CN111253174B - 用于薄型陶瓷板的高白面釉、薄型陶瓷板及其制备方法 - Google Patents

用于薄型陶瓷板的高白面釉、薄型陶瓷板及其制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN111253174B
CN111253174B CN202010341752.XA CN202010341752A CN111253174B CN 111253174 B CN111253174 B CN 111253174B CN 202010341752 A CN202010341752 A CN 202010341752A CN 111253174 B CN111253174 B CN 111253174B
Authority
CN
China
Prior art keywords
overglaze
glaze
ceramic plate
white
thin ceramic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202010341752.XA
Other languages
English (en)
Other versions
CN111253174A (zh
Inventor
刘一军
汪陇军
杨元东
王贤超
郑贵友
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Monalisa Group Co Ltd
Original Assignee
Monalisa Group Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Monalisa Group Co Ltd filed Critical Monalisa Group Co Ltd
Priority to CN202010341752.XA priority Critical patent/CN111253174B/zh
Publication of CN111253174A publication Critical patent/CN111253174A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN111253174B publication Critical patent/CN111253174B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
    • C04B41/52—Multiple coating or impregnating multiple coating or impregnating with the same composition or with compositions only differing in the concentration of the constituents, is classified as single coating or impregnation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
    • C04B41/81—Coating or impregnation
    • C04B41/89—Coating or impregnation for obtaining at least two superposed coatings having different compositions

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Finishing Walls (AREA)
  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)

Abstract

本发明公开一种用于薄型陶瓷板的高白面釉、薄型陶瓷板及其制备方法。所述高白面釉的原料组成包括，以质量百分比计，超细硅酸锆8～12%和超细二氧化锡6～10%，其中超细硅酸锆和超细二氧化锡的质量比为0.8:1～2：1；所述超细二氧化锡的粒径为0.8～1.2µm；所述超细硅酸锆的粒径为2～4µm。

Description

用于薄型陶瓷板的高白面釉、薄型陶瓷板及其制备方法
技术领域
本发明涉及高白面釉，尤其涉及集高白面釉、喷墨打印、哑光保护釉于一体的薄型陶瓷板及其制备方法，属于陶瓷生产制造技术领域。
背景技术
陶瓷是以天然粘土、长石、石英等各种天然硅酸盐矿物为主要原料，经过粉碎混炼、成型和煅烧所制得各种制品的统称，陶瓷砖属于陶瓷中使用最广泛的一种。随着近几十年来的快速发展，陶瓷砖产量已连续多年稳居世界第一，导致许多陶瓷原料如粘土类等硅酸盐矿物都面临过度开采、资源枯竭的问题，同时也存在着发展与资源、能源、废弃物排放之间的矛盾，开发绿色环保的建筑陶瓷成为整个行业的目标。陶瓷砖薄型化是建筑陶瓷行业实现资源节约、节能减排的重要途径之一。薄型陶瓷板是一种规格大、厚度小的新型建筑陶瓷，它可减少高岭土等原料用量、快速烧成节约能源，是建筑陶瓷未来发展的方向。
目前市场上已有5.5～7.5mm厚度薄板在被推广使用，随着陶瓷技术的快速发展，生产5.5～7.5mm厚度薄板的技术也越来越成熟，但国内市场上尚没有2.5～3.5mm厚度薄型陶瓷板系列产品。普通高白面釉通过增加硅酸锆的用量来提升釉面烧后白度，但硅酸锆的用量在达到15%后提升面釉白度的效果趋于饱和，虽加入量增加但白度提升效果则不明显。同时加入的硅酸锆含量越多，导致陶瓷墨水发色变浅，不利于陶瓷墨水发色。同时硅酸锆本身的放射性也较高，加入大量的硅酸锆会提升产品的放射性，致使产品的发射性数据超出国家标准范围。另外，普通高白面釉通常需要较高的施釉量，方可达到析晶乳浊增白的最佳效果，因此如果按照普通高白面釉的高施釉量特性，将其应用于薄型陶瓷板生产上，易致薄型陶瓷板施釉后砖坯水分高，强度低，在釉线运行过程中烂砖多而无法批量生产。2.5～3.5mm厚度薄型陶瓷板需施釉量少且釉面白度高的面釉工艺性能，但硅酸锆的放射性及不利于陶瓷墨水发色的特性，导致硅酸锆在面釉中的添加量受到一定限制，进而无法满足用于生产薄型陶瓷板时需要的低施釉量、高白度、促进墨水发色的面釉性能要求。鉴于以上现状，本发明提供一种高白面釉来满足薄型陶瓷板对面釉的工艺性能要求。
中国专利CN110577406A公开一种二氧化钛、氧化锆复合乳浊釉。其中，引入二氧化钛、石英及方解石，经高温烧成后在釉层中二次析晶析出钛榍石CaO·TiO2·SiO2乳浊相晶体来增加釉面白度；同时还引入锆英石、氧化锆从而在釉层中析出锆英石、斜锆石乳浊相晶体从而起到乳浊增白的效果。但是，钛系乳浊釉烧成温度过高，CaO·TiO2·SiO2溶解速度大于析出速度，容易导致釉层透明，呈现浅黄色透明釉；同时钛系乳浊釉CaO、TiO2、SiO2三者比例控制不合理容易析出金红石相而导致釉面发黄，起不到乳浊增白的效果。另外，钛系乳浊釉烧成过程中二次析出大量的钛榍石乳浊相晶体不利于陶瓷墨水的发色，导致大部分陶瓷墨水无法在钛系乳浊釉中呈色，从而导致需要使用20~35wt%的氧化铁红、钴铝蓝、钛镍黄、钛铬黄或铜铬黄等金属氧化物助发色剂，以促进面釉的发色。
发明内容
本发明针对2.5～3.5mm厚度薄型陶瓷板因使用施釉量多的普通高白面釉导致薄型陶瓷板砖坯水分高、强度低，在釉线运行过程中烂砖多而无法批量生产的问题，提供一种用于薄型陶瓷板的高白面釉、薄型陶瓷板及其制备方法。
第一方面，本发明提供一种用于薄型陶瓷板的高白面釉，所述高白面釉的原料组成包括，以质量百分比计，超细硅酸锆8～12%和超细二氧化锡6～10%，其中超细硅酸锆和超细二氧化锡的质量比为0.8:1～2：1；所述超细二氧化锡的粒径为0.8～1.2µm；所述超细硅酸锆的粒径为2～4µm。
本发明的高白面釉采用超细二氧化锡、超细硅酸锆作为复合乳浊剂起到超薄乳浊增白的效果。其中，二氧化锡产生乳浊效果主要是因原始加入的二氧化锡乳浊剂晶粒悬浮在釉玻璃中而增加白度，同时二氧化锡在釉熔体中的溶解度很小，即使溶解后也不易析出，致使二氧化锡乳浊增白效果好，且对釉料的适应性强。同时二氧化锡也作为效果优异的色料载体，在釉玻璃中几乎不溶解，不会与陶瓷墨水在高温烧成过程中发生反应，从而促进陶瓷墨水的发色。另外，悬浮于釉层中的二氧化锡晶粒尺寸越小，晶粒越多，其乳浊增白效果越强。而超细硅酸锆的乳浊增白效果，主要是含锆组分的乳浊剂在釉玻璃中溶解后从而析出锆英石晶体而乳浊增加釉料白度。锆系乳浊釉析出的锆英石晶粒尺寸越小，晶粒越多，其乳浊增白效果越强。本发明使用超细硅酸锆可增加其在釉玻璃中的溶解度，促进釉玻璃中析出大量的微小锆英石晶相，从而改善高白面釉的乳浊增白效果。
较佳地，所述高白面釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：45.0～52.0%、Al2O3：20.0～24.0%、Fe2O3：0.1～0.3%、TiO2：0.01～0.15%、CaO：0.5～2.0%、MgO：0.1～1.0%、K2O：5.0～7.0%、Na2O：2.0～3.0%、ZrO2：5.0～8.0%，ZnO：1.0～3.0%，SnO2：6.0～10.0%，烧失：2.0～4.5%。
较佳地，所述高白面釉的原料组成还包括：以质量百分比计，钾长石46～58%，霞石8～12%，水洗超白高岭土：8～10%，白云石1～3%，氧化锌1～3%，煅烧氧化铝6～8%。
第二方面，本发明提供一种薄型陶瓷板的制备方法，包括：根据上述高白面釉的原料组成配制原料，球磨所述原料，获得高白面釉；在砖坯表面施所述高白面釉，经干燥后烧成，得到所述薄型陶瓷板。
较佳地，所述高白面釉的施釉方式为喷釉，所述高白面釉的比重为1.25～1.35 g/cm3，施釉量为120～160g/m2。
较佳地，所述烧成周期为40～80min，最高烧成温度1180～1220℃。
较佳地，在砖坯表面施高白面釉之前使砖坯水分控制在0.5wt%以内；在烧成前使砖坯水分控制在0.8wt%以内。
较佳地，所述制备方法还包括：烧成前，在施高白面釉后的砖坯表面喷墨打印图案并施哑光保护釉；所述哑光保护釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：45.0～50.0%、Al2O3：20.0～24.0%、Fe2O3：0.1～0.3%、TiO2：0.1～0.3%、CaO：12.0～15.0%、MgO：0.5～2.5%、K2O：0.5～2.0%、Na2O：3.0～4.5%、ZnO：4.5～6.5%，烧失：5.0～7.0%。
较佳地，所述哑光保护釉的比重为1.25～1.35 g/cm3，施釉量为100～150 g/m2。
第三方面，本发明提供上述任一项所述的制备方法获得的薄型陶瓷板。所述薄型陶瓷板的规格为长1200～3600mm×宽600～1600mm×厚度2.5～3.5mm，烧成后表面光泽度为15～25度。
附图说明
图1为本发明一实施方式薄型陶瓷板的制备流程图；
图2为本发明一实施方式薄型陶瓷板的砖面效果图。
具体实施方式
以下通过下述实施方式进一步说明本发明，应理解，下述实施方式仅用于说明本发明，而非限制本发明。以下各百分含量如无特别说明均指质量百分含量。
以下结合图1示例性说明薄型陶瓷板的制备方法。
使用坯体粉料压制砖坯。所述坯体粉料的化学组成不受限制，可采用常规的薄型陶瓷板基料。例如，坯体粉料的化学组成可包括：以质量百分比计，SiO2：60.0～65.0%、Al2O3：20.0～25.0%、Fe2O3：0.6～0.8%、TiO2：0.1～0.4%、CaO：0.2～0.6%、MgO：0.2～0.6%、K2O：2.0～3.5%、Na2O：2.0～3.5%，烧失：3.5～5.5%。
将砖坯干燥。干燥时间可为15～25min，干燥坯（即“干燥后的砖坯”）水分可控制在0.5wt%以内。
按照高白面釉的原料配比制备高白面釉。所述高白面釉的原料组成包括超细硅酸锆8～12wt%和超细二氧化锡6～10wt%。本发明的高白面釉由于施釉釉层厚度极薄，高温烧成中不利于乳浊相晶粒的析出，导致若单独使用锆或磷或钛等析晶机理体系乳浊剂来提升釉面白度的效果不佳。引入悬浮于釉玻璃中的、且高温溶解度极低的原始超细二氧化锡乳浊剂粒子，其乳浊增白的效果与釉层厚度的影响较小，可明显提升釉面白度。但二氧化锡的添加量不宜过多，釉中添加过多的二氧化锡致使釉层中的二氧化锡处于过饱和状态，提升釉面白度的效果则会不明显；且如果添加过多的二氧化锡，烧成后的釉面在阳光照射下发红，因此二氧化锡在釉层中的添加量也会受到一定的限制。鉴于以上情况，本发明引入超细二氧化锡乳浊剂的同时，在确保产品放射性符合国家标准的情况下，再引入一定量的超细硅酸锆乳浊剂，形成锡、锆复合乳浊釉，可有效提升面釉的白度，从而达到面釉超薄高白的效果。
其中，超细硅酸锆和超细二氧化锡的质量比可为0.8：1～2：1。将超细二氧化锡和超细硅酸锆的质量比控制到上述范围内，在实现面釉超薄高白效果的同时，可保证使用该高白面釉的薄型陶瓷板产品的放射性数据控制到国标放射性标准范围内。同时将超细二氧化锡和超细硅酸锆的质量比控制在上述范围的高白面釉，可促进陶瓷墨水的呈色鲜艳，釉面光滑细腻，无针孔、痱子等釉面缺陷。
所述高白面釉中SnO2的质量百分含量优选为6～10wt%。若高白面釉中SnO2添加量过少，则乳浊效果不明显，釉面白度低，陶瓷墨水发色差，无法实现面釉的超薄高白及促进陶瓷墨水发色鲜艳的效果。若高白面釉中SnO2的添加量过多，釉层中的二氧化锡处于过饱和状态，提升釉面白度的效果则变化不大，同时添加过多的二氧化锡致使釉面在阳光照射下发红。
所述高白面釉中超细硅酸锆的质量百分含量为8～12wt%。若高白面釉中超细硅酸锆添加量过少，则乳浊效果差，釉面白度低，致使陶瓷墨水发色差，无法实现面釉的超薄高白及促进陶瓷墨水发色鲜艳的效果。若高白面釉中硅酸锆的添加量过多，会减弱陶瓷墨水的发色，同时添加过多的硅酸锆易导致使用该高白面釉的薄型陶瓷板产品的放射性数据会超出陶瓷砖放射性国标范围。
所述超细二氧化锡的粒径为0.8～1.2µm，超细硅酸锆的粒径为2～4µm。粒径在0.8～1.2µm的二氧化锡乳浊增白效果最佳；粒径为2～4µm的超细硅酸锆的乳浊效果最佳。
作为示例，所述高白面釉的化学组成可为，以质量百分比计：SiO2：45.0～52.0%、Al2O3：20.0～24.0%、Fe2O3：0.1～0.3%、TiO2：0.01～0.15%、CaO：0.5～2.0%、MgO：0.1～1.0%、K2O：5.0～7.0%、Na2O：2.0～3.0%、ZrO2：5.0～8.0%，ZnO：1.0～3.0%，SnO2：6.0～10.0%，烧失：2.0～4.5%。
二氧化锡为低光泽釉中遮盖能力最强的乳浊剂，相对于硅酸锆来讲无任何放射性。该高白面釉采用SnO2和ZrSiO4作为复合乳浊剂，使面釉的遮盖能力非常强，在保证面釉白度不降低的条件下可将面釉的施釉量显著降低，实现了面釉的超薄高白效果。同时SnO2相对于ZrSiO4质乳浊剂而言，二氧化锡会促进陶瓷墨水中色料的发色。该高白面釉烧后白度可达到80度以上，同时引入的SnO2可促进陶瓷墨水发色，致使该高白面釉发色佳且颜色鲜艳，而且引入的SnO2乳浊剂无放射性，可满足陶瓷产品绿色环保低放射性的要求。
一些实施方式中，所述高白面釉的原料配方可包括：以质量百分比计，钾长石52%，霞石10%，水洗高白高岭土：9%，白云石2%，氧化锌2%，煅烧氧化铝7%，超细硅酸锆10%，超细二氧化锡8%。将超细二氧化锡、超细硅酸锆和其余面釉原料一起球磨，待高白面釉球磨筛余达到325目0.1～0.3wt%的要求后，可出球放浆除铁待用。例如，球磨时间可为8～12小时。
在干燥后的砖坯表面施高白面釉。所述高白面釉的施釉方式可为喷釉。一些实施方式中，所述高白面釉的釉浆比重1.25～1.35g/cm3，施釉量为120～160g/m2。该施釉量仅为普通面釉的15～25%。该高白面釉中引入了乳浊效果最强的超细二氧化锡作为乳浊剂来提升釉面的白度。二氧化锡除了极强的乳浊增白效果，也作为色料载体，同时也是部分陶瓷墨水色料的有效组分，故高白面釉中引入二氧化锡可促进陶瓷墨水的发色。
相对于使用不含锆的硼钙或磷硼多相乳浊作为乳浊釉体系（例如磷、钛或锡复合乳浊釉），本发明通过使用锆、锡体系复合乳浊釉作为高白面釉，并调控二氧化锡和硅酸锆的含量以及比例，实现高白面釉的施釉量仅为普通面釉施釉量的15～25%，同时实现低施釉量但烧成后釉面白度高的效果，有效解决了2.5～3.5 mm厚度薄型陶瓷板因施面釉量多，水分高强度低、烂砖多而无法批量生产的问题，实现了2.5～3.5mm厚度薄型陶瓷板的定制批量性生产。所述喷釉可通过摆臂式喷釉机进行布施。一些实施方式中，所述高白面釉形成的高白面釉层厚度为0.03～0.05mm。
将施高白面釉的砖坯干燥后，喷墨打印图案。可以采用数码喷墨打印机打印。使用的陶瓷墨水可有蓝色、红棕色、桔黄色、金黄色、柠檬黄、黑色、红色等。具体装饰图案、纹理和颜色效果依据设计要求而定。
随后，施哑光保护釉。哑光保护釉的化学组成无特殊限定。作为示例，所述哑光保护釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：45.0～50.0%、Al2O3：20.0～24.0%、Fe2O3：0.1～0.3%、TiO2：0.1～0.3%、CaO：12.0～15.0%、MgO：0.5～2.5%、K2O：0.5～2.0%、Na2O：3.0～4.5%、ZnO：4.5～6.5%，烧失：5.0～7.0%。所述哑光保护釉的釉料比重为1.25～1.35g/cm3，施釉量为100～150g/m2。
然后，将施哑光保护釉后的砖坯干燥，并烧成。烧成前使砖坯水分控制在0.8wt%以内。烧成可采用辊道窑快速烧成。烧成周期可为40～80min，最高烧成温度可为1180～1220℃。通过此工艺烧成后的2.5～3.5mm厚度薄型陶瓷板釉面质感细腻，光泽度在15～25度，防污性能良好。因该高白面釉以原始加入的二氧化锡悬浮粒子发生乳浊作用，且锡系乳浊釉对釉料的化学组成无特殊要求，因此本发明所述高白面釉可与各种化学组成的釉料配合使用，且烧成温度范围非常宽。同时，该高白面釉的化学组成可进行调整，以匹配薄型陶瓷板坯体粉料配方的烧成温度。
下面进一步例举实施例以详细说明本发明。同样应理解，以下实施例只用于对本发明进行进一步说明，不能理解为对本发明保护范围的限制，本领域的技术人员根据本发明的上述内容作出的一些非本质的改进和调整均属于本发明的保护范围。下述示例具体的工艺参数等也仅是合适范围中的一个示例，即本领域技术人员可以通过本文的说明做合适的范围内选择，而并非要限定于下文示例的具体数值。
实施例1
步骤一：压制砖坯。
步骤二：将砖坯干燥，干燥时间15～25min，干燥坯水分控制在0.5wt%以内。
步骤三：按照原料组成制备高白面釉：以质量百分比计，钾长石52%，霞石10%，水洗超白高岭土9%，白云石2%，氧化锌2%，煅烧氧化铝7%，超细硅酸锆12%，超细二氧化锡6%。所述超细二氧化锡的粒径为0.8～1.2µm；所述超细硅酸锆的粒径为2～4µm。高白面釉的化学组成为：以质量百分比计，SiO2：49.60%、Al2O3：21.15%、Fe2O3：0.12%、TiO2：0.04%、CaO：1.32%、MgO：0.47%、K2O：5.89%、Na2O：2.42%、ZnO：2.01%，ZrO2：7.78%， SnO2：6.02%，烧失：3.25%。
步骤四：在干燥后的砖坯表面采用摆臂式喷釉机施高白面釉，比重1.25g/cm3，施釉量160g/m2。
步骤五：施高白面釉的砖坯经干燥后，用喷墨机进行喷墨打印图案。
步骤六：采用喷釉方式施哑光保护釉，比重1.35g/cm3，施釉量100g/m2。所述哑光保护釉的化学组成为：以质量百分比计，SiO2：45.0～50.0%、Al2O3：20.0～24.0%、Fe2O3：0.1～0.3%、TiO2：0.1～0.3%、CaO：12.0～15.0%、MgO：0.5～2.5%、K2O：0.5～2.0%、Na2O：3.0～4.5%、ZnO：4.5～6.5%，烧失：5.0～7.0%。
步骤七：将施哑光保护釉的砖坯经干燥后，在辊道窑快速烧成，获得薄型陶瓷板。烧成前使砖坯水分控制在0.8wt%以内。最高烧成温度1220℃，烧成周期40min。
图2为实施例1的薄型陶瓷板的砖面效果图。该高白面釉烧成白度81.3度，因面釉白度高、陶瓷墨水发色良好、且发色鲜艳，可充分展示出薄型陶瓷板的喷墨图案的颜色及纹理效果。
采用GB/T 3810.14-2016《耐污染性的测定》中的测试方法测试釉面耐污染性。采用GB/T 13891-2008《建筑饰面材料镜向光泽度测定》的测试方法测试釉面光泽度。采用GB6566-2010《建筑材料放射性核素限量》的测试方法测试产品放射性水平。实施例1所得的薄型陶瓷板的耐污染性5级，釉面光泽度为18～22度，放射性水平为A类，产品使用范围不受限制。
对比例1
与实施例1基本相同，区别仅在于：
步骤三：按照原料组成制备普通高白面釉：以质量百分比计，钾长石55%，霞石10%，高岭土：12%，煅烧氧化铝8%，325目硅酸锆15%。普通高白面釉的化学组成为：以质量百分比计，SiO2：54.29%、Al2O3：23.60%、Fe2O3：0.32%、TiO2：0.08%、CaO：0.69%、MgO：0.05%、K2O：6.40%、Na2O：2.32%、ZrO2：9.96%，烧失：3.05%。
步骤四：将普通高白面釉按照比重1.25g/cm3，施釉量160g/m2的工艺参数在干燥后的砖坯表面采用摆臂式喷釉机施釉。
该普通高白面釉烧成后的白度为55.2度。因该普通高白面釉烧后白度低，陶瓷墨水发色差，且发色不够鲜艳，喷墨图案应用范围受限，大部分喷墨图案的效果无法展示出来。
采用GB/T 3810.14-2016《耐污染性的测定》中的测试方法测试釉面耐污染性。采用GB/T 13891-2008《建筑饰面材料镜向光泽度测定》的测试方法测试釉面光泽度。采用GB6566-2010《建筑材料放射性核素限量》的测试方法测试产品放射性水平。对比例1所得薄型陶瓷板的耐污染性5级，釉面光泽度为12～16度，放射性水平为B类，产品使用范围受到限制。
实施例2
步骤一：压制砖坯。
步骤二：将砖坯干燥，干燥时间15～25min，干燥坯水分控制在0.5%以内。
步骤三：按照原料组成制备高白面釉：以质量百分比计，钾长石58%，霞石8%，水洗超白高岭土：8%，白云石1%，氧化锌1%，煅烧氧化铝6%，超细硅酸锆10%，超细二氧化锡8%。高白面釉的化学组成为：以质量百分比计，SiO2：51.69%、Al2O3：20.20%、Fe2O3：0.12%、TiO2：0.04%、CaO：0.97%、MgO：0.26%、K2O：6.40%、Na2O：2.31%、ZnO：1.02%，ZrO2：6.46%， SnO2：8.01%，烧失：2.58%。
步骤四：在干燥后的砖坯表面采用摆臂式喷釉机施高白面釉，比重1.30g/cm3，施釉量140g/m2。
步骤五：施高白面釉的砖坯干燥后，用喷墨机进行喷墨打印图案。
步骤六：采用喷釉方式施哑光保护釉，比重1.25g/cm3，施釉量150g/m2。所述哑光保护釉的化学组成为：以质量百分比计，SiO2：45.0～50.0%、Al2O3：20.0～24.0%、Fe2O3：0.1～0.3%、TiO2：0.1～0.3%、CaO：12.0～15.0%、MgO：0.5～2.5%、K2O：0.5～2.0%、Na2O：3.0～4.5%、ZnO：4.5～6.5%，烧失：5.0～7.0%。
步骤七：将施哑光保护釉的砖坯经干燥后，在辊道窑快速烧成，获得薄型陶瓷板。烧成前使砖坯水分控制在0.8wt%以内。最高烧成温度1200℃，烧成周期60min。
该高白面釉烧后白度85.6度，因面釉白度高陶瓷墨水发色良好，且发色鲜艳，可充分展示出薄型陶瓷板的喷墨图案的颜色及纹理效果。
采用GB/T 3810.14-2016《耐污染性的测定》中的测试方法测试釉面耐污染性。采用GB/T 13891-2008《建筑饰面材料镜向光泽度测定》的测试方法测试釉面光泽度。采用GB6566-2010《建筑材料放射性核素限量》的测试方法测试产品放射性水平。实施例2所得薄型陶瓷板的耐污染性5级，釉面光泽度为21～25度，放射性水平为A类，产品使用范围不受限制。
对比例2
与实施例2基本相同，区别仅在于：
步骤三：按照原料组成制备普通面釉：以质量百分比计，钾长石58%，霞石8%，水洗超白高岭土8%，白云石1%，氧化锌1%，煅烧氧化铝6%，超细硅酸锆10%，325目二氧化锡8%。所述325目二氧化锡的粒径为43~48µm；所述超细硅酸锆的粒径为2～4µm。
步骤四：将该普通面釉按照1.30g/cm3，施釉量140g/m2的工艺参数在干燥后的砖坯表面采用摆臂式喷釉机施釉。该普通面釉的烧后白度为66.8度。因面釉白度偏低，致使陶瓷墨水发色差，且发色不够鲜艳，喷墨图案应用范围受限，大部分图案的设计效果无法展示出来。
实施例3
步骤一：压制砖坯。
步骤二：将砖坯干燥，干燥时间15～25min，干燥坯水分控制在0.5%以内。
步骤三：按照原料组成制备高白面釉：以质量百分比计，钾长石46%，霞石12%，水洗超白高岭土10%，白云石3%，氧化锌3%，煅烧氧化铝8%，超细硅酸锆8%，超细二氧化锡10%。高白面釉的化学组成为：以质量百分比计，SiO2：45.51%、Al2O3：22.10%、Fe2O3：0.11%、TiO2：0.03%、CaO：1.67%、MgO：0.68%、K2O：5.37%、Na2O：2.53%、ZnO：2.99%，ZrO2：5.21%， SnO2：9.99%，烧失：3.69%。
步骤四：在干燥后的砖坯上采用摆臂式喷釉机施高白面釉，比重1.35g/cm3，施釉量120g/m2。
步骤五：施高白面釉的砖坯干燥后，用喷墨机进行喷墨打印图案。
步骤六：采用喷釉方式施哑光保护釉，比重1.30g/cm3，施釉量125g/m2。所述哑光保护釉的化学组成为：以质量百分比计，SiO2：45.0～50.0%、Al2O3：20.0～24.0%、Fe2O3：0.1～0.3%、TiO2：0.1～0.3%、CaO：12.0～15.0%、MgO：0.5～2.5%、K2O：0.5～2.0%、Na2O：3.0～4.5%、ZnO：4.5～6.5%，烧失：5.0～7.0%。
步骤七：将施哑光保护釉的砖坯经干燥后，在辊道窑快速烧成，获得薄型陶瓷板。烧成前使砖坯水分控制在0.8wt%以内。最高烧成温度1180℃，烧成周期80min。
该高白面釉烧后白度89.3度，因该高白面釉白度高、陶瓷墨水发色良好、且发色鲜艳，可充分展示出薄型陶瓷板的喷墨图案的颜色及纹理效果。
采用GB/T 3810.14-2016《耐污染性的测定》中的测试方法测试釉面耐污染性。采用GB/T 13891-2008《建筑饰面材料镜向光泽度测定》的测试方法测试釉面光泽度。采用GB6566-2010《建筑材料放射性核素限量》的测试方法测试产品放射性水平。实施例3所得薄型陶瓷板的耐污染性5级，釉面光泽度为15～19度，放射性水平为A类，产品使用范围不受限制。
对比例3
与实施例3基本相同，区别仅在于：
步骤三：按照原料组成制备普通面釉：以质量百分比计，钾长石46%，霞石12%，水洗超白高岭土10%，白云石3%，氧化锌3%，煅烧氧化铝8%，325目硅酸锆：8%，325目二氧化锡：10%。所述325目二氧化锡的粒径为43~48µm；所述325目硅酸锆的粒径为2～4µm。
步骤四：将该普通面釉按照比重1.35g/cm3，施釉量120g/m2的工艺参数在干燥后的砖坯表面采用摆臂式喷釉机施釉。该普通面釉的烧后白度仅为61.6度。因该面釉白度差，致使陶瓷墨水发色差，且发色不够鲜艳，喷墨图案应用范围受限，大部分图案的设计效果无法体现出来。

Claims (6)

1.薄型陶瓷板的制备方法，其特征在于，根据用于薄型陶瓷板的高白面釉的原料组成配制原料，球磨所述原料，获得高白面釉；
所述高白面釉的原料组成包括，以质量百分比计，超细硅酸锆8～12%和超细二氧化锡6～10%，其中超细硅酸锆和超细二氧化锡的质量比为0.8:1～2：1；所述超细二氧化锡的粒径为0.8～1.2µm；所述超细硅酸锆的粒径为2～4µm；
所述高白面釉的原料组成还包括：以质量百分比计，钾长石46～58%，霞石8～12%，水洗超白高岭土：8～10%，白云石1～3%，氧化锌1～3%，煅烧氧化铝6～8%；
所述高白面釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：45.0～52.0%、Al2O3：20.0～24.0%、Fe2O3：0.1～0.3%、TiO2：0.01～0.15%、CaO：0.5～2.0%、MgO：0.1～1.0%、K2O：5.0～7.0%、Na2O：2.0～3.0%、ZrO2：5.0～8.0%，ZnO：1.0～3.0%，SnO2：6.0～10.0%，烧失：2.0～4.5%；
在砖坯表面施所述高白面釉，所述高白面釉的施釉方式为喷釉，所述高白面釉的比重为1.25～1.35 g/cm3，施釉量为120～160g/m2；
经干燥后烧成，得到所述薄型陶瓷板；
所述薄型陶瓷板的规格为长1200～3600mm×宽600～1600mm×厚度2.5～3.5mm，烧成后表面光泽度为15～25度。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述烧成周期为40～80min，最高烧成温度1180～1220℃。
3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在砖坯表面施高白面釉之前使砖坯水分控制在0.5wt%以内；在烧成前使砖坯水分控制在0.8wt%以内。
4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述制备方法还包括：烧成前，在施高白面釉后的砖坯表面喷墨打印图案并施哑光保护釉；所述哑光保护釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：45.0～50.0%、Al2O3：20.0～24.0%、Fe2O3：0.1～0.3%、TiO2：0.1～0.3%、CaO：12.0～15.0%、MgO：0.5～2.5%、K2O：0.5～2.0%、Na2O：3.0～4.5%、ZnO：4.5～6.5%，烧失：5.0～7.0%。
5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述哑光保护釉的比重为1.25～1.35g/cm3，施釉量为100～150 g/m2。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的制备方法获得的薄型陶瓷板。
CN202010341752.XA 2020-04-27 2020-04-27 用于薄型陶瓷板的高白面釉、薄型陶瓷板及其制备方法 Active CN111253174B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202010341752.XA CN111253174B (zh) 2020-04-27 2020-04-27 用于薄型陶瓷板的高白面釉、薄型陶瓷板及其制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202010341752.XA CN111253174B (zh) 2020-04-27 2020-04-27 用于薄型陶瓷板的高白面釉、薄型陶瓷板及其制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN111253174A CN111253174A (zh) 2020-06-09
CN111253174B true CN111253174B (zh) 2020-09-18

Family

ID=70950022

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202010341752.XA Active CN111253174B (zh) 2020-04-27 2020-04-27 用于薄型陶瓷板的高白面釉、薄型陶瓷板及其制备方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN111253174B (zh)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111875414B (zh) * 2020-06-30 2022-08-05 蒙娜丽莎集团股份有限公司 高太阳光反射率陶瓷板及其制备方法
CN115304276B (zh) * 2022-08-03 2023-12-26 东莞市唯美陶瓷工业园有限公司 一种复合釉层、陶瓷板及其制备方法
CN115872782B (zh) * 2022-12-23 2024-01-05 广东金牌陶瓷有限公司 一种仿水磨石表面质感的陶瓷岩板及其制备方法
CN115650587B (zh) * 2022-12-26 2023-03-21 新明珠集团股份有限公司 一种反射隔热釉料、反射隔热陶瓷砖及其制备方法和应用

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1071149A (zh) * 1991-09-14 1993-04-21 唐山胜利陶瓷(集团)公司 无光泽釉陶瓷标准白板的制造方法
JP2003267774A (ja) * 2002-03-12 2003-09-25 Toto Ltd 衛生陶器の製造方法
CN102190507A (zh) * 2010-03-12 2011-09-21 广东蒙娜丽莎陶瓷有限公司 釉面材料和陶瓷薄板以及该陶瓷薄板的制作方法
CN109678345B (zh) * 2018-12-30 2022-05-31 佛山陶者陶瓷原料有限公司 一种高白度底釉及其制备方法
CN110642521B (zh) * 2019-12-02 2020-04-07 蒙娜丽莎集团股份有限公司 高耐磨防污微晶装饰陶瓷厚板及其制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN111253174A (zh) 2020-06-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN111253174B (zh) 用于薄型陶瓷板的高白面釉、薄型陶瓷板及其制备方法
CN111548016B (zh) 用于薄型陶瓷砖的光泽度3度以下的无光保护釉、薄型陶瓷砖及其制备方法
CN112279684B (zh) 一种镁铝尖晶石耐磨全抛釉陶瓷砖及其制备方法
CN115010465B (zh) 一种低温快烧陶瓷岩板及其制备方法
CN105198217B (zh) 一种用于全抛釉瓷砖生产、利于陶瓷墨水发色的底釉
CN111943723B (zh) 绸缎质感的陶瓷釉料、制备方法及使用其的陶瓷岩板
CN112279512B (zh) 一种镁铝尖晶石耐磨全抛釉及其制备方法和应用
CN114920457B (zh) 高白底釉、耐磨透明釉、耐磨全抛釉陶瓷砖及制备方法
CN111875414B (zh) 高太阳光反射率陶瓷板及其制备方法
CN111943724A (zh) 一种亚光透明釉瓷片的制造方法
CN110092579A (zh) 一种星空釉釉料、星空釉钧瓷及其制备方法
CN115304276A (zh) 一种复合釉层、陶瓷板及其制备方法
CN112299718B (zh) 一种镁铝尖晶石耐磨印刷釉及其制备方法和应用
CN112608029A (zh) 炫光仿古砖及其制备方法
CN110498668A (zh) 一种炫彩釉陶板及其制备方法
CN110451801B (zh) 一种利用煤矸石制备的瓷质釉面砖釉料及其制备方法和使用方法
CN110627360A (zh) 一种深绿釉料及其施用方法
CN113372098A (zh) 一种3d精雕艺术瓷砖的制造方法
CN117142765A (zh) 一种低锆超白陶瓷面釉、抛釉砖及其制备方法
CN111454051A (zh) 生态石及其制备方法
CN114249586B (zh) 具有立体闪光效果的黑色瓷砖及其制备方法
CN1229299C (zh) 利用高炉渣制造白色陶瓷的方法及其制品
CN110204205A (zh) 粗陶及其制备方法
CN115521069A (zh) 一种亚光釉料、超平细腻釉面砖及其制备方法
CN114380502A (zh) 一种具有珍珠效果的陶瓷干粒及其制备方法和应用方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant