CN105607369B - 一种阵列基板、液晶显示面板及显示装置 - Google Patents

一种阵列基板、液晶显示面板及显示装置 Download PDF

Info

Publication number
CN105607369B
CN105607369B CN201610007055.4A CN201610007055A CN105607369B CN 105607369 B CN105607369 B CN 105607369B CN 201610007055 A CN201610007055 A CN 201610007055A CN 105607369 B CN105607369 B CN 105607369B
Authority
CN
China
Prior art keywords
public electrode
line
compensating line
array substrate
compensating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201610007055.4A
Other languages
English (en)
Other versions
CN105607369A (zh
Inventor
邹志翔
操彬彬
杨成绍
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd, Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Priority to CN201610007055.4A priority Critical patent/CN105607369B/zh
Publication of CN105607369A publication Critical patent/CN105607369A/zh
Priority to US15/209,045 priority patent/US10139686B2/en
Application granted granted Critical
Publication of CN105607369B publication Critical patent/CN105607369B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343—Electrodes
    • G02F1/134309—Electrodes characterised by their geometrical arrangement
    • G02F1/134336—Matrix
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/136286—Wiring, e.g. gate line, drain line
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133345—Insulating layers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343—Electrodes
    • G02F1/13439—Electrodes characterised by their electrical, optical, physical properties; materials therefor; method of making
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/136259—Repairing; Defects
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier
    • H01L27/12—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
    • H01L27/1214—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs
    • H01L27/124—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs with a particular composition, shape or layout of the wiring layers specially adapted to the circuit arrangement, e.g. scanning lines in LCD pixel circuits
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1306—Details
    • G02F1/1309—Repairing; Testing
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343—Electrodes
    • G02F1/134309—Electrodes characterised by their geometrical arrangement
    • G02F1/134318—Electrodes characterised by their geometrical arrangement having a patterned common electrode
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/136286—Wiring, e.g. gate line, drain line
    • G02F1/136295—Materials; Compositions; Manufacture processes
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
    • G02F2201/12—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00 electrode
    • G02F2201/121—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00 electrode common or background
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
    • G02F2201/12—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00 electrode
    • G02F2201/123—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00 electrode pixel
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2203/00—Function characteristic
    • G02F2203/01—Function characteristic transmissive

Abstract

本发明公开了一种阵列基板、液晶显示面板及显示装置，在透过率最小的像素对应的像素区域中设置第一公共电极补偿线，通过第一公共电极补偿线对公共电极进行充电可以保证公共电极上的电压恒定。并且由于第一公共电极补偿线与第一信号线或第二信号线均不重叠，因此当第一信号线或第二信号线出现短路或断路时，也不会影响对其进行修复。另外由于公共电极补偿线设置于透过率最低的像素区域中，因此对显示面板整体透过率的影响相对也较小。

