CN109791816B - 调光膜用透明导电膜与调光膜 - Google Patents

调光膜用透明导电膜与调光膜 Download PDF

Info

Publication number
CN109791816B
CN109791816B CN201880003724.8A CN201880003724A CN109791816B CN 109791816 B CN109791816 B CN 109791816B CN 201880003724 A CN201880003724 A CN 201880003724A CN 109791816 B CN109791816 B CN 109791816B
Authority
CN
China
Prior art keywords
film
light
transparent conductive
layer
adjusting
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201880003724.8A
Other languages
English (en)
Other versions
CN109791816A (zh
Inventor
村上淳之介
伊神俊辉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sekisui Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sekisui Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sekisui Chemical Co Ltd filed Critical Sekisui Chemical Co Ltd
Publication of CN109791816A publication Critical patent/CN109791816A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN109791816B publication Critical patent/CN109791816B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B5/00—Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form
    • H01B5/14—Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form comprising conductive layers or films on insulating-supports

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

本发明提供一种调光膜用透明导电膜，其可以抑制透明导电膜和调光层在贴合时发生的不均匀，提高导电层和调光层的粘合性。本发明的调光膜用透明导电膜，其为用于调光膜的透明导电膜，其具有基材膜与设置于所述基材膜的一个表面侧的导电层，其中，所述导电层的与所述基材膜侧相反的表面的表面张力为28dyn/cm以上且50dyn/cm以下。

