200，位于阵列基板100和彩膜基板200之间的液晶层300，以及位于彩膜基板200背向阵列基板100一侧的触控电极层400，阵列基板100为本发明实施例提供的上述阵列基板。
基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括上述的显示面板。该显示装置可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品的显示装置。该显示装置的实施可以参见上述阵列基板的实施例，重复之处不再赘述。
本发明实施例提供的一种阵列基板、其制作方法、显示面板及显示装置，该阵列基板包括衬底基板，衬底基板具有显示区域和包围显示区域的非显示区域；非显示区域包括位于衬底基板上的栅极驱动电路和用于向栅极驱动电路提供信号的信号线，以及包括位于栅极驱动电路和信号线所在膜层上方的屏蔽层；其中，屏蔽层在衬底基板上的正投影至少覆盖信号线在衬底基板上的正投影。本发明通过在栅极驱动电路和信号线所在膜层上方设置正投影至少覆盖信号线的屏蔽层，这样当触控面板采用本发明实施例提供的阵列基板时，由于屏蔽层可以屏蔽用于向栅极驱动电路提供信号的信号线上的高电平信号，因此可以减少信号线上的高电平信号对触控面板中触控信号的干扰，提高触控效果。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (7)

1.一种阵列基板，其特征在于，包括衬底基板，所述衬底基板具有显示区域和包围所述显示区域的非显示区域；所述非显示区域包括位于所述衬底基板上的栅极驱动电路和用于向所述栅极驱动电路提供信号的信号线，以及包括位于所述栅极驱动电路和所述信号线所在膜层上方的屏蔽层；其中，所述屏蔽层在所述衬底基板上的正投影至少覆盖所述信号线在所述衬底基板上的正投影，所述屏蔽层在所述衬底基板上的正投影还覆盖所述栅极驱动电路在所述衬底基板上的正投影；
所述信号线包括异层设置、且相互电连接的第一信号线和第二信号线；
所述第一信号线和所述第二信号线通过位于所述第一信号线和所述第二信号线所在膜层上方的导电连接线电连接，且所述导电连接线与所述屏蔽层相互绝缘；所述导电连接线与所述屏蔽层同层设置；
所述栅极驱动电路具有接地信号端，所述屏蔽层与所述接地信号端电连接。
2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述显示区域包括：位于所述衬底基板上的源漏电极层、像素电极层和公共电极层；所述源漏电极层位于所述像素电极层背离所述衬底基板一侧，所述公共电极层位于所述源漏电极层背离所述衬底基板一侧；其中，至少部分所述信号线与所述源漏电极层同层设置，所述屏蔽层与所述公共电极层同层设置。
3.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述显示区域包括：位于所述衬底基板上的源漏电极层、像素电极层和公共电极层；所述源漏电极层位于所述像素电极层与所述衬底基板之间，所述公共电极层位于所述像素电极层背离所述衬底基板一侧；其中，至少部分所述信号线与所述源漏电极层同层设置，所述屏蔽层与所述像素电极层同层设置，或所述屏蔽层与所述公共电极层同层设置。
4.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求1-3任一项所述的阵列基板。
5.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求4所述的显示面板。
6.一种如权利要求1-3任一项所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，包括：
在衬底基板的非显示区域形成栅极驱动电路和用于向所述栅极驱动电路提供信号的信号线；所述信号线包括异层设置、且相互电连接的第一信号线和第二信号线；所述栅极驱动电路具有接地信号端；
在所述第一信号线和所述第二信号线所在膜层上方形成导电连接线；所述第一信号线和所述第二信号线通过所述导电连接线电连接；
在形成有所述栅极驱动电路和所述信号线的衬底基板上形成屏蔽层；其中，所述屏蔽层在所述衬底基板上的正投影至少覆盖所述信号线在所述衬底基板上的正投影，所述屏蔽层在所述衬底基板上的正投影还覆盖所述栅极驱动电路在所述衬底基板上的正投影；所述导电连接线与所述屏蔽层相互绝缘，且所述导电连接线与所述屏蔽层同层设置；所述屏蔽层与所述接地信号端电连接。
7.如权利要求6所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，还包括：在所述衬底基板的显示区域形成位于所述衬底基板上的像素电极层和公共电极层；其中，
通过一次构图工艺形成所述屏蔽层和所述公共电极层的图形；或
通过一次构图工艺形成所述屏蔽层和所述像素电极层的图形。
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