CN109761648A - 一种全抛釉陶瓷砖及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种全抛釉陶瓷砖及其制备方法。所述全抛釉陶瓷砖由下至上包括：坯体层、底釉层、印花层、全抛釉层；所述全抛釉层以质量份数计包括以下原料组成：钾长石5～20份，钠长石30～60份，方解石4～15份，高岭土6～12份，煅烧氧化锌0～6份，石英2～10份，煅烧土2～8份，硅酸锆2～10份，甲基0.1～0.3份，三聚0.3～0.6份。本发明具有以下好处：采用全生料配方，降低生产成本；改善浅色或白色全抛釉与底釉结合后发黄的问题，提升产品的档次；提高浅色或白色全抛釉的白度，提升浅色或白色全抛釉在市场中的竞争力。同时本发明还可提高产品耐磨级别和耐腐蚀能力。
Description
技术领域
本发明涉及建筑陶瓷生产领域，尤其涉及一种全抛釉陶瓷砖及其制备方法。
背景技术
目前全抛釉陶瓷砖在建筑陶瓷市场中占据了主导地位。而浅色尤其是白色全抛釉陶瓷砖的白度是衡量陶瓷砖品质的重要因素。据生产经验可知，全抛釉的底釉与全抛釉结合后会出现色调变黄的情况。目前行业中提高浅色陶瓷砖白度的主要是方法是增加底釉的釉量或者提高底釉中硅酸锆的含量。这种方法不仅成本比较高，而且当釉量大到一定程度时会出现很多釉面缺陷，而底釉中硅酸锆含量当增加到一定程度时，继续提高硅酸锆的含量釉面白度变化不是很明显，而且随着硅酸锆含量的增加会明显影响釉浆性能。专利“一种适合丝网印制的增白釉料及使用其制备的陶瓷砖”CN106348594A和专利“一种具有增白层的陶瓷砖及其制备方法”CN106396742A所使用的增白釉料里面硅酸锆含量比较多，成本比较贵，而且在底釉上印刷该增白釉料会影响墨水的发色。
因此，现有技术还有待于改进和发展。
发明内容
鉴于上述现有技术的不足，本发明的目的在于提供一种全抛釉陶瓷砖及其制备方法，旨在解决现有浅色或白色全抛釉陶瓷砖底釉与全抛釉结合后色调变黄，及浅色或白色全抛釉白度不够的问题。
本发明的技术方案如下：
一种全抛釉陶瓷砖，其中，其由下至上包括：坯体层、底釉层、印花层、全抛釉层；
所述全抛釉层以质量份数计包括以下原料组成：钾长石5～20份，钠长石30～60份，方解石4～15份，高岭土6～12份，煅烧氧化锌0～6份，石英2～10份，煅烧土2～8份，硅酸锆2～10份，甲基0.1～0.3份，三聚0.3～0.6份。
进一步地，所述全抛釉层以质量份数计由以下原料组成：钾长石12份，钠长石50份，方解石9份，高岭土7份，煅烧氧化锌3份，石英7份，煅烧土6份，硅酸锆6份，甲基0.15份，三聚0.42份。
一种本发明所述的全抛釉陶瓷砖的制备方法，其中，包括步骤：
将处理好的坯料进行压制成型，并干燥，形成坯体层；
在所述坯体层上形成底釉层；
在所述底釉层上形成印花层；
在所述印花层上形成全抛釉层；
入窑进行烧成；
对烧成后的砖进行抛光、磨边处理，得到所述全抛釉陶瓷砖。
进一步地，所述处理好的坯料通过以下方法制备得到：将坯体用原料经配料、球磨制得浆料；然后经除铁、过筛、喷雾制粉、陈腐后制得所述处理好的坯料。
进一步地，采用淋釉方式在所述坯体层上形成底釉层。
进一步地，采用喷墨打印方式在所述底釉层上形成印花层。
进一步地，采用淋釉方式在所述印花层上形成全抛釉层。
进一步地，所述烧成温度为1100~1200℃，烧成时间为50~70min。
有益效果：本发明采用全生料配方，降低生产成本；改善浅色或白色全抛釉与底釉结合后发黄的问题，提升产品的档次；提高浅色或白色全抛釉的白度，提升浅色或白色全抛釉在市场中的竞争力。另外，本发明采用上述配方，还可以提高产品的耐磨级别和耐腐蚀能力。