Description

调光膜用透明导电膜与调光膜
技术领域
本发明涉及一种调光膜用透明导电膜。此外，本发明还涉及使用了上述透明导电膜的调光膜。
背景技术
在调光膜等中，使用调光材料等。使用调光材料的目的在于，通过屏蔽特定波长的光来调整透射率、调整色调。调光膜用于室内部件、建筑部件以及电子部件等各种领域。
上述调光膜具有，例如在两个透明导电膜之间设置调光层而得的结构。用于上述调光膜的透明导电膜具备基材膜、与该基材膜表面上的导电层。上述调光膜中，上述导电层处于经由上述调光层而对置的状态。在上述调光膜中，在两个透明导电膜的导电层间施加电场。通过施加电场的状态和不施加电场的状态，可以改变透过上述调光膜的光量。
下述专利文献1公开了，用于上述调光膜的透明导电膜的一个实例。专利文件1所记载的透明导电膜中，导电层可以由ITO等形成。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：WO2008/075772A1
发明内容
本发明所解决的技术问题
专利文献1中所述的现有透明导电膜中，透明导电膜和调光层在贴合时可能发生不均匀。因而，导电层和调光层之间的粘合性可能降低。其结果，调光性能可能出现不均匀，或可能无法得到良好的调光性能。
本发明的目的在于提供一种调光膜用透明导电膜，其可以抑制透明导电膜和调光层在贴合时发生的不均匀，提高导电层和调光层的粘合性。此外，本发明的目的还在于提供一种调光膜，其使用了上述调光膜用透明导电膜。
解决技术问题的技术手段
根据本发明的广泛方案，提供一种调光膜用透明导电膜，其为用于调光膜的透明导电膜，其具有基材膜与设置于上述基材膜的一个表面侧的导电层，其中，上述导电层的与上述基材膜侧相反的表面的表面张力为28dyn/cm以上且50dyn/cm以下。
根据本发明的调光膜用透明导电层的某个特定方案，其以上述导电层与含有丙烯酸树脂的调光层相接触的方式进行使用。
根据本发明的广泛方案，提供一种调光膜，其具备第一透明导电膜、第二透明导电膜与设置于上述第一透明导电膜和上述第二透明导电膜之间的调光层，其中，上述第一透明导电膜和上述第二透明导电膜中的至少一者为上述的调光膜用透明导电膜。
根据本发明的调光膜的某个特定方案，其中，上述调光层含有丙烯酸树脂。
根据本发明的调光膜的某个特定方案，其中，上述调光膜用透明导电膜相对于上述调光层的剥离强度为3.0N/inch以上。
发明效果
本发明的调光膜用透明导电膜，其具有基材膜与设置于上述基材膜的一个表面侧的导电层，其中，上述导电层的与上述基材膜侧相反的表面的表面张力为28dyn/cm以上且50dyn/cm以下。本发明的调光膜用透明导电膜，由于具备上述构成，可以抑制透明导电膜和调光层在贴合时发生的不均匀，提高导电层和调光层的粘合性。
附图说明
图1表示本发明的一个实施方式的调光膜用透明导电膜的截面图。
图2表示使用了图1所示的调光膜用透明导电膜的调光膜的一个实例的截面图。
具体实施方式
下文中，将详细说明本发明。
本发明的调光膜用透明导电膜(以下，有时称为透明导电膜)用于调光膜。透明导电膜是透明的。透明也包含半透明。透明导电膜例如具有透光性。透明导电膜具有“透光性”是指：例如波长550nm处的总透光率优选为88％以上，更优选为89％以上。
本发明的透明导电膜包括基材膜和导电层。上述导电层设置于上述基材膜的一个表面侧。
本发明的透明导电膜中，上述导电层的与上述基材膜侧相反的表面的表面张力为28dyn/cm以上且50dyn/cm以下。上述导电层的与上述基材膜侧相反的表面是与调光层相接触侧的表面。
本发明的透明导电膜中，由于具备上述构成，可以抑制透明导电膜和调光层在贴合时发生的不均匀，提高导电层和调光层的粘合性。其结果，调光性能不易发生不均匀，可以得到良好的调光性能。
就更进一步抑制透明导电膜和调光层在贴合时发生的不均匀，更进一步提高导电层和调光层的粘合性的观点而言，上述导电层的与上述基材膜侧相反的表面的表面张力优选为29dyn/cm以上且优选为48dyn/cm以下，优选为45dyn/cm以下。
上述表面张力可基于JIS K6768进行测定。具体而言，上述表面张力可以通过以下方式进行测定。
表面张力在23℃下进行测定。就表面张力的测定而言，可以使用和光纯药工业株式会社制造的润湿张力测试用混合液。具体而言，使用润湿张力测试用混合液，使润湿张力测试用混合液(液体)在导电层的表面扩散以形成面积为6cm2以上的液膜。就液体的量而言，控制在不形成水滩的情况下形成液膜的程度。每次测定应在未测定区域中进行，液体不应多次扩散。
就表面张力的判定而言，在涂布润湿张力测试用混合液后5秒后进行。在液膜不发生破裂的情况下扩散液体，如果相对于刚刚扩散后的100％面积而在5秒后保持80％以上的面积，则导电层具有规定的表面张力。
从表面张力低的混合液开始测定，确认导电层具有规定的表面张力后，进而测定下一个表面张力高的混合液，将表面张力测定中表现出最高表面张力时的表面张力定义为导电层的表面张力。
就上述导电层的表面张力而言，根据导电层的结晶性、导电层的表面粗糙度、导电层表面的羟基和氨基等亲水性官能团的密度、以及导电层表面的甲基和芳香环等疏水基团的密度等进行决定。当上述导电层的材料是ITO(氧化铟锡)、AZO(氧化铝锌)、SnO2等氧化物半导体时，上述导电层的表面张力特别是对导电层表面上的羟基密度有很大影响。
作为将上述表面张力控制在上述范围内的方法，可举出：控制形成导电层时的基板温度的方法、当通过溅射形成导电层时控制O2压力和H2O压力的方法、形成导电层后进行退火处理的方法等。需要说明的是，在上述导电层的材料是ITO、AZO、SnO2等氧化物半导体的情况下，当成膜时提高O2分压或H2O压力，并且在形成导电层之后不进行退火处理时，导电层表面的羟基密度增加，表面张力趋于增大。此外，在上述导电层的材料是ITO、AZO、SnO2等氧化物半导体的情况下，当在相对低的温度下和相对短的时间内进行退火处理时，导电层表面的羟基的密度增加，表面张力趋于增大。
上述透明导电膜优选以上述导电层与含有丙烯酸树脂的调光层相接触的方式进行使用。在本发明中，即使导电层与包含丙烯酸树脂的调光层相接触，也可以抑制透明导电膜和调光层在贴合时发生的不均匀，提高导电层和调光层之间的粘合性。需要说明的是，在本发明中，即使导电层与不含丙烯酸树脂的调光层相接触，也可以抑制透明导电膜和调光层在贴合时发生的不均匀，提高导电层和调光层的粘合性。
上述透明导电膜优选为经过退火处理的透明导电膜。如果上述透明导电膜是经过退火处理的透明导电膜，则可以提高导电层的长期稳定性、耐化学性、耐酸性等。此外，如果上述透明导电膜是经过退火处理的透明导电膜，则即使当上述导电层的材料是ITO、AZO、SnO2等氧化物半导体时，由于经过退火处理氧化物半导体的结晶性得到提高，因此也可以稳定地降低上述导电层的表面电阻值。
在下文中，将参考附图说明本发明的具体实施方式。
图1表示本发明的一个实施方式的调光膜用透明导电膜的截面图。
图1所示的透明导电膜1用于调光膜。
透明导电膜1具备基材膜11与导电层12。
基材膜11具有透光性。基材膜11由具有透光性的材料构成。基材膜11具有第一表面11a与第二表面11b。第一表面11a和第二表面11b彼此对置。
导电层12设置于基材膜11的第一表面11a侧。导电层12具有透光性。导电层12的透光性高，并且由具有导电性的材料构成。导电层12直接叠层于基材膜11的第一表面11a上。导电层可以不直接叠层于基材膜的第一表面上。例如，可以在导电层和基材膜之间配置底涂层。
在本实施方式中，导电层12的与基材膜11侧相反的表面的表面张力在上述范围内。
此外，图1中所示的透明导电膜1可以卷绕成卷状。
就进一步提高透光性的观点而言，上述透明导电膜在波长550nm处的总透光率优选为88％以上，更优选为89％以上，进一步优选为90％以上。上述透明导电膜在波长550nm处的总透光率通常为100％以下。
就上述总透光率而言，根据JIS K7105，使用雾度计(日本电色工业株式会社制造的“NDH-2000”或其等同物)来进行测定。
就进一步提高透光性的观点而言，上述透明导电膜的雾度值优选为1.3％以下，更优选为0.8％以下，进一步优选为0.7％以下，特别优选为0.6％以下。上述透明导电膜的雾度值通常为0％以上。
就上述雾度值而言，根据JIS K7136，使用雾度计(日本电色工业株式会社制造的“NDH-2000”或其等同物)来进行测定。
下面将详细说明构成透明导电膜的各层的详细情况。
(基材膜)
基材膜优选具有高透光性。因此，基材膜的材料没有特别限制，例如，可举出：聚烯烃、聚醚砜、聚砜、聚碳酸酯、环烯烃聚合物、聚芳酯、聚酰胺、聚甲基丙烯酸甲酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、三乙酰纤维素、纤维素纳米纤维等。上述基材膜的材料可以单独使用，也可以组合使用两种以上。
基材膜的厚度优选为5μm以上，更优选为20μm以上，且优选为190μm以下，更优选为125μm以下。当基材膜的厚度在上述下限以上且上述上限以下时，可以使导电层的图案更不易被肉眼观察到。
基材膜在波长380～780nm的可见光区域处的平均透射率优选为85％以上，更优选为90％以上。上述基材膜在波长380～780nm的可见光区域处的平均透射率通常为100％以下。
基材膜可以含有各种稳定剂、紫外线吸收剂、增塑剂、润滑剂、着色剂等添加剂。上述添加剂可以单独使用，也可以组合使用两种以上。
就基材膜而言，可以在一侧或两侧的表面上具有硬涂层。
上述硬涂层的材料优选为固化树脂。上述固化树脂可以单独使用，也可以组合使用两种以上。
作为上述固化树脂，可举出热固性树脂、紫外线固化树脂等活性能量射线固化树脂等。就提高生产率和经济效率的观点而言，上述固化树脂优选为紫外线固化树脂。
上述紫外线固化树脂优选为光固化性单体聚合而得的树脂。就上述紫外线固化树脂而言，也可以聚合有除上述光固化性单体之外的单体。上述光固化性单体和除上述光固化性单体以外的单体可以单独使用，也可以组合使用两种以上。
作为上述光固化性单体，例如可举出：1,6-己二醇二丙烯酸酯、1,4-丁二醇二丙烯酸酯、乙二醇二丙烯酸酯、二乙二醇二丙烯酸酯、四乙二醇二丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、1,4-丁二醇二甲基丙烯酸酯、聚(丁二醇)二丙烯酸酯、四乙二醇二甲基丙烯酸酯、1,3-丁二醇二丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯、三异丙二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、双酚A二甲基丙烯酸酯等二丙烯酸酯化合物；三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、季戊四醇单羟基三丙烯酸酯以及三羟甲基丙烷三乙氧基三丙烯酸酯等三丙烯酸酯化合物；季戊四醇四丙烯酸酯、二-三羟甲基丙烷四丙烯酸酯等四丙烯酸酯化合物；二季戊四醇(单羟基)五丙烯酸酯等五丙烯酸酯化合物。上述紫外线固化树脂可以是具有5个以上官能团的多官能丙烯酸酯化合物。上述多官能丙烯酸酯化合物可以单独使用，也可以组合使用两种以上。此外，可以向上述多官能丙烯酸酯化合物中添加光引发剂、光敏剂、流平剂以及稀释剂等。
上述硬涂层可含有填料。上述硬涂层可含有上述固化树脂和上述填料。上述填料没有特别限制，例如可举出：二氧化硅、氧化铁、氧化铝、氧化锌、氧化钛、二氧化硅、氧化锑、氧化锆、氧化锡、氧化铈、氧化铟锡等金属氧化物粒子；以及以聚硅氧烷、(甲基)丙烯酸、苯乙烯、三聚氰胺等为主要成分的树脂粒子等。作为上述树脂粒子，可以使用交联聚(甲基)丙烯酸酯等树脂粒子。上述填料可以单独使用，也可以组合使用两种以上。
(导电层)
导电层由具有透光性的导电性材料形成。作为上述导电性材料，并无特别限制，例如可举出：IZO(氧化铟锌)及ITO(氧化铟锡)等In类氧化物、SnO2及FTO(氟掺杂氧化锡)等Sn类氧化物、AZO(氧化铝锌)及GZO(氧化镓锌)等Zn类氧化物、钠、钠-钾合金、锂、镁、铝、镁-银混合物、镁-铟混合物、铝-锂合金、Al/Al2O3混合物，Al/LiF混合物、金等金属、CuI、Ag纳米线(AgNW)、碳纳米管(CNT)、导电性透明聚合物等。上述导电性材料可以单独使用，也可以组合使用两种以上。
就进一步提高导电性并进一步提高透光性的观点而言，上述导电性材料优选为IZO及ITO等In类氧化物、SnO2及FTO等Sn类氧化物、AZO及GZO等Zn类氧化物，更优选为ITO。
导电层的厚度优选为12nm以上，更优选为16nm以上，进一步优选为17nm以上，且优选为50nm以下，更优选为30nm以下，进一步优选为19.9nm以下。
当导电层的厚度在上述下限以上时，可以有效地降低透明导电膜的导电层的表面电阻值，可以进一步提高导电性并提高透光性。当导电层的厚度在上述上限以下时，可以使导电层的图案变得更加不易被肉眼观察到，并且可以使透明导电膜更薄。
导电层的表面电阻值优选为150Ω/□以下，更优选为140Ω/□以下，进一步优选为130Ω/□以下，特别优选为100Ω/□以下。当上述导电层的表面电阻值在上述上限以下时，可以提高调光膜的驱动速度，此外，可以抑制色调变化的不均匀。
就上述导电层的表面电阻值而言，基于JIS K7194，在上述导电层的与基材膜侧相反的表面侧进行测定。
导电层在波长380～780nm的可见光区域处的平均透射率优选为85％以上，更优选为90％以上。上述导电层在波长380～780nm的可见光区域处的平均透射率通常为100％以下。
(底涂层)
底涂层可以设置于上述导电层和上述基材膜之间。上述底涂层例如是折射率调节层。通过设置上述底涂层，可以减小导电层和基材膜(基材膜具有硬涂层的情况下为导电层和硬涂层)之间的折射率之差，因此，可以进一步提高透明导电膜的透光性。
就底涂层的材料而言，只要是具有折射率调节功能的材料即可，没有特别限制。作为上述底涂层的材料，可举出：SiO2、MgF2、Al2O3等无机材料、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂、三聚氰胺树脂、醇酸树脂、硅氧烷聚合物等有机材料。
底涂层可以通过真空气相沉积法、溅射法、离子镀法、涂布法而形成。
当底涂层材料为SiO2时，通过调整溅射法等成膜工艺，可以形成完全氧化的SiO2层和部分氧化的SiOx(0≤x<2)叠层层而成的底涂层。具体而言，通过调整使用Si靶并通过溅射法形成SiO2层时的O2分压，可以调整Si的氧化度。此外，当底涂层是SiOx层时，可以提高导电层和SiO2层的粘合性，并且可以提高基材膜和SiO2层的粘合性。
(保护膜)
保护膜可以设置于上述基材膜的与上述导电层侧相反的表面上(另一侧表面上)。
保护膜优选由基材膜片材和粘合剂层构成。
上述基材膜片材优选具有高透光性。作为上述基材膜片材的材料，没有特别限制，例如可举出：聚烯烃、聚醚砜、聚砜、聚碳酸酯、环烯烃聚合物、聚芳酯、聚酰胺、聚甲基丙烯酸甲酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、三乙酰纤维素以及纤维素纳米纤维等。
就上述粘合剂层而言，例如可以由(甲基)丙烯酸类粘合剂、橡胶类粘合剂、聚氨酯类粘合剂、环氧基类粘合剂构成。就抑制粘合强度因热处理而提高的观点而言，上述粘合剂层优选由(甲基)丙烯酸类粘合剂构成。
上述(甲基)丙烯酸类粘合剂是，根据需要将交联剂、增粘树脂、各种稳定剂等添加到(甲基)丙烯酸类聚合物中而得的粘合剂。
上述(甲基)丙烯酸类聚合物没有特别限制，优选为将共聚含有(甲基)丙烯酸酯单体和其他可共聚的聚合性单体的混合单体进行共聚而得的(甲基)丙烯酸类共聚物。
上述(甲基)丙烯酸酯单体没有特别限制，优选为烷基的碳原子数为1～12的伯或仲烷基醇与(甲基)丙烯酸通过酯化反应而得的(甲基)丙烯酸酯单体。作为上述(甲基)丙烯酸酯单体，具体可举出：(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯等。上述(甲基)丙烯酸酯单体可以单独使用，也可以组合使用两种以上。
作为其它可共聚的聚合性单体，例如可举出：(甲基)丙烯酸2-羟乙酯、(甲基)丙烯酸羟丙酯、(甲基)丙烯酸羟丁基酯等(甲基)丙烯酸羟烷基酯；(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸羟烷基酯、二甲基丙烯酸甘油酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、异氰酸2-甲基丙烯酰氧基乙酯、(甲基)丙烯酸、衣康酸、马来酸酐、巴豆酸、马来酸以及富马酸等官能性单体等。上述其他可共聚的聚合性单体可以单独使用，也可以组合使用两种以上。
上述交联剂没有特别限制，例如可举出：异氰酸酯类交联剂、环氧类交联剂、三聚氰胺类交联剂、过氧化物类交联剂、尿素类交联剂、金属醇盐类交联剂、金属螯合物类交联剂、金属盐类交联剂、碳二亚胺类交联剂、噁唑啉类交联剂、氮丙啶类交联剂、胺类交联剂、多官能丙烯酸酯等。上述交联剂可以单独使用，也可以组合使用两种以上。
上述增粘树脂没有特别限制，例如可举出：脂肪族共聚物、芳香族共聚物、脂肪族-芳香族共聚物、脂环族共聚物等石油类树脂；香豆酮-茚系树脂；萜烯系树脂；萜烯酚系树脂；聚合松香等松香类树脂；酚系树脂；二甲苯类树脂等。上述增粘树脂可以是氢化树脂。上述增粘树脂可以单独使用，也可以组合使用两种以上。
保护膜的厚度优选为25μm以上，更优选为50μm以上，且优选为300μm以下，更优选为200μm以下。当保护膜的厚度在上述下限以上且上述上限以下时，可以使调光膜的总厚度变薄，并且改善制备调光膜时的操作性。
(调光膜)
本发明的调光膜包括第一透明导电膜、第二透明导电膜、调光层。上述调光层设置于上述第一透明导电膜和上述第二透明导电膜之间。在本发明的调光膜中，上述第一透明导电膜和上述第二透明导电膜中的至少一者是本发明的透明导电膜。可以是上述第一透明导电膜和上述第二透明导电膜中的一者为本发明的透明导电膜，也可以是上述第一透明导电膜和上述第二透明导电膜这两者都为本发明的透明导电膜。
图2表示使用了图1所示的调光膜用透明导电膜的调光膜的一个实例的截面图。
调光膜21包括两个透明导电膜1和调光层31。调光层31设置于两个透明导电膜1之间。透明导电膜1的导电层12与调光层31接触。
在调光膜21中，在两个透明导电膜1的导电层12之间施加电场。通过施加电场的状态和不施加电场的状态，可以改变透过调光膜21的光量。
上述调光层可含有丙烯酸树脂。上述调光层可以在丙烯酸树脂中含有液晶分子。就通过本发明的构成有效提高导电层和调光层的粘合性的观点而言，上述调光层优选含有丙烯酸树脂。
上述透明导电膜相对于上述调光层的剥离强度优选为3.0N/inch以上，更优选为3.3N/inch以上，进一步优选为3.5N/inch以上。
在下文中，将基于具体的实施例和比较例，更详细地说明本发明。需要说明的是，本发明不限于以下实施例。
(实施例1)
透明导电膜的制备：
作为基材膜，制备厚度为50μm的PET膜。在PET膜的一个表面上，涂布分散有氧化锆粒子的丙烯酸类硬涂层树脂，以形成厚度为1.0μm的硬涂层1。将丙烯酸类硬涂层树脂涂布于PET膜的另一面上，形成厚度为1.0μm的硬涂层2。以此方式，得到双面硬涂膜。
将该双面硬涂膜置于真空装置中，进行真空排气。在真空度达到9.0×10-4Pa后，导入氩气，通过DC磁控溅射法，在氩气气氛下，从硬涂层1侧起，以SiOx层(2nm)、SiO2层(16nm)、SiOx层(2nm)的顺序进行成膜，然后在其上叠层氧化铟锡(ITO)层，并使其厚度为18nm。具体而言，使用SnO2为7重量％的ITO烧结体靶、靶表面上的最大水平磁通密度为1000高斯的阴极，在溅射压力为3.5×10-1Pa、O 2压力为4×10-3Pa、Ar压力为1.1×10-1Pa的条件下，形成厚度为17nm的导电层(氧化铟锡层)。之后，在140℃的热空气循环烘箱中进行退火处理30分钟，以得到透光性导电膜。
调光膜的制备：作为液晶成分，使用100重量份的4-丁基联苯-4’-甲腈和50重量份的4’-羟基-4-联苯甲腈。作为粘合剂树脂，使用100重量份的甲基丙烯酸2-乙基己酯和50重量份的丙烯酸2-乙基己酯。将上述液晶成分、上述粘合剂树脂、2重量份的光聚合引发剂(BASF公司制造的“Irgacure 184”)、1重量份的作为调整调光层的厚度的间隔材料的粒径为20μm的丙烯酸树脂粒子(积水化学工业株式会社制造的Micropearl)进行混合，得到调光层。以使得导电层侧彼此相对的方式将两片上述透光导电膜重合，并设置于层压板(Tester产业株式会社制造的小型层压机)上，将调光层注入其间并进行贴合。将得到的叠层膜用UV灯以150W/m2固化5分钟，得到调光膜。
(实施例2～5和比较例1～3)
除了将导电层的形成条件(O2压力)和退火处理条件(加热温度和加热时间)如下表1所示进行设定以外，以与实施例1中相同的方式，得到透明导电膜和调光膜。
(实施例6)
除了使用氧化铝锌(AZO)作为导电层之外，以与实施例1中相同的方式，得到透明导电膜和调光膜。作为靶，使用Al2O5为2重量％的AZO烧结体靶。导电层(氧化铝锌层)的厚度为17nm。
(评价)
(1)表面张力
在23℃下测定所得的透明导电膜的导电层的与基材膜侧相反的表面的表面张力。在测定表面张力时，使用和光纯药工业株式会社制造的润湿张力测试用混合液。使用润湿张力测试用混合液，使润湿张力测试用混合液(液体)在导电层的表面扩散以形成面积为6cm2以上的液膜。就液体的量而言，控制在不形成水滩的情况下形成液膜的程度。每次测定应在未测定区域进行，液体不应多次扩散。
在涂布润湿张力测试用混合液5秒后进行表面张力的判定。如果在液膜不发生破裂的情况下，相对于刚刚扩散后的100％面积而在5秒后保持80％以上的面积，则判定导电层具有规定的表面张力。
从表面张力低的混合液开始测定，确认导电层具有规定的表面张力后，以2dyn/cm为增幅进行表面张力更高的混合液的测定，将表面张力测定中表现出最高表面张力时的表面张力定义为导电层的表面张力。
(2)透明导电膜和调光层在贴合时的不均匀
在上述调光膜贴合时，对透明导电膜和调光层在贴合时是否发生不均匀进行评价。贴合不均匀是指，通过透射光来观察调光膜时，可以看到条纹状或斑点状阴影。
[不均匀的判定标准]
A：不发生透明导电膜和调光层之间的贴合不均匀
B：发生了透明导电膜和调光层之间的贴合不均匀
(3)剥离强度
在得到的调光膜中，将构成调光膜的两片透明导电膜在180°方向上剥离时的剥离时强度作为剥离强度。通过使用拉伸试验机进行测定，以求得剥离强度。作为拉伸试验机，使用岛津制造所株式会社制造的“EZ Test”进行测定。将调光膜切割成1inch的宽度来进行测定。剥离速度为100mm/min。
(4)导电层的表面电阻值(片材电阻)
使用电阻率计(三菱化学Analytec株式会社制造的“Loresta AX MCP-T 370”)，基于JIS K7194，测定得到的透明导电膜的导电层的表面电阻值(片材电阻)。
(5)总透光率
使用雾度计(日本电色工业株式会社制造的“NDH-2000”)，基于JIS K7105，测定得到的透明导电膜在波长550nm处的总透光率。
(6)雾度值
使用雾度计(日本电色工业株式会社制造的“NDH-2000”)，基于JIS K7136，测定得到的透明导电膜的雾度值。
导电层的种类、导电层的形成条件、退火处理条件以及结果示于下表1中。
[表1]
Figure BDA0002011573110000121
符号说明
1...透明导电膜
11...基材膜
11a...第一表面
11b...第二表面
12...导电层
21...调光膜
31...调光层

Claims (6)

1.一种调光膜用透明导电膜，其为用于调光膜的透明导电膜，
其具有基材膜与设置于所述基材膜的一个表面侧的导电层，
其中，所述导电层的与所述基材膜侧相反的表面的表面张力为28dyn/cm以上且50dyn/cm以下，
所述表面张力是基于JIS K6768测定的。
2.根据权利要求1所述的调光膜用透明导电膜，其以所述导电层与含有丙烯酸树脂的调光层相接触的方式进行使用。
3.根据权利要求1或2所述的调光膜用透明导电膜，其中，
所述导电层由导电性材料形成，
所述导电性材料为In类氧化物、Sn类氧化物或Zn类氧化物。
4.一种调光膜，其具备：
第一透明导电膜、
第二透明导电膜、以及
设置于所述第一透明导电膜和所述第二透明导电膜之间的调光层，
其中，所述第一透明导电膜和所述第二透明导电膜中的至少一者为权利要求1～3中任一项所述的调光膜用透明导电膜。
5.根据权利要求4所述的调光膜，其中，
所述调光层含有丙烯酸树脂。
6.根据权利要求4或5所述的调光膜，其中，
所述调光膜用透明导电膜相对于所述调光层的剥离强度为3.0N/inch以上。
CN201880003724.8A 2017-03-29 2018-03-01 调光膜用透明导电膜与调光膜 Active CN109791816B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017-065684 2017-03-29
JP2017065684 2017-03-29
PCT/JP2018/007784 WO2018180172A1 (ja) 2017-03-29 2018-03-01 調光フィルム用透明導電フィルム及び調光フィルム

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN109791816A CN109791816A (zh) 2019-05-21
CN109791816B true CN109791816B (zh) 2021-09-14

Family

ID=63675506

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201880003724.8A Active CN109791816B (zh) 2017-03-29 2018-03-01 调光膜用透明导电膜与调光膜

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP7144318B2 (zh)
CN (1) CN109791816B (zh)
WO (1) WO2018180172A1 (zh)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113195214B (zh) * 2018-12-17 2024-03-12 日东电工株式会社 调光薄膜
CN110928071A (zh) * 2019-12-06 2020-03-27 深圳市康盛光电科技有限公司 一种彩色调光膜用的彩色导电膜的制备方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05127155A (ja) * 1991-11-05 1993-05-25 A G Technol Kk 液晶光学素子及びその製造方法並びにそれを用いた調光体
JPH1114974A (ja) * 1996-11-28 1999-01-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd 高分子分散型液晶表示素子とその製造方法
JP2000215734A (ja) * 1999-01-21 2000-08-04 Toyobo Co Ltd 透明導電性フィルム、タッチパネルおよび液晶表示素子
JP2000243146A (ja) * 1999-02-23 2000-09-08 Toyobo Co Ltd 透明導電性フィルムおよびこれを用いたタッチパネル
JP2010269504A (ja) * 2009-05-21 2010-12-02 Toyobo Co Ltd 透明導電性積層フィルム及び透明導電性積層シート並びにタッチパネル
JP2015141752A (ja) * 2014-01-27 2015-08-03 富士フイルム株式会社 導電膜形成用組成物、導電膜の製造方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH041724A (ja) * 1990-04-19 1992-01-07 Pilot Corp:The 液晶調光材
JP4456883B2 (ja) * 2004-01-30 2010-04-28 帝人デュポンフィルム株式会社 色素増感型太陽電池用積層フィルムおよびそれを用いた色素増感型太陽電池用電極
JP5844996B2 (ja) * 2011-05-11 2016-01-20 日東電工株式会社 透明導電性積層体及びタッチパネル
JP6417621B2 (ja) * 2014-02-12 2018-11-07 ナガセケムテックス株式会社 インク用組成物及び透明電極
JP6720481B2 (ja) * 2014-07-29 2020-07-08 大日本印刷株式会社 積層体、導電性積層体及びタッチパネル
CN106353911B (zh) * 2016-11-03 2019-07-09 珠海兴业应用材料科技有限公司 低驱动电压调光膜及其制备方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05127155A (ja) * 1991-11-05 1993-05-25 A G Technol Kk 液晶光学素子及びその製造方法並びにそれを用いた調光体
JPH1114974A (ja) * 1996-11-28 1999-01-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd 高分子分散型液晶表示素子とその製造方法
JP2000215734A (ja) * 1999-01-21 2000-08-04 Toyobo Co Ltd 透明導電性フィルム、タッチパネルおよび液晶表示素子
JP2000243146A (ja) * 1999-02-23 2000-09-08 Toyobo Co Ltd 透明導電性フィルムおよびこれを用いたタッチパネル
JP2010269504A (ja) * 2009-05-21 2010-12-02 Toyobo Co Ltd 透明導電性積層フィルム及び透明導電性積層シート並びにタッチパネル
JP2015141752A (ja) * 2014-01-27 2015-08-03 富士フイルム株式会社 導電膜形成用組成物、導電膜の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN109791816A (zh) 2019-05-21
JPWO2018180172A1 (ja) 2020-02-06
JP7144318B2 (ja) 2022-09-29
WO2018180172A1 (ja) 2018-10-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107533883B (zh) 透光性导电膜、及经退火处理的透光性导电膜的制造方法
JP2016182744A (ja) 機能性フィルムおよび機能性フィルムの製造方法
CN109791816B (zh) 调光膜用透明导电膜与调光膜
JP2017121696A (ja) 光透過性導電フィルム積層体の製造方法
JP6560622B2 (ja) 光透過性導電フィルム積層体
JP7074510B2 (ja) 調光フィルム用透明導電フィルム及び調光フィルム
JP6262108B2 (ja) 機能性フィルムの製造方法
JP7107775B2 (ja) 調光フィルム用透明導電フィルム、及び、調光フィルム
KR102346652B1 (ko) 태양광 배리어필름, 및 이를 포함하는 전기화학소자
JP6166828B1 (ja) 光透過性導電フィルム及びパターン状の導電層を有する光透過性導電フィルムの製造方法
JP6210110B2 (ja) 虹ムラ発生低減積層体、虹ムラ発生低減シート、および虹ムラ発生低減方法
JP7156858B2 (ja) 調光フィルム用透明導電フィルム、及び、調光フィルム
JP2018164985A (ja) 保護フィルム付き光透過性導電フィルム
JP6985184B2 (ja) 調光フィルム用透明導電フィルム及び調光フィルム
JP6849490B2 (ja) 光透過性導電フィルム及び光透過性導電フィルムの製造方法
JP6718344B2 (ja) 光透過性導電フィルム及び光透過性導電フィルムの製造方法
WO2022137832A1 (ja) 光学フィルム
JP6718343B2 (ja) 光透過性導電フィルム及び光透過性導電フィルムの製造方法
JP6696866B2 (ja) 光透過性導電フィルムの製造方法及び光透過性導電フィルム製造用積層体
JP2017174807A (ja) 光透過性導電フィルム及び光透過性導電フィルムの製造方法
JPWO2015029623A1 (ja) ハードコート積層体およびその製造方法
JPWO2018186412A1 (ja) 光透過性導電フィルムの可視化の分析方法、及び光透過性導電フィルム
JP2017209901A (ja) 光透過性導電フィルム
JP2017065257A (ja) 光透過性導電フィルム

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant