CN103365014B - 显示面板制作方法、显示面板及显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种显示面板制作方法、显示面板及显示装置，涉及显示领域。所述显示面板中，阵列基板的栅线和栅极连接线隔层正交设置；阵列基板的源极或漏极的靠近彩膜基板一侧形成有钝化层，钝化层上设置有第一过孔；彩膜基板包括第一基板，第一基板靠近阵列基板一侧形成有与栅极连接线平行的数据线，数据线靠近阵列基板一侧依次形成有保护层、黑矩阵和公共电极，保护层、黑矩阵和公共电极在对应所述数据线的区域设置有第二过孔，导电隔垫物的第二端通过第二过孔连接所述数据线，导电隔垫物的第一端通过第一过孔连接源极或漏极。所述显示面板制作方法、显示面板及显示装置在减小边框宽度的同时，提高了显示面板及显示装置的显示效果。

Description

显示面板制作方法、显示面板及显示装置
技术领域
本发明涉及显示领域，特别涉及一种显示面板制作方法、显示面板及显示装置。
背景技术
传统的显示器，由于栅线与栅线驱动电路的连接端设置在有效显示区域的周边，这就导致了显示器具有较宽的边框，从而降低整个显示器的视觉效果，当边框的区域越大时，视觉效果就越差。为了解决上述问题，现有技术公开了一种阵列基板，其中，栅极连接线呈L型，部分栅极连接线和数据线平行重叠设置，并且栅极连接线与数据线之间隔着栅绝缘层。类似于数据线与数据线驱动电路的连接端的设置方式，栅极连接线与栅线驱动电路的连接端位于有效显示区域内与黑矩阵相对应的区域，从而避免了为栅极连接线预留较宽的边框，减小了显示器的边框宽度。
然而该技术方案却带来了另一个问题，该技术方案中设置在阵列基板上的栅极连接线和数据线存在相互平行设置的部分，虽然隔着绝缘层，但是由于距离较近，栅极连接线和数据线之间的串扰现象非常严重，从而导致显示器的显示画面品质不佳。
发明内容
（一）要解决的技术问题
本发明要解决的技术问题是：如何提供一种显示面板制作方法、显示面板及显示装置，在减小边框宽度的同时，提高显示面板及显示装置的显示效果。
（二）技术方案
为解决上述技术问题，本发明提供了一种显示面板，包括阵列基板和彩膜基板；
所述阵列基板的栅线和栅极连接线隔层正交设置；
所述阵列基板的源极或漏极的靠近所述彩膜基板一侧形成有钝化层，所述钝化层在对应所述源极或漏极的区域设置有第一过孔；
所述彩膜基板包括第一基板，所述第一基板靠近所述阵列基板一侧形成有与所述栅极连接线平行的数据线，所述数据线靠近所述阵列基板一侧依次形成有保护层、黑矩阵和公共电极，所述保护层、黑矩阵和公共电极在对应所述数据线的区域设置有第二过孔，所述第二过孔中设置有导电隔垫物，所述导电隔垫物的第二端通过所述第二过孔连接所述数据线，并且所述导电隔垫物与所述公共电极绝缘设置；
所述导电隔垫物的第一端通过所述第一过孔连接所述源极或漏极。
其中，所述栅线形成在所述阵列基板的第二基板靠近所述彩膜基板一侧，所述栅线靠近所述彩膜基板一侧形成有栅绝缘层，所述栅绝缘层靠近所述彩膜基板一侧形成有所述栅极连接线、源极和漏极；
所述栅绝缘层上形成有第三过孔，所述栅极连接线通过所述第三过孔连接所述栅线；
所述栅极连接线与所述源极或漏极的材料相同。
其中，所述栅极连接线形成在所述黑矩阵在所述第二基板的投影区域内，所述数据线形成在所述黑矩阵在所述第一基板的投影区域内。
其中，所述彩膜基板的滤光片与所述黑矩阵同层设置，所述第二过孔还穿过所述滤光片。
其中，所述数据线上形成有突出部，所述突出部的位置与所述源极或漏极的位置相对应，并且所述突出部连接所述导电隔垫物的第二端。
本发明还提供一种显示装置，所述显示装置包括所述的显示面板。
本发明还提供一种显示面板制作方法，该方法包括：
在第一基板上形成包括数据线的图形；
在所述数据线上形成保护层，在所述保护层对应所述数据线的区域形成包括第二子过孔的图形；
在所述保护层上依次形成包括黑矩阵和公共电极的图形，在所述黑矩阵和公共电极对应所述第二子过孔处形成包括第二过孔的图形；
在所述第二过孔处形成包括导电隔垫物的图形，所述导电隔垫物的第二端通过所述第二过孔连接所述数据线，并且所述导电隔垫物和所述公共电极绝缘设置，形成彩膜基板；
形成阵列基板，所述阵列基板的栅线和栅极连接线隔层正交设置，所述阵列基板的钝化层对应源极或漏极的区域形成有第一过孔；
将所述彩膜基板和所述阵列基板对盒，所述导电隔垫物的第一端通过所述第一过孔连接所述源极或漏极，所述栅极连接线和所述数据线平行设置。
其中，所述形成阵列基板具体包括：
在第二基板上依次形成包括栅线和栅绝缘层的图形，在所述栅绝缘层对应所述栅线的区域形成包括第三过孔的图形；
在所述栅绝缘层上依次形成包括有源层、源极和漏极的图形，在所述栅绝缘层上形成包括栅极连接线的图形，所述栅极连接线通过所述第三过孔连接所述栅线，并且所述栅极连接线和所述栅线正交；
在所述源极、漏极和栅极连接线上形成钝化层，在所述钝化层对应所述源极或漏极的区域形成包括第一过孔的图形。
其中，所述形成阵列基板具体包括：
在第二基板上依次形成包括栅线、栅绝缘层和有源层的图形；
在所述有源层上形成包括源极和漏极的图形，在所述栅绝缘层上对应所述栅线的区域形成包括栅极连接线的图形，并且所述栅极连接线和所述栅线正交；
在所述源极、漏极和栅极连接线上形成钝化层，在所述钝化层对应所述源极或漏极的区域形成包括第一过孔的图形，在所述钝化层和所述栅绝缘层对应所述栅线的区域形成包括第三过孔的图形；
在所述钝化层上形成包括像素电极的图形，与所述像素电极相同的金属材料填充所述第三过孔以连接所述栅线和栅极连接线。
其中，在形成所述彩膜基板时，在所述保护层上还形成与所述黑矩阵同层设置的滤光片的图形，所述第二过孔还穿过所述滤光片。
（三）有益效果
本发明实施例所述显示面板制作方法、显示面板及显示装置，将栅极连接线设置在显示区域内，减小了边框宽度，同时，将数据线设置在彩膜基板上并通过导电隔垫物将数据线和阵列基板的漏极或源极连接，增加了数据线与栅极连接线之间的距离，减小了数据线与栅极连接线之间的相互串扰，从而在减小边框宽度的同时，提高了显示面板及显示装置的显示效果。
附图说明
图1是本发明实施例1所述的显示面板的剖视图；
图2是本发明实施例1所述显示面板的彩膜基板的平面示意图；
图3是本发明实施例1所述显示面板的阵列基板的平面示意图；
图4是本发明实施例2所述显示面板的剖视图；
图5a～5h是本发明实施例3所述显示面板制作方法工艺流程图；
图6a～6d是本发明实施例4所述阵列基板制作方法工艺流程图；
111-第一基板，112-数据线，112a-突出部，113-保护层，114-黑矩阵，115-滤光片，116-公共电极，117-导电隔垫物，117a-第一过孔，117b-第二过孔，117c-第二子过孔，121-第二基板，122-栅线，123-栅绝缘层，124-有源层，125-源极，126-漏极，127-栅极连接线，127a-第三过孔，128-钝化层，129-像素电极，129a-第四过孔。
具体实施方式
下面结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。
实施例1
图1是本发明实施例1所述的显示面板的剖视图，所述显示面板包括彩膜基板和阵列基板。图2是本发明实施例1所述显示面板的彩膜基板的平面示意图，图3是本发明实施例1所述显示面板的阵列基板的平面示意图。
参见图1和图2，所述彩膜基板包括：第一基板111，形成在所述第一基板111靠近所述阵列基板一侧的数据线112，形成在所述数据线靠近所述阵列基板一侧的保护层113，形成在所述保护层113靠近所述阵列基板一侧的黑矩阵114和滤光片115，形成在所述黑矩阵114和滤光片115靠近所述阵列基板一侧的公共电极116。
其中，所述保护层113、黑矩阵114和公共电极116对应所述数据线112的区域形成有第二过孔117b。导电隔垫物117的第二端穿过所述第二过孔117b连接所述数据线112，并且所述第二过孔117b在所述公共电极116上的开口大于在所述保护层113和黑矩阵114上的开口，从而使所述导电隔垫物117与所述公共电极116之间相互绝缘。
优选地，所述数据线112上设置有突出部112a，所述突出部112a对应于所述阵列基板上漏极126的位置，形状与所述漏极126相同。所述导电隔垫物117的第二端连接所述突出部112a，从而可以增大所述导电隔垫物117和所述数据线112的连接面积，增强导电稳定性。
本实施例中，所述数据线112形成在所述黑矩阵114在所述第一基板111的投影区域内，从而可以避免所述数据线112和所述导电隔垫物117影响所述显示面板的正常显示。另外，实际应用中，所述数据线112也可以部分设置于所述黑矩阵114在所述彩膜基板的投影区域外，即设置在所述滤光片115在所述第一基板111的投影区域内，此时所述第二过孔117b还可能会部分穿过所述滤光片115，这种情况虽然会对显示面板的显示效果有一定影响，但是一般影响不大，能够保证正常的显示效果。
参见图1和图3，所述阵列基板包括：第二基板121，形成在所述第二基板121靠近所述彩膜基板一侧的栅线122，形成在所述栅线122靠近所述彩膜基板一侧的栅绝缘层123，形成在所述栅绝缘层123靠近所述彩膜基板一侧的有源层124和栅极连接线127，形成在所述有源层124靠近所述彩膜基板一侧的源极125和漏极126，形成在所述栅极连接线127、源极125和漏极126靠近所述彩膜基板一侧的钝化层128，形成在所述钝化层128靠近所述彩膜基板一侧的像素电极129。
其中，所述栅绝缘层123对应所述栅线的区域形成有第三过孔127a，所述栅极连接线127通过所述第三过孔127a连接所述栅线122，每个所述栅极连接线127对应一个所述栅线122。所述栅极连接线127采用与所述源极125和漏极126相同的金属材料，并且与所述栅极连接线127相同的金属材料填充所述第三过孔127a，以连接所述栅极连接线127和所述栅线122。所述栅极连接线127和所述栅线122正交设置，并且所述栅极连接线127和所述数据线112平行设置。
另外，现有技术中也有将栅极连接线直接设置在第二基板靠近彩膜基板一侧，然后在栅极连接线靠近彩膜基板一侧依次设置第二绝缘层、栅线和栅绝缘层，并在第二绝缘层设置连接栅极连接线和栅线的过孔的方案。相比于该现有方案，本实施例中通过将所述栅极连接线127设置于所述栅绝缘层123靠近所述彩膜基板一侧，可以减少一步沟通工艺以及减少设置一层绝缘层，降低了生产成本，提高了生产效率。
所述钝化层128对应所述漏极126的区域形成有第一过孔117a，所述导电隔垫物117的第一端通过所述第一过孔117a连接所述漏极126，从而将数据线112上的数据信号经所述导电隔垫物117传输至所述漏极126；所述钝化层128对应所述源极125的区域形成有第四过孔129a，所述像素电极129通过所述第四过孔129a连接所述源极125。其中，所述源极125和漏极126的位置不固定，可以互相替换。
本实施例所述显示面板，将栅极连接线127设置在显示区域内，减小了边框宽度，同时，将数据线112设置在彩膜基板上并通过导电隔垫物117将数据线112和阵列基板的漏极126连接，增加了数据线112与栅极连接线127之间的距离，减小了数据线112与栅极连接线127之间的相互串扰，从而在减小边框宽度的同时，提高了显示面板及显示装置的显示效果。
实施例2
图4是本发明实施例2所述显示面板的剖视图，本实施例所述显示面板与实施例1所述显示面板基本相同，其不同之处仅在于，所述第三过孔127a还贯穿所述钝化层128，并且与所述像素电极129相同的金属材料填充所述第三过孔127a以连接所述栅线122和所述栅极连接线127。
通过采用本实施例2的结构，可以在所述钝化层128上形成所述第四过孔129a的同时形成贯穿所述钝化层128和所述栅绝缘层123的第三过孔127a，从而省略了单独在所述栅绝缘层123上形成第三过孔127a的步骤，减少了一步构图工艺。
实施例3
图5a～5h是本发明实施例3所述显示面板制作方法工艺流程图，如图5a～5h所示，该方法包括步骤：
510：在第一基板111上形成包括数据线112的图形。
如图5a所示，在所述第一基板111上形成数据线金属薄膜，通过构图工艺形成包括数据线112的图形。优选地，在所述数据线金属薄膜对应阵列基板漏极的区域通过构图工艺同时形成突出部（未示出）的图形，所述突出部的形状与漏极相同。其中，所述构图工艺通常包括光刻胶涂敷、曝光、显影、刻蚀、光刻胶剥离等工艺。
520：在所述数据线112上形成保护层113，在所述保护层113对应所述数据线112的区域形成包括第二子过孔117c的图形。
如图5b所示，在所述数据线112上形成保护层薄膜，通过构图工艺在所述保护层薄膜对应所述数据线112的区域形成包括第二子过孔117c的图形。其中，所述第二子过孔117c优选设置在所述突出部对应的区域。
530：在所述保护层113上依次形成包括黑矩阵114和公共电极116的图形，在所述黑矩阵114和公共电极116对应所述第二子过孔117c处形成包括第二过孔117b的图形。
如图5c所示，本步骤中在所述保护层113上也形成包括滤光片115的图形，所述滤光片115可以包括红色滤光片、绿色滤光片和蓝色滤光片或红色滤光片、绿色滤光片、蓝色滤光片和白色滤光片。本方案仅以包括红色滤光片、绿色滤光片和蓝色滤光片的情形进行说明，但该方法同样适用于包括红色滤光片、绿色滤光片、蓝色滤光片和白色滤光片的四色显示，在此不再赘述。其中，形成所述黑矩阵114、红色滤光片、绿色滤光片、蓝色滤光片的工艺过程与现有技术相同，共涉及4步（第三步至第六步）构图工艺。形成黑矩阵114、红色滤光片、绿色滤光片、蓝色滤光片后，在所述黑矩阵114、红色滤光片、绿色滤光片、蓝色滤光片上形成包括公共电极116的图形，并通过第七步构图工艺形成包括第二过孔117b的图形。另外，本步骤中，所述第二过孔还可以部分穿过所述滤光片115。
540：在所述第二过孔117b处形成包括导电隔垫物117的图形，所述导电隔垫物117的第二端通过所述第二过孔117b连接所述数据线112，并且导电隔垫物117和所述公共电极116绝缘设置，形成彩膜基板。
如图5d所示，在所述公共电极116上形成导电隔垫物金属材料，通过第八步构图工艺形成包括导电隔垫物117的图形，并且通过第八步构图工艺将所述第二过孔117b在所述公共电极116上的开口扩大，从而保证导电隔垫物117和所述公共电极116绝缘设置，至此形成彩膜基板。
550：在第二基板121上依次形成包括栅线122和栅绝缘层123的图形，在所述栅绝缘层123对应所述栅线122的区域形成包括第三过孔127a的图形。
如图5e所示，在所述第二基板121上依次形成包括栅线122和栅绝缘层123的图形的工艺步骤与现有技术相同，其中，在形成栅线122的图形时涉及第一步构图工艺。然后，通过第二步构图工艺可以在所述栅绝缘层123对应所述栅线122的区域形成包括第三过孔127a的图形。
560：在所述栅绝缘层123上依次形成包括有源层124、源极125和漏极126的图形，在所述栅绝缘层123上形成包括栅极连接线127的图形，所述栅极连接线127通过所述第三过孔127a连接所述栅线122，并且所述栅极连接线127和所述栅线122正交。
如图5f所示，在所述栅绝缘层123上对应所述栅线122的栅极的区域，通过第三步构图工艺形成包括有源层124的图形，然后通过第四步构图工艺形成包括源极125、漏极126和栅极连接线127的图形。也就是说，所述栅极连接线127和所述源极125、漏极126采用相同的金属材料刻蚀得到，并且与所述栅极连接线127相同的金属材料填充所述第三过孔127a，以连接所述栅线122和所述栅极连接线127。
570：在所述源极125、漏极126和栅极连接线127上形成钝化层128，在所述钝化层128对应所述漏极126的区域形成包括第一过孔117a的图形。
如图5g所示，通过第五步构图工艺可以在钝化层128对应所述漏极126的区域形成包括第一过孔117a的图形。另外，通过第五步构图工艺还在钝化层128对应所述源极125的区域形成包括第四过孔129a的图形，以及通过第六步构图工艺在所述钝化层128上形成包括像素电极129的图形，不再赘述。本步骤完成后，得到阵列基板。