具体实施方式
本发明提供一种全抛釉陶瓷砖及其制备方法，为使本发明的目的、技术方案及效果更加清楚、明确，以下对本发明进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
本发明实施例提供一种全抛釉陶瓷砖，其中，其由下至上包括：坯体层、底釉层、印花层、全抛釉层；
所述全抛釉层以质量份数计包括以下原料组成：钾长石5～20份，钠长石30～60份，方解石4～15份，高岭土6～12份，煅烧氧化锌0～6份，石英2～10份，煅烧土2～8份，硅酸锆2～10份，甲基0.1～0.3份，三聚0.3～0.6份。
传统全抛釉陶瓷砖的增白主要是在底釉里加入硅酸锆，但是这种做法会存在两个问题：第一个问题是原本底釉里面一般就有15~20%左右的硅酸锆，继续增加硅酸锆后白度增加的不是很明显，会使成本偏高；第二个问题是底釉与全抛釉结合后由于两层釉之间发生反应会使色调偏黄，所以在底釉里加入再多的硅酸锆色调还是不够白。而直接在全抛釉里加入硅酸锆不仅白度增加的比较明显，而且白色调也比较正。
与现有技术相比，本发明具有以下好处：现有全抛釉的配方里往往都会加入熔块，而熔块的价格比较高，本发明采用全生料配方，降低了生产成本；在全抛釉配方里加入硅酸锆，可以改善浅色或白色全抛釉与底釉结合后发黄的问题，提升产品的档次；在全抛釉配方里加入硅酸锆，可以提高浅色或白色全抛釉的白度，提升浅色或白色全抛釉在市场中的竞争力；在全抛釉配方里加入硅酸锆，还可以提高产品的耐磨级别和耐腐蚀能力。所述全抛釉配方，在配方里加入硅酸锆后，根据加入量不同可以使白度提高2-10度。
本实施例中，所述全抛釉的施釉参数为：配方比重：1.70～1.85g/cm3 ，釉量：250g/m2～500g/m2。
在一种优选的实施方式中，所述全抛釉层以质量份数计由以下原料组成：钾长石12份，钠长石50份，方解石9份，高岭土7份，煅烧氧化锌3份，石英7份，煅烧土6份，硅酸锆6份，甲基0.15份，三聚0.42份。
本实施例中，所述坯体配方为现有技术，在此不再赘述。
本实施例中，所述底釉配方为现有技术，在此不再赘述。
本发明实施例提供一种所述的全抛釉陶瓷砖的制备方法，其中，包括步骤：
将处理好的坯料进行压制成型，并干燥，形成坯体层；
在所述坯体层上形成底釉层；
在所述底釉层上形成印花层；
在所述印花层上形成全抛釉层；
入窑进行烧成；
对烧成后的砖进行抛光、磨边处理，得到所述全抛釉陶瓷砖。
在一种实施方式中，所述处理好的坯料通过以下方法制备得到：将坯体用原料经配料、球磨制得浆料；然后经除铁、过筛、喷雾制粉、陈腐后制得所述处理好的坯料。
在一种实施方式中，采用淋釉方式在所述坯体层上形成底釉层。
在一种实施方式中，采用喷墨打印方式在所述底釉层上形成印花层。
在一种实施方式中，采用淋釉方式在所述印花层上形成全抛釉层。
在一种实施方式中，所述烧成温度为1100~1200℃，烧成时间为50~70min。
下面通过具体实施例对本发明进一步地详细说明。
一种全抛釉陶瓷砖，其由下至上的结构为：坯体层、底釉层、印花层和全抛釉层。其制备工艺包括如下步骤：
（1）坯用原料经配料、球磨制得浆料，然后除铁、过筛、喷雾制粉、陈腐后制得坯料；
（2）通过压机对坯料进行压制成型，送入干燥窑进行干燥，形成坯体层；
（3）采用淋釉方式淋底釉，形成底釉层；
以质量份数计，底釉配方为：钾长石28份，硅酸锆15份，石英10份，高岭土12份，钠长石35份；
底釉加工方式：按上述配方称取重量100kg的原料，外加三聚磷酸钠0.42kg，羧甲基纤维素0.2kg，水42kg，球磨。其中，按质量比计，球：料：水=1:1.5:0.7，釉浆的细度：325目筛余0.3%，陈腐时间36小时；施釉方法及参数：采用淋釉工艺施釉，比重为1.75g/ml，施釉量为625g/m2。
（4）采用喷墨花机进行喷墨打印浅色图案，形成印花层；
（5）采用淋釉方式淋增白全抛釉，形成全抛釉层；
以质量份数计，全抛釉配方为：钾长石12份，钠长石50份，方解石9份，高岭土7份，煅烧氧化锌3份，石英7份，煅烧土6份，硅酸锆6份；
全抛釉加工方式：按上述配方称取重量100kg的原料，外加三聚磷酸钠：0.42kg，羧甲基纤维素0.15kg，水42kg，球磨。其中，按质量比计，球：料：水=1:1.5:0.7，釉浆的细度：325目筛余0.4%，陈腐时间36小时；施釉方法及参数：采用淋釉工艺施釉，比重为1.75g/ml，施釉量为625g/m2。
（6）入窑进行烧成；烧成温度为1200℃，烧成时间60min
（7）对入窑后的砖进行抛光和磨边处理，获得增白全抛釉陶瓷砖。
该实施例生产的全抛釉陶瓷砖产品与常规全抛釉陶瓷砖产品相比，白度提高了4度，使得浅色或白色全抛釉陶瓷砖产品档次明显得到提高。而且使得该产品的耐磨级别由3级提高到了4级，耐腐蚀能力由GLB提高到了GLA。
综上所述，本发明提供的一种全抛釉陶瓷砖及其制备方法。本发明采用全生料配方，降低生产成本；改善浅色或白色全抛釉与底釉结合后发黄的问题，提升产品的档次；提高浅色或白色全抛釉的白度，提升浅色或白色全抛釉在市场中的竞争力。同时本发明还可提高产品耐磨级别和耐腐蚀能力。
应当理解的是，本发明的应用不限于上述的举例，对本领域普通技术人员来说，可以根据上述说明加以改进或变换，所有这些改进和变换都应属于本发明所附权利要求的保护范围。
Claims (8)
1.一种全抛釉陶瓷砖，其特征在于，其由下至上包括：坯体层、底釉层、印花层、全抛釉层；
所述全抛釉层以质量份数计包括以下原料组成：钾长石5～20份，钠长石30～60份，方解石4～15份，高岭土6～12份，煅烧氧化锌0～6份，石英2～10份，煅烧土2～8份，硅酸锆2～10份，甲基0.1～0.3份，三聚0.3～0.6份。
2.根据权利要求1所述的全抛釉陶瓷砖，其特征在于，所述全抛釉层以质量份数计由以下原料组成：钾长石12份，钠长石50份，方解石9份，高岭土7份，煅烧氧化锌3份，石英7份，煅烧土6份，硅酸锆6份，甲基0.15份，三聚0.42份。
3.一种权利要求1-2任一项所述的全抛釉陶瓷砖的制备方法，其特征在于，包括步骤：
将处理好的坯料进行压制成型，并干燥，形成坯体层；
在所述坯体层上形成底釉层；
在所述底釉层上形成印花层；
在所述印花层上形成全抛釉层；
入窑进行烧成；
对烧成后的砖进行抛光、磨边处理，得到所述全抛釉陶瓷砖。
4.根据权利要求3所述的全抛釉陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述处理好的坯料通过以下方法制备得到：将坯体用原料经配料、球磨制得浆料；然后经除铁、过筛、喷雾制粉、陈腐后制得所述处理好的坯料。
5.根据权利要求3所述的全抛釉陶瓷砖的制备方法，其特征在于，采用淋釉方式在所述坯体层上形成底釉层。
6.根据权利要求3所述的全抛釉陶瓷砖的制备方法，其特征在于，采用喷墨打印方式在所述底釉层上形成印花层。
7.根据权利要求3所述的全抛釉陶瓷砖的制备方法，其特征在于，采用淋釉方式在所述印花层上形成全抛釉层。
8.根据权利要求3所述的全抛釉陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述烧成温度为1100~1200℃，烧成时间为50~70min。
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