CN109416421A - 红外线截止滤波器以及摄像光学系统 - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 192
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims description 13
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims abstract description 213
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims abstract description 192
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 75
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims description 51
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 31
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 27
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 18
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 claims description 16
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 11
- 238000009738 saturating Methods 0.000 claims description 10
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 claims description 6
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 173
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 100
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 97
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 52
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 47
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 31
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 27
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 27
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 27
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 27
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 27
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 24
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 22
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 19
- 239000004840 adhesive resin Substances 0.000 description 17
- 229920006223 adhesive resin Polymers 0.000 description 17
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 16
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 16
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 11
- -1 Enol acetal Chemical class 0.000 description 8
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 8
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 8
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 8
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 7
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 7
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 7
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 5
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 5
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 5
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 5
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 5
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 4
- JMANVNJQNLATNU-UHFFFAOYSA-N oxalonitrile Chemical compound N#CC#N JMANVNJQNLATNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 4
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UMRSVAKGZBVPKD-UHFFFAOYSA-N acetic acid;copper Chemical compound [Cu].CC(O)=O UMRSVAKGZBVPKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 3
- 150000003009 phosphonic acids Chemical class 0.000 description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 3
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 2
- 241001062009 Indigofera Species 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 2
- GVFOJDIFWSDNOY-UHFFFAOYSA-N antimony tin Chemical compound [Sn].[Sb] GVFOJDIFWSDNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 2
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- MRNHPUHPBOKKQT-UHFFFAOYSA-N indium;tin;hydrate Chemical compound O.[In].[Sn] MRNHPUHPBOKKQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 2
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N Phenylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)C1=CC=CC=C1 QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000005864 Sulphur Substances 0.000 description 1
- SMEGJBVQLJJKKX-HOTMZDKISA-N [(2R,3S,4S,5R,6R)-5-acetyloxy-3,4,6-trihydroxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound CC(=O)OC[C@@H]1[C@H]([C@@H]([C@H]([C@@H](O1)O)OC(=O)C)O)O SMEGJBVQLJJKKX-HOTMZDKISA-N 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940081735 acetylcellulose Drugs 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 229920006231 aramid fiber Polymers 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.COC(=O)C(C)=C.CCCCOC(=O)C=C QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000008094 contradictory effect Effects 0.000 description 1
- GXLWJYQCAJXFAI-UHFFFAOYSA-N copper;phenylphosphonic acid Chemical compound [Cu].OP(O)(=O)C1=CC=CC=C1 GXLWJYQCAJXFAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- YRIUSKIDOIARQF-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 YRIUSKIDOIARQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940071161 dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000005670 ethenylalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 150000002828 nitro derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000001953 sensory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000010025 steaming Methods 0.000 description 1
- ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,7-diazaspiro[4.5]decane-7-carboxylate Chemical compound C1N(C(=O)OC(C)(C)C)CCCC11CNCC1 ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/28—Interference filters
- G02B5/281—Interference filters designed for the infrared light
- G02B5/282—Interference filters designed for the infrared light reflecting for infrared and transparent for visible light, e.g. heat reflectors, laser protection
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/26—Reflecting filters
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Abstract
红外线截止滤波器(1a)具备近红外线反射膜(20)和吸收膜(30)。近红外线反射膜(20)以及吸收膜(30)具有(A)～(E)的特性。(A)700nm≤λH R(0°，70％)＜λH R(0°，20％)≤770nm、(B)650nm≤λH R(40°，70％)＜λH R(40°，20％)≤720nm、(C)λH A(40°，20％)＜λH R(40°，20％)、(D)入射到吸收膜(30)的光的光谱透过率在λH R(0°，20％)以及λH R(40°，20％)下是15％以下。(E)入射到近红外线反射膜(20)以及吸收膜(30)的光的光谱透过率的450～600nm的波长范围内的平均值是75％以上。
Description
技术领域
本发明涉及红外线截止滤波器以及摄像光学系统。
背景技术
在数字摄像机等摄像装置中，作为摄像元件而使用CCD(Charge Coupled Device，电荷耦合器件)或CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor，互补金属氧化物半导体)等利用Si(硅)的二维图像传感器。利用Si的摄像元件具有对红外区域的波长的光的受光灵敏度，具有与人的视觉灵敏度不同的波长特性。为此，在摄像装置中，通常在摄像元件的前方配置遮蔽红外区域的波长的入射光的滤波器(红外线截止滤波器)，以使得到的图像接近于人所认识的图像。
例如已知在透明基板层叠具有反射红外线的能力的膜的红外线截止滤波器。这样的红外线截止滤波器通过调整具有反射红外线的能力的膜的材料以及厚度而具有不仅反射红外线还反射紫外线的分光特性等各种分光特性。但这样的红外线截止滤波器在光以大的入射角入射到红外线截止滤波器时会使透过率光谱向短波长侧移位。为此，在使用这样的红外线截止滤波器得到的图像的中心部以及周边部有时会出现相互不同的颜色风格。为此，为了减小透过率光谱的入射角依赖性而提出了各种方案。
例如在专利文献1中记载了具有含有给定的吸收剂的透明树脂基板和近红外线反射膜的近红外线截止滤波器。该吸收剂具有如下特性：在波长600～800nm有吸收极大，且在波长430～800nm的波段中透过率成为70％的吸收极大以下最长的波长(Aa)与在波长580nm以上的波段中透过率成为30％的最短的波长(Ab)之差的绝对值不足75nm。另外，该近红外线反射膜是铝蒸镀膜、贵金属薄膜、使以氧化铟为主成分并少量含有氧化锡的金属氧化物微粒子分散的树脂膜、以及交替层叠高折射率材料层和低折射率材料层的电介质多层膜等膜。
专利文献1记载的近红外线截止滤波器具有Ya与Yb之差的绝对值不足15nm这样的特性。Ya是在波长560～800nm的范围内从近红外线截止滤波器的垂直方向进行测定的情况下的光的透过率成为50％的波长的值。Yb是在波长560～800nm的范围内从相对于近红外线截止滤波器的垂直方向呈30°的角度进行测定的情况下的光的透过率成为50％的波长的值。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：JP特开2011-100084号公报
发明内容
发明要解决的课题
如上述那样，在专利文献1记载的近红外线截止滤波器中，虽然Ya与Yb之差的绝对值不足15nm，但在光以超过30°的入射角入射到专利文献1记载的近红外线截止滤波器的情况下的与光的透过率相关的特性则未具体研讨。由于近年的摄像透镜的高视角化，在光以超过30°的入射角入射到红外线截止滤波器的情况下也变得要求更高级别的画质。为此，期望即使在来自被摄体的光以更大的入射角(例如40°)入射到红外线截止滤波器的情况下也能在特定的波长范围(例如600～700nm)抑制透过率的变化的技术。
鉴于这样的事情，本发明提供具备近红外线反射膜，且即使光的入射角以0°～40°的角度变化也能使特定的范围的波长(例如600～700nm)中的透过率光谱的变化充分小的红外线截止滤波器。
用于解决课题的手段
本发明提供红外线截止滤波器，其具备近红外线反射膜和与所述近红外线反射膜平行延伸的吸收膜，所述近红外线反射膜以及所述吸收膜具有下述(A)～(E)的特性：
(A)当将在波长600～800nm的范围内垂直入射到所述近红外线反射膜的光的光谱透过率为70％时的波长定义为波长λH R(0°，70％)，且将在波长600～800nm的范围内垂直入射到所述近红外线反射膜的光的光谱透过率为20％时的波长定义为波长λH R(0°，20％)时，垂直入射到所述近红外线反射膜的光的光谱透过率在所述波长λH R(0°，70％)～所述波长λH R(0°，20％)的范围内单调减少，以使所述波长λH R(0°，70％)为700nm以上，并且所述波长λH R(0°，20％)为770nm以下且大于所述波长λH R(0°，70％)，
(B)当将在波长600～800nm的范围内以40°的入射角入射到所述近红外线反射膜的光的光谱透过率为70％时的波长定义为波长λH R(40°，70％)，且将在波长600～800nm的范围内以40°的入射角入射到所述近红外线反射膜的光的光谱透过率为20％时的波长定义为波长λH R(40°，20％)时，以40°的入射角入射到所述近红外线反射膜的光的光谱透过率在所述波长λH R(40°，70％)～所述波长λH R(40°，20％)的范围内单调减少，以使所述波长λH R(40°，70％)为650nm以上，并且所述波长λH R(40°，20％)为720nm以下且大于所述波长λH R(40°，70％)，
(C)以40°的入射角入射到所述吸收膜的光的光谱透过率在波长600～800nm的范围内在小于所述波长λH R(40°，20％)的波长λH A(40°，20％)为20％，
(D)垂直入射到所述吸收膜的光的光谱透过率在所述波长λH R(0°，20％)为15％以下，且以40°的入射角入射到所述吸收膜的光的光谱透过率在所述波长λH R(40°，20％)为15％以下，
(E)垂直入射到所述近红外线反射膜的光的光谱透过率以及以40°的入射角入射到所述近红外线反射膜的光的光谱透过率的450～600nm的波长范围内平均值为75％以上，并且垂直入射到所述吸收膜的光的光谱透过率以及以40°的入射角入射到所述吸收膜的光的光谱透过率的450～600nm的波长范围内的平均值为75％以上。
另外，本发明提供具备上述的红外线截止滤波器的摄像光学系统。
发明的效果
上述的红外线截止滤波器具备近红外线反射膜，即使光的入射角以0°～40°的角度变化，也能使特定的范围的波长(例如600～700nm)中的透过率光谱的变化充分小。
附图说明
图1是本发明的实施方式所涉及的红外线截止滤波器的截面图。
图2是本发明的其他实施方式所涉及的红外线截止滤波器的截面图。
图3是本发明的再一其他实施方式所涉及的红外线截止滤波器的截面图。
图4是本发明的再一其他实施方式所涉及的红外线截止滤波器的截面图。
图5是本发明的再一其他实施方式所涉及的红外线截止滤波器的截面图。
图6是本发明的再一其他实施方式所涉及的红外线截止滤波器的截面图。
图7是本发明的再一其他实施方式所涉及的红外线截止滤波器的截面图。
图8是本发明的再一其他实施方式所涉及的红外线截止滤波器的截面图。
图9是表示本发明的实施方式所涉及的摄像光学系统的图。
图10是表示实施例1所涉及的第一层叠体以及第二层叠体的光谱透过率的图表。
图11是表示实施例1所涉及的红外线截止滤波器的光谱透过率的图表。
图12是表示实施例2所涉及的第一层叠体以及第二层叠体的光谱透过率的图表。
图13是表示实施例2所涉及的红外线截止滤波器的光谱透过率的图表。
图14是表示实施例3所涉及的第一层叠体以及第二层叠体的光谱透过率的图表。
图15是表示实施例3所涉及的红外线截止滤波器的光谱透过率的图表。
图16是表示实施例4所涉及的第一层叠体以及第二层叠体的光谱透过率的图表。
图17是表示实施例4所涉及的红外线截止滤波器的光谱透过率的图表。
图18是表示实施例5所涉及的第一层叠体以及第二层叠体的光谱透过率的图表。
图19是表示实施例5所涉及的红外线截止滤波器的光谱透过率的图表。
图20是表示实施例6所涉及的第一层叠体以及第二层叠体的光谱透过率的图表。
图21是表示实施例6所涉及的红外线截止滤波器的光谱透过率的图表。
图22是表示实施例7所涉及的第一层叠体以及第二层叠体的光谱透过率的图表。
图23是表示实施例7所涉及的红外线截止滤波器的光谱透过率的图表。
图24是表示实施例8所涉及的第一层叠体以及第二层叠体的光谱透过率的图表。
图25是表示实施例8所涉及的红外线截止滤波器的光谱透过率的图表。
图26是表示实施例9所涉及的第一层叠体以及第二层叠体的光谱透过率的图表。
图27是表示实施例9所涉及的红外线截止滤波器的光谱透过率的图表。
图28是表示实施例10所涉及的第一反射膜以及第二反射膜的光谱透过率的图表。
图29是表示实施例10所涉及的第一层叠体以及第二层叠体的光谱透过率的图表。
图30是表示实施例10所涉及的红外线截止滤波器的光谱透过率的图表。
图31是按RGB彩色滤光器的每种颜色表示实施例所涉及的红外线截止滤波器的评价中所用的摄像元件的光谱灵敏度的图表。
图32是表示将实施例7的红外线截止滤波器的光谱透过率和图31所示的摄像元件的光谱灵敏度合成的结果的图表。
图33是将实施例7所涉及的红外线截止滤波器与具有图31所示的光谱灵敏度的摄像元件组合时的R/G比以及B/G比与入射角的关系的图表。
图34是表示实施例1所涉及的第一层叠体以及第二层叠体的波长350～450nm的范围中的光谱透过率的图表。
图35是表示实施例2所涉及的第一层叠体以及第二层叠体的波长350～450nm的范围中的光谱透过率的图表。
图36是表示实施例3所涉及的第一层叠体以及第二层叠体的波长350～450nm的范围中的光谱透过率的图表。
图37是表示实施例4所涉及的第一层叠体以及第二层叠体的波长350～450nm的范围中的光谱透过率的图表。
图38是表示实施例5所涉及的第一层叠体以及第二层叠体的波长350～450nm的范围中的光谱透过率的图表。
图39是表示实施例6所涉及的第一层叠体以及第二层叠体的波长350～450nm的范围中的光谱透过率的图表。
图40是表示实施例7所涉及的第一层叠体以及第二层叠体的波长350～450nm的范围中的光谱透过率的图表。
图41是表示实施例8所涉及的第一层叠体以及第二层叠体的波长350～450nm的范围中的光谱透过率的图表。
图42是表示实施例9所涉及的第一层叠体以及第二层叠体的波长350～450nm的范围中的光谱透过率的图表。
图43是表示实施例10所涉及的第一层叠体以及第二层叠体的波长350～450nm的范围中的光谱透过率的图表。
图44是表示实施例1所涉及的红外线截止滤波器的波长350～450nm的范围中的光谱透过率的图表。
图45是表示实施例2所涉及的红外线截止滤波器的波长350～450nm的范围中的光谱透过率的图表。
图46是表示实施例3所涉及的红外线截止滤波器的波长350～450nm的范围中的光谱透过率的图表。
图47是表示实施例4所涉及的红外线截止滤波器的波长350～450nm的范围中的光谱透过率的图表。
图48是表示实施例5所涉及的红外线截止滤波器的波长350～450nm的范围中的光谱透过率的图表。
图49是表示实施例6所涉及的红外线截止滤波器的波长350～450nm的范围中的光谱透过率的图表。
图50是表示实施例7所涉及的红外线截止滤波器的波长350～450nm的范围中的光谱透过率的图表。
图51是表示实施例8所涉及的红外线截止滤波器的波长350～450nm的范围中的光谱透过率的图表。
图52是表示实施例9所涉及的红外线截止滤波器的波长350～450nm的范围中的光谱透过率的图表。
图53是表示实施例10所涉及的红外线截止滤波器的波长350～450nm的范围中的光谱透过率的图表。
图54是表示TL84荧光灯的光强度光谱以及实施例1的红外线截止滤波器的光谱透过率的图表。
图55是表示TL84荧光灯的光强度光谱以及实施例8的红外线截止滤波器的光谱透过率的图表。
图56是表示由仅含紫外线吸收性物质的吸收膜和透明电介质基板构成的层叠体的光谱透过率的图表。
具体实施方式
以下参考附图来说明本发明的实施方式。另外，以下的说明涉及本发明的一例，本发明并不限定于此。
如图1所示那样，红外线截止滤波器1a具备近红外线反射膜20和吸收膜30。吸收膜30与近红外线反射膜20平行延伸。近红外线反射膜20以及吸收膜30具有下述(A)～(E)的特性。
(A)将波长600～800nm的范围内垂直入射到近红外线反射膜20的光的光谱透过率为70％时的波长定义为波长λH R(0°，70％)，且将波长600～800nm的范围内垂直入射到近红外线反射膜20的光的光谱透过率成为20％时的波长定义为波长λH R(0°，20％)，这时，垂直入射到近红外线反射膜20的光的光谱透过率在波长λH R(0°，70％)～波长λH R(0°，20％)的范围内单调减少，使得波长λH R(0°，70％)为700nm以上，并且波长λH R(0°，20％)为770nm以下且大于波长λH R(0°，70％)。
(B)将波长600～800nm的范围内以40°的入射角入射到近红外线反射膜20的光的光谱透过率为70％时的波长定义为波长λH R(40°，70％)，且将波长600～800nm的范围内以40°的入射角入射到近红外线反射膜20的光的光谱透过率为20％时的波长定义为波长λH R(40°，20％)，这时，以40°的入射角入射到近红外线反射膜20的光的光谱透过率在波长λH R(40°，70％)～波长λH R(40°，20％)的范围内单调减少，使得波长λH R(40°，70％)为650nm以上，并且波长λH R(40°，20％)为720nm以下且大于波长λH R(40°，70％)。
(C)以40°的入射角入射到吸收膜30的光的光谱透过率在波长600～800nm的范围在小于波长λH R(40°，20％)的波长λH A(40°，20％)为20％。
(D)垂直入射到吸收膜30的光的光谱透过率在波长λH R(0°，20％)下为15％以下，且以40°的入射角入射到吸收膜30的光的光谱透过率在波长λH R(40°，20％)下为15％以下。
(E)垂直入射到近红外线反射膜20的光的光谱透过率以及以40°的入射角入射到近红外线反射膜20的光的光谱透过率的450～600nm的波长范围内的平均值为75％以上，且垂直入射到吸收膜30的光的光谱透过率以及以40°的入射角入射到吸收膜30的光的光谱透过率的450～600nm的波长范围内的平均值为75％以上。
近红外线反射膜20由于具有上述(A)以及(B)的特性，因此针对以0°～40°的入射角入射到近红外线反射膜20的光的光谱透过率在波长650nm～770nm的范围内陡峭降低。垂直入射到近红外线反射膜20的光的光谱透过率以及以40°的入射角入射到近红外线反射膜20的光的光谱透过率例如在波长770～1100nm的范围内平均值为1％以下。由此红外线截止滤波器1a能有效地反射近红外线。从波长λH R(0°，70％)减去波长λH R(40°，70％)的差ΔλH R(70％)(＝λH R(0°，70％)-λH R(40°，70％))例如是40～60nm。另外，从波长λH R(0°，20％)减去波长λH R(40°，20％)的差ΔλH R(20％)(＝λH R(0°，20％)-λH R(40°，20％))例如是40～55nm。如此，若入射到近红外线反射膜20的光的入射角从0°变化到40°，则入射到近红外线反射膜20的光的透过率光谱移位到短波长侧。
通过吸收膜30具有上述(C)以及(D)的特性，即使对于红外线截止滤波器1a光的入射角以0°～40°的角度变化，特定的范围的波长600～700nm中的透过率光谱的变化也会变小。例如垂直入射到红外线截止滤波器1a的光的光谱透过率在波长600～700nm的范围为50％的波长与以40°的入射角入射到红外线截止滤波器的光的光谱透过率在波长600～700nm的范围内为50％的波长之差的绝对值|ΔλH(50％)|是10nm以下。另外，入射到吸收膜30的光的光谱透过率在入射到吸收膜30的光的入射角为0°～40°的范围内几乎没有变化。换言之，垂直入射到吸收膜30的光的光谱透过率和以40°的入射角入射到吸收膜30的光的光谱透过率实质相同。
通过近红外线反射膜20以及吸收膜30具有上述(E)的特性，红外线截止滤波器1a在波长450～600nm的范围内具有高的光谱透过率。垂直入射到近红外线反射膜20的光的光谱透过率以及以40°的入射角入射到近红外线反射膜20的光的光谱透过率的450～600nm的波长范围内的平均值期望85％以上，更期望90％以上。垂直入射到吸收膜30的光的光谱透过率以及以40°的入射角入射到吸收膜30的光的光谱透过率的450～600nm的波长范围内的平均值期望85％以上，更期望90％以上。
如图1所示那样，红外线截止滤波器1a例如还具备透明电介质基板10。在该情况下，近红外线反射膜20以及吸收膜30与透明电介质基板10的主面平行地延伸。透明电介质基板10能根据情况而省略。
如图1所示那样，在红外线截止滤波器1a中，近红外线反射膜20与透明电介质基板10的一方的主面接触。透明电介质基板10的材料例如期望具有针对高温高湿等环境的耐性以及卓越的耐化学药品性。特别在形成近红外线反射膜20的工序中透明电介质基板10被置于高温环境的情况下，透明电介质基板10需要对这样的高温环境有充分的耐性。透明电介质基板10的材料例如是硼硅酸玻璃等玻璃、聚烯烃系树脂、丙烯酸系树脂、聚酯纤维系树脂、芳纶系树脂、酰亚胺系树脂、酰胺系树脂、聚碳酸酯(PC)、乙酰基纤维素、聚氯乙烯、聚乙烯醇缩醛(PVA)或聚乙烯醇缩丁醛。透明电介质基板10的厚度例如是50～400μm。
近红外线反射膜20具有对可见光域的光示出高的透过率且对红外区域的光示出低的透过率的透过率光谱。换言之，近红外线反射膜20的透过率光谱在可见光域具有透过带且在红外区域具有红外线反射带，在透过带与红外线反射带之间存在过渡带。
近红外线反射膜20例如可以具有对波长400nm以下的光的低的透过率。例如垂直入射到近红外线反射膜20的光的波长350～380nm的范围中的光谱透过率的平均值为20％以下。在该情况下，在近红外线反射膜20的透过率光谱的可见光域、红外区域以及紫外区域中分别存在透过带、红外线反射带以及紫外线反射带。此外，在透过带与红外线反射带之间存在相对于波长的增加而透过率急速降低的过渡带，在紫外线反射带与透过带之间存在相对于波长的增加而透过率急速增加的过渡带。在该情况下，例如能抑制紫外线照射到吸收膜30所含的成分。
近红外线反射膜20例如通过在透明电介质基板10的一方的主面上层叠无机材料或有机材料的层而形成。近红外线反射膜20可以将1种类的材料层叠在透明电介质基板10的一方的主面而形成，也可以将2种类以上的材料从透明电介质基板10的一方的主面起交替层叠而形成。近红外线反射膜20例如可以将从SiO2、TiO2、Ta2O5、以及MgF等材料中选出的1种材料层叠在透明电介质基板10的一方的主面而形成。另外，近红外线反射膜20例如可以将从SiO2、TiO2、Ta2O5、以及MgF等材料选择的折射率不同的2种以上的材料从透明电介质基板10的一方的主面起交替层叠而形成。在该情况下，近红外线反射膜20的设计的自由度高，易于细致调整近红外线反射膜20的特性。由此，近红外线反射膜20能容易地发挥所期望的光学特性。另外，近红外线反射膜20例如可以分割成两个以上反射膜而形成。在该情况下，两个以上反射膜可以各自反射不同波段的光，也可以一部分波段的光在多个反射膜反射。例如第一反射膜主要反射近红外波段内的例如波长750～1100nm的范围内的比较短波长侧的光，第二反射膜主要反射上述波长范围内的比较长波长侧的光，在这样设计、制作的基础上将第一反射膜和第二反射膜的反射特性合成，由此能反射波长750～1100nm的范围内的波段的光，根据情况，还能设计以及制作近红外线反射膜20，使得还能反射400nm以下的波段的光。或者，只用第一反射膜以及第二反射膜中的仅任一反射膜的特性，例如会在应由反射膜遮蔽的波长750～1100nm的范围内出现透过率大于基线的范围，从而有时会产生泄漏光。为了减低或防止其，可以组合反射特性不同的反射膜。近红外线反射膜20的厚度例如是4～10μm。
近红外线反射膜20例如能用如下方法形成：(i)蒸镀法、溅射法、离子镀法以及离子辅助蒸镀(IAD)法等物理上的方法；(ii)化学气相蒸镀(CVD)法等化学上的方法；或(iii)溶胶凝胶法等湿式法。
近红外线反射膜20以及吸收膜30还具有下述(F)～(I)的特性。
(F)垂直入射到近红外线反射膜20的光的光谱透过率在波长λL R(0°，20％)～波长λL R(0°，70％)的范围单调增加，使得在波长350～450nm的范围内，该光谱透过率为20％时的波长λL R(0°，20％)为390nm以上且小于该光谱透过率为70％时的波长λL R(0°，70％)。
(G)以40°的入射角入射到近红外线反射膜20的光的光谱透过率在波长λL R(40°，20％)～波长λL R(40°，70％)的范围内单调增加，使得在波长350～450nm的范围内，该光谱透过率为20％时的波长λL R(40°，20％)为370nm以上且小于该光谱透过率为70％时的波长λL R(40°，70％)。
(H)以40°的入射角入射到吸收膜30的光的光谱透过率在波长λL A(40°，20％)～波长λL A(40°，50％)的范围单调增加，使得在波长350～450nm的范围内，该光谱透过率为20％时的波长λL A(40°，20％)为370nm以上且小于该光谱透过率为50％时的波长λL A(40°，50％)。
(I)在波长350～450nm的范围内，垂直入射到近红外线反射膜20的光的光谱透过率为50％时的波长λL R(0°，50％)下的以40°的入射角入射到吸收膜30的光的光谱透过率是60％以下。
通过吸收膜30具有上述(H)以及(I)的特性，即使对于红外线截止滤波器1a光的入射角以0°～40°的角度变化，特定的范围的波长350～450nm、特别是波长400nm附近的透过率光谱的变化也小。
在近红外线反射膜20以及吸收膜30具有(F)～(I)的特性的情况下，例如垂直入射到红外线截止滤波器1a的光的光谱透过率在波长350～450nm的范围内为50％的波长与以40°的入射角入射到红外线截止滤波器1a的光的光谱透过率在波长350～450nm的范围内为50％的波长之差的绝对值|ΔλL(50％)|是10nm以下。
近红外线反射膜20可以具有下述(J)的特性。
(J)具有如下那样的光谱：以40°的入射角入射到近红外线反射膜20的光的光谱透过率在波长400～450nm的范围具有与基线之差为10个点(point)以上的极小值，且与该极小值对应的半值宽度为10nm以上，在将该半值宽度定义为ΔλC时，在(400-ΔλC/2)～(450-ΔλC/2)nm的范围存在极大值。
若入射到红外线截止滤波器1a的光的入射角从0°增大到40°，则紫外线反射带与透过带之间的过渡带移位到短波长侧。由此，伴随入射到红外线截止滤波器1a的光的入射角的增加而透过红外线截止滤波器1a的短波长的光的光量易于增加。若近红外线反射膜20具有上述(J)的特性，就能将这样的短波长的光的光量的增加抵消。由此例如能提高从具备红外线截止滤波器1a的摄像装置得到的图像的颜色再现性或该图像的面内的颜色风格的均匀性。
在将红外线截止滤波器1a和给定的摄像元件一起使用的情况下，将入射角为0°而使入射光入射到红外线截止滤波器1a时的摄像元件的光谱灵敏度的比即B/G比设为1。这时，例如，入射角为40°而使入射光入射到红外线截止滤波器1a时的B/G比为0.97以上且1.03以下。
在入射到近红外线反射膜20的光的透过率光谱中，在透过带、反射带以及过渡带分别有时会出现被称作波纹的从基线突出的光谱。在将红外线截止滤波器1a用在数字摄像机等摄像装置的情况下，在对红外线截止滤波器1a入射来自荧光灯的光那样有明线光谱的光。在该情况下，在入射到近红外线反射膜20的光的透过率光谱中出现的波纹会影响到入射到红外线截止滤波器1a的光的透过率光谱。由此，期望该波纹不与明线光谱重合。若波纹和明线光谱重合，则来自荧光灯等光源的光入射到红外线截止滤波器1a的情况下透过红外线截止滤波器1a的光量与来自该光源以外的光源的光入射到红外线截止滤波器1a的情况相比，存在在特定范围的波长大幅不同的可能性。
例如，垂直入射到红外线截止滤波器1a的光的光谱透过率以及以40°的入射角入射到红外线截止滤波器1a的光的光谱透过率没有与出现在440nm附近、550nm附近以及610nm附近的TL84光源的明线光谱重叠的基线与极值之差为4个点以上且半值宽度为15nm的光谱。在该情况下，红外线截止滤波器1a由于没有与TL84光源的明线光谱重叠的波纹，因此能抑制由于光源改变而透过红外线截止滤波器1a的光量在特定的波长大幅变动。
如图1所示那样，例如吸收膜30与透明电介质基板10的另一方的主面接触。换言之，吸收膜30相对于透明电介质基板10形成在与近红外线反射膜20相反侧。例如涂布包含分散了在特定范围的波长(例如λH R(40°，70％)～λH R(0°，20％))有吸收峰值的物质(吸收物质)的粘合剂树脂的溶液，使该涂膜干燥以及硬化，来形成吸收膜30。用于形成吸收膜30的粘合剂树脂例如对波长400～1100nm的光具有85％以上的光谱透过率。另外，用于形成吸收膜30的粘合剂树脂例如对高温高湿等环境具有耐性。用于形成吸收膜30的粘合剂树脂例如是丙烯酸系树脂、聚苯乙烯系树脂、聚氨酯系树脂、氟树脂、PC树脂、聚酰亚胺系树脂、聚酰胺系树脂、聚烯烃系树脂、硅酮系树脂或环氧系树脂。这些树脂可以由一种单体、一种低聚物或一种聚合物形成，也可以通过组合两种以上的单体、两种以上的低聚物或两种以上的聚合物来形成。吸收膜30的厚度例如是1～200μm。
在吸收膜30与透明电介质基板10接触的情况下，从抑制吸收膜30与透明电介质基板10的界面中的反射的观点出发，期望用于形成吸收膜30的粘合剂树脂的折射率na与透明电介质基板10的材料的折射率ns之差小。例如|na-ns|为0.1以下。
包含分散了吸收物质的粘合剂树脂的溶液例如用旋转涂层、浸渍、凹版涂层、喷雾涂层、模压涂层、刮棒涂层以及喷墨等方法涂布。该溶液例如在甲基乙基酮、甲苯、环己烷、环己酮以及四氢呋喃等溶媒中使吸收物质和粘合剂树脂混合来调制。另外，可以在该溶液的调制中混合使用2种类以上的溶媒。
吸收物质例如是(i)磷酸酯、次膦酸以及膦酸等含磷化合物或硫酸以及磺酸等含硫化合物配位到铜(Cu)以及钴(Co)等金属的离子的金属络化物；(ii)氧化铟锡(ITO)以及氧化锑锡(ATO)等金属氧化物；或者(iii)偶氮系的有机色素、酞菁系的有机色素、萘酞菁系的有机色素、二亚铵系的有机色素、氰蓝等次甲基系的有机色素、蒽醌系的有机色素以及方酸系的有机色素等有机色素。这些物质可以单独使用，也可以混合使用这些物质当中2种类以上的物质。
吸收膜30可以包含紫外线吸收性物质。在该情况下，例如在包含分散了吸收物质的粘合剂树脂的溶液中添加紫外线吸收性物质。另外，可以将包含分散了吸收物质的粘合剂树脂的溶液和包含紫外线吸收性物质的溶液混合。紫外线吸收性物质例如是二甲苯酮系化合物、苯并三唑系化合物或苯甲酸系化合物。这些化合物可以单独使用，也可以使用这些化合物当中2种类以上的组合。另外，可以分开形成包含紫外线吸收性物质的膜和包含吸收物质的膜。在紫外线吸收性物质和吸收物质混合存在于相同层的情况下，产生物质间的相互作用，使吸收能力和气候耐性降低，或招致色素的劣化。为此，通过分开形成包含紫外线吸收性物质的膜和包含吸收物质的膜，能避免这样的不良状况。
将使在可见光域充分透明的PVB等树脂含有紫外线吸收性物质的涂布液涂布到在波长400～1100nm下具有90％以上的平均光谱透过率的透明电介质基板，并使其干燥或硬化，来制作紫外线吸收膜与透明电介质基板的层叠体。能通过测定该层叠体的透过率光谱来评价包含紫外线吸收性物质的层叠体的特性。包含紫外线吸收性物质的层叠体期望具有以下的(K)以及(L)的特性。
(K)在波长450～1100nm的范围内，平均的光谱透过率为85％以上。
(L)波长390nm下的光谱透过率小于波长420nm下的光谱透过率。
在包含分散了吸收物质的粘合剂树脂的溶液中，根据吸收物质、粘合剂树脂以及溶媒的组合而进一步添加分散剂。由此能防止吸收物质在溶液中凝聚。作为分散剂，能使用：(i)十二烷基苯磺酸盐等负离子系的表面活性剂；(ii)聚氧乙烯烷基醚硫酸酯以及聚氧乙烯烷基醚磷酸盐等聚氧乙烯烷基醚、和聚丙烯酸盐等非离子系的表面活性剂；(iii)硅酮系表面活性剂；或者(iv)氟系表面活性剂。这些分散剂可以单独使用，也可以使用这些分散剂当中的2种类以上的组合。这些表面活性剂还能起到能降低包含分散了吸收物质的粘合剂树脂的溶液的粘度的作用、提高对该溶液的涂布面的润湿性的作用以及使涂膜的均化容易的作用。由此能防止在包含分散了吸收物质的粘合剂树脂的溶液的涂膜产生缺点。包含分散了吸收物质的粘合剂树脂的溶液中的分散剂的添加量例如是该溶液的固体部分的0.001～5重量％。
在包含分散了吸收物质的粘合剂树脂的溶液中，根据吸收物质、粘合剂树脂以及溶媒的组合而进一步添加氧化防止剂。由此能抑制吸收物质或粘合剂树脂的劣化。作为氧化防止剂，能例示酚系的氧化防止剂、受阻酚系的氧化防止剂、胺系的氧化防止剂、受阻胺系的氧化防止剂、硫系化合物类、含硝基化合物类以及亚磷酸。这些氧化防止剂能单独使用，也可以使用这些氧化防止剂当中2种类以上的组合。包含粘合剂树脂的溶液中的氧化防止剂的添加量例如是该溶液的固体部分的0.001～5重量％。
吸收膜30可以通过层叠多个膜来形成。在该情况下，一个膜中所含的吸收物质以及其他膜中所含的吸收物质可以相同，也可以不同。
为了钝化，可以在吸收膜30上进一步形成由无机材料或树脂形成的保护膜。由此能防止在高温或高湿等环境下吸收膜30的粘合剂树脂以及吸收物质的劣化。
对本发明的其他实施方式所涉及的红外线截止滤波器1b～1h进行说明。红外线截止滤波器1b～1e、1h除了有特别说明的情况以外，都与红外线截止滤波器1a同样构成。对与红外线截止滤波器1a的构成要素相同或对应的红外线截止滤波器1b～1e、1h的构成要素标注相同的附图标记并省略详细的说明。与红外线截止滤波器1a相关的说明只要在技术上没有矛盾，就还适用于红外线截止滤波器1b～1e、1h。红外线截止滤波器1f以及1g除了没有透明电介质基板10以外，其他都与红外线截止滤波器1a同样构成，对与红外线截止滤波器1a的构成要素相同或对应的红外线截止滤波器1f以及1g的构成要素标注相同附图标记，省略详细的说明。
如图2所示那样，红外线截止滤波器1b的吸收膜30与近红外线反射膜20的与透明电介质基板10接触的主面的相反侧的主面接触。
如图3所示那样，红外线截止滤波器1c具备一对近红外线反射膜20，一对近红外线反射膜20包含第一反射膜201和第二反射膜202。第一反射膜201和第二反射膜202与透明电介质基板10的两主面接触而形成。在形成单一的近红外线反射膜20而仅与透明电介质基板10的一方的主面接触的情况下，存在因在近红外线反射膜20产生的应力而在透明电介质基板10出现翘曲的可能性。但若一对反射膜、例如第一反射膜201和第二反射膜202与透明电介质基板10的两主面接触来形成近红外线反射膜20，就能通过在第一反射膜201和第二反射膜202产生的应力的合成防止在透明电介质基板10出现的翘曲。特别是，若在单一的近红外线反射膜20层叠大量(例如16层以上)的层，在近红外线反射膜20产生的应力就会变大，因此期望将一对近红外线反射膜20形成为与透明电介质基板10的两主面接触。
如图4所示那样，红外线截止滤波器1d的近红外线反射膜20与吸收膜30的与透明电介质基板10接触的主面的相反侧的主面接触。
如图5所示那样，红外线截止滤波器1e的吸收膜30包含第一吸收膜301以及第二吸收膜302。第二吸收膜302与透明电介质基板10接触。第一吸收膜301与第二吸收膜302的与透明电介质基板10接触的主面的相反侧的主面接触。第一吸收膜301包含第一吸收物质，第二吸收膜302包含第二吸收物质。第二吸收物质典型地是与第一吸收物质不同的吸收物质。由此易于对吸收膜30赋予所期望的特性。第一吸收物质例如是有机色素。第二吸收物质例如可以是磷酸酯、次膦酸以及膦酸等含磷化合物与Cu以及Co等金属元素的络化物。第二吸收膜302的厚度例如大于第一吸收膜301的厚度。第一吸收膜301的厚度例如是1μm～3μm，第二吸收膜302的厚度例如是30μm～150μm。
如图6所示那样，红外线截止滤波器1f没有透明电介质基板10。另外，红外线截止滤波器1f的吸收膜30包含第一吸收膜301以及第二吸收膜302。第一吸收膜301包含第一吸收物质，第二吸收膜302包含第二吸收物质。第二吸收物质典型地是与第一吸收物质不同的吸收物质。由此易于对吸收膜30赋予所期望的特性。第一吸收物质例如是有机色素。第二吸收物质例如是磷酸酯、次膦酸以及膦酸等含磷化合物与Cu以及Co等金属元素的络化物。在红外线截止滤波器1f的厚度方向上，在第一吸收膜301与第二吸收膜302之间形成SiO2膜40。SiO2膜40的两面与第一吸收膜301以及第二吸收膜302接触。SiO2膜40例如用蒸镀法等方法形成。红外线截止滤波器1f的近红外线反射膜20与第二吸收膜302接触。第一吸收膜301的厚度例如是1μm～3μm，第二吸收膜302的厚度例如是50μm～150μm，SiO2膜40的厚度例如是0.5μm～3μm。
如图7所示那样，红外线截止滤波器1g具备：与红外线截止滤波器1f同样包含第一吸收膜301以及第二吸收膜302d的膜30；和SiO2膜40。红外线截止滤波器1g的近红外线反射膜20包含第一反射膜201以及第二反射膜202。第一反射膜201以及第二反射膜202具有相互不同的反射特性。近红外线反射膜20通过第一反射膜201与第二反射膜202的组合而发挥所期望的近红外线反射功能。第一反射膜201例如与第二吸收膜302接触，第二反射膜202例如与第一吸收膜301接触。第一反射膜201的厚度例如是2μm～4μm，第二反射膜202的厚度例如是2μm～4μm。
如图8所示那样，可以在红外线截止滤波器1h的吸收膜30上重叠紫外线吸收性物质含有膜305。紫外线吸收性物质含有膜305含有二甲苯酮系化合物、苯并三唑系化合物、或苯甲酸系化合物等紫外线吸收性物质。例如配置成与吸收膜30的与透明电介质基板10接触的主面的相反侧的主面接触。紫外线吸收性物质含有膜305的厚度例如是1μm～10μm。在该情况下，红外线截止滤波器1h易于发挥所期望的紫外线吸收功能。
接下来说明本发明的实施方式所涉及的摄像光学系统100。如图9所示那样，摄像光学系统100例如具备红外线截止滤波器1a。摄像光学系统100例如还具备摄像透镜3。摄像光学系统100例如在数字摄像机等摄像装置中配置在摄像元件2的前方。摄像元件2例如是CCD或CMOS等固体摄像元件。如图9所示那样，来自被摄体的光被摄像透镜3聚光，在通过红外线截止滤波器1a截止了红外区域的光后，入射到摄像元件2。由此，能得到颜色再现性高的良好的图像。此外，即使在具备摄像光学系统100的摄像装置的视角大，对红外线截止滤波器1a以例如40°的入射角入射的光被引导到摄像元件2的情况下，也得到的图像的画质也高。特别能在得到的图像的中心部以及周边部均匀保持颜色风格。另外，摄像光学系统100也可以取代具备红外线截止滤波器1a而具备红外线截止滤波器1b～1h的任意一者。
【实施例】
通过实施例来更详细说明本发明。另外，本发明并不限定于以下的实施例。
<实施例1>
(第一层叠体)
在具有0.21mm的厚度的由硼硅酸玻璃做成的透明玻璃基板(“SCHOTT”公司制、产品名：D263)的一方的主面通过蒸镀法形成交替层叠SiO2膜和TiO2膜的近红外线反射膜R1。如此制作实施例1所涉及的第一层叠体。实施例1所涉及的第一层叠体的近红外线反射膜R1的厚度是5μm。另外，实施例1所涉及的第一层叠体的近红外线反射膜R1包含17层的SiO2膜和17层的TiO2膜。使用分光光度计(“日本分光”公司制、型号：V-670)来测定实施例1所涉及的第一层叠体的波长350～1100nm下的光谱透过率。在该测定中，使光以0°、30°、以及40°的入射角入射到实施例1所涉及的第一层叠体。将得到的透过率光谱在图10示出。实施例1所涉及的第一层叠体中所用的透明玻璃基板(D263)在波长350nm～1100nm有高的光谱透过率，将实施例1所涉及的第一层叠体的透过率光谱视作近红外线反射膜R1的透过率光谱也没关系。这也适用于以下的其他实施例以及比较例。
虽然以40°的入射角入射到实施例1所涉及的第一层叠体的光的透过率光谱中，在波长490nm附近出现波纹，不管在光的入射角是哪一者的情况下，450～600nm的波长范围内的光谱透过率的平均值都超过80％。另一方面，在入射角为40°时的实施例1所涉及的第一层叠体的透过率光谱中，在波长约410nm，光谱透过率具有约69％的极小值。在该透过率光谱中，在将光谱透过率95％的线假定为基线的情况下，包含该极小值向下成为凸的部分具有从基线降低了20个点以上的光谱透过率，具有约16nm的半值全宽。
将在向第一层叠体的入射角为X°时得到的透过率光谱中在波长600～800nm的范围内透过率为Y％的波长作为特定波长，定义为λH R(X°，Y％)。将实施例1所涉及的第一层叠体的透过率光谱中的波长600～800nm的范围的各特定波长在表1示出。另外，定义为ΔλH R(70％)＝λH R(0°，70％)-λH R(40°，70％)、ΔλH R(50％)＝λH R(0°，50％)-λH R(40°，50％)以及ΔλH R(20％)＝λH R(0°，20％)-λH R(40°，20％)。将实施例1所涉及的第一层叠体中的ΔλH R(70％)、ΔλH R(50％)以及ΔλH R(20％)在表1示出。
将在向第一层叠体的入射角为W°时得到的透过率光谱中在波长350～450nm的范围内透过率为Z％的波长同样作为特定波长，定义为λL R(W°，Z％)。将实施例1所涉及的第一层叠体的透过率光谱中的波长350～450nm的范围的各特定波长在表1示出。另外，定义为ΔλL R(70％)＝λL R(0°，70％)-λL R(40°，70％)、ΔλL R(50％)＝λL R(0°，50％)-λL R(40°，50％)、以及ΔλL R(20％)＝λL R(0°，20％)-λL R(40°，20％)。将实施例1所涉及的第一层叠体中的ΔλL R(70％)、ΔλL R(50％)以及ΔλL R(20％)在表1示出。
(第二层叠体)
将在波长700～750nm有吸收峰值、可见光域的吸收少、可溶于甲基乙基酮(MEK)的有机色素(从氰蓝系、方酸系、酞菁系、以及二亚铵系的有机色素选择的1种类以上的有机色素)组合，作为溶媒而使用MEK，添加以固体形态部分比为99重量％的聚乙烯醇缩丁醛(PVB)，之后搅拌2小时，得到涂层液a1。决定各有机色素的含有量和配合比，以使得涂膜化并测定分光特性时得到图10的第二层叠体的分光光谱特性。
通过将该涂层液a1用旋涂涂布到具有0.21mm的厚度的由硼硅酸玻璃做成的透明玻璃基板(“SCHOTT”公司制、产品名：D263)的一方的主面，来形成涂膜。将该涂膜暴露在140℃的环境中0.5小时，使涂膜干燥以及硬化，形成吸收膜A1。如此制作实施例1所涉及的第二层叠体。吸收膜A1的厚度是3μm。使用分光光度计(“日本分光”公司制、型号：V-670)测定实施例1所涉及的第二层叠体的波长350～1100nm下的光谱透过率。在该测定中，使光以0°、30°、以及40°的入射角入射到实施例1所涉及的第二层叠体，但不管哪个入射角都能得到实质相同的透过率光谱。将入射角为0°时得到的透过率光谱在图10示出。如图10所示那样，450～600nm的波长范围内的实施例1所涉及的第二层叠体的光谱透过率的平均值超过75％。实施例1所涉及的第二层叠体在波长约700nm以及波长约760nm具有吸收峰值。此外，实施例1所涉及的第二层叠体在波长约410nm具有吸收峰值。实施例1所涉及的第二层叠体中所用的透明玻璃基板(D263)在波长350nm～1100nm具有高的光谱透过率，将实施例2所涉及的第二层叠体的透过率光谱视作吸收膜A1的透过率光谱也没关系。这也适用于以下的其他实施例以及比较例。
将在向第二层叠体的入射角为X°时得到的透过率光谱中在波长600～800nm的范围内透过率为Y％的波长作为特定波长，定义为λH A(X°，Y％)。将实施例1所涉及的第二层叠体的透过率光谱中的波长600～800nm的范围的各特定波长在表1示出。将实施例1所涉及的第二层叠体的透过率光谱的波长711nm(＝λH R(0°，70％))、波长714nm(＝λH R(0°，50％))、波长721nm(＝λH R(0°，20％))、波长655nm(＝λH R(40°，70％))、波长666nm(＝λH R(40°，50％))、波长677nm(＝λH R(40°，20％))、波长413nm(＝λL R(0°，70％))、波长411nm(＝λL R(0°，50％))、波长403nm(＝λL R(0°，20％))、波长410nm(＝λL R(40°，70％))、波长393nm(＝λL R(40°，50％))以及波长384nm(＝λL R(40°，20％))下的透过率在表1示出。
(红外线截止滤波器)
在实施例1所涉及的第一层叠体的透明玻璃基板的未形成近红外线反射膜R1的主面与第二层叠体的制作同样地形成吸收膜A1。如此制作实施例1所涉及的红外线截止滤波器。使用分光光度计(“日本分光”公司制、型号：V-670)测定实施例1所涉及的红外线截止滤波器的波长350～1100nm下的光谱透过率。在该测定中，使光以0°、30°、以及40°的入射角入射到实施例1所涉及的红外线截止滤波器。将得到的透过率光谱在图11示出。
将在向红外线截止滤波器的入射角为X°时得到的透过率光谱中在波长600～800nm的范围内透过率为Y％的波长作为特定波长，定义为λH(X°，Y％)。如表4所示那样，波长λH(0°，70％)＝614nm、波长λH(40°，70％)＝612nm，若将它们的差的绝对值定义为|ΔλH(70％)|，则|ΔλH(70％)|＝2nm。波长λH(0°，50％)＝638nm、波长λH(40°，50％)＝635nm，若将它们的差的绝对值定义为|ΔλH(50％)|，则|ΔλH(50％)|＝3nm。波长λH(0°，20％)＝672nm、波长λH(40°，20％)＝658nm，若将它们的差的绝对值定义为|ΔλH(20％)|，则|ΔλH(20％)|＝14nm。
<实施例2>
(第一层叠体)
在具有0.21mm的厚度的由硼硅酸玻璃制作的透明玻璃基板(“SCHOTT”公司制、产品名：D263)的一方的主面用蒸镀法形成交替层叠SiO2膜和TiO2膜的与实施例1记载的近红外线反射膜R1不同的近红外线反射膜R2。如此制作实施例2所涉及的第一层叠体。实施例2所涉及的第一层叠体的近红外线反射膜R2的厚度为5μm。另外，实施例2所涉及的第一层叠体的近红外线反射膜R2包含17层的SiO2膜和17层的TiO2膜。与实施例1同样地测定实施例2所涉及的第一层叠体的波长350～1100nm下的光谱透过率。将得到的透过率光谱在图12示出。
在与实施例2所涉及的第一层叠体相关的透过率光谱中，不管在光的入射角是哪一者的情况下，450～600nm的波长范围内的光谱透过率的平均值都超过80％。将实施例2所涉及的第一层叠体的透过率光谱中的波长600～800nm的范围的各特定波长、和ΔλH R(70％)、ΔλH R(50％)以及ΔλH R(20％)在表1示出。另外，将实施例2所涉及的第一层叠体的透过率光谱中的波长350～450nm的范围的各特定波长、和ΔλL R(70％)、ΔλL R(50％)、以及ΔλL R(20％)在表1示出。
(第二层叠体)
将由在波长700～750nm有吸收峰值、可见光域的吸收少、可溶于MEK的有机色素构成、与实施例1中使用的有机色素的组合不同的吸收性物质组合，作为溶媒而使用MEK，以固体形态部分比添加99重量％的PVB，之后搅拌2小时，得到涂层液a2。决定有机色素的含有量和配合比，使得涂膜化来测定分光特性时能得到图12的第二层叠体的分光光谱特性。
将涂层液a2通过旋涂涂布在具有0.21mm的厚度的由硼硅酸玻璃做成的透明玻璃基板(“SCHOTT”公司制、产品名：D263)的一方的主面，来形成涂膜。将该涂膜在140℃的环境下暴露0.5小时，使涂膜干燥以及硬化来形成吸收膜A2。如此制作实施例2所涉及的第二层叠体。吸收膜A2的厚度是3μm。与实施例1同样地测定实施例2所涉及的第二层叠体的波长350～1100nm下的光谱透过率。在该测定中，使光以0°、30°、以及40°的入射角入射到实施例2所涉及的第二层叠体，不管哪个入射角都能得到实质相同的透过率光谱。将入射角为0°时得到的透过率光谱在图12示出。如图12所示那样，450～600nm的波长范围内的实施例2所涉及的第二层叠体的光谱透过率的平均值超过75％。实施例2所涉及的第二层叠体在波长约710nm具有吸收峰值。此外，实施例2所涉及的第二层叠体在波长约420nm具有吸收峰值。
将在向第二层叠体的入射角为W°时得到的透过率光谱中在波长350～450nm的范围内透过率为Z％的波长同样地作为特定波长，定义为λL A(W°，Z％)。将实施例2所涉及的第二层叠体的透过率光谱中的波长600～800nm的范围的各特定波长以及λL A(0°，70％)在表1示出。将实施例2所涉及的第二层叠体的透过率光谱的波长715nm(＝λH R(0°，70％))、波长720nm(＝λH R(0°，50％))、波长731nm(＝λH R(0°，20％))、波长658nm(＝λH R(40°，70％))、波长670nm(＝λH R(40°，50％))、波长684nm(＝λH R(40°，20％))、波长406nm(＝λL R(0°，70％))、波长405nm(＝λL R(0°，50％))、波长402nm(＝λL R(0°，20％))、波长389nm(＝λL R(40°，70％))、波长387nm(＝λL R(40°，50％))以及波长385nm(＝λL R(40°，20％))下的透过率在表1示出。
(红外线截止滤波器)
在实施例2所涉及的第一层叠体的透明玻璃基板的未形成近红外线反射膜R2的主面与第二层叠体同样地形成吸收膜A2。与实施例1同样地测定实施例2所涉及的红外线截止滤波器的波长350～1100nm下的光谱透过率。将得到的透过率光谱在图13示出。
如表4所示那样，在实施例2所涉及的红外线截止滤波器的透过率光谱中，波长λH(0°，70％)＝621nm、波长λH(40°，70％)＝618nm，它们的差的绝对值|ΔλH(70％)|＝3nm。波长λH(0°，50％)＝644nm、波长λH(40°，50％)＝640nm，它们的差的绝对值|ΔλH(50％)|＝4nm。波长λH(0°，20％)＝676nm、波长λH(40°，20％)＝663nm，它们的差的绝对值|ΔλH(20％)|＝13nm。
<实施例3>
(第一层叠体)
在具有0.21mm的厚度的由硼硅酸玻璃做成的透明玻璃基板的一方的主面通过蒸镀法形成交替层叠SiO2膜和TiO2膜的与实施例1以及2记载的近红外线反射膜R1以及R2不同的近红外线反射膜R3。如此制作实施例3所涉及的第一层叠体。实施例3所涉及的第一层叠体的近红外线反射膜R3的厚度是6μm。另外，实施例3所涉及的第一层叠体的近红外线反射膜R3包含20层的SiO2膜和20层的TiO2膜。与实施例1同样地测定实施例3所涉及的第一层叠体的波长350～1100nm下的光谱透过率。将得到的透过率光谱在图14示出。
在实施例3所涉及的第一层叠体中，不管在光的入射角是哪一者的情况下，450～600nm的波长范围内的光谱透过率的平均值都超过80％。将实施例3所涉及的第一层叠体的透过率光谱中的波长600～800nm的范围的各特定波长、和ΔλH R(70％)、ΔλH R(50％)以及ΔλH R(20％)在表1示出。另外，将实施例3所涉及的第一层叠体的透过率光谱中的波长350～450nm的范围的各特定波长、和ΔλL R(70％)、ΔλL R(50％)以及ΔλL R(20％)在表1示出。
(第二层叠体)
在具有0.21mm的厚度的由硼硅酸玻璃做成的透明玻璃基板(“SCHOTT”公司制、产品名：D263)的一方的主面涂布包含苯基膦酸铜微粒子的涂层液b1，使涂膜干燥以及硬化，来形成吸收膜B1(第二吸收膜)。
涂层液b1如以下那样调制。将醋酸铜一水和物1.1g和四氢呋喃(THF)60g混合，并搅拌3小时，得到醋酸铜溶液。接下来，在得到的醋酸铜溶液中加进2.3g的PLYSURF A208F(“第一工業製薬”公司制)，并搅拌30分钟，得到b11液。另外，在苯基膦酸(“東京化成工業”股份有限公司制)0.6g中加进THF10g并搅拌30分钟，得到b12液。接下来，一边搅拌b11液一边在b11液中加进b12液，在室温下搅拌1分钟。接下来，在该溶液中加进甲苯45g后，在室温下搅拌1分钟，得到b13液。将该b13液放入烧瓶，一边在油浴槽(“東京理化器械”公司制、型号：OSB-2100)进行加温，一边用旋转脱水器(“東京理化器械”公司制、型号：N-1110SF)进行25分钟脱溶媒处理。油浴槽的设定温度调整到120℃。之后，从烧瓶中取出脱溶媒处理后的溶液。在取出的溶液中添加4.4g的硅酮树脂(“信越化学工業”公司制、产品名：KR-300)，在室温下搅拌30分钟，得到涂层液b1。
将得到的涂层液b1在透明玻璃基板的一方的主面通过模压涂层进行涂布，接下来将具有涂层液b1的未干燥的涂膜的透明玻璃基板放入烤箱，以85℃下3小时、接下来125℃下3小时、接下来150℃下1小时、接下来170℃下3小时的条件对涂膜进行加热处理，使涂膜硬化，形成吸收膜B1(第二吸收膜)。第二吸收膜即吸收膜B1的厚度是50μm。接下来，在第二吸收膜即吸收膜B1上将实施例2中使用的涂层液a2通过旋涂进行涂布，形成涂膜。将该涂膜在140℃的环境下暴露0.5小时，使涂膜干燥以及硬化，形成吸收膜A2(第一吸收膜)。吸收膜A2的厚度是3μm。如此制作实施例3所涉及的第二层叠体。即，实施例3所涉及的第二层叠体的吸收膜包含厚度50μm的吸收膜B1(第二吸收膜)以及厚度3μm的吸收膜A2(第一吸收膜)。
与实施例1同样地测定实施例3所涉及的第二层叠体的波长350～1100nm下的光谱透过率。在该测定中，使光以0°、30°、以及40°的入射角入射到实施例3所涉及的第二层叠体，但不管哪一者的入射角都能得到实质相同的透过率光谱。将入射角为0°时得到的透过率光谱在图14示出。如图14所示那样，450～600nm的波长范围内的实施例3所涉及的第二层叠体的光谱透过率的平均值超过75％。实施例3所涉及的第二层叠体的透过率光谱具有达到波长约700～约770nm的范围的大范围的吸收峰值。另外，实施例3所涉及的第二层叠体在波长约410nm具有吸收峰值。
将实施例3所涉及的第二层叠体的透过率光谱中的波长600～800nm的范围的各特定波长以及实施例3所涉及的第二层叠体的透过率光谱中的波长350～450nm的范围的各特定波长在表1示出。将实施例3所涉及的第二层叠体的透过率光谱的波长727nm(＝λH R(0°，70％))、波长738nm(＝λH R(0°，50％))、波长766nm(＝λH R(0°，20％))、波长672nm(＝λH R(40°，70％))、波长685nm(＝λH R(40°，50％))、波长717nm(＝λH R(40°，20％))、波长406nm(＝λL R(0°，70％))、波长405nm(＝λL R(0°，50％))、波长402nm(＝λL R(0°，20％))、波长389nm(＝λL R(40°，70％))、波长387nm(＝λL R(40°，50％))以及波长385nm(＝λL R(40°，20％))下的透过率在表1示出。
(红外线截止滤波器)
在实施例3所涉及的第一层叠体的透明玻璃基板的未形成近红外线反射膜的主面与第二层叠体同样地形成由吸收膜A2(第一吸收膜)以及吸收膜B1(第二吸收膜)构成的吸收膜。与实施例1同样地测定实施例3所涉及的红外线截止滤波器的波长350～1100nm下的光谱透过率。将得到的透过率光谱在图15示出。
如表4所示那样，在实施例3所涉及的红外线截止滤波器的透过率光谱中，波长λH(0°，70％)＝612nm、波长λH(40°，70％)＝607nm，它们的差的绝对值|ΔλH(70％)|＝5nm。波长λH(0°，50％)＝635nm、波长λH(40°，50％)＝632nm，它们的差的绝对值|ΔλH(50％)|＝3nm。波长λH(0°，20％)＝669nm、波长λH(40°，20％)＝661nm，它们的差的绝对值|ΔλH(20％)|＝8nm。
<实施例4>
(第一层叠体)
在具有0.21mm的厚度的由硼硅酸玻璃做成的透明玻璃基板(“SCHOTT”公司制、产品名：D263)的一方的主面通过蒸镀法形成交替层叠SiO2膜和TiO2膜的与实施例2所涉及的近红外线反射膜相同的近红外线反射膜R2。如此制作实施例4所涉及的第一层叠体。与实施例1同样地测定实施例4所涉及的第一层叠体的波长350～1100nm下的光谱透过率。将得到的透过率光谱在图16示出。与实施例4所涉及的第一层叠体相关的透过率光谱和与实施例2所涉及的第一层叠体相关的透过率光谱相同。
(第二层叠体)
将吸收性物质和由可见光域的吸收少、可溶于MEK(甲基乙基酮)的二甲苯酮系紫外线吸收性物质构成的紫外线吸收性物质组合，其中，该吸收性物质由在波长700～750nm有吸收峰值、可见光域的吸收少且可溶于MEK(甲基乙基酮)的与实施例2的吸收膜中所含的有机色素的组合相同的有机色素的组合构成，作为溶媒而使用MEK，以固体形态部分比添加99重量％的PVB，在调和后搅拌2小时，得到涂层液a3。为了涂层液a3的调制而用的二甲苯酮系紫外线吸收性物质具有如下特性：使聚乙烯醇缩丁醛仅内含其而制作出的紫外线吸收膜的光谱透过率在波长350～450nm的范围内从10％以下增加到70％以上。将该紫外线吸收膜的透过率光谱在图56示出。
决定涂层液a3中的有机色素以及二甲苯酮系紫外线吸收性物质的含有量以及配合比，使得在通过涂膜化来测定分光特性时能得到图16的第二层叠体的分光光谱特性。将该涂层液a3通过旋涂涂布在具有0.21mm的厚度的由硼硅酸玻璃做成的透明玻璃基板(“SCHOTT”公司制、产品名：D263)的一方的主面，形成涂膜。将该涂膜在140℃的环境暴露0.5小时，使涂膜干燥以及硬化，形成吸收膜A3。如此制作实施例4所涉及的第二层叠体。吸收膜A3的厚度是3μm。
与实施例1同样地测定实施例4所涉及的第二层叠体的波长350～1100nm下的光谱透过率。在该测定中，使光以0°、30°、以及40°的入射角入射到实施例4所涉及的第二层叠体，但哪一者的入射角都能得到实质相同的透过率光谱。将入射角为0°时得到的透过率光谱在图16示出。如图16所示那样，450～600nm的波长范围内的实施例4所涉及的第二层叠体的光谱透过率的平均值超过75％。实施例4所涉及的第二层叠体的透过率光谱在波长约710nm有吸收峰值。实施例4所涉及的第二层叠体的透过率光谱具有在波长350～450nm的范围内光谱透过率从70％降低到10％以下的特性。
将实施例4所涉及的第二层叠体的透过率光谱中的波长600～800nm的范围的各特定波长以及实施例4所涉及的第二层叠体的透过率光谱中的波长350～450nm的范围的各特定波长在表1示出。将实施例4所涉及的第二层叠体的透过率光谱的波长715nm(＝λH R(0°，70％))、波长720nm(＝λH R(0°，50％))、波长731nm(＝λH R(0°，20％))、波长658nm(＝λH R(40°，70％))、波长670nm(＝λH R(40°，50％))、波长684nm(＝λH R(40°，20％))、波长406nm(＝λL R(0°，70％))、波长405nm(＝λL R(0°，50％))、波长402nm(＝λL R(0°，20％))、波长389nm(＝λL R(40°，70％))、波长387nm(＝λL R(40°，50％))以及波长385nm(＝λL R(40°，20％))下的透过率在表1示出。
(红外线截止滤波器)
在实施例4所涉及的第一层叠体的透明玻璃基板的未形成近红外线反射膜R2的主面与第二层叠体同样地形成吸收膜A3，得到实施例4所涉及的红外线截止滤波器。与实施例1同样地测定实施例4所涉及的红外线截止滤波器的波长350～1100nm下的光谱透过率。将得到的透过率光谱在图17示出。
如表4所示那样，在实施例4所涉及的红外线截止滤波器的透过率光谱中，波长λH(0°，70％)＝621nm、波长λH(40°，70％)＝620nm，它们的差的绝对值|ΔλH(70％)|＝1nm。波长λH(0°，50％)＝643nm、波长λH(40°，50％)＝642nm，它们的差的绝对值|ΔλH(50％)|＝1nm。波长λH(0°，20％)＝676nm、波长λH(40°，20％)＝663nm，它们的差的绝对值|ΔλH(20％)|＝13nm。将在向红外线截止滤波器的入射角为W°时得到的透过率光谱中在波长350～450nm的范围内透过率为Z％的波长定义为λL(W°，Z％)。如表4所示那样，若波长λL(0°，70％)＝426nm、波长λL(40°，70％)＝433nm，它们的差的绝对值|ΔλL(70％)|，则|ΔλL(70％)|＝7nm。若波长λL(0°，50％)＝409nm、波长λL(40°，50％)＝408nm，它们的差的绝对值|ΔλL(50％)|，则|ΔλL(50％)|＝1nm。若波长λL(0°，20％)＝404nm、波长λL(40°，20％)＝398nm，它们的差的绝对值|ΔλL(20％)|，则|ΔλL(20％)|＝6nm。
<实施例5>
(第一层叠体)
在具有0.21mm的厚度的由硼硅酸玻璃做成的透明玻璃基板(“SCHOTT”公司制、产品名：D263)的一方的主面通过蒸镀法形成交替层叠SiO2膜和TiO2膜的与实施例1～4记载的近红外线反射膜R1～R3不同的近红外线反射膜R4。如此制作实施例5所涉及的第一层叠体。实施例5所涉及的第一层叠体的近红外线反射膜的厚度是6μm。另外，实施例5所涉及的第一层叠体的近红外线反射膜R4包含20层的SiO2膜和20层的TiO2膜。与实施例1同样地测定实施例5所涉及的第一层叠体的波长350～1100nm下的光谱透过率。将得到的透过率光谱在图18示出。
在与实施例5所涉及的第一层叠体相关的透过率光谱中，不管光的入射角是哪一者的情况下，450～600nm的波长范围内的光谱透过率的平均值都超过80％。将实施例5所涉及的第一层叠体的透过率光谱中的波长600～800nm的范围的各特定波长、和ΔλH R(70％)、ΔλH R(50％)以及ΔλH R(20％)在表2示出。另外，将实施例5所涉及的第一层叠体的透过率光谱中的波长350～450nm的范围的各特定波长、和ΔλL R(70％)、ΔλL R(50％)、以及ΔλL R(20％)在表2示出。
(第二层叠体)
将实施例3中使用的涂层液b1在具有0.21mm的厚度的由硼硅酸玻璃做成的透明玻璃基板(“SCHOTT”公司制、产品名：D263)的一方的主面通过模压涂层进行涂布，来形成涂膜。将该涂膜以85℃下3小时、接下来125℃下3小时、接下来150℃下1小时、接下来170℃下3小时的条件对涂膜进行加热处理，与实施例3同样地形成吸收膜B1。吸收膜B1的厚度是50μm。如此制作实施例5所涉及的第二层叠体的第二吸收膜即吸收膜B1。接下来在吸收膜B1上，将实施例4中使用的涂层液a3通过旋涂进行涂布来形成涂膜。将该涂膜在140℃的环境暴露0.5小时，使涂膜干燥以及硬化，与实施例4同样地形成吸收膜A3。如此制作实施例5所涉及的第二层叠体的第一吸收膜即吸收膜A3。吸收膜A3的厚度是3μm。如此制作实施例5所涉及的第二层叠体。即，实施例5所涉及的第二层叠体的吸收膜包含厚度50μm的吸收膜B1(第二吸收膜)以及厚度3μm的吸收膜A3(第一吸收膜)。
与实施例1同样地测定实施例5所涉及的第二层叠体的波长350～1100nm下的光谱透过率。在该测定中，使光以0°、30°、以及40°的入射角入射到实施例5所涉及的第二层叠体，但不管哪个入射角都能得到实质相同的透过率光谱。将入射角为0°时得到的透过率光谱在图18示出。如图18所示那样，450～600nm的波长范围内的实施例5所涉及的第二层叠体的光谱透过率的平均值超过75％。实施例5所涉及的第二层叠体的透过率光谱具有达到波长约700nm～约770nm的范围的大范围的吸收峰值。实施例5所涉及的第二层叠体的透过率光谱具有在波长350～450nm的范围内光谱透过率从10％以下增加到70％以上的特性。
将实施例5所涉及的第二层叠体的透过率光谱中的波长600～800nm的范围的各特定波长以及实施例5所涉及的第二层叠体的透过率光谱中的波长350～450nm的范围的各特定波长在表2示出。将实施例5所涉及的第二层叠体的透过率光谱的波长727nm(＝λH R(0°，70％))、波长738nm(＝λH R(0°，50％))、波长766nm(＝λH R(0°，20％))、波长672nm(＝λH R(40°，70％))、波长685nm(＝λH R(40°，50％))、波长717nm(＝λH R(40°，20％))、波长406nm(＝λL R(0°，70％))、波长405nm(＝λL R(0°，50％))、波长402nm(＝λL R(0°，20％))、波长389nm(＝λL R(40°，70％))、波长387nm(＝λL R(40°，50％))以及波长385nm(＝λL R(40°，20％))下的透过率在表2示出。
(红外线截止滤波器)
在实施例5所涉及的第一层叠体的透明玻璃基板的未形成近红外线反射膜R4的主面与第二层叠体同样地形成由吸收膜A3(第一吸收膜)以及吸收膜B1(第二吸收膜)构成的吸收膜。与实施例1同样地测定实施例5所涉及的红外线截止滤波器的波长350～1100nm下的光谱透过率。将得到的透过率光谱在图19示出。
如表5所示那样，在实施例5所涉及的红外线截止滤波器的透过率光谱中，波长λH(0°，70％)＝611nm、波长λH(40°，70％)＝606nm，它们的差的绝对值|ΔλH(70％)|＝5nm。波长λH(0°，50％)＝634nm、波长λH(40°，50％)＝632nm，它们的差的绝对值|ΔλH(50％)|＝2nm。波长λH(0°，20％)＝669nm、波长λH(40°，20％)＝661nm，它们的差的绝对值|ΔλH(20％)|＝8nm。另外，如表5所示那样，在实施例5所涉及的红外线截止滤波器的透过率光谱中，波长λL(0°，70％)＝427nm、波长λL(40°，70％)＝436nm，它们的差的绝对值|ΔλL(70％)|＝9nm。波长λL(0°，50％)＝409nm、波长λL(40°，50％)＝409nm，它们的差的绝对值|ΔλL(50％)|＝0nm。波长λL(0°，20％)＝404nm、波长λL(40°，20％)＝398nm，它们的差的绝对值|ΔλL(20％)|＝6nm。
<实施例6>
(第一层叠体)
在具有0.21mm的厚度的由硼硅酸玻璃做成的透明玻璃基板(“SCHOTT”公司制、产品名：D263)的一方的主面通过蒸镀法形成交替层叠SiO2膜和TiO2膜的与实施例1～5记载的近红外线反射膜R1～R4不同的近红外线反射膜R5。如此制作实施例6所涉及的第一层叠体。实施例6所涉及的第一层叠体的近红外线反射膜R5的厚度是5.5μm。另外，实施例6所涉及的第一层叠体的近红外线反射膜包含18层的SiO2膜和18层的TiO2膜。与实施例1同样地测定实施例6所涉及的第一层叠体的波长350～1100nm下的光谱透过率。将得到的透过率光谱在图20示出。
在实施例6所涉及的第一层叠体的透过率光谱中，不管光的入射角是哪一者的情况，450～600nm的波长范围内的光谱透过率的平均值都超过80％。在入射角为30°时的实施例6所涉及的第一层叠体的透过率光谱中，在波长约422nm，光谱透过率有约71％即极小值。在该透过率光谱中，在将光谱透过率为93％的线假定为基线的情况下，包含该极小值向下成为凸的部分具有从基线降低15个点以上的光谱透过率，具有约14nm的半值全宽。进而在入射角为40°时的实施例6所涉及的第一层叠体的透过率光谱中，在波长约415nm，光谱透过率具有约55％即极小值。同样地，在该透过率光谱中，在将光谱透过率为93％的线假定为基线的情况下，包含该极小值而向下成为凸的部分具有从基线降低30个点以上的光谱透过率，具有约16nm的半值全宽。
将实施例6所涉及的第一层叠体的透过率光谱中的波长600～800nm的范围的各特定波长、和ΔλH R(70％)、ΔλH R(50％)以及ΔλH R(20％)在表2示出。另外，将实施例6所涉及的第一层叠体的透过率光谱中的波长350～450nm的范围的各特定波长、和ΔλL R(70％)、ΔλL R(50％)、以及ΔλL R(20％)在表2示出。
(第二层叠体)
将实施例3中使用的涂层液b1在具有0.21mm的厚度的由硼硅酸玻璃做成的透明玻璃基板(“SCHOTT”公司制、产品名：D263)的一方的主面通过模压涂层进行涂布，来形成涂膜。将该涂膜以85℃下3小时、接下来125℃下3小时、接下来150℃下1小时、接下来170℃下3小时的条件对涂膜进行加热处理，与实施例3同样地形成吸收膜B1。吸收膜B1的厚度是50μm。如此制作实施例6所涉及的第二层叠体的第二吸收膜即吸收膜B1。接下来在吸收膜B1上通过旋涂涂布实施例2中使用的涂层液a2，来形成涂膜。将该涂膜在140℃的环境中暴露0.5小时，使涂膜干燥以及硬化，与实施例4同样地形成吸收膜A2。如此制作实施例6所涉及的第二层叠体的第一吸收膜即吸收膜A2。吸收膜A2的厚度是3μm。如此制作实施例6所涉及的第二层叠体。即，实施例6所涉及的第二层叠体的吸收膜包含厚度50μm的吸收膜B1(第二吸收膜)以及厚度3μm的吸收膜A3(第一吸收膜)，与实施例3所涉及的第二层叠体的吸收膜相同。
与实施例1同样地测定实施例6所涉及的第二层叠体的波长350～1100nm下的光谱透过率。在该测定中，使光以0°、30°、以及40°的入射角入射到实施例6所涉及的第二层叠体，但不管哪个入射角都能得到实质相同的透过率光谱，能得到与实施例3所涉及的第二层叠体相同的透过率光谱。将入射角为0°时得到的透过率光谱在图20示出。如图20所示那样，450～600nm的波长范围内的实施例6所涉及的第二层叠体的光谱透过率的平均值超过75％。实施例6所涉及的第二层叠体的透过率光谱具有达到波长约700～约770nm的范围的大范围的吸收峰值。实施例6所涉及的第二层叠体的透过率光谱在波长约410nm具有吸收峰值。将实施例6所涉及的第二层叠体的透过率光谱中的波长600～800nm的范围的各特定波长以及实施例6所涉及的第二层叠体的透过率光谱中的波长350～450nm的范围的各特定波长在表2示出。将实施例6所涉及的第二层叠体的透过率光谱的波长714nm(＝λH R(0°，70％))、波长720nm(＝λH R(0°，50％))、波长730nm(＝λH R(0°，20％))、波长659nm(＝λH R(40°，70％))、波长668nm(＝λH R(40°，50％))、波长685nm(＝λH R(40°，20％))、波长411nm(＝λL R(0°，70％))、波长410nm(＝λL R(0°，50％))、波长406nm(＝λL R(0°，20％))、波长394nm(＝λL R(40°，70％))、波长392m(＝λL R(40°，50％))以及波长388nm(＝λL R(40°，20％))下的透过率在表2示出。
(红外线截止滤波器)
在实施例6所涉及的第一层叠体的透明玻璃基板的未形成近红外线反射膜R5的主面与第二层叠体同样地形成由吸收膜A2(第一吸收膜)以及吸收膜B1(第二吸收膜)构成的吸收膜。如此制作实施例6所涉及的红外线截止滤波器。与实施例1同样地测定实施例6所涉及的红外线截止滤波器的波长350～1100nm下的光谱透过率。将得到的透过率光谱在图21示出。
如表5所示那样，在实施例6所涉及的红外线截止滤波器的透过率光谱中，波长λH(0°，70％)＝621nm、波长λH(40°，70％)＝617nm，它们的差的绝对值|ΔλH(70％)|＝4nm。波长λH(0°，50％)＝643nm、波长λH(40°，50％)＝637nm，它们的差的绝对值|ΔλH(50％)|＝6nm。波长λH(0°，20％)＝675nm、波长λH(40°，20％)＝663nm，它们的差的绝对值|ΔλH(20％)|＝12nm。在实施例6所涉及的红外线截止滤波器的透过率光谱中，波长λL(0°，70％)＝413nm、波长λL(40°，70％)＝397nm，它们的差的绝对值|ΔλL(70％)|＝16nm。波长λL(0°，50％)＝411nm、波长λL(40°，50％)＝394nm，它们的差的绝对值|ΔλL(50％)|＝17nm。波长λL(0°，20％)＝407nm、波长λL(40°，20％)＝389nm，它们的差的绝对值|ΔλL(20％)|＝18nm。
<实施例7>
(第一层叠体)
在具有0.21mm的厚度的由硼硅酸玻璃做成的透明玻璃基板(“SCHOTT”公司制、产品名：D263)的一方的主面通过蒸镀法形成交替SiO2膜和TiO2膜的与实施例1～6记载的近红外线反射膜R1～R5不同的近红外线反射膜R6。如此制作实施例7所涉及的第一层叠体。实施例7所涉及的第一层叠体的近红外线反射膜R6的厚度是5.5μm。另外，实施例7所涉及的第一层叠体的近红外线反射膜R6包含18层的SiO2膜和18层的TiO2膜。与实施例1同样地测定实施例7所涉及的第一层叠体的波长350～1100nm下的光谱透过率。将得到的透过率光谱在图22示出。
在实施例7所涉及的第一层叠体的透过率光谱中，不管在哪一者光的入射角的情况下，450～600nm的波长范围内的光谱透过率的平均值都超过80％。在入射角为30°时的实施例7所涉及的第一层叠体的透过率光谱中，在波长约425nm，光谱透过率具有约75％的极小值。在该透过率光谱中，在将光谱透过率93％的线假定为基线的情况下，包含该极小值而向下成为凸的部分具有从基线降低15个点以上的光谱透过率，具有约12nm的半值全宽。进而在入射角为40°时的实施例7所涉及的第一层叠体的透过率光谱中，在波长约415nm，光谱透过率具有约58％的极小值。在该透过率光谱中，同样地在将光谱透过率93％的线假定为基线的情况下，包含该极小值向下而成为凸的部分具有从基线降低30个点以上的光谱透过率，具有约14nm的半值全宽。
将实施例7所涉及的第一层叠体的透过率光谱中的波长600～800nm的范围的各特定波长、和ΔλH R(70％)、ΔλH R(50％)以及ΔλH R(20％)在表2示出。另外，将实施例7所涉及的第一层叠体的透过率光谱中的波长350～450nm的范围的各特定波长、和ΔλL R(70％)、ΔλL R(50％)、以及ΔλL R(20％)在表2示出。
(第二层叠体)
在具有0.21mm的厚度的由硼硅酸玻璃做成的透明玻璃基板(“SCHOTT”公司制、产品名：D263)的一方的主面将实施例4中使用的涂层液a3通过旋涂进行涂布，来形成涂膜。将该涂膜在140℃的环境下暴露0.5小时，使涂膜干燥以及硬化，来形成吸收膜A3。如此制作实施例7所涉及的第二层叠体的吸收膜A3。吸收膜A3的厚度是3μm。
与实施例1同样地测定实施例7所涉及的第二层叠体的波长350～1100nm下的光谱透过率。在该测定中，使光以0°、30°、以及40°的入射角入射到实施例7所涉及的第二层叠体，但不管哪个入射角都能得到实质相同的透过率光谱，得到与关于实施例4所涉及的第二层叠体的透过率光谱相同。将入射角为0°时得到的透过率光谱在图22示出。如图22所示那样，450～600nm的波长范围内的实施例7所涉及的第二层叠体的光谱透过率的平均值超过75％。实施例7所涉及的第二层叠体的透过率光谱在波长约710nm具有吸收峰值。实施例7所涉及的第二层叠体的透过率光谱具有在波长350～450nm的范围内光谱透过率从10％以下增加到70％以上的特性。
将实施例7所涉及的第二层叠体的透过率光谱中的波长600～800nm的范围的各特定波长以及实施例7所涉及的第二层叠体的透过率光谱中的波长350～450nm的范围的各特定波长在表2示出。将实施例7所涉及的第二层叠体的透过率光谱的波长715nm(＝λH R(0°，70％))、波长720nm(＝λH R(0°，50％))、波长731nm(＝λH R(0°，20％))、波长659nm(＝λH R(40°，70％))、波长667nm(＝λH R(40°，50％))、波长684nm(＝λH R(40°，20％))、波长411nm(＝λL R(0°，70％))、波长409nm(＝λL R(0°，50％))、波长406nm(＝λL R(0°，20％))、波长394nm(＝λL R(40°，70％))、波长391m(＝λL R(40°，50％))以及波长388nm(＝λL R(40°，20％))下的透过率在表2示出。
(红外线截止滤波器)
在实施例7所涉及的第一层叠体的透明玻璃基板的未形成近红外线反射膜R6的主面与第二层叠体同样地形成吸收膜A3。如此制作实施例7所涉及的红外线截止滤波器。与实施例1同样地测定实施例7所涉及的红外线截止滤波器的波长350～1100nm下的光谱透过率。将得到的透过率光谱在图23示出。
如表5所示那样，在实施例7所涉及的红外线截止滤波器的透过率光谱中，波长λH(0°，70％)＝620nm、波长λH(40°，70％)＝618nm，它们的差的绝对值|ΔλH(70％)|＝2nm。波长λH(0°，50％)＝642nm、波长λH(40°，50％)＝636nm，它们的差的绝对值|ΔλH(50％)|＝6nm。波长λH(0°，20％)＝675nm、波长λH(40°，20％)＝663nm，它们的差的绝对值|ΔλH(20％)|＝12nm。在实施例7所涉及的红外线截止滤波器的透过率光谱中，波长λL(0°，70％)＝428nm、波长λL(40°，70％)＝429nm，它们的差的绝对值|ΔλL(70％)|＝1nm。波长λL(0°，50％)＝412nm、波长λL(40°，50％)＝420nm，它们的差的绝对值|ΔλL(50％)|＝8nm。波长λL(0°，20％)＝408nm、波长λL(40°，20％)＝398nm，它们的差的绝对值|ΔλL(20％)|＝10nm。
<实施例8>
(第一层叠体)
在具有0.21mm的厚度的由硼硅酸玻璃做成的透明玻璃基板(“SCHOTT”公司制、产品名：D263)的一方的主面通过蒸镀法形成交替层叠SiO2膜和TiO2膜的与实施例1～7记载的近红外线反射膜R1～R6不同的近红外线反射膜R7。如此制作实施例8所涉及的第一层叠体。实施例8所涉及的第一层叠体的近红外线反射膜R7的厚度是6μm。另外，实施例8所涉及的第一层叠体的近红外线反射膜R7包含19层的SiO2膜和19层的TiO2膜。与实施例1同样地测定实施例8所涉及的第一层叠体的波长350～1100nm下的光谱透过率。将得到的透过率光谱在图24示出。
在实施例8所涉及的第一层叠体的透过率光谱中，不管在哪一者的光的入射角的情况下，450～600nm的波长范围内的光谱透过率的平均值都超过80％。在入射角为30°时的实施例8所涉及的第一层叠体的透过率光谱中，在波长约420nm的范围，光谱透过率具有约76％的极小值。在该透过率光谱中，在将光谱透过率93％的线假定为基线的情况下，包含该极小值而向下成为凸的部分具有从基线降低10个点以上的光谱透过率，具有约14nm的半值全宽。进而在入射角为40°时的实施例8所涉及的第一层叠体的透过率光谱中，在波长约429nm，光谱透过率具有约55％的极小值。在该透过率光谱中，同样地在将光谱透过率93％的线假定为基线的情况下，包含该极小值而向下成为凸的部分具有从基线降低30个点以上的光谱透过率，具有约16nm的半值全宽。
将实施例8所涉及的第一层叠体的透过率光谱中的波长600～800nm的范围的各特定波长、和ΔλH R(70％)、ΔλH R(50％)以及ΔλH R(20％)在表2示出。另外，将实施例8所涉及的第一层叠体的透过率光谱中的波长350～450nm的范围的各特定波长、和ΔλL R(70％)、ΔλL R(50％)以及ΔλL R(20％)在表2示出。
(第二层叠体)
将实施例3中使用的涂层液b1在具有0.21mm的厚度的由硼硅酸玻璃做成的透明玻璃基板(“SCHOTT”公司制、产品名：D263)的一方的主面通过模压涂层进行涂布，来形成涂膜。将该涂膜以85℃下3小时、接下来125℃下3小时、接下来150℃下1小时、接下来170℃下3小时的条件对涂膜进行加热处理，与实施例3同样地形成吸收膜B1。吸收膜B1的厚度是50μm。如此制作实施例8所涉及的第二层叠体的第二吸收膜即吸收膜B1。接下来，在吸收膜B1上，将实施例4中使用的涂层液a3通过旋涂进行涂布，来形成涂膜。将该涂膜在140℃的环境中暴露0.5小时，使涂膜干燥以及硬化，与实施例4同样地形成吸收膜A3。如此制作实施例8所涉及的第二层叠体的第一吸收膜即吸收膜A3。吸收膜A3的厚度是3μm。如此制作实施例8所涉及的第二层叠体。即，实施例8所涉及的第二层叠体的吸收膜包含厚度50μm的吸收膜B1(第二吸收膜)以及厚度3μm的吸收膜A3(第一吸收膜)，是与实施例5所涉及的第二层叠体的吸收膜相同的结构。
与实施例1同样地测定实施例8所涉及的第二层叠体的波长350～1100nm下的光谱透过率。在该测定中，使光以0°、30°、以及40°的入射角入射到实施例8所涉及的第二层叠体，但不管哪个入射角都能得到实质相同的透过率光谱，得到与实施例5所涉及的第二层叠体相同的透过率光谱。将入射角为0°时得到的透过率光谱在图24示出。如图24所示那样，450～600nm的波长范围内的实施例8所涉及的第二层叠体的光谱透过率的平均值超过75％。实施例8所涉及的第二层叠体的透过率光谱具有达到波长约700～约770nm的范围的大范围的吸收峰值。实施例8所涉及的第二层叠体的透过率光谱具有在波长350～450nm的范围内光谱透过率从10％以下增加到70％以上的特性。
将实施例8所涉及的第二层叠体的透过率光谱中的波长600～800nm的范围的各特定波长以及实施例8所涉及的第二层叠体的透过率光谱中的波长350～450nm的范围的各特定波长在表2示出。将实施例8所涉及的第二层叠体的透过率光谱的波长743nm(＝λH R(0°，70％))、波长749nm(＝λH R(0°，50％))、波长761nm(＝λH R(0°，20％))、波长683nm(＝λH R(40°，70％))、波长697nm(＝λH R(40°，50％))、波长712nm(＝λH R(40°，20％))、波长414nm(＝λL R(0°，70％))、波长410nm(＝λL R(0°，50％))、波长408nm(＝λL R(0°，20％))、波长396nm(＝λL R(40°，70％))、波长394m(＝λL R(40°，50％))以及波长390nm(＝λL R(40°，20％))下的透过率在表2示出。
(红外线截止滤波器)
在实施例8所涉及的第一层叠体的透明玻璃基板的未形成近红外线反射膜R7的主面与第二层叠体同样地形成由吸收膜A3(第一吸收膜)以及吸收膜B1(第二吸收膜)构成的吸收膜。如此制作实施例8所涉及的红外线截止滤波器。与实施例1同样地测定实施例8所涉及的红外线截止滤波器的波长350～1100nm下的光谱透过率。将得到的透过率光谱在图25示出。
如表5所示那样，在实施例8所涉及的红外线截止滤波器的透过率光谱中，波长λH(0°，70％)＝610nm、波长λH(40°，70％)＝607nm，它们的差的绝对值|ΔλH(70％)|＝3nm。波长λH(0°，50％)＝634nm、波长λH(40°，50％)＝630nm，它们的差的绝对值|ΔλH(50％)|＝4nm。波长λH(0°，20％)＝668nm、波长λH(40°，20％)＝662nm，它们的差的绝对值|ΔλH(20％)|＝6nm。在实施例8所涉及的红外线截止滤波器的透过率光谱中，波长λL(0°，70％)＝435nm、波长λL(40°，70％)＝440nm，它们的差的绝对值|ΔλL(70％)|＝5nm。波长λL(0°，50％)＝414nm、波长λL(40°，50％)＝412nm，它们的差的绝对值|ΔλL(50％)|＝2nm。波长λL(0°，20％)＝409nm、波长λL(40°，20％)＝399nm，它们的差的绝对值|ΔλL(20％)|＝10nm。
<实施例9>
(第一层叠体)
在具有0.21mm的厚度的由硼硅酸玻璃做成的透明玻璃基板(“SCHOTT”公司制、产品名：D263)的一方的主面与实施例8同样地通过蒸镀法形成交替层叠SiO2膜和TiO2膜的近红外线反射膜R7。如此制作实施例9所涉及的第一层叠体。与实施例1同样地测定实施例9所涉及的第一层叠体的波长350～1100nm下的光谱透过率。将得到的透过率光谱在图26示出。关于实施例9所涉及的第一层叠体的透过率光谱与关于实施例8所涉及的第一层叠体的透过率光谱相同。
(第二层叠体)
在具有0.21mm的厚度的由硼硅酸玻璃做成的透明玻璃基板(“SCHOTT”公司制、产品名：D263)的一方的主面涂布除了将作为粘合剂的硅酮树脂(“信越化学工業”公司制、产品名：KR-300)的含有量从4.4g变更为2倍的8.8g以外其他都与涂层液b1同样地制作的涂层液b2，形成吸收膜B2(第二吸收膜)。第二吸收膜即吸收膜B2的厚度是100μm。接下来在第二吸收膜即吸收膜B2上通过蒸镀法形成SiO2膜。SiO2膜的厚度是3μm。进而在SiO2膜上将实施例4中使用的涂层液a3通过旋涂进行涂布，来形成涂膜。将该涂膜在140℃的环境暴露0.5小时，使涂膜干燥以及硬化，形成吸收膜A3(第一吸收膜)。如此制作实施例9所涉及的第二层叠体。即，实施例9所涉及的第二层叠体的吸收膜包含厚度100μm的吸收膜B2(第二吸收膜)、厚度3μm的SiO2膜以及厚度3μm的吸收膜A3(第一吸收膜)。与实施例1同样地测定实施例9所涉及的第二层叠体的波长350～1100nm下的光谱透过率。在该测定中，使光以0°、30°、以及40°的入射角入射到实施例9所涉及的第二层叠体，但不管哪个入射角都能得到实质相同的透过率光谱，都能得到与实施例8所涉及的第二层叠体实质相同的透过率光谱。将入射角为0°时得到的透过率光谱在图26示出。
(红外线截止滤波器)
在具有0.21mm的厚度的由硼硅酸玻璃做成的透明玻璃基板(“SCHOTT”公司制、产品名：D263)的一方的主面与第二层叠体同样地形成吸收膜B2(第二吸收膜)。吸收膜B2(第二吸收膜)的厚度是100μm。在吸收膜B2(第二吸收膜)上形成与第一层叠体的近红外线反射膜相同的近红外线反射膜R7。接下来将吸收膜B2(第二吸收膜)从透明玻璃基板剥离，如此得到在吸收膜B2(第二吸收膜)上形成近红外线反射膜R7的薄膜。该薄膜成为翘曲的状态，使得近红外线反射膜R7侧成为凸面。进而在未形成近红外线反射膜R7的吸收膜B2(第二吸收膜)的另一方的面通过蒸镀法形成SiO2膜。SiO2膜的厚度是3μm。由此缓和薄膜的翘曲。接着在SiO2膜上形成与第二层叠体的吸收膜A3(第一吸收膜)相同的吸收膜A3。吸收膜A3的厚度同样是3μm。如此制作实施例9所涉及的红外线截止滤波器。与实施例1同样地测定实施例9所涉及的红外线截止滤波器的波长350～1100nm下的光谱透过率。将得到的透过率光谱在图27示出。实施例9所涉及的红外线截止滤波器的透过率光谱被确认为与实施例8所涉及的红外线截止滤波器大致相同。由于透明玻璃基板与第二层叠体的折射率差少，因此认为红外线截止滤波器中的透明玻璃基板的有无对红外线截止滤波器的光谱透过率没有实质影响。
<实施例10>
(第一层叠体)
在具有0.21mm的厚度的由硼硅酸玻璃做成的透明玻璃基板(“SCHOTT”公司制、产品名：D263)的一方的主面通过蒸镀法形成交替层叠SiO2膜和TiO2膜的近红外线反射膜R81(第一反射膜)。第一反射膜即近红外线反射膜R81通过与后述的反射膜R82的组合而具备所期望的近红外线反射膜的功能。第一反射膜R81的厚度是4μm，包含16层的SiO2膜和16层的TiO2膜。以入射角0°与实施例1同样地测定透明玻璃基板与近红外线反射膜R81(第一反射膜)的层叠体的波长350～1100nm下的光谱透过率。将得到的透过率光谱在图28示出。
在透明玻璃基板的未形成第一反射膜R81的另一方的主面通过蒸镀法形成交替层叠SiO2膜和TiO2膜的反射膜R82(第二反射膜)°反射膜R82的厚度是4μm。另外，反射膜R82包含16层的SiO2膜和16层的TiO2膜。为了与实施例1同样地测定反射膜R82的波长350～1100nm下的光谱透过率，与制作第二反射膜即反射膜R82时相同批次地投入两面什么都没形成的具有0.21mm的厚度的由硼硅酸玻璃做成的透明玻璃基板(“SCHOTT”公司制、产品名：D263)，得到在透明玻璃基板的一方的面形成了反射膜R82的层叠体，以入射角0°测定光谱透过率。将得到的透过率光谱在图28示出。
如此制作实施例10所涉及的第一层叠体。即，实施例10所涉及的第一层叠体是在玻璃基板的两方的主面上分别形成第一反射膜即近红外线反射膜R81以及第二反射膜即近红外线反射膜R82的层叠体。与实施例1同样地测定该第一层叠体的波长350～1100nm下的光谱透过率。将得到的透过率光谱在图29示出。如图29所示那样，第一层叠体的透过域(例如在0°为入射角的情况下是波长约420～690nm的范围)中的光谱透过率与其他实施例的第一层叠体不同，接近100％。这是因为，第一反射膜即近红外线反射膜R81以及第二反射膜即反射膜R82设计成具备透过域中的反射防止功能，其结果，可以留意到这抑制了实施例10所涉及的第一层叠体的与空气的界面的反射损失。
在以40°的入射角入射到实施例10所涉及的第一层叠体的光的透过率光谱中，虽然在波长约500nm附近出现波纹，但不管哪个光的入射角，450～600nm的波长范围内的光谱透过率的平均值都超过80％。在入射角为30°时的实施例10所涉及的第一层叠体的透过率光谱中，在波长约425nm，光谱透过率具有约80％的极小值。在该透过率光谱中，在将光谱透过为99％的线假定为基线的情况下，包含该极小值而向下成为凸的部分具有从基线降低约20个点的光谱透过率，具有约15nm的半值全宽。进而在入射角40°时的实施例10所涉及的第一层叠体的透过率光谱中，在波长约415nm，光谱透过率具有约55％的极小值。在该透过率光谱中，同样地在将光谱透过率为99％的线假定为基线的情况下，包含该极小值而向下成为凸的部分具有从基线降低40个点以上的光谱透过率，具有约19nm的半值全宽。
将实施例10所涉及的第一层叠体的透过率光谱中的波长600～800nm的范围的各特定波长、和ΔλH R(70％)、ΔλH R(50％)以及ΔλH R(20％)在表3示出。另外，将实施例10所涉及的第一层叠体的透过率光谱中的波长350～450nm的范围的各特定波长、和ΔλL R(70％)、ΔλL R(50％)以及ΔλL R(20％)在表3示出。
(第二层叠体)
在具有0.21mm的厚度的由硼硅酸玻璃做成的透明玻璃基板(“SCHOTT”公司制、产品名：D263)的一方的主面形成由第二吸收膜即吸收膜B2、SiO2膜以及第一吸收膜即吸收膜A3构成的与实施例9的第二层叠体相同结构的吸收膜。如此制作实施例10所涉及的第二层叠体。即，实施例10所涉及的第二层叠体的吸收膜包含厚度100μm的第二吸收膜即吸收膜B2、厚度3μm的SiO2膜以及厚度3μm的第一吸收膜即吸收膜A3。
与实施例1同样地测定实施例10所涉及的第二层叠体的波长350～1100nm下的光谱透过率。在该测定中，使光以0°、30°、以及40°的入射角入射到实施例10所涉及的第二层叠体，但不管哪个入射角都能得到实质相同的透过率光谱，能得到与实施例9所涉及的第二层叠体相同的透过率光谱。将入射角为0°时得到的透过率光谱在图29示出。如图29所示那样，450～600nm的波长范围内的实施例10所涉及的第二层叠体的光谱透过率的平均值超过75％。实施例10所涉及的第二层叠体的透过率光谱具有达到波长约700～约770nm的范围的大范围的吸收峰值。实施例10所涉及的第二层叠体的透过率光谱具有在波长350～450nm的范围内光谱透过率从10％以下增加到70％以上的特性。
将实施例10所涉及的第二层叠体的透过率光谱中的波长600～800nm的范围的各特定波长以及实施例10所涉及的第二层叠体的透过率光谱中的波长350～450nm的范围的各特定波长在表3示出。将实施例10所涉及的第二层叠体的透过率光谱的波长715nm(＝λH R(0°，70％))、波长719nm(＝λH R(0°，50％))、波长727nm(＝λH R(0°，20％))、波长659nm(＝λH R(40°，70％))、波长676nm(＝λH R(40°，50％))、波长684nm(＝λH R(40°，20％))、波长411nm(＝λL R(0°，70％))、波长410nm(＝λL R(0°，50％))、波长409nm(＝λL R(0°，20％))、波长389nm(＝λL R(40°，70％))、波长386m(＝λL R(40°，50％))以及波长383nm(＝λL R(40°，20％))下的透过率在表3示出。
(红外线截止滤波器)
在具有0.21mm的厚度的由硼硅酸玻璃做成的透明玻璃基板(“SCHOTT”公司制、产品名：D263)的一方的主面形成与第二层叠体的第二吸收膜相同的吸收膜B2。第二吸收膜即吸收膜B2的厚度是100μm。在第二吸收膜即吸收膜B2上形成与第一层叠体的第一反射膜相同的近红外线反射膜R81。接下来将第二吸收膜即吸收膜B2从透明玻璃基板剥离。如此得到在第二吸收膜即吸收膜B2上形成第一反射膜即近红外线反射膜R81的薄膜。该薄膜成为翘曲状态，使得近红外线反射膜R81侧成为凸面。进而在未形成近红外线反射膜R81的第一吸收膜的另一方的面通过蒸镀法形成SiO2膜。SiO2膜的厚度是3μm。由此缓和了薄膜的翘曲。接下来在SiO2膜上形成与第二层叠体的第一吸收膜相同的吸收膜A3。第一吸收膜即吸收膜A3的厚度同样是3μm。进而在第一吸收膜即吸收膜A3上形成与第一层叠体的第二反射膜相同的反射膜R82。如此制作实施例10所涉及的红外线截止滤波器。与实施例1同样地测定实施例10所涉及的红外线截止滤波器的波长350～1100nm下的光谱透过率。将得到的透过率光谱在图30示出。
如表6所示那样，在实施例10所涉及的红外线截止滤波器的透过率光谱中，波长λH(0°，70％)＝615nm、波长λH(40°，70％)＝611nm，它们的差的绝对值|ΔλH(70％)|＝4nm。波长λH(0°，50％)＝637nm、波长λH(40°，50％)＝633nm，它们的差的绝对值|ΔλH(50％)|＝4nm。波长λH(0°，20％)＝669nm、波长λH(40°，20％)＝659nm，它们的差的绝对值|ΔλH(20％)|＝10nm。在实施例10所涉及的红外线截止滤波器的透过率光谱中，波长λL(0°，70％)＝423nm、波长λL(40°，70％)＝430nm，它们的差的绝对值|ΔλL(70％)|＝7nm。波长λL(0°，50％)＝411nm、波长λL(40°，50％)＝421nm，它们的差的绝对值|ΔλL(50％)|＝10nm。波长λL(0°，20％)＝410nm、波长λL(40°，20％)＝399nm，它们的差的绝对值|ΔλL(20％)|＝11nm。
<评价1>
评价将实施例7所涉及的红外线截止滤波器和具有给定的灵敏度特性的摄像元件组合时的光谱灵敏度。在该评价中使用具有图31所示的光谱灵敏度的摄像元件。由于在摄像元件自身中没有颜色的识别能力，因此作为由RGB彩色滤光器颜色分解的光被引导到摄像元件的结果，得到图31所示的光谱灵敏度。将合成使光以0°以及40°的入射角入射到实施例7所涉及的红外线截止滤波器时的光谱透过率和图31所示的光谱灵敏度的结果在图32示出。在图32中，在最短波长侧有峰值的光谱涉及透过B滤光器(蓝色滤光器)的光。另外，在最长波长侧有峰值的光谱涉及通过R滤光器(红色滤光器)的光。进而，在这些峰值的中间有峰值的光谱涉及通过G滤光器(绿色滤光器)的光。如图32所示那样，入射角为40°时的合成的光谱灵敏度与入射角为0°时的合成的光谱灵敏度不同。
作为评价在摄像装置得到的图像中的颜色风格的差异的指标而有B/G比。使入射到实施例7所涉及的红外线截止滤波器的光的入射角从0°到40°阶段性变化来对各入射角得到350～1100nm的波长范围内的透过率光谱。在此基础上，评价将实施例7所涉及的红外线截止滤波器和具有图31所示的光谱灵敏度的摄像元件组合时的B/G比在使入射到实施例7所涉及的红外线截止滤波器的光的入射角从0°到40°阶段性变化时怎样变化。在此，B/G比是透过红外线截止滤波器以及B滤光器的光的摄像元件中的光谱灵敏度相对于透过红外线截止滤波器以及G滤光器的光的摄像元件中的光谱灵敏度的比。作为将入射到实施例7所涉及的红外线截止滤波器的光的入射角为0°时的B/G比的值设为1.0时的相对值，求取各入射角下的B/G比，得到图33所示的结果。特别在入射角为40°时的B/G比是1.02。另外同样将针对实施例1～10所涉及的红外线截止滤波器而得到的结果在表4～表6的最下段示出。如据此可知的那样，在全部实施例，B/G比都成为1.03以下。一般，通过B/G比处于0.97以上且1.03以下的范围，能得到颜色再现性良好、品质高的画质，对于全部实施例所涉及的红外线截止滤波器，即使使入射到实施例所涉及的红外线截止滤波器的光的入射角从0°增加到40°，B/G比的相对值也不会太变化，启示了实施例所涉及的红外线截止滤波器即使入射角大幅变化也有利于得到颜色再现性高的图像。
实施例1、6、7、8、9、以及10所涉及的第一层叠体的入射角为40°的透过率光谱在波长400～450nm的范围具有入射角为40°时产生的波纹。另外，实施例4、5、7、8、9、以及10所涉及的第二层叠体具有紫外线吸收性物质。为此，关注包括这些实施例的全部实施例所涉及的第二层叠体以及红外线截止滤波器的波长350～450nm的透过率光谱。将实施例1～10的波长350～450nm的第一层叠体的透过率光谱在图34～图43示出，将实施例1～10的波长350～450nm的红外线截止滤波器的透过率光谱在图44～图53示出。如图34～图43所示那样，在光以40°的入射角入射到实施例1～10所涉及的第一层叠体时的透过率光谱的透过带与紫外线反射带之间的过渡带，与光垂直入射到实施例1～10所涉及的第一层叠体时相比，向短波长侧移位。由此，在实施例1所涉及的第一层叠体中，入射角为0°时在透过率光谱的该过渡带透过率为50％的波长λL R(0°，50％)约为411nm，与此相对，入射角为40°时在透过率光谱的该过渡带透过率为50％的波长λL R(40°，50％)是393nm。在实施例2中，λL R(0°，50％)是405nm，与此相对λL R(40°，50％)是387nm。在实施例3中，λL R(0°，50％)是405nm，与此相对，λL R(40°，50％)是约387nm。在实施例4中，λL R(0°，50％)是405nm，与此相对，λL R(40°，50％)是387nm。在实施例5中，λL R(0°，50％)是405nm，与此相对，λL R(40°，50％)是387nm。在实施例6中，λL R(0°，50％)是410nm，与此相对，λL R(40°，50％)是392nm。在实施例7中，λL R(0°，50％)是410nm，与此相对，λL R(40°，50％)是392nm。在实施例8中，λL R(0°，50％)是410nm，与此相对，λL R(40°，50％)是394nm。在实施例9中，λL R(0°，50％)是410nm，与此相对，λL R(40°，50％)是394nm°在实施例10中，λL R(0°，50％)是410nm，与此相对，λL R(40°，50％)是386nm。由此，启示了透过全部实施例所涉及的红外线截止滤波器的短波长侧的光的光量易于伴随入射角的增加而增加。另外，能透过B滤光器的光的有效的波长范围(透过率20％以上的波长的范围)例如是约380～550nm。为此伴随入射角的增加的短波长侧的光的光量的增加也会影响到摄像元件中受光量，存在使得到的图像中的颜色再现性以及颜色风格的均匀性降低的可能性。
如图34、图39～图43所示那样，光以40°的入射角入射到实施例1、6、7、8、9、以及10所涉及的第一层叠体时的透过率光谱在波长400～450nm的范围具有与基线的差15个点以上的极小值，且半值全宽为10nm以上，若将半值全宽设为ΔλC，则具有在(400-ΔλC/2)～(450-ΔλC/2)nm存在极大值的光谱(波纹)。与此相伴，如图44、图49～图53所示那样，该波纹反映在光以40°的入射角入射到实施例1、6、7、8、9、以及10所涉及的红外线截止滤波器时的透过率光谱。为此在实施例1、6、7、8、9、以及10所涉及的红外线截止滤波器中，能将伴随入射角的增加而过渡带向短波长侧增加所引起的短波长侧的光的光量的增加抵消，如表4～表6所示那样，启示了能将作为摄像元件的重要的指标的B/G比抑制在给定的范围内。另外，如图37、图38、图40～图43所示那样，在光入射到实施例4、5、7、8、9、以及10所涉及的第二层叠体时的透过率光谱中，波长λL R(0°，50％)下的光谱透过率是55％以下，且第二层叠体的光谱透过率在波长350～450nm的范围内从70％降低到20％以下。与此相伴，如图47、图48、图50～图53所示那样，在光以0°以及40°的入射角入射到实施例4、5、7、8、9、以及10所涉及的红外线截止滤波器时的透过率光谱中，入射角为0°时的光谱透过率为50％的波长λL(0°，50％)与入射角为40°时的光谱透过率为50％的波长λL(40°，50％)的差的绝对值|ΔλL(50％)|在10nm以内。由此，在实施例4、5、7、8、9、以及10所涉及的红外线截止滤波器中，能将伴随入射角的增加而过渡带向短波长侧移位所引起的短波长侧的光的光量的增加抵消，如表4～表6所示那样，启示了能将作为摄像元件的重要的指标即B/G比抑制在给定的范围内。
<评价2>
以全部实施例为代表评价了实施例1以及实施例8所涉及的红外线截止滤波器的透过率光谱与TL84光源的明线光谱的关系。如图54以及图55所示那样，TL84光源的光强度光谱在波长440nm附近、波长550nm附近以及波长610nm附近具有明线光谱。若与这些明线光谱重叠的比较大的波纹(例如基线与极值之差为4个点以上且半值宽度为15nm以上的光谱)出现在红外线截止滤波器的透过率光谱，就有从具备该红外线截止滤波器的摄像装置无法得到具有良好的颜色再现性的图像的可能性。但如图54、图55、进一步图10～图30等所示那样，在实施例1～10所涉及的红外线截止滤波器的哪一者入射角的透过率光谱中，都未出现与呈现于TL84光源的波长440nm附近、波长550nm附近以及波长610nm附近的明线光谱重叠的比较大的波纹。由此，启示了若将实施例1～10所涉及的红外线截止滤波器用在摄像装置中，则即使在TL84光源下也易于得到具有良好的颜色再现性的图像。
[表1]
[表2]
[表3]
[表4]
[表5]
[表6]
Claims (10)
1.一种红外线截止滤波器，其特征在于，具备：
近红外线反射膜；和
与所述近红外线反射膜平行延伸的吸收膜，
所述近红外线反射膜以及所述吸收膜具有下述(A)～(E)的特性：
(A)当将在波长600～800nm的范围内垂直入射到所述近红外线反射膜的光的光谱透过率为70％时的波长定义为波长λH R(0°，70％)，且将在波长600～800nm的范围内垂直入射到所述近红外线反射膜的光的光谱透过率为20％时的波长定义为波长λH R(0°，20％)时，垂直入射到所述近红外线反射膜的光的光谱透过率在所述波长λH R(0°，70％)～所述波长λH R(0°，20％)的范围内单调减少，以使所述波长λH R(0°，70％)为700nm以上，并且所述波长λH R(0°，20％)为770nm以下且大于所述波长λH R(0°，70％)，
(B)当将在波长600～800nm的范围内以40°的入射角入射到所述近红外线反射膜的光的光谱透过率为70％时的波长定义为波长λH R(40°，70％)，且将在波长600～800nm的范围内以40°的入射角入射到所述近红外线反射膜的光的光谱透过率为20％时的波长定义为波长λH R(40°，20％)时，以40°的入射角入射到所述近红外线反射膜的光的光谱透过率在所述波长λH R(40°，70％)～所述波长λH R(40°，20％)的范围内单调减少，以使所述波长λH R(40°，70％)为650nm以上，并且所述波长λH R(40°，20％)为720nm以下且大于所述波长λH R(40°，70％)，
(C)以40°的入射角入射到所述吸收膜的光的光谱透过率在波长600～800nm的范围内在小于所述波长λH R(40°，20％)的波长λH A(40°，20％)为20％，
(D)垂直入射到所述吸收膜的光的光谱透过率在所述波长λH R(0°，20％)为15％以下，且以40°的入射角入射到所述吸收膜的光的光谱透过率在所述波长λH R(40°，20％)为15％以下，
(E)垂直入射到所述近红外线反射膜的光的光谱透过率以及以40°的入射角入射到所述近红外线反射膜的光的光谱透过率的450～600nm的波长范围内平均值为75％以上，并且垂直入射到所述吸收膜的光的光谱透过率以及以40°的入射角入射到所述吸收膜的光的光谱透过率的450～600nm的波长范围内的平均值为75％以上。
2.根据权利要求1所述的红外线截止滤波器，其特征在于，
所述近红外线反射膜交替层叠折射率不同的2种以上的材料而形成，所述吸收膜包含在上述(B)定义的波长λH R(40°，70％)～在上述(A)定义的波长λH R(0°，20％)下具有吸收峰值的物质。
3.根据权利要求1或2所述的红外线截止滤波器，其特征在于，
垂直入射到该红外线截止滤波器的光的光谱透过率在波长600～700nm的范围内为50％的波长λH(0°，50％)与以40°的入射角入射到该红外线截止滤波器的光的光谱透过率在波长600～700nm的范围内为50％的波长λH(40°，50％)之差的绝对值是10nm以下。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的红外线截止滤波器，其特征在于，
所述近红外线反射膜以及所述吸收膜还具有下述(F)～(I)的特性：
(F)垂直入射到所述近红外线反射膜的光的光谱透过率在波长λL R(0°，20％)～波长λL R(0°，70％)的范围内单调增加，以使在波长350～450nm的范围内，该光谱透过率为20％时的波长λL R(0°，20％)为390nm以上，并且小于该光谱透过率为70％时的波长λLR(0°，70％)，
(G)以40°的入射角入射到所述近红外线反射膜的光的光谱透过率在波长λL R(40°，20％)～波长λL R(40°，70％)的范围内单调增加，使得在波长350～450nm的范围内，该光谱透过率为20％时的波长λL R(40°，20％)为370nm以上，且小于该光谱透过率为70％时的波长λL R(40°，70％)，
(H)以40°的入射角入射到所述吸收膜的光的光谱透过率在波长λL A(40°，20％)～波长λL A(40°，50％)的范围内单调增加，以使在波长350～450nm的范围内，该光谱透过率为20％时的波长λL A(40°，20％)为370nm以上，并且小于该光谱透过率为50％时的波长λL A(40°，50％)，
(I)在波长350～450nm的范围内，垂直入射到所述近红外线反射膜的光的光谱透过率为50％时的波长λL R(0°，50％)下的以40°的入射角入射到所述吸收膜的光的光谱透过率为60％以下。
5.根据权利要求4所述的红外线截止滤波器，其特征在于，
垂直入射到该红外线截止滤波器的光的光谱透过率在波长350～450nm的范围内为50％的波长与以40°的入射角入射到该红外线截止滤波器的光的光谱透过率在波长350～450nm的范围内为50％的波长之差的绝对值|ΔλL(50％)|是10nm以下。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的红外线截止滤波器，其特征在于，
所述近红外线反射膜具有下述(J)的特性：
(J)以40°的入射角入射到所述近红外线反射膜的光的光谱透过率在波长400～450nm的范围内具有与基线之差为10个点以上的极小值，且与所述极小值对应的半值宽度为10nm以上，将所述半值宽度定义为ΔλC时，在(400-ΔλC/2)～(450-ΔλC/2)nm的范围内具有存在极大值的光谱。
7.根据权利要求4～6中任一项所述的红外线截止滤波器，其特征在于，
在与给定的摄像元件一起使用的情况下，在将入射角为0°而使入射光入射到该红外线截止滤波器时的所述摄像元件的光谱灵敏度的比即B/G比设为1时，入射角为40°而使入射光入射到该红外线截止滤波器时的B/G比为0.97以上且1.03以下。
8.根据权利要求1～7中任一项所述的红外线截止滤波器，其特征在于，
垂直入射到该红外线截止滤波器的光的光谱透过率以及以40°的入射角入射到该红外线截止滤波器的光的光谱透过率没有与出现在440nm附近、550nm附近以及610nm附近的TL84光源的明线光谱重叠的基线与极值之差为4个点以上且半值宽度为15nm以上的光谱。
9.根据权利要求1～7中任一项所述的红外线截止滤波器，其特征在于，
所述红外线截止滤波器还具备透明电介质基板，
所述近红外线反射膜以及所述吸收膜与所述透明电介质基板的主面平行延伸。
10.一种摄像光学系统，其特征在于，具备权利要求1～9中任一项所述的红外线截止滤波器。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2016129878A JP6087464B1 (ja) | 2016-06-30 | 2016-06-30 | 赤外線カットフィルタ及び撮像光学系 |
| JP2016-129878 | 2016-06-30 | ||
| PCT/JP2017/023451 WO2018003756A1 (ja) | 2016-06-30 | 2017-06-26 | 赤外線カットフィルタ及び撮像光学系 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN109416421A true CN109416421A (zh) | 2019-03-01 |
| CN109416421B CN109416421B (zh) | 2020-11-24 |
Family
ID=58186032
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201780039817.1A Active CN109416421B (zh) | 2016-06-30 | 2017-06-26 | 红外线截止滤波器以及摄像光学系统 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10795066B2 (zh) |
| JP (1) | JP6087464B1 (zh) |
| KR (1) | KR102153243B1 (zh) |
| CN (1) | CN109416421B (zh) |
| TW (1) | TWI731996B (zh) |
| WO (1) | WO2018003756A1 (zh) |
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| CN107430225B (zh) | 2015-12-01 | 2019-11-08 | Ａｇｃ株式会社 | 光学滤波器和摄像装置 |
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2016
- 2016-06-30 JP JP2016129878A patent/JP6087464B1/ja active Active
-
2017
- 2017-06-26 WO PCT/JP2017/023451 patent/WO2018003756A1/ja active Application Filing
- 2017-06-26 CN CN201780039817.1A patent/CN109416421B/zh active Active
- 2017-06-26 KR KR1020197002775A patent/KR102153243B1/ko active IP Right Grant
- 2017-06-26 US US16/311,096 patent/US10795066B2/en active Active
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20190219749A1 (en) | 2019-07-18 |
| KR20190020820A (ko) | 2019-03-04 |
| WO2018003756A1 (ja) | 2018-01-04 |
| KR102153243B1 (ko) | 2020-09-07 |
| US10795066B2 (en) | 2020-10-06 |
| CN109416421B (zh) | 2020-11-24 |
| TWI731996B (zh) | 2021-07-01 |
| TW201812348A (zh) | 2018-04-01 |
| JP2018004869A (ja) | 2018-01-11 |
| JP6087464B1 (ja) | 2017-03-01 |
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