580：将所述彩膜基板和所述阵列基板对盒，所述导电隔垫物117的第一端通过所述第一过孔117a连接所述漏极126，所述栅极连接线127和所述数据线112平行设置。
如图5h所示，所述彩膜基板和所述阵列基板对盒后，所述导电隔垫物117实现所述数据线112和所述漏极126的电连接，从而将数据信号从彩膜基板传输至阵列基板上的漏极126。其中，本实施例中，所述源极125和漏极126的位置可以根据实际应用进行调换。
本实施例所述方法，阵列基板需要8步构图工艺，彩膜基板需要6步构图工艺，通过共计14步构图工艺即可制备得到实施例1所述的显示面板，工艺过程简单，并且制备得到的显示面板在减小边框宽度的同时，提高了显示效果。
实施例4
本实施例的显示面板制作方法与实施例3所述方法基本相同，其不同之处仅在于，如图6a～6d所示，本实施例中，阵列基板的制作过程如下：
610：在第二基板121上依次形成包括栅线122、栅绝缘层123和有源层124的图形。
如图6a所示，本步骤与现有技术的制备工艺相同，在形成栅线122和有源层124的图形时分别涉及一步构图工艺，共涉及两步构图工艺，不再赘述。
620：在所述有源层124上形成包括源极125和漏极126的图形，在所述栅绝缘层123上对应所述栅线122的区域形成包括栅极连接线127的图形，并且所述栅极连接线127和所述栅线122正交。
如图6b所示，本步骤中在形成包括源极125和漏极126的图形同时，在所述栅绝缘层123上还形成包括栅极连接线127的图形，共涉及一步构图工艺。
630：在所述源极125、漏极126和栅极连接线127上形成钝化层128，在所述钝化层128对应所述漏极126的区域形成包括第一过孔117a的图形，在所述钝化层128和所述栅绝缘层123对应所述栅线122的区域形成包括第三过孔127a的图形。
如图6c所示，本步骤中利用一步构图工艺同时形成第一过孔117a和第三过孔127a，以及第四过孔129a的图形。所述第四过孔129a形成在所述钝化层128对应所述源极125的区域。
640：在所述钝化128上形成包括像素电极129的图形，与所述像素电极129相同的金属材料填充所述第三过孔127a以连接所述栅线122和栅极连接线127。
本步骤中形成所述像素电极129的图形的过程与现有技术基本相同，涉及一步构图工艺，不同之处在于，与所述像素电极129相同的金属材料还填充所述第三过孔127a。
本实施例中，阵列基板的制备仅涉及5步构图工艺，因此，本实施例中，显示面板的制备共涉及13步构图工艺，相比实施例3，进一步减少了构图工艺的次数，简化了工艺流程，降低了制备成本。
实施例5
本发明还提供一种显示装置，所述显示装置包括实施例1或2所述的显示面板，所述显示装置可以是液晶电视、平板电脑、笔记本电脑、智能手机等。
本发明实施例所述显示面板制作方法、显示面板及显示装置，将栅极连接线设置在显示区域内，减小了边框宽度，同时，将数据线设置在彩膜基板上并通过导电隔垫物将数据线和阵列基板的漏极连接，增加了数据线与栅极连接线之间的距离，减小了数据线与栅极连接线之间的相互串扰，从而在减小边框宽度的同时，提高了显示面板及显示装置的显示效果。
以上实施方式仅用于说明本发明，而并非对本发明的限制，有关技术领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围的情况下，还可以做出各种变化和变型，因此所有等同的技术方案也属于本发明的范畴，本发明的专利保护范围应由权利要求限定。

Claims (10)

1.一种显示面板，包括阵列基板和彩膜基板；其特征在于，
所述阵列基板的栅线和栅极连接线隔层正交设置；
所述阵列基板的源极或漏极的靠近所述彩膜基板一侧形成有钝化层，所述钝化层在对应所述源极或漏极的区域设置有第一过孔；
所述彩膜基板包括第一基板，所述第一基板靠近所述阵列基板一侧形成有与所述栅极连接线平行的数据线，所述数据线靠近所述阵列基板一侧依次形成有保护层、黑矩阵和公共电极，所述保护层、黑矩阵和公共电极在对应所述数据线的区域设置有第二过孔，所述第二过孔中设置有导电隔垫物，所述导电隔垫物的第二端通过所述第二过孔连接所述数据线，并且所述导电隔垫物与所述公共电极绝缘设置；
所述导电隔垫物的第一端通过所述第一过孔连接所述源极或漏极。
2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述栅线形成在所述阵列基板的第二基板靠近所述彩膜基板一侧，所述栅线靠近所述彩膜基板一侧形成有栅绝缘层，所述栅绝缘层靠近所述彩膜基板一侧形成有所述栅极连接线、源极和漏极；
所述栅绝缘层上形成有第三过孔，所述栅极连接线通过所述第三过孔连接所述栅线；
所述栅极连接线与所述源极或漏极的材料相同。
3.如权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述栅极连接线形成在所述黑矩阵在所述第二基板的投影区域内，所述数据线形成在所述黑矩阵在所述第一基板的投影区域内。
4.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述彩膜基板的滤光片与所述黑矩阵同层设置，所述第二过孔还穿过所述滤光片。
5.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述数据线上形成有突出部，所述突出部的位置与所述源极或漏极的位置相对应，并且所述突出部连接所述导电隔垫物的第二端。
6.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括如权利要求1-5任意一项所述的显示面板。
7.一种显示面板制作方法，其特征在于，该方法包括：
在第一基板上形成包括数据线的图形；
在所述数据线上形成保护层，在所述保护层对应所述数据线的区域形成包括第二子过孔的图形；
在所述保护层上依次形成包括黑矩阵和公共电极的图形，在所述黑矩阵和公共电极对应所述第二子过孔处形成包括第二过孔的图形；
在所述第二过孔处形成包括导电隔垫物的图形，所述导电隔垫物的第二端通过所述第二过孔连接所述数据线，并且所述导电隔垫物和所述公共电极绝缘设置，形成彩膜基板；
形成阵列基板，所述阵列基板的栅线和栅极连接线隔层正交设置，所述阵列基板的钝化层对应源极或漏极的区域形成有第一过孔；
将所述彩膜基板和所述阵列基板对盒，所述导电隔垫物的第一端通过所述第一过孔连接所述源极或漏极，所述栅极连接线和所述数据线平行设置。
8.如权利要求7所述的显示面板制作方法，其特征在于，所述形成阵列基板具体包括：
在第二基板上依次形成包括栅线和栅绝缘层的图形，在所述栅绝缘层对应所述栅线的区域形成包括第三过孔的图形；
在所述栅绝缘层上依次形成包括有源层、源极和漏极的图形，在所述栅绝缘层上形成包括栅极连接线的图形，所述栅极连接线通过所述第三过孔连接所述栅线，并且所述栅极连接线和所述栅线正交；
在所述源极、漏极和栅极连接线上形成钝化层。
9.如权利要求7所述的显示面板制作方法，其特征在于，所述形成阵列基板具体包括：
在第二基板上依次形成包括栅线、栅绝缘层和有源层的图形；
在所述有源层上形成包括源极和漏极的图形，在所述栅绝缘层上对应所述栅线的区域形成包括栅极连接线的图形，并且所述栅极连接线和所述栅线正交；
在所述源极、漏极和栅极连接线上形成钝化层，在所述钝化层和所述栅绝缘层对应所述栅线的区域形成包括第三过孔的图形；
在所述钝化层上形成包括像素电极的图形，与所述像素电极相同的金属材料填充所述第三过孔以连接所述栅线和栅极连接线。
10.如权利要求7所述的显示面板制作方法，其特征在于，在形成所述彩膜基板时，在所述保护层上还形成与所述黑矩阵同层设置的滤光片的图形，所述第二过孔还穿过所述滤光片。
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