Description

一种阵列基板、液晶显示面板及显示装置
技术领域
本发明涉及液晶显示技术领域，尤指一种阵列基板、液晶显示面板及显示装置。
背景技术
随着显示技术的日趋成熟，人们对显示质量的需求越来越高。液晶显示面板一般包括相对设置的阵列基板和彩膜基板，以及位于阵列基板与彩膜基板之间的液晶层。在阵列基板上，如图1a所示，为增加开口率，通常采用透明导电薄膜ITO在各像素区域中制作公共电极01，但是由于ITO电阻较大的原因，很容易受到来自阵列基板上的数据线data、栅线gate等金属导线的干扰，而出现电压不稳定的状况，导致发生显示绿色(Greenish)的风险。
目前为了解决该问题，如图1b所示，通常会分段设计公共电极补偿线02对公共电极01进行充电，以保证公共电极01的电压恒定。但是为了保证开口率不受影响，公共电极补偿线02通常会与数据线data重叠。然而，公共电极补偿线02与数据线data重叠，又会导致当数据线data出现断线或者短路时出现无法维修的问题，因此会严重影响产品良率。
发明内容
有鉴于此，本发明实施例提供了一种阵列基板、液晶显示面板及显示装置，用于保证对公共电极的情况下既不会影响后期对数据线的修复，对透过率的影响又小。
本发明实施例提供的一种阵列基板，包括：衬底基板，以及位于所述衬底基板上交叉设置且相互绝缘的多条第一信号线和多条第二信号线，位于由所述第一信号线和所述第二信号线所限定的像素区域中的公共电极；
在透过率最小的像素对应的像素区域中还设置有与所述公共电极电性连接的第一公共电极补偿线，且所述第一公共电极补偿线与所述第一信号线以及所述第二信号线均绝缘。
较佳地，所述透过率最小的像素为蓝色像素。
较佳地，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，所述第一公共电极补偿线包括与所述第一信号线同层同材质的第一补偿线。
较佳地，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，还包括：位于所述第一信号线所在层与所述第二信号线所在层之间的第一绝缘层；
所述第一公共电极补偿线还包括与所述第二信号线同层同材质的第二补偿线；
所述第二补偿线在所述衬底基板的正投影与所述第一补偿线在所述衬底基板的正投影至少部分重叠，且所述第二补偿线通过贯穿所述第一绝缘层的第一过孔与所述第一补偿线电性连接。
较佳地，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，所述公共电极位于所述第一公共电极补偿线的上方；
所述第一公共电极补偿线与所述公共电极之间设置有第二绝缘层；
所述第一公共电极补偿线通过贯穿所述第二绝缘层的第二过孔与所述公共电极电性连接。
较佳地，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，当所述第一公共电极补偿线包括所述第一补偿线和所述第二补偿线时：
当所述第一信号线位于所述第二信号线上方时，所述第一补偿线通过贯穿所述第二绝缘层的第二过孔与所述公共电极电性连接；
当所述第二信号线位于所述第一信号线的上方时，所述第二补偿线通过贯穿所述第二绝缘层的第二过孔与所述公共电极电性连接。
较佳地，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，还包括：位于所述第二绝缘层与所述公共电极之间的第二公共电极补偿线；
所述第二公共电极补偿线在所述衬底基板的正投影与所述第一公共电极补偿线在所述衬底基板的正投影至少部分重叠，且所述第一公共电极补偿线通过过孔与所述第二公共电极补偿线电性连接，所述第二公共电极补偿线与所述公共电极直接电性连接。
较佳地，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，所述第二公共电极补偿线的材质为金属。
较佳地，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，还包括：位于所述第二绝缘层与所述公共电极之间的像素电极、与所述像素电极同层同材质的第二公共电极补偿线、以及位于所述像素电极与所述公共电极之间的第三绝缘层；
所述第二公共电极补偿线在所述衬底基板的正投影覆盖所述第一公共电极补偿线在所述衬底基板的正投影，且所述第一公共电极补偿线通过过孔与所述第二公共电极补偿线电性连接，所述第二公共电极补偿线通过贯穿所述第三绝缘层的第三过孔与所述公共电极电性连接。
较佳地，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，所述第一信号线为栅线，所述第二信号线为数据线；或
所述第一信号线为数据线，所述第二信号线为栅线。
相应地，本发明实施例还提供了一种液晶显示面板，包括本发明实施例提供的上述任一种阵列基板。
相应地，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的上述液晶显示面板。
本发明实施例提供的一种阵列基板、液晶显示面板及显示装置，在透过率最小的像素对应的像素区域中设置第一公共电极补偿线，通过第一公共电极补偿线对公共电极进行充电可以保证公共电极上的电压恒定。并且由于第一公共电极补偿线与第一信号线或第二信号线均不重叠，因此当第一信号线或第二信号线出现短路或断路时，也不会影响对其进行修复。另外由于公共电极补偿线设置于透过率最低的像素区域中，因此对显示面板整体透过率的影响相对也较小。
附图说明
图1a和图1b分别为本发明实施例提供的阵列基板的结构示意图；
图2a和图2b分别为本发明实施例提供的阵列基板的结构示意图；
图3为图2a所示阵列基板沿A-A’方向的剖面结构示意图之一；
图4a为图2a所示阵列基板沿A-A’方向的剖面结构示意图之二；
图4b为本发明实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图；
图5a至图6b分别为本发明实施例提供的包括有第二公共电极补偿线的阵列基板的剖面结构示意图；
图7a至图7e分别为本发明实施例一执行各步骤后的剖面结构示意图；
图8a和图8b分别为本发明实施例二执行各步骤后的剖面结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图，对本发明实施例提供的阵列基板、液晶显示面板及显示装置的具体实施方式进行详细地说明。
附图中各膜层的厚度和形状不反映阵列基板的真实比例，目的只是示意说明本发明内容。
本发明实施提供的一种阵列基板，如图2a和图2b所示，包括：衬底基板10，以及位于衬底基板10上交叉设置且相互绝缘的多条第一信号线11和多条第二信号线12，位于由第一信号线11和第二信号线12所限定的像素区域中的公共电极13；其中，
在透过率最小的像素对应的像素区域中还设置有与公共电极13电性连接的第一公共电极补偿线14，且第一公共电极补偿线14与第一信号线11以及第二信号线12均绝缘。
本发明实施例提供的上述阵列基板，在透过率最小的像素对应的像素区域中设置第一公共电极补偿线，通过第一公共电极补偿线对公共电极进行充电可以保证公共电极上的电压恒定。并且由于第一公共电极补偿线与第一信号线或第二信号线均不重叠，因此当第一信号线或第二信号线出现短路或断路时，也不会影响对其进行修复。另外由于公共电极补偿线设置于透过率最低的像素区域中，因此对显示面板整体透过率的影响相对也较小。
在具体实施是，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，透过率最小的像素一般是蓝色像素，因此在具体实施时，可以在蓝色像素对应的像素区域中设置第一公共电极补偿线。
进一步地，在具体实施时，为了简化构图，当阵列基板上透过率最小的像素对应的像素区域呈行方向排列时，可以将第一公共电极补偿线设置为沿行方向延伸，并将相邻行像素区域之间的第一公共电极补偿线进行串联；当阵列基板上透过率最小的像素对应的像素区域呈列方向排列时，可以将第一公共电极补偿线设置为沿列方向延伸，并将相邻列像素区域之间的第一公共电极补偿线进行串联。
在具体实施时，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，第一信号线可以为数据线，第二信号线为栅线，当然也可以是第一信号线为栅线，第二信号线为数据线，在此不作限定。
较佳地，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，如图3所示，第一公共电极补偿线14包括与第一信号线11同层同材质的第一补偿线141。这样只需要在形成第一信号线时改变原有的构图图形，通过一次构图工艺就可以形成第一信号线和第一补偿线的图形，不用增加单独制备第一补偿线的工艺，可以简化制作工艺步骤，节省生产成本。
在具体实施时，当第一公共电极补偿线仅包括第一补偿线时，由于第一补偿线需要与公共电极电性连接，因此第一补偿线与公共电极的距离越近制作工艺越容易。
进一步地，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，如图4a和图4b所示，还包括：位于第一信号线11所在层与第二信号线12所在层之间的第一绝缘层15；
第一公共电极补偿线14还包括与第二信号线12同层同材质的第二补偿线142，第二补偿线142在衬底基板10的正投影与第一补偿线141在衬底基板10的正投影至少部分重叠，且第二补偿线142通过贯穿第一绝缘层15的第一过孔V1与第一补偿线141电性连接。
这是因为要使公共电极的电压恒定，必须降低第一公共电极补偿线的电阻，如果第一公共电极补偿线的材料已经确定，只能通过增大面积的方式降低电阻，但是这样势必会导致开口率的降低。因此通过在第一公共电极补偿线中增加第二补偿线，不仅可以降低第一公共电极补偿线整体的电阻，从而起到稳定公共电极的电压的作用，同时可以将第一补偿线的宽度作细，从而最大程度的降低第一补偿线对阵列基板开口率的影响，从而保证透过率。并且由于第二补偿线是与第二信号线同层设置的，因此只需要在形成第二信号线时改变原有的构图图形，通过一次构图工艺就可以形成第二信号线和第二补偿线的图形，不用增加单独制备第二补偿线的工艺，可以简化制作工艺步骤，节省生产成本。
进一步地，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，第二补偿线在衬底基板的正投影与第一补偿线在衬底基板基板的正投影的重合，这样既可以保证第二补偿线的设置不会影响开口率，又可以使第二补偿线的面积最大，从而可以保证最大程度的降低第一公共电极补偿线的电阻。
进一步地，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，如图3至图4b所示，公共电极13位于第一公共电极补偿线14的上方；
第一公共电极补偿线14与公共电极13之间设置有第二绝缘层16，第一公共电极补偿线14通过贯穿第二绝缘层16的第二过孔V2与公共电极13电性连接。
进一步地，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，当第一公共电极补偿线14包括第一补偿线141和第二补偿线142时：
如图4a所示，当第一信号线11位于第二信号线12上方时，第一补偿线141通过贯穿第二绝缘层16的第二过孔V2与公共电极13电性连接；
或者，如图4b所示，当第二信号线12位于第一信号线11的上方时，第二补偿线142通过贯穿第二绝缘层16的第二过孔V2与公共电极13电性连接。
在具体实施时，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，为了进一步稳定公共电极的电压，如图5a和图5b所示，还包括位于第二绝缘层16与公共电极13之间的第二公共电极补偿线17；
第二公共电极补偿线17在衬底基板10的正投影与第一公共电极补偿线14在衬底基板10的正投影至少部分重叠，且第一公共电极补偿线14通过过孔与第二公共电极补偿线17电性连接，第二公共电极补偿线17与公共电极13直接电性连接。
虽然增加第二公共电极补偿线虽然可以进一步稳定公共电极的电压，但是增加第二公共电极补偿线会增加一次构图工艺，因此在具体实施时，根据实际情况决定是否设置第二公共电极补偿线。
进一步地，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，由于金属的电阻比较小，因此第二公共电极补偿线的材质选为金属。
由于金属一般为遮光材料，因此在本发明实施例提供的上述阵列基板中，第二公共电极补偿线在衬底基板的正投影与第一公共电极补偿线在衬底基板的正投影重合。这样既可以保证第二公共电极补偿线的设置不会影响开口率，又可以保证第二公共电极补偿线的电阻最小。
或者，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，如图6a和图6b所示，还包括：位于第二绝缘层16与公共电极13之间的像素电极18、与像素电极18同层同材质的第二公共电极补偿线17、以及位于像素电极18与公共电极13之间的第三绝缘层19；
第二公共电极补偿线17在衬底基板10的正投影覆盖第一公共电极补偿线14在衬底基板10的正投影，且第一公共电极补偿线14通过过孔与第二公共电极补偿线17电性连接，第二公共电极补偿线17通过贯穿第三绝缘层19的第三过孔V3与公共电极13电性连接。
这样，只需要在形成像素电极时改变原有的构图图形，通过一次构图工艺就可以形成像素电极和第二公共电极补偿线的图形，不用增加单独制备第二公共电极补偿线的工艺，可以简化制作工艺步骤，节省生产成本。
需要说明的是，本发明实施例提供的第二公共电极补偿线与第一信号线、第二信号线和像素电极均绝缘。
进一步地，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，当第一补偿线位于第二补偿线上方时，优选第一补偿线通过过孔与第二公共电极补偿线电连接；当第二补偿线位于第一补偿线上方时，优选第二补偿线通过过孔与第二公共电极补偿线电连接；这样因为过孔越深，制作工艺相对越难，因此在实现电连接时，选择距离最近的两层进行电连接。
在具体实施时，如图5a至图6b所示，当第一公共电极补偿线14包括第一补偿线141和第二补偿线142时：
如图5a和图6a所示，当第一信号线11位于第二信号线12上方时，第一补偿线141通过贯穿第二绝缘层16的第二过孔V2与第二公共电极补偿线17电性连接；
如图5b和图6b所示，当第二信号线12位于第一信号线11的上方时，第二补偿线142通过贯穿第二绝缘层16的第二过孔V2与第二公共电极补偿线17电性连接。
进一步地，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，在衬底基板上一般还设置有薄膜晶体管等其它结构和膜层，由于这些结构和膜层的设置均与现有技术相同，在此不作详述。
下面以图5a和图6a所示的阵列基板为例说明其制备方法。
实施例一：
以图5a所示的阵列基板为例，该阵列基板的制备可以包括以下步骤：
(1)通过一次构图工艺在衬底基板10上形成第二信号线(图7a中未示出)和第二补偿线142的图形，如图7a所示；
(2)通过一次构图工艺形成第一绝缘层15的图形，其中第一绝缘层15的图形中至少包括有用于连接第一补偿线141与第二补偿线142的第一过孔V1，如图7b所示；
(3)通过一次构图工艺形成第一信号线11和第一补偿线141的图形，其中，第一补偿线141通过第一过孔V1与第二补偿线142电性连接，如图7c所示；
(4)通过一次构图工艺形成第二绝缘层16的图形，其中第二绝缘层16的图形中至少包括有用于连接第一补偿线141与第二公共电极补偿线17的第二过孔V2，如图7d所示；
(5)通过一次构图工艺形成第二公共电极补偿线17的图形，其中，第二公共电极补偿线17通过第二过孔V2与第一补偿线141电性连接，如图7e所示；
(6)通过一次构图工艺形成公共电极13的图形，其中公共电极13直接与第二公共电极补偿线17电性连接，如图5a所示。
实施例二：
以图6a所示的阵列基板为例，该阵列基板的制备除了包括实施例一中的步骤(1)至(4)，还包括：
(5)通过一次构图工艺形成第二公共电极补偿线17和像素电极18的图形，其中，第二公共电极补偿线17通过第二过孔V2与第一补偿线141电性连接，如图8a所示；
(6)通过一次构图工艺形成第三绝缘层19的图形，其中第三绝缘层19的图形中至少包括有用于连接第二公共电极补偿线17与公共电极13的第三过孔V3，如图8b所示；
(7)通过一次构图工艺形成公共电极13的图形，其中，公共电极13通过第三过孔V3与第二公共电极补偿线17电性连接，如图6a所示。
基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种液晶显示面板，包括本发明实施例提供的上述任一种阵列基板。由于该液晶显示面板解决问题的原理与前述一种阵列基板相似，因此该液晶显示面板的实施可以参见前述阵列基板的实施，重复之处不再赘述。
基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的上述任一种液晶显示面板。该显示装置可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。该显示装置的实施可以参见上述液晶显示面板的实施例，重复之处不再赘述。
本发明实施例提供的一种阵列基板、液晶显示面板及显示装置，在透过率最小的像素对应的像素区域中设置第一公共电极补偿线，通过第一公共电极补偿线对公共电极进行充电可以保证公共电极上的电压恒定。并且由于第一公共电极补偿线与第一信号线或第二信号线均不重叠，因此当第一信号线或第二信号线出现短路或断路时，也不会影响对其进行修复。另外由于公共电极补偿线设置于透过率最低的像素区域中，因此对显示面板整体透过率的影响相对也较小。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (12)

1.一种阵列基板，包括：衬底基板，以及位于所述衬底基板上交叉设置且相互绝缘的多条第一信号线和多条第二信号线，位于由所述第一信号线和所述第二信号线所限定的像素区域中的公共电极；其特征在于：
在透过率最小的像素对应的像素区域中还设置有与所述公共电极电性连接的第一公共电极补偿线，且所述第一公共电极补偿线与所述第一信号线以及所述第二信号线均绝缘。
2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述透过率最小的像素为蓝色像素。
3.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一公共电极补偿线包括与所述第一信号线同层同材质的第一补偿线。
4.如权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，还包括：位于所述第一信号线所在层与所述第二信号线所在层之间的第一绝缘层；
所述第一公共电极补偿线还包括与所述第二信号线同层同材质的第二补偿线；
所述第二补偿线在所述衬底基板的正投影与所述第一补偿线在所述衬底基板的正投影至少部分重叠，且所述第二补偿线通过贯穿所述第一绝缘层的第一过孔与所述第一补偿线电性连接。
5.如权利要求1-4任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述公共电极位于所述第一公共电极补偿线的上方；
所述第一公共电极补偿线与所述公共电极之间设置有第二绝缘层；
所述第一公共电极补偿线通过贯穿所述第二绝缘层的第二过孔与所述公共电极电性连接。
6.如权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，当所述第一公共电极补偿线包括第一补偿线和第二补偿线时：
当所述第一信号线位于所述第二信号线上方时，所述第一补偿线通过贯穿所述第二绝缘层的第二过孔与所述公共电极电性连接；
当所述第二信号线位于所述第一信号线的上方时，所述第二补偿线通过贯穿所述第二绝缘层的第二过孔与所述公共电极电性连接。
7.如权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，还包括：位于所述第二绝缘层与所述公共电极之间的第二公共电极补偿线；
所述第二公共电极补偿线在所述衬底基板的正投影与所述第一公共电极补偿线在所述衬底基板的正投影至少部分重叠，且所述第一公共电极补偿线通过过孔与所述第二公共电极补偿线电性连接，所述第二公共电极补偿线与所述公共电极直接电性连接。
8.如权利要求7所述的阵列基板，其特征在于，所述第二公共电极补偿线的材质为金属。
9.如权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，还包括：位于所述第二绝缘层与所述公共电极之间的像素电极、与所述像素电极同层同材质的第二公共电极补偿线、以及位于所述像素电极与所述公共电极之间的第三绝缘层；
所述第二公共电极补偿线在所述衬底基板的正投影覆盖所述第一公共电极补偿线在所述衬底基板的正投影，且所述第一公共电极补偿线通过过孔与所述第二公共电极补偿线电性连接，所述第二公共电极补偿线通过贯穿所述第三绝缘层的第三过孔与所述公共电极电性连接。
10.如权利要求1-4任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述第一信号线为栅线，所述第二信号线为数据线；或
所述第一信号线为数据线，所述第二信号线为栅线。
11.一种液晶显示面板，其特征在于，包括如权利要求1-10任一项所述的阵列基板。
12.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求11所述的液晶显示面板。
CN201610007055.4A 2016-01-05 2016-01-05 一种阵列基板、液晶显示面板及显示装置 Active CN105607369B (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610007055.4A CN105607369B (zh) 2016-01-05 2016-01-05 一种阵列基板、液晶显示面板及显示装置
US15/209,045 US10139686B2 (en) 2016-01-05 2016-07-13 Array substrate, liquid crystal display panel and display device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610007055.4A CN105607369B (zh) 2016-01-05 2016-01-05 一种阵列基板、液晶显示面板及显示装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN105607369A CN105607369A (zh) 2016-05-25
CN105607369B true CN105607369B (zh) 2019-03-26

Family

ID=55987403

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201610007055.4A Active CN105607369B (zh) 2016-01-05 2016-01-05 一种阵列基板、液晶显示面板及显示装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US10139686B2 (zh)
CN (1) CN105607369B (zh)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI625847B (zh) * 2016-09-09 2018-06-01 友達光電股份有限公司 畫素結構及其製作方法
CN106773394B (zh) * 2016-10-14 2024-04-09 合肥京东方光电科技有限公司 一种阵列基板、显示面板及显示装置
CN108257980B (zh) * 2018-01-22 2021-08-17 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板、显示装置
CN108896717B (zh) 2018-07-24 2021-08-03 京东方科技集团股份有限公司 一种化学传感单元及化学传感器、化学传感装置
CN108957804B (zh) * 2018-07-27 2021-05-14 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板及其维修方法、显示面板和显示装置
CN109541864A (zh) * 2018-12-17 2019-03-29 深圳市华星光电技术有限公司 一种阵列基板
CN109817148B (zh) * 2019-03-21 2021-04-09 京东方科技集团股份有限公司 显示补偿电路、显示基板、显示装置及驱动方法
CN110515249B (zh) * 2019-08-28 2022-10-18 武汉天马微电子有限公司 异形显示面板及显示装置
CN111834376B (zh) * 2019-12-16 2024-01-19 云谷（固安）科技有限公司 阵列基板、显示面板及显示装置

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102135691A (zh) * 2010-09-17 2011-07-27 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板及其制造方法和液晶显示器
CN102937767A (zh) * 2012-10-29 2013-02-20 北京京东方光电科技有限公司 阵列基板、显示装置和阵列基板的制作方法
CN103941496A (zh) * 2013-05-13 2014-07-23 上海天马微电子有限公司 一种阵列基板、触控液晶显示面板及其制造方法

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001183666A (ja) * 1999-12-24 2001-07-06 Nec Corp 液晶表示装置
US6765642B2 (en) * 2002-09-18 2004-07-20 Hannstar Display Corp. In-plane switching liquid crystal display with a compensation electrode structure and method of forming the same
US6822716B2 (en) * 2002-12-10 2004-11-23 Hannstar Display Corp. In-plane switching liquid crystal display with an alignment free structure and method of using back exposure to form the same
JP2006189477A (ja) * 2004-12-28 2006-07-20 Koninkl Philips Electronics Nv カラー液晶表示装置
JP4837942B2 (ja) * 2005-05-25 2011-12-14 シャープ株式会社 液晶表示装置
KR101212142B1 (ko) * 2005-11-28 2012-12-14 엘지디스플레이 주식회사 액정표시소자 및 그 제조방법
KR20080086730A (ko) * 2007-03-23 2008-09-26 삼성전자주식회사 표시 기판 및 이를 갖는 표시 장치
CN101320170B (zh) * 2007-06-08 2010-09-29 群康科技(深圳)有限公司 液晶显示装置
KR101374108B1 (ko) * 2007-10-30 2014-03-13 엘지디스플레이 주식회사 액정 표시 패널과 그 제조 방법
KR101400384B1 (ko) * 2007-11-21 2014-05-26 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치
KR101443380B1 (ko) * 2007-11-23 2014-09-26 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치
WO2010066806A1 (en) * 2008-12-11 2010-06-17 Irex Technologies B.V. Electrophoretic display
KR101243825B1 (ko) * 2008-12-19 2013-03-18 엘지디스플레이 주식회사 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법
US8767136B2 (en) * 2010-10-26 2014-07-01 Sharp Kabushiki Kaisha Display device
JP5993632B2 (ja) * 2012-06-29 2016-09-14 シャープ株式会社 ＧａＮ系半導体装置
US9035932B2 (en) * 2012-08-31 2015-05-19 Apple Inc. Thermally compensated pixels for liquid crystal displays (LCDS)
JP6141748B2 (ja) * 2012-10-26 2017-06-07 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置
KR102140815B1 (ko) * 2013-12-09 2020-08-04 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치
KR20150114638A (ko) * 2014-04-01 2015-10-13 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치
CN204065627U (zh) * 2014-08-05 2014-12-31 京东方科技集团股份有限公司 一种基板和显示装置
KR102296435B1 (ko) * 2014-12-30 2021-09-03 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치 및 그 구동 방법
KR102250805B1 (ko) * 2015-01-26 2021-05-13 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시장치
KR102315816B1 (ko) * 2015-03-09 2021-10-20 엘지디스플레이 주식회사 액정 표시 장치

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102135691A (zh) * 2010-09-17 2011-07-27 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板及其制造方法和液晶显示器
CN102937767A (zh) * 2012-10-29 2013-02-20 北京京东方光电科技有限公司 阵列基板、显示装置和阵列基板的制作方法
CN103941496A (zh) * 2013-05-13 2014-07-23 上海天马微电子有限公司 一种阵列基板、触控液晶显示面板及其制造方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20170192316A1 (en) 2017-07-06
US10139686B2 (en) 2018-11-27
CN105607369A (zh) 2016-05-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105607369B (zh) 一种阵列基板、液晶显示面板及显示装置
CN102937767B (zh) 阵列基板、显示装置和阵列基板的制作方法
CN103365014B (zh) 显示面板制作方法、显示面板及显示装置
CN105182646B (zh) 阵列基板、显示装置
CN207148492U (zh) 一种阵列基板、显示面板及显示装置
CN102591080B (zh) 一种薄膜晶体管液晶显示器、基板及其制造方法
CN201886234U (zh) 液晶显示基板和液晶显示器
CN103268029B (zh) 一种显示模组及显示器
CN101540333B (zh) 薄膜晶体管基板及具有薄膜晶体管基板的显示装置
CN204515309U (zh) 显示面板
CN106449652B (zh) 阵列基板及其制造方法、显示面板和显示设备
CN108428705A (zh) 一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置
CN103034366B (zh) 一种显示基板制作方法及黑矩阵、显示基板、显示装置
US20160187752A1 (en) Display panel and displaying device
CN106019756B (zh) 显示面板及其制作方法、曲面显示面板和曲面显示装置
CN104656324A (zh) 阵列基板及其制作方法以及显示装置
CN104977736A (zh) 具有线宽变化的导电层的显示面板
CN110208975A (zh) 一种显示面板及电子设备
CN105093729A (zh) 阵列基板及其制作方法、显示装置
CN106940502A (zh) 一种液晶显示面板及显示装置
CN105280648B (zh) 阵列基板及其制作方法、显示面板和显示装置
CN105974689B (zh) 一种阵列基板及其制备方法、液晶显示面板
CN203217211U (zh) 一种显示面板和显示装置
CN104298018A (zh) 阵列基板及其制作方法、显示面板
CN105652545A (zh) 显示面板、显示面板的制造方法以及显示装置

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant