CN109552836A - 传送装置、传送系统和传送系统的控制方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种传送装置、传送系统和传送系统的控制方法。该传送系统包括：多个线圈，其以预定节距形成排的方式布置；滑架，其被构造为，通过使用从所述多个线圈接收到的电磁力作为驱动力，来沿着所述排移动；多个驱动器，其被构造为，使电流流过所述多个线圈中的待控制线圈，以向滑架提供驱动力；以及控制器，其被构造为，切换所述多个线圈中的、向所述多个驱动器中的各个驱动器分配的待控制线圈。向所述多个驱动器中的各个驱动器分配，各预定间隔为基于预先确定的滑架之间的距离的至少两个节距的线圈，作为所述多个线圈中的、向所述多个驱动器中的各个驱动器分配的待控制线圈。

Description

传送装置、传送系统和传送系统的控制方法

技术领域

本发明涉及传送装置、传送系统和传送系统的控制方法。

背景技术

在用于组装工业产品的生产线中，已经使用了一种传送系统，该传送系统被构造为在工厂自动化生产线内或在生产线之间的多个工位(station)之间传送诸如部件的工件。作为这样的传送系统，已经提出了一种被构造为通过使用可移动磁体线性电机来移动滑架(carriage)的传送系统。

在日本特开平07-063201号公报中，描述了一种线性电机的供电设备，该线性电机包括多个线性电机单元，各个线性电机单元由多个串联连接的推进线圈形成，并且该线性电机被构造为使可移动体行进。

在日本特开平07-063201号公报中描述的线性电机中，形成第一线性电机单元的多个推进线圈以一定间隔布置，并且形成第二线性电机单元的推进线圈分别布置在所述多个推进线圈之间。利用这种构造，即使当电力转换器等的一部分不能正常操作时，也可以通过连续的推力使可移动体行进。

在线性电机中，当作为定子的线圈和作为可移动元件的磁体之间的位置关系改变时，根据其上安装有磁体的可移动体的行进速度，在线圈中生成反电动势。当在线圈中生成反电动势时，线圈的端电压降低，并且不能使预定电流流动，结果无法获得期望的推力。因此，特别是当可移动体要高速移动时，重要的是考虑如何减小线圈中生成的反电动势的影响。此外，在用于组装工业产品的生产线中使用的传送系统中，还假设在传送路径上存在多个滑架，并且这些滑架彼此靠近地布置。因此，当滑架彼此靠近地布置时，还需要独立地控制滑架。

然而，在日本特开平07-063201号公报中，没有特别考虑在线圈中生成的反电动势的影响和在传送路径上存在多个可移动体的情况。

发明内容

本发明的目的是提供一种传送装置、传送系统和传送系统的控制方法，其能够根据滑架之间的距离和线圈中生成的反电动势适当地控制滑架的移动。

根据本发明的一个方面，提供了一种传送系统，所述传送系统包括：多个线圈，其以预定节距形成排的方式布置；滑架，其被构造为，通过使用从所述多个线圈接收到的电磁力作为驱动力，来沿着所述多个线圈的排移动；多个驱动器，其被构造为，使电流流过所述多个线圈中的待控制线圈，以向滑架提供驱动力；以及控制器，其被构造为，切换所述多个线圈中的、向所述多个驱动器中的各个驱动器分配的待控制线圈，其中，向所述多个驱动器中的各个驱动器分配，各预定间隔为基于预先确定的滑架之间的距离的至少两个节距的线圈，作为所述多个线圈中的、向所述多个驱动器中的各个驱动器分配的待控制线圈。

根据本发明的另一方面，提供了一种传送装置，所述传送装置包括：多个线圈，其以预定节距形成排的方式布置，并被构造为通过使用要生成的电磁力来使滑架沿着所述排移动；多个驱动器，其被构造为，使电流流过所述多个线圈中的待控制线圈，以向滑架提供驱动力；以及控制器，其被构造为，切换所述多个线圈中的、向所述多个驱动器中的各个驱动器分配的待控制线圈，其中，向所述多个驱动器中的各个驱动器分配，各预定间隔为基于预先确定的滑架之间的距离的至少两个节距的线圈，作为所述多个线圈中的、向所述多个驱动器中的各个驱动器分配的待控制线圈。

根据本发明的又一方面，提供了一种控制传送系统的方法，所述传送系统包括：多个线圈，其以预定节距形成排的方式布置，并被构造为通过使用要生成的电磁力来使滑架沿着所述排移动；多个驱动器，其被构造为，使电流流过所述多个线圈中的待控制线圈，以向滑架提供驱动力；以及控制器，其被构造为，切换所述多个线圈中的、向所述多个驱动器中的各个驱动器分配的待控制线圈，所述控制方法包括：由滑架传送工件；以及对由滑架传送的工件进行处理，其中，向所述多个驱动器中的各个驱动器分配，各预定间隔为基于预先确定的滑架之间的距离的至少两个节距的线圈，作为所述多个线圈中的、向所述多个驱动器中的各个驱动器分配的待控制线圈。

根据下面参照附图对示例性实施例的描述，本发明的其他特征将变得清楚。

附图说明

图1是用于例示本发明第一实施例中的处理系统的示意性构造的框图。

图2是用于例示本发明第一实施例中的处理系统的示意性构造的俯视图。

图3是用于例示本发明第一实施例中的处理系统的示意性构造的侧视图。

图4是用于例示本发明第一实施例中的处理系统的示意性构造的主视图。

图5是用于例示根据本发明第一实施例的传送系统的控制构造的框图。

图6、图7和图8均是用于例示根据本发明第一实施例的传送系统中的线圈的布置示例的图。

图9A、图9B、图9C和图9D均是用于例示根据本发明第一实施例的传送系统中的控制单元的切换的概况的图。

图10A、图10B、图11A和图11B均是用于例示根据本发明第二实施例的传送系统中的切换单元的示意性构造的图。

具体实施方式

现在将根据附图详细地描述本发明的优选实施例。

[第一实施例]

参考图1至图9D描述本发明第一实施例中的传送系统和处理系统。

首先，参考图1描述第一实施例中的处理系统的示意性构造。图1是用于例示第一实施例中的处理系统的构造的框图。在以下描述和附图中，通过将小写字母添加到相同附图标记的末端作为标识符，将多个相同部件彼此区分开。当在彼此区分相同部件的状态下不需要特别给出描述时，仅使用附图标记而不是用标识符。

如图1中所示，第一实施例中的处理系统10包括多个处理设备200、传送系统12和处理控制器201。传送系统12包括多个传送模块110、多个控制设备107、移位单元111a和111b、移位单元控制设备112a和112b、读取器/写入器108和传送控制器100。在图1中，作为多个处理设备200，例示了处理设备200a至200e和200j。此外，作为多个传送模块110，例示了传送模块110a至110j。此外，作为多个控制设备107，例示了控制设备107a至107j。

传送模块110a至110d形成传送路径1000a。传送模块110f至110i形成传送路径1000b。传送路径1000a和1000b各自是传送工件的滑架行进的通道。传送路径1000a是形成行进路径的传送路径，并且，传送路径1000b是形成返回路径的传送路径。传送路径1000a和1000b彼此平行布置。

在图1中，传送路径1000a的左端例如是上游端，并且，传送路径1000a的右端例如是下游端。此外，传送路径1000b的右端例如是上游端，并且，传送路径1000b的左端例如是下游端。在位于同一侧(图1中的左侧)的传送路径1000a的上游端和传送路径1000b的下游端的一侧，安装被构造为将滑架从传送路径1000b移载到传送路径1000a的移位单元111a。移动以连接到传送路径1000a和传送路径1000b两者的传送模块110j被设置给移位单元111a。此外，在位于同一侧(图1中的右侧)的传送路径1000a的下游端和传送路径1000b的上游端的一侧上，安装被构造为将滑架从传送路径1000a移载到传送路径1000b的移位单元111b。移动以连接到传送路径1000a和传送路径1000b两者的传送模块110e被设置给移位单元111b。除了传送模块110j和110e分别安装在移位单元111a和111b上以外，传送模块110j和110e与形成传送路径1000的其他传送模块110相同。对移位单元111没有特别限制，例如，可以采用通过组合旋转电机、滚珠丝杠和线性引导件而获得的线性致动器。

控制设备107a至107j被设置成分别对应于传送模块110a至110j。在图1中，多个控制设备107a，107b，107c，...，107d被设置成对应于形成传送路径1000a的多个传送模块110a，110b，110c，...，110d。此外，多个控制设备107f，...，107g，107h和107i被设置成对应于形成传送路径1000b的多个传送模块110f，...，110g，110h和110i。此外，控制设备107j和107e被设置成分别对应于移位单元111a和111b上的传送模块110j和110e。

控制设备107a至107j连接至作为上级控制单元的传送控制器100，并且可以在控制设备107a至107j与传送控制器100之间发送和接收关于滑架的传送的信息。传送控制器100用作下级控制设备，该下级控制设备被构造为通过对应的传送模块110控制滑架的传送。由此，滑架可以在由多个传送模块110形成的传送路径1000上自由行进。

移位单元111连接到移位单元控制设备112。移位单元控制设备112可以通过经由预定控制驱动移位单元111来移动安装在移位单元111上的传送模块110。

移位单元控制设备112a和112b连接到作为上级控制单元的传送控制器100，并且可以在移位单元控制设备112a和112b与传送控制器100之间发送和接收关于滑架的传送的信息。由此，通过控制移位单元111a和111b，滑架可以在传送路径1000a和传送路径1000b之间移动。

多个处理设备200a至200e和200j被设置成分别对应于多个传送模块110a至110e和110j。处理设备200是被构造为对由停止在对应的传送模块110上的滑架保持的工件进行预定处理的处理设备。传送模块110的数量不一定需要与处理设备200的数量相同。例如，可以针对一个传送模块110设置多个处理设备200。

上述处理可涉及工件的变形，或者可仅涉及改变工件的移动和方向。此外，上述处理可以涉及将工件并入其他工件或部件，或者可以涉及检查工件的形状和重量，检查是否存在刮痕和灰尘，以及检查刮痕和灰尘的位置。

处理控制器201连接到多个处理设备200a至200e和200j以及传送控制器100。处理控制器201可以针对多个处理设备200a至200e和200j发送和接收关于处理的信息。由此，处理设备200a至200e和200j进行由处理控制器201指定的处理。此外，处理控制器201可以针对传送控制器100发送和接收关于滑架的传送的信息。由此，传送控制器100基于来自处理控制器201的指令控制滑架的传送。由此，处理控制器201可以控制处理系统10的整个操作，例如通过滑架传送工件和对工件的处理。

接下来，参考图2至图4描述第一实施例中的处理系统10的具体结构。图2至图4各自是用于例示第一实施例中的处理系统的构造的示意图。图2、图3和图4分别是第一实施例中的处理系统的俯视图、侧视图和正视图。

如图2至图4中所示，第一实施例中的处理系统10包括支架1100、多个处理设备200和传送系统12。在图2和图3中，在多个处理设备200中，仅例示了处理设备200a和200b。在图4中，在多个处理设备200中，仅例示了处理设备200b。

传送系统12包括多个传送模块110和多个滑架1。在图1和图2中，在多个传送模块110中，仅例示了传送模块110a和110b。在图4中，在多个传送模块110中，仅例示了传送模块110b。

多个传送模块110形成传送路径1000，被构造成传送待处理工件5的滑架1在传送路径1000上行进。在图2和图3中，例示了由传送模块110a、110b和110c形成的传送路径1000。在图2至图4中，例示了这样的状态，其中被构造成传送工件5a的滑架1a和被构造成传送工件5b的滑架1b布置在传送路径1000上。在图2至图4中，例示了两个滑架1a和1b。然而，滑架1的数量不限于两个，并且，可以使用一个滑架或多个滑架。

现在，为了便于以下描述，定义了处理系统10中的坐标轴。首先，沿着水平移动的滑架1的移动方向取X轴。沿着垂直方向取Z轴。沿着与X轴和Z轴正交的方向取Y轴。此外，在沿X轴的X方向中，滑架1的移动方向，具体地，图1中所示的滑架1a向滑架1b移动的方向被定义为正(+)方向，并且，与其相反的方向被定义为负(-)方向。

传送系统12是被构造为通过利用可移动磁体线性电机(移动磁体线性电机，可移动场线性电机)使滑架1行进来传送工件5的传送系统。传送模块110布置在支架1100上。当多个传送模块110布置在支架1100上时，形成连续传送路径1000。在图2和图3中，例示了三个传送模块110a、110b和110c。然而，传送模块110的数量不限于三个，并且可以使用一个传送模块或多个传送模块。在图1至图3中，例示了线性通道形成传送路径1000的示例。然而，传送路径1000不一定需要是线性通道，并且可以采用具有任何形式(例如，椭圆形或圆形)的通道。

各个传送模块110还包括壳体2、位置检测单元103、线圈阵列104和引导件106。壳体2安装成固定到支架1100上。位置检测单元103、线圈阵列104和引导件106安装在壳体2上。控制设备107连接到位置检测单元103和线圈阵列104。

位置检测单元103例如是编码器，并且被构造为通过读取稍后描述的滑架1的标尺6来获取滑架1的位置信息。位置检测单元103被构造为将获取的滑架1的位置信息发送到控制设备107。

线圈阵列104具有这样的构造，其中布置由各自具有缠绕在磁铁芯上的电线的多个线圈形成的多个单位线圈。线圈阵列104沿着滑架1的移动方向布置在壳体2的内侧。线圈阵列104的细节将在后面描述。

在控制设备107的控制下向线圈阵列104供应预定电流。当电流施加到线圈阵列104时，滑架1的磁体7接收电磁力作为来自线圈阵列104的驱动力。因此，滑架1接收推进力(驱动力)以在传送路径1000上行进。通过控制流过线圈阵列104的电流，使滑架1行进或停止，因此，可以控制滑架1在对应的传送模块110上的位置。

引导件106被构造为在其上可移动地支撑滑架1。当滑架1布置在引导件106上时，滑架1可以沿着引导件106移动。

滑架1包括夹持单元3、标尺6、轴承8、磁体7、射频(RF)标签4和顶板9。

夹持单元3安装在顶板9的上部。夹持单元3被构造为在顶板9上夹持工件5。在根据第一实施例的传送系统12中，多种不同类型的工件5通过滑架1传送。作为夹持单元3，可以根据待夹持的工件5的种类使用多种不同类型的夹持单元。

标尺6设置在顶板9的侧部。位置信息沿着滑架1的移动方向记录在标尺6上。位置检测单元103可以通过读取滑架1的标尺6来获取滑架1的位置信息。标尺6安装在顶板9的侧部的预定位置处，以便与位置检测单元103相对。多个位置检测单元103以小于标尺6的标尺长度的间隔安装在传送模块110上，使得位置检测单元103中的任何一个可以读取标尺6。

轴承8设置在顶板9的下部。轴承8安装在设置给传送模块110的引导件106上，以便沿着引导件106旋转和行进。当轴承8安装在引导件106上时，滑架1沿引导件106可移动地支撑。

多个磁体7设置在顶板9的下部。多个磁体7沿着滑架1的移动方向排列。如图4所示，多个磁体7设置在布置在传送模块110中的线圈阵列104之间，并且布置成使得不同的磁极沿着线圈阵列104的布置交替出现。

RF标签4安装在夹持单元3的侧表面上。RF标签4是存储单元，其被构造为存储识别(ID)信息，该识别信息是用于识别滑架1的滑架1所特有的识别信息。

读取器/写入器108是被构造为从RF标签4读取信息的读取单元。读取器/写入器108被设置成以非接触方式读取存储在安装在滑架1上的RF标签4中的ID信息。读取器/写入器108可通信地连接到传送控制器100，并且被构造为将从RF标签4读取的ID信息发送到传送控制器100。

如上所述，传送控制器100连接到读取器/写入器108。传送控制器100还用作识别单元，该识别单元被构造为识别滑架1，并且，传送控制器100可以基于从已读取安装在滑架1上的RF标签4的读取器/写入器108发送的ID信息，来识别滑架1。

处理设备200是被构造为对由滑架1传送的工件5进行预定处理的设备。处理设备200被构造为在如下状态下对工件5进行指定的处理：在滑架1停止的位置处由滑架1上的夹持单元3夹持工件5。当在各个处理设备200中对工件5进行预定处理时，可以制造诸如电子设备的物品。

由处理设备200进行的处理涉及各种类型。例如，处理设备200被构造为进行涉及将其他部件并入工件5，将粘合剂涂敷到工件5，从工件5移除部件等，检查工件5以及用光束照射工件5的处理。

在图1中，例示了处理设备200a至200e和200j，并且在图2和图3中，例示了处理设备200a和200b。然而，对处理设备200的数量没有特别限制。根据各条生产线，可以想到处理设备200的各种布局，并且可以根据布局选择处理设备200的种类和数量。

参考图1至图4描述第一实施例中的处理系统10的基本操作。在这种情况下，假设传送模块110j通过使用移位单元111a定位在与传送模块110a相邻的位置并且连接到传送路径1000a。假设在其上没有安装工件5的空滑架1停止在传送模块110j上。

处理控制器201控制传送控制器100和处理设备200以控制处理系统10的整个操作，其包括工件5的供应、传送、处理和输送。

处理设备200j根据来自处理控制器201的指令将待处理的工件5供应到停止在传送模块110j上的滑架1。滑架1用夹持单元3夹持从处理设备200j供应的工件5。

然后，控制设备107j和107a在传送路径1000a的方向上移动停止在传送模块110j上的滑架1，并根据来自传送控制器100的指令使滑架1停止在传送模块110a上。处理设备200a根据来自处理控制器201的指令，对停止在传送模块110a上的滑架1所夹持的工件5进行预定处理。

类似地，传送模块110a，110b，110c，...，110d根据来自传送控制器100的指令将滑架1依次传送到传送模块110a，110b，110c，...，110d。然后，处理设备200a，200b，200c，...，200d根据来自处理控制器201的指令对由滑架1夹持的工件5依次进行预定处理。

移位单元控制设备112b根据来自传送控制器100的指令驱动移位单元111b沿传送路径1000a的方向移动传送模块110e。然后，移位单元控制设备112b将传送模块110e停止在与传送模块110d相邻的位置处，使得停止在传送模块110d上的滑架1可以移动到传送模块110e上。

在传送模块110d和传送模块110e彼此相邻的状态下，控制设备107d和107e根据来自传送控制器100的指令将停止在传送模块110d上的滑架1朝向传送模块110e移动。此外，控制设备107e使滑架1停止在传送模块110e上。处理设备200e根据来自处理控制器201的指令，从停止在传送模块110e上的滑架1输送经过处理设备200a至200d的处理的工件5。

在已经输送工件5的空滑架1停止在传送模块110e上的状态下，移位单元控制设备112b根据来自传送控制器100的指令驱动移位单元111b沿传送路径1000b的方向移动传送模块110e。然后，移位单元控制设备112b使传送模块110e停止在与传送模块110f相邻的位置处，使得停止在传送模块110e上的滑架1可以移动到传送模块110f上。

在传送模块110f和传送模块110e彼此相邻的状态下，控制设备107e和107f根据来自传送控制器100的指令将停止在传送模块110e上的滑架1朝向传送模块110f移动。此外，控制设备107f使滑架1在传送模块110f上移动。由此，滑架1可以通过移位单元111b上的传送模块110e从传送路径1000a移动到传送路径1000b。

控制设备107f，...，107g，107h和107i根据来自传送控制器100的指令将传送模块110f上的滑架1从传送模块110f依次传送到传送模块110i。

此外，移位单元控制设备112a根据来自传送控制器100的指令驱动移位单元111a沿传送路径1000b的方向移动传送模块110j。然后，移位单元控制设备112b将传送模块110j停止在与传送模块110i相邻的位置处，使得停止在传送模块110i上的滑架1可以移动到传送模块110j上。

在传送模块110i和传送模块110j彼此相邻的状态下，控制设备107i和107j根据来自传送控制器100的指令将停止在传送模块110i上的滑架1朝向传送模块110j移动。此外，控制设备107j使滑架1停止在传送模块110j上。

在空滑架1停止在传送模块110j上的状态下，移位单元控制设备112a根据来自传送控制器100的指令驱动移位单元111a沿传送路径1000a的方向移动传送模块110j。然后，移位单元控制设备112a使传送模块110j停止在与传送模块110a相邻的位置处，使得停止在传送模块110j上的滑架1可以移动到传送模块110a上。

如上所述，已经在包括传送路径1000a和传送路径1000b的通道上行进的滑架1，在工件5没有被安装在滑架1上的空状态下，返回到停止在与传送模块110a相邻的位置处的传送模块110j上。

接下来，参考图5描述根据第一实施例的传送系统12的控制构造。图5是用于例示根据第一实施例的传送系统12的控制构造的框图。

传送控制器100用作上级控制单元，该上级控制单元被构造为针对用作下级控制单元的控制设备107控制多个滑架1的传送。传送控制器100包括命令值生成单元1001、存储单元1002和通信控制单元1003。传送控制器100可以具有其他功能，但是在第一实施例中省略了对其他功能的描述。

通信控制单元1003被构造为控制传送控制器100与连接到传送控制器100的多个控制设备107、多个移位单元控制设备112、处理控制器201和读取器/写入器108之间的通信。具体地，通信控制单元1003被构造为在预定定时在传送控制器100与控制设备107、移位单元控制设备112、处理控制器201和读取器/写入器108之间进行各种控制信号和控制数据的发送和接收。

存储单元1002被构造为存储停止基准位置，该停止基准位置用作用于在传送路径1000上停止各个滑架1的基准。停止基准位置被预先设置，例如，作为当处理设备200对滑架1上的工件5进行预定处理时滑架要停止的位置。此外，存储单元1002用于存储移动误差数据，该移动误差数据是关于根据各个停止基准位置和工件5的种类或与工件5相关联的夹持单元3的种类获取的滑架1的移动误差的数据。

命令值生成单元1001被构造为生成要控制的滑架1的位置命令值。位置命令值是表示滑架1的目标停止位置的值。命令值生成单元1001被构造为针对各个滑架1，通过使用停止基准位置和移动误差作为位置命令值来计算表示目标停止位置的值。读取器/写入器108读取的滑架1的ID信息通过通信控制单元1003输入到命令值生成单元1001。命令值生成单元1001还用作被构造为识别滑架1的识别单元。例如，命令值生成单元1001可以基于输入的ID信息识别停止在与传送模块110a相邻地定位的传送模块110j上的滑架1。

控制设备107是被构造为驱动线圈阵列104的驱动单元。控制设备107包括位置反馈(FB)控制单元1071、位置确定单元1075、电流FB控制单元1072、驱动放大器单元1073、电流检测单元1074和通信控制单元1070。驱动放大器单元1073连接到传送模块110的线圈阵列104。

驱动放大器单元1073具有多个输出端子。在图5中，例示了具有三个输出端子的驱动放大器单元1073，但是对驱动放大器单元1073的输出端子的数量没有特别限制。包括串联连接的多个线圈的串联线圈连接到驱动放大器单元1073的各个输出端子。在图5中，例示了包括串联连接的两个线圈的串联线圈，但是对形成串联线圈的线圈的数量没有特别限制。在图5中所示的驱动放大器单元1073的三个输出端子中，第一输出端子连接到包括串联连接的线圈104a和线圈104b的串联线圈。驱动放大器单元1073的第二输出端子连接到包括串联连接的线圈104c和线圈104d的串联线圈。驱动放大器单元1073的第三输出端子连接到包括串联连接的线圈104e和线圈104f的串联线圈。

在形成线圈阵列104的多个线圈(线圈104a至104f)中，形成各个串联线圈的线圈沿着滑架1的移动方向依次逐一布置。例如，当线圈阵列104由图5中所示的六个线圈104a至104f形成时，线圈104a、线圈104c、线圈104e、线圈104b、线圈104d和线圈104f沿着滑架1的移动方向以所述顺序成排布置。三个串联线圈可以通过包括U相、V相和W相的三相交流电驱动。

换句话说，线圈阵列104以预定节距(单位节距)形成排的方式布置。线圈阵列104包括多个串联线圈，各个串联线圈包括串联连接的预定数量的线圈。形成各个串联线圈的预定数量的线圈以至少两个单位的预定间隔布置，所述至少两个单位各自以单位节距作为一个单位。

电流检测单元1074被构造为测量流过线圈阵列104的各个串联线圈的电流，并将测量的电流值输入到电流FB控制单元1072。

位置确定单元1075被构造为识别滑架1在传送模块110上的位置。具体地，位置确定单元1075从安装在传送模块110上的位置检测单元103接收表示位置信息的信号。位置确定单元1075被构造为基于从位置检测单元103输入的信号来识别滑架1在传送模块110上的位置。

通信控制单元1070连接到传送控制器100，并且被构造为在预定定时在通信控制单元1070和传送控制器100之间进行各种控制信号和控制数据的发送和接收。各个控制设备107的通信控制单元1070可以通过其他控制设备107的通信控制单元1070的中介连接到传送控制器100(参见图5)，或者可以直接连接到传送控制器100。

位置FB控制单元1071将由位置确定单元1075识别的滑架1的位置信息与基于由命令值生成单元1001生成的位置命令值的位置信息进行比较。位置FB控制单元1071将比较结果作为控制信息输出到电流FB控制单元1072。

电流FB控制单元1072将从位置FB控制单元1071输入的控制信息与由电流检测单元1074检测的电流值进行比较。电流FB控制单元1072根据比较结果生成输出到驱动放大器单元1073的电流的命令值，以将命令值输出到驱动放大器单元1073。

驱动放大器单元1073基于从电流FB控制单元1072输入的命令值来控制流过驱动放大器单元1073连接到的线圈阵列104的各个串联线圈的电流。通过上述的电流反馈控制，可以改善滑架1的响应性。

移位单元控制设备112连接到移位单元111，并且被构造为进行移位单元111的操作控制。移位单元控制设备112被构造为利用等同于移位单元111的构造来控制移位单元111。移位单元控制设备112基于来自传送控制器100的控制信号，对移位单元控制设备112连接到的移位单元111进行适当的操作控制。移位单元控制设备112可以通过控制设备107的通信控制单元1070的中介连接到传送控制器100(参见图5)，或者可以直接连接到传送控制器100。

图6至图8均是用于例示线圈阵列104中的串联线圈的布置的概况的图。

在这种情况下，假设驱动放大器单元1073包括四个单独的驱动放大器单元1076a、1076b、1076c和1076d，各个驱动放大器单元具有三个输出端子。整个驱动放大器单元1073的输出端子的数量是十二个。位置FB控制单元1071、电流FB控制单元1072和电流检测单元1074被设置给驱动放大器单元1073的各个输出端子。即，包括位置FB控制单元1071、电流FB控制单元1072和电流检测单元1074的控制单元被设置给驱动放大器单元1073的十二个输出端子中的各个。

在图6至图8中，例示了一个示例，其中线圈阵列104包括沿滑架1的移动方向以一定的节距(下文中称为“单位节距”)布置的多个线圈104a至104x。包括线圈104a和104b的串联线圈，包括线圈104c和104d的串联线圈，以及包括线圈104e和104f的串联线圈连接到各个驱动放大器单元1076a的三个输出端子。包括线圈104g和104h的串联线圈，包括线圈104i和104j的串联线圈，以及包括线圈104k和104l的串联线圈连接到各个驱动放大器单元1076b的三个输出端子。包括线圈104m和104n的串联线圈，包括线圈104o和104p的串联线圈，以及包括线圈104q和104r的串联线圈连接到各个驱动放大器单元1076c的三个输出端子。包括线圈104s和104t的串联线圈，包括线圈104u和104v的串联线圈，以及包括线圈104w和104x的串联线圈连接到各个驱动放大器单元1076d的三个输出端子。

图6的构造示例是以3个单位节距的间隔布置形成一个串联线圈的两个线圈的情况。也就是说，形成线圈阵列104的24个线圈沿滑架1的移动方向按照线圈104a、104c、104e、104b、104d、104f、104g、104i、104k、104h、104j、104l、104m、104o、104q、104n、104p、104r、104s、104u、104w、104t、104v和104x的顺序布置。

图7的构造示例是以6个单位节距的间隔布置形成一个串联线圈的两个线圈的情况。也就是说，形成线圈阵列104的24个线圈沿滑架1的移动方向按照线圈104a、104c、104e、104g、104i、104k、104b、104d、104f、104h、104j、104l、104m、104o、104q、104s、104u、104w、104n、104p、104r、104t、104v和104x的顺序布置。

图8的构造示例是以12个单位节距的间隔布置形成一个串联线圈的两个线圈的情况。也就是说，形成线圈阵列104的24个线圈沿滑架1的移动方向按照线圈104a、104c、104e、104g、104i、104k、104m、104o、104q、104s、104u、104w、104b、104d、104f、104h、104j、104l、104n、104p、104r、104t、104v和104x的顺序布置。

这里，假设通过使用具有上述布置的线圈阵列104来移动各自具有与线圈的7个单位节距相对应的沿着移动方向的长度的滑架1a和1b。

在第一实施例中所示的线圈阵列104的构造中，当控制流过形成串联线圈的一个线圈的电流时，相同的电流也流过形成串联线圈的另一个线圈，因此流过这两个线圈的电流不能被分开控制。因此，当将图6至图8的构造示例相互比较时，在滑架1a的停止位置处的控制的情况下的滑架控制范围1077是变化的。

如上所述，向各个驱动单元分配各预定间隔为基于预先确定的滑架之间的距离的至少两个节距的线圈，作为多个线圈中的、向各个驱动单元分配的待控制线圈。

在图6的构造示例中，当滑架1a位于图6所示的位置时，滑架1a的滑架控制范围1077对应于从线圈104a到线圈104h的范围。因此，当滑架1b要靠近滑架1a停止时，滑架1b可以靠近线圈104j的位置。

此外，为了在考虑到滑架1移动的情况以及滑架1停止的情况下也防止两个或更多个滑架1与串联连接的两个线圈相对，滑架1a和1b之间的间隔需要至少4个单位节距。也就是说，在考虑到滑架1移动的情况下，当滑架1b要靠近滑架1a停止时，滑架1b可以也靠近线圈1041的位置。

在图6的构造示例中，连接到各个驱动放大器单元1076a的三个输出端子的所有六个线圈104a至104f都与滑架1a相对。因此，在滑架1a移动期间，大的反电动势被施加到各个驱动放大器单元1076a。此外，在滑架1a移动期间，一个线圈的反电动势被施加到各个驱动放大器单元1076b。

在图7的构造示例中，当滑架1a位于图7所示的位置时，滑架1a的滑架控制范围1077对应于从线圈104a到线圈104l的范围。在该构造示例中，与图6的构造示例相比，滑架1a的滑架控制范围1077较大。因此，当滑架1b要靠近滑架1a停止时，滑架1b只能靠近线圈104m的位置。

此外，为了在考虑到滑架1移动的情况以及滑架1停止的情况下也防止两个或更多个滑架1与串联连接的两个线圈相对，滑架1a和1b之间的间隔需要至少7个单位节距。也就是说，在考虑到滑架1移动的情况下，当滑架1b要靠近滑架1a停止时，滑架1b也只能靠近线圈104q的位置。

在图7的构造示例中，连接到各个驱动放大器单元1076a的三个输出端子的线圈中只有四个线圈与滑架1a相对。因此，与图6的构造示例相比，在滑架1a移动期间施加到各个驱动放大器单元1076a的反电动势较小。此外，在滑架1a移动期间，三个线圈的反电动势被施加到各个驱动放大器单元1076b。

在图8的构造示例中，当滑架1a位于图8所示的位置时，滑架1a的滑架控制范围1077对应于从线圈104a到线圈104n的范围。在该构造示例中，与图7的构造示例相比，滑架1a的滑架控制范围1077较大。因此，当滑架1b要靠近滑架1a停止时，滑架1b只能靠近线圈104p的位置。

此外，为了在考虑到滑架1移动的情况以及滑架1停止的情况下也防止两个或更多个滑架1与串联连接的两个线圈相对，滑架1a和1b之间的间隔需要至少13个单位节距。也就是说，在考虑到滑架1移动的情况下，当滑架1b要靠近滑架1a停止时，滑架1b也只能靠近线圈104r的位置。

在图8的构造示例中，连接到各个驱动放大器单元1076a的三个输出端子的线圈中只有三个线圈与滑架1a相对。因此，与图7的构造示例相比，在滑架1a移动期间施加到各个驱动放大器单元1076a的反电动势较小。此外，在滑架1a移动期间，三个线圈的反电动势被施加到各个驱动放大器单元1076b，并且一个线圈的反电动势被施加到各个驱动放大器单元1076c。

在图6至图8的构造示例中，施加到驱动放大器单元1073的总反电动势是相同的。然而，在图8的构造示例中，反电动势被分散到四个单独的驱动放大器单元1076，结果是可以减小施加到各个单独的驱动放大器单元1076a、1076b、1076c和1076d的反电动势。

如上所述，当多个滑架1要尽可能紧密地布置时，在滑架1的移动期间施加到各个驱动放大器单元1076的反电动势增加。同时，当要减小在滑架1的移动期间施加到各个驱动放大器单元1076的反电动势时，需要增加多个滑架1之间的间隔。

因此，当适当地设置线圈阵列104中的形成串联线圈的多个线圈之间的间隔时，可以在考虑到滑架1之间的距离的情况下实现用于减小施加到各个驱动放大器单元1076的反电动势的线圈的布置。也就是说，可以根据多个滑架1之间允许的最近距离来设置线圈阵列104中的形成串联线圈的线圈之间的间隔。

对线圈阵列104中形成串联线圈的多个线圈之间的间隔没有特别限制，并且可以根据多个滑架1之间的最近距离来设置间隔，例如，如下所述。

具体地，多个滑架1之间的最近距离Z可以由下式表示：

Z≥Y×(N×(a-1)+1)…(1)

其中Y表示线圈阵列104中的线圈之间的间隔(单位节距)，“a”表示形成串联线圈的线圈的数量，N(N单位节距)表示形成串联线圈的多个线圈之间的间隔。

因此，可以基于线圈阵列104中的线圈之间的间隔Y、形成串联线圈的线圈的数量“a”和滑架1之间的最近距离Z来选择满足式(1)的关系的线圈之间的间隔N。例如，当形成串联线圈的线圈的数量“a”为2，并且滑架1之间的最近距离Z为4个单位节距时，形成串联线圈的多个线圈之间的间隔N可以设置为3个单位节距(3Y)或更小(对应于图6的构造示例)。此外，当形成串联线圈的线圈的数量“a”是2，并且滑架1之间的最近距离Z是7个单位节距时，形成串联线圈的多个线圈之间的间隔N可以设置为6个单位节距(6Y)或更小(对应于图7的构造示例)。此外，当形成串联线圈的线圈的数量“a”是2，并且滑架1之间的最近距离Z是13个单位节距时，形成串联线圈的多个线圈之间的间隔N可以设置为12个单位节距(12Y)或更小(对应于图8的构造示例)。

由此，可以基于滑架1之间的所需间隔来选择线圈之间的间隔N，使得在考虑到滑架1移动的情况以及滑架1停止的情况下两个或更多个滑架1也不与形成串联线圈的“a”个线圈相对。

在图9A至图9D中，例示了当使用图6所示的构造示例中的线圈阵列104时，具有7个单位节距的尺寸的滑架1a向右侧移动一个单位节距的状态。

当滑架1a位于图9A所示的位置时，滑架1a与连接到各个驱动放大器单元1076a的三个输出端子的线圈104a至104f相对。此外，滑架1a与连接到各个驱动放大器单元1076b的一个输出端子的线圈104g相对。也就是说，滑架1a由各个驱动放大器单元1076a的三个控制单元和各个驱动放大器单元1076b的一个控制单元控制。

此外，当滑架1a位于图9B所示的位置时，滑架1a与连接到各个驱动放大器单元1076a的三个输出端子的线圈104b至104f相对。此外，滑架1a与连接到各个驱动放大器单元1076b的两个输出端子的线圈104g和104i相对。也就是说，滑架1a由各个驱动放大器单元1076a的三个控制单元和各个驱动放大器单元1076b的两个控制单元控制。

此外，当滑架1a位于图9C所示的位置时，滑架1a与连接到各个驱动放大器单元1076a的三个输出端子的线圈104b和104d至104f相对。此外，滑架1a与连接到各个驱动放大器单元1076b的三个输出端子的线圈104g、104i和104k相对。也就是说，滑架1a由各个驱动放大器单元1076a的三个控制单元和各个驱动放大器单元1076b的三个控制单元控制。

此外，当滑架1a位于图9D所示的位置时，滑架1a与连接到各个驱动放大器单元1076a的三个输出端子的线圈104b、104d和104f相对。此外，滑架1a与连接到各个驱动放大器单元1076b的三个输出端子的线圈104g至104i和104k相对。也就是说，滑架1a由各个驱动放大器单元1076a的三个控制单元和各个驱动放大器单元1076b的三个控制单元控制。

如上所述，通过根据滑架1的位置切换被构造为控制滑架1的控制单元的数量，可以通过所需的最小数量的控制单元来控制滑架1。由此，当使多个滑架1同时行进和停止时，可以在滑架1彼此更靠近的状态下控制滑架1。

当滑架1的尺寸改变时，与滑架1相对的线圈的数量也改变。因此，也适当地改变被构造为控制滑架1a的控制单元的数量。

在图1中所示的处理系统10中，在行进路径侧的传送路径1000a中，多个滑架1在处理之前停止，因此在传送路径1000a上停止的滑架1之间的间隔减小。此外，当处理之间的距离小时，停止的滑架1变得拥挤，因此移动到后续处理的滑架1的移动距离小，并且滑架1的移动速度小。因此，不会对形成线圈阵列104的线圈施加大的反电动势。

因此，在行进路径侧的传送路径1000a中，当从例如图6至图8的构造示例中选择线圈阵列104的布置时，合适的是选择形成串联线圈的线圈之间的间隔小的图6的构造示例。由此，可以减小滑架1之间的停止间隔。

同时，在返回路径侧的传送路径1000b中，工件5不经受处理，因此停止在传送路径1000b上的滑架1的数量小，结果是滑架1之间的间隔大。因此，滑架1的移动距离和移动速度增加，并且在一些情况下，对形成线圈阵列104的线圈施加大的反电动势。

因此，在返回路径侧的传送路径1000b中，当从例如图6至图8的构造示例中选择线圈阵列104的布置时，合适的是选择形成串联线圈的线圈之间的间隔大的图8的构造示例。由此，可以防止大的反电动势，并且可以增加滑架1移动期间的最大速度。

因此，在传送路径1000a侧可以采用其中形成串联线圈的线圈之间的间隔小的线圈阵列104的布置，并且，在传送路径1000b侧可以采用其中形成串联线圈的线圈之间的间隔大的线圈阵列104的布置。在这种情况下，在形成串联线圈的线圈之间具有不同间隔的线圈阵列104存在于传送通道中。

通过使用在形成串联线圈的线圈之间具有不同间隔的线圈阵列104，可以考虑到滑架1之间的距离来减小要生成的反电动势。如上所述，根据第一实施例，可以根据滑架之间的距离和线圈中生成的反电动势适当地控制滑架的移动。

[第二实施例]

参考图10A至图11B描述本发明第二实施例中的传送系统和处理系统。与第一实施例中的传送系统和处理系统的部件相同的部件由与其中相同的附图标记表示，并且省略或简化其描述。图10A至图11B均是用于例示第二实施例中的传送模块中的驱动放大器单元和线圈阵列之间的连接模式的图。

除了传送模块110的驱动放大器单元1073和线圈阵列104之间的连接模式不同之外，第二实施例中的传送系统12和处理系统10与第一实施例中的传送系统12和处理系统10相同。也就是说，第二实施例中的传送系统12和处理系统10的传送模块110还包括在驱动放大器单元1073和线圈阵列104之间的切换单元，该切换单元被构造为切换它们之间的连接。

在图10A和图10B中所示的构造示例中，形成线圈阵列104的各个线圈104a至104x和各个驱动放大器1076通过连接器105的中介彼此连接。被构造为将各个线圈104a至104x和各个驱动放大器单元1076彼此连接的连接器105对应于切换单元。

通过改变连接器105中的各个线圈104a至104x与各个驱动放大器单元1076之间的连接，可以容易地切换线圈阵列104的构造。例如，在图10A中，例示了这样的示例，其中，各个线圈104a至104x和各个驱动放大器单元1076通过连接器105彼此连接，使得形成一个串联线圈的两个线圈以3个单位节距的间隔布置。此外，在图10B中，例示了这样的示例，其中，各个线圈104a至104x和各个驱动放大器单元1076通过连接器105彼此连接，使得形成一个串联线圈的两个线圈以6个单位节距的间隔布置。

此外，可以通过改变线圈104a至104x的位置来切换线圈阵列104的构造，而不改变各个线圈104a至104x与各个驱动放大器单元1076之间的连接。

在图11A和图11B中所示的构造示例中，形成线圈阵列104的各个线圈104a至104x和各个驱动放大器单元1076通过切换中继板109的中介彼此连接。被构造为将各个线圈104a至104x和各个驱动放大器单元1076彼此连接的切换中继板109对应于切换单元。

通过改变被构造为将各个线圈104a至104x和各个驱动放大器单元1076彼此连接的切换中继板109，可以容易地切换线圈阵列104的构造。例如，在图11A中，例示了使用切换中继板109a的示例，该切换中继板109a被构造为将各个线圈104a至104x连接至各个驱动放大器单元1076，使得形成一个串联线圈的两个线圈以3个单位节距的间隔布置。此外，在图11B中，例示了使用切换中继板109b的示例，该切换中继板109b被构造为将各个线圈104a至104x连接至各个驱动放大器单元1076，使得形成一个串联线圈的两个线圈以6个单位节距的间隔布置。

可以通过替换切换中继板109本身或通过根据来自外部的信号对切换中继板109中的电路进行切换，来改变各个线圈104a至104x与各个驱动放大器单元1076之间的连接。

如上所述，通过使用连接器105或切换中继板109将驱动放大器单元1073和线圈阵列104彼此连接，可以容易地切换驱动放大器单元1073和线圈阵列104之间的连接。

因此，例如，通过当需要减小多个滑架1之间的间隔时将连接切换到图10A或图11A中所示的连接，或者通过当需要在移动期间抑制反电动势时将连接切换到图10B或图11B所示的连接，切换是可灵活地适应的。

如上所述，根据第二实施例，可以根据滑架之间的距离和线圈中生成的反电动势适当地控制滑架的移动。此外，通过使用连接器105或切换中继板109将线圈阵列104和各个驱动放大器单元1076彼此连接，可以容易地切换操作模式。

[变型实施例]

可以对本发明进行各种变型而不限于上述实施例。

例如，在上述实施例中，描述了将根据本发明的传送装置和传送系统应用于用于组装工业产品的生产线的处理系统的示例。然而，根据本发明的传送装置和传送系统可以应用于除上述处理系统之外的系统。

根据本发明，可以根据滑架之间的距离和线圈中生成的反电动势适当地控制滑架的移动。

虽然针对示例性实施例描述了本发明，但是，应该理解，本发明不限于公开的示例性实施例。下述权利要求的范围应当被赋予最宽的解释，以便涵盖所有这类修改以及等同的结构和功能。

Claims (11)

1.一种传送系统，所述传送系统包括：

多个线圈，其以预定节距形成排的方式布置；

滑架，其被构造为，通过使用从所述多个线圈接收到的电磁力作为驱动力，来沿着所述多个线圈的排移动；

多个驱动器，其被构造为，使电流流过所述多个线圈中的待控制线圈，以向滑架提供驱动力；以及

控制器，其被构造为，切换所述多个线圈中的、向所述多个驱动器中的各个驱动器分配的待控制线圈，

其中，向所述多个驱动器中的各个驱动器分配，各预定间隔为基于预先确定的滑架之间的距离的至少两个节距的线圈，作为所述多个线圈中的、向所述多个驱动器中的各个驱动器分配的待控制线圈。

2.根据权利要求1所述的传送系统，

其中，所述多个线圈包括多个串联线圈，各个串联线圈包括串联连接的预定数量的线圈，并且形成所述多个串联线圈中的各个串联线圈的预定数量的线圈以至少两个单位的预定间隔布置，各单位具有预定节距，并且

其中，所述多个驱动器包括多个控制单元，所述多个控制单元被设置为分别对应于所述多个串联线圈，并且被构造为控制流过所述多个串联线圈的各电流。

3.根据权利要求2所述的传送系统，其中，所述预定间隔被设置为满足以下关系：

Z≥Y×(N×(a-1))，

其中，Y表示预定节距，a表示预定数量，Z表示滑架之间的最近距离，并且N单位节距表示所述预定间隔。

4.根据权利要求1所述的传送系统，其中，所述控制器根据滑架的位置和尺寸，来切换控制滑架的所述多个驱动器。

5.根据权利要求2所述的传送系统，其中，滑架在包括第一传送路径和第二传送路径的通道上行进，在第一传送路径中，形成所述多个串联线圈的预定数量的线圈的预定间隔是第一间隔，并且，在第二传送路径中，形成所述多个串联线圈的预定数量的线圈的预定间隔是与第一间隔不同的第二间隔。

6.根据权利要求2所述的传送系统，所述传送系统还包括：

切换单元，其被构造为切换形成所述多个串联线圈的预定数量的线圈的预定间隔。

7.根据权利要求6所述的传送系统，其中，所述切换单元包括设置在所述多个串联线圈和所述多个驱动器之间的连接器。

8.根据权利要求6所述的传送系统，其中，所述切换单元包括设置在所述多个串联线圈和所述多个驱动器之间的切换中继板。

9.根据权利要求1至8中的任一项所述的传送系统，所述传送系统还包括：

处理设备，其被构造为对由滑架传送的工件进行处理。

10.一种传送装置，所述传送装置包括：

多个线圈，其以预定节距形成排的方式布置，并被构造为通过使用要生成的电磁力来使滑架沿着所述排移动；

多个驱动器，其被构造为，使电流流过所述多个线圈中的待控制线圈，以向滑架提供驱动力；以及

控制器，其被构造为，切换所述多个线圈中的、向所述多个驱动器中的各个驱动器分配的待控制线圈，

其中，向所述多个驱动器中的各个驱动器分配，各预定间隔为基于预先确定的滑架之间的距离的至少两个节距的线圈，作为所述多个线圈中的、向所述多个驱动器中的各个驱动器分配的待控制线圈。

11.一种传送系统的控制方法，所述传送系统包括：

多个线圈，其以预定节距形成排的方式布置，并被构造为通过使用要生成的电磁力来使滑架沿着所述排移动；

多个驱动器，其被构造为，使电流流过所述多个线圈中的待控制线圈，以向滑架提供驱动力；以及

控制器，其被构造为，切换所述多个线圈中的、向所述多个驱动器中的各个驱动器分配的待控制线圈，

所述控制方法包括：

由滑架传送工件；以及

对由滑架传送的工件进行处理，

其中，向所述多个驱动器中的各个驱动器分配，各预定间隔为基于预先确定的滑架之间的距离的至少两个节距的线圈，作为所述多个线圈中的、向所述多个驱动器中的各个驱动器分配的待控制线圈。