KR102153243B1 - 적외선 컷 필터 및 촬상 광학계 - Google Patents
적외선 컷 필터 및 촬상 광학계 Download PDFInfo
- Publication number
- KR102153243B1 KR102153243B1 KR1020197002775A KR20197002775A KR102153243B1 KR 102153243 B1 KR102153243 B1 KR 102153243B1 KR 1020197002775 A KR1020197002775 A KR 1020197002775A KR 20197002775 A KR20197002775 A KR 20197002775A KR 102153243 B1 KR102153243 B1 KR 102153243B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- wavelength
- film
- spectral transmittance
- infrared
- range
- Prior art date
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 11
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims abstract description 261
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims abstract description 255
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 171
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 82
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 40
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 37
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 28
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims description 22
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 claims description 16
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 7
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 claims description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 531
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 184
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 66
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 66
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 61
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 61
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 44
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 38
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 29
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 29
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 24
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 22
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 20
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 20
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 20
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 20
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 18
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 12
- -1 benzophenone compound Chemical class 0.000 description 11
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 10
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 10
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 10
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 9
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 8
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 7
- 230000008859 change Effects 0.000 description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 7
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 7
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 7
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 5
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 5
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 5
- 235000019640 taste Nutrition 0.000 description 5
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 description 3
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 3
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N phosphinic acid Chemical compound O[PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 3
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 2
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L copper(ii) acetate Chemical compound [Cu+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 239000002530 phenolic antioxidant Substances 0.000 description 2
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- SKRWFPLZQAAQSU-UHFFFAOYSA-N stibanylidynetin;hydrate Chemical compound O.[Sn].[Sb] SKRWFPLZQAAQSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N Phenylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)C1=CC=CC=C1 QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMEGJBVQLJJKKX-HOTMZDKISA-N [(2R,3S,4S,5R,6R)-5-acetyloxy-3,4,6-trihydroxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound CC(=O)OC[C@@H]1[C@H]([C@@H]([C@H]([C@@H](O1)O)OC(=O)C)O)O SMEGJBVQLJJKKX-HOTMZDKISA-N 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- 229940081735 acetylcellulose Drugs 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 230000008094 contradictory effect Effects 0.000 description 1
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-AHCXROLUSA-N copper-60 Chemical compound [60Cu] RYGMFSIKBFXOCR-AHCXROLUSA-N 0.000 description 1
- NWFNSTOSIVLCJA-UHFFFAOYSA-L copper;diacetate;hydrate Chemical compound O.[Cu+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O NWFNSTOSIVLCJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- DHGSSULXZRNIPW-UHFFFAOYSA-L copper;dioxido-oxo-phenyl-$l^{5}-phosphane Chemical compound [Cu+2].[O-]P([O-])(=O)C1=CC=CC=C1 DHGSSULXZRNIPW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- YRIUSKIDOIARQF-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 YRIUSKIDOIARQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940071161 dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 1
- LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N naphthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC4=CC=CC=C4C=C3C(N=C3C4=CC5=CC=CC=C5C=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=C2C(C=CC=C2)=C2)C2=C1N=C1C2=CC3=CC=CC=C3C=C2C4=N1 LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 238000012634 optical imaging Methods 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 238000000053 physical method Methods 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,7-diazaspiro[4.5]decane-7-carboxylate Chemical compound C1N(C(=O)OC(C)(C)C)CCCC11CNCC1 ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/26—Reflecting filters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/28—Interference filters
- G02B5/281—Interference filters designed for the infrared light
- G02B5/282—Interference filters designed for the infrared light reflecting for infrared and transparent for visible light, e.g. heat reflectors, laser protection
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
- B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/208—Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/28—Interference filters
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
적외선 컷 필터(1a)는, 근적외선 반사막(20)과 흡수막(30)을 구비한다. 근적외선 반사막(20) 및 흡수막(30)은 (A)~(E)의 특성을 갖는다. (A) 700nm≤λH R(0°, 70%)<λH R(0°, 20%)≤770nm, (B) 650nm≤λH R(40°, 70%)<λH R(40°, 20%)≤720nm, (C) λH A(40°, 20%)<λH R(40°, 20%), (D) 흡수막(30)에 입사하는 광의 분광 투과율은, λH R(0°, 20%) 및 λH R(40°, 20%)에 있어서 15% 이하이다. (E) 근적외선 반사막(20) 및 흡수막(30)에 입사하는 광의 분광 투과율의 450~600nm의 파장 범위에 있어서의 평균값은 75% 이상이다.
Description
본 발명은, 적외선 컷 필터 및 촬상 광학계에 관한 것이다.
디지털카메라 등의 촬상 장치에 있어서, 촬상 소자로서, CCD(Charge Coupled Device)나 CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor) 등의 Si(실리콘)를 이용한 2차원 화상 센서가 사용되고 있다. Si를 이용한 촬상 소자는, 적외선역의 파장의 광에 대한 수광 감도를 갖고, 인간의 시감도와는 상이한 파장 특성을 갖는다. 이 때문에, 촬상 장치에 있어서, 얻어지는 화상이 인간이 인식한 화상에 가까워지도록, 촬상 소자의 전방에 적외선역의 파장의 입사광을 차폐하는 필터(적외선 컷 필터)가 통상 배치되어 있다.
예를 들면, 적외선을 반사하는 능력을 갖는 막이 투명 기판에 적층된 적외선 컷 필터가 알려져 있다. 이러한 적외선 컷 필터는, 적외선을 반사하는 능력을 갖는 막의 재료 및 두께를 조정함으로써, 적외선을 반사할 뿐만 아니라 자외선도 반사하는 분광 특성 등 다양한 분광 특성을 갖는다. 그러나, 이러한 적외선 컷 필터는, 적외선 컷 필터에 큰 입사각으로 광이 입사할 때에 투과율 스펙트럼을 단파장 측으로 시프트시킨다. 이로 인해, 이러한 적외선 컷 필터를 사용하여 얻어진 화상의 중심부 및 주변부에는 서로 상이한 색미가 발생하는 일이 있다. 그래서, 투과율 스펙트럼의 입사각 의존성을 작게 하기 위해서 다양한 제안이 이루어지고 있다.
예를 들면, 특허 문헌 1에는, 소정의 흡수제를 함유한 투명 수지 기판과, 근적외선 반사막을 갖는 근적외선 컷 필터가 기재되어 있다. 그 흡수제는, 파장 600~800nm에 흡수 극대가 있고, 또한, 파장 430~800nm의 파장 영역에 있어서, 투과율이 70%가 되는 흡수 극대 이하에서 가장 긴 파장(Aa)과, 파장 580nm 이상의 파장 영역에 있어서, 투과율이 30%가 되는 가장 짧은 파장(Ab)의 차의 절대값이 75nm 미만이라는 특성을 갖고 있다. 또, 그 근적외선 반사막은, 알루미늄 증착막, 귀금속 박막, 산화인듐을 주성분으로 하고 산화주석을 소량 함유시킨 금속 산화물 미립자를 분산시킨 수지막, 및 고굴절률 재료층과 저굴절률 재료층을 번갈아 적층한 유전체 다층막 등의 막이다.
특허 문헌 1에 기재된 근적외선 컷 필터는, Ya와 Yb의 차의 절대값이 15nm 미만이라는 특성을 갖는다. Ya는, 파장 560~800nm의 범위에 있어서, 근적외선 컷 필터의 수직 방향에서 측정한 경우의 광의 투과율이 50%가 되는 파장의 값이다. Yb는, 파장 560~800nm의 범위에 있어서, 근적외선 컷 필터의 수직 방향에 대해 30°의 각도로부터 측정한 경우의 광의 투과율이 50%가 되는 파장의 값이다.
상기와 같이, 특허 문헌 1에 기재된 근적외선 컷 필터에서는, Ya와 Yb의 차의 절대값이 15nm 미만이지만, 특허 문헌 1에 기재된 근적외선 컷 필터에 30°를 넘는 입사각으로 광이 입사하는 경우의 광의 투과율에 관한 특성은 구체적으로 검토되어 있지 않다. 근년의 촬상 렌즈의 고화각화에 의해, 30°를 넘는 입사각으로 적외선 컷 필터에 광이 입사하는 경우에도, 보다 높은 레벨의 화질이 요구되게 되었다. 이 때문에, 보다 큰 입사각(예를 들면, 40°)으로 피사체로부터의 광이 적외선 컷 필터에 입사하는 경우에도, 특정의 파장 범위(예를 들면, 600~700nm)에 있어서 투과율의 변화를 억제할 수 있는 기술이 요망되고 있다.
이러한 사정을 감안해, 본 발명은, 근적외선 반사막을 구비하면서, 0°~40°의 각도로 광의 입사각이 변화해도, 특정의 범위의 파장(예를 들면, 600~700nm)에 있어서의 투과율 스펙트럼의 변화가 충분히 작은 적외선 컷 필터를 제공한다.
본 발명은,
근적외선 반사막과,
상기 근적외선 반사막과 평행으로 연장되어 있는 흡수막을 구비하고,
상기 근적외선 반사막 및 상기 흡수막은, 하기 (A)~(E)의 특성을 갖는,
적외선 컷 필터를 제공한다.
(A) 파장 600~800nm의 범위에 있어서 상기 근적외선 반사막에 수직으로 입사하는 광의 분광 투과율이 70%일 때의 파장을 파장 λH R(0°, 70%)로 정의하고, 또한, 파장 600~800nm의 범위에 있어서 상기 근적외선 반사막에 수직으로 입사하는 광의 분광 투과율이 20%일 때의 파장을 파장 λH R(0°, 20%)로 정의했을 때, 상기 근적외선 반사막에 수직으로 입사하는 광의 분광 투과율은, 상기 파장 λH R(0°, 70%)가 700nm 이상이고, 또한, 상기 파장 λH R(0°, 20%)가 770nm 이하임과 더불어 상기 파장 λH R(0°, 70%)보다 크도록, 상기 파장 λH R(0°, 70%)~상기 파장 λH R(0°, 20%)의 범위에서 단조롭게 감소하고,
(B) 파장 600~800nm의 범위에 있어서 상기 근적외선 반사막에 40°의 입사각으로 입사하는 광의 분광 투과율이 70%일 때의 파장을 파장 λH R(40°, 70%)로 정의하고, 또한, 파장 600~800nm의 범위에 있어서 상기 근적외선 반사막에 40°의 입사각으로 입사하는 광의 분광 투과율이 20%일 때의 파장을 파장 λH R(40°, 20%)로 정의했을 때, 상기 근적외선 반사막에 40°의 입사각으로 입사하는 광의 분광 투과율은, 상기 파장 λH R(40°, 70%)가 650nm 이상이고, 또한, 상기 파장 λH R(40°, 20%)가 720nm 이하임과 더불어 상기 파장 λH R(40°, 70%)보다 크도록, 상기 파장 λH R(40°, 70%)~상기 파장 λH R(40°, 20%)의 범위에서 단조롭게 감소하고,
(C) 상기 흡수막에 40°의 입사각으로 입사하는 광의 분광 투과율은, 파장 600~800nm의 범위에 있어서, 상기 파장 λH R(40°, 20%)보다 작은 파장 λH A(40°, 20%)에서, 20%이고,
(D) 상기 흡수막에 수직으로 입사하는 광의 분광 투과율은 상기 파장 λH R(0°, 20%)에 있어서 15% 이하이고, 또한, 상기 흡수막에 40°의 입사각으로 입사하는 광의 분광 투과율은 상기 파장 λH R(40°, 20%)에 있어서 15% 이하이며,
(E) 상기 근적외선 반사막에 수직으로 입사하는 광의 분광 투과율 및 상기 근적외선 반사막에 40°의 입사각으로 입사하는 광의 분광 투과율의 450~600nm의 파장 범위에 있어서의 평균값은, 75% 이상이고, 또한, 상기 흡수막에 수직으로 입사하는 광의 분광 투과율 및 상기 흡수막에 40°의 입사각으로 입사하는 광의 분광 투과율의 450~600nm의 파장 범위에 있어서의 평균값은, 75% 이상이다.
또, 본 발명은, 상기 적외선 컷 필터를 구비한, 촬상 광학계를 제공한다.
상기 적외선 컷 필터는, 근적외선 반사막을 구비하면서, 0°~40°의 각도로 광의 입사각이 변화해도, 특정의 범위의 파장(예를 들면, 600~700nm)에 있어서의 투과율 스펙트럼의 변화가 충분히 작다.
도 1은 본 발명의 실시형태에 따른 적외선 컷 필터의 단면도
도 2는 본 발명의 다른 실시형태에 따른 적외선 컷 필터의 단면도
도 3은 본 발명의 또 다른 실시형태에 따른 적외선 컷 필터의 단면도
도 4는 본 발명의 또 다른 실시형태에 따른 적외선 컷 필터의 단면도
도 5는 본 발명의 또 다른 실시형태에 따른 적외선 컷 필터의 단면도
도 6은 본 발명의 또 다른 실시형태에 따른 적외선 컷 필터의 단면도
도 7은 본 발명의 또 다른 실시형태에 따른 적외선 컷 필터의 단면도
도 8은 본 발명의 또 다른 실시형태에 따른 적외선 컷 필터의 단면도
도 9는 본 발명의 실시형태에 따른 촬상 광학계를 나타내는 도면
도 10은 실시예 1에 따른 제1 적층체 및 제2 적층체의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 11은 실시예 1에 따른 적외선 컷 필터의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 12는 실시예 2에 따른 제1 적층체 및 제2 적층체의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 13은 실시예 2에 따른 적외선 컷 필터의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 14는 실시예 3에 따른 제1 적층체 및 제2 적층체의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 15는 실시예 3에 따른 적외선 컷 필터의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 16은 실시예 4에 따른 제1 적층체 및 제2 적층체의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 17은 실시예 4에 따른 적외선 컷 필터의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 18은 실시예 5에 따른 제1 적층체 및 제2 적층체의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 19는 실시예 5에 따른 적외선 컷 필터의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 20은 실시예 6에 따른 제1 적층체 및 제2 적층체의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 21은 실시예 6에 따른 적외선 컷 필터의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 22는 실시예 7에 따른 제1 적층체 및 제2 적층체의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 23은 실시예 7에 따른 적외선 컷 필터의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 24는 실시예 8에 따른 제1 적층체 및 제2 적층체의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 25는 실시예 8에 따른 적외선 컷 필터의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 26은 실시예 9에 따른 제1 적층체 및 제2 적층체의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 27은 실시예 9에 따른 적외선 컷 필터의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 28은 실시예 10에 따른 제1 반사막 및 제2 반사막의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 29는 실시예 10에 따른 제1 적층체 및 제2 적층체의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 30은 실시예 10에 따른 적외선 컷 필터의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 31은 실시예에 따른 적외선 컷 필터의 평가에 이용한 촬상 소자의 분광 감도를 RGB 컬러 필터의 색마다 나타내는 그래프
도 32는 실시예 7의 적외선 컷 필터의 분광 투과율과 도 31에 나타낸 촬상 소자의 분광 감도를 합성한 결과를 나타내는 그래프
도 33은 실시예 7에 따른 적외선 컷 필터를 도 31에 나타낸 분광 감도를 갖는 촬상 소자와 조합했을 때의 R/G비 및 B/G비와 입사각의 관계를 나타내는 그래프
도 34는 실시예 1에 따른 제1 적층체 및 제2 적층체의, 파장 350~450nm의 범위에 있어서의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 35는 실시예 2에 따른 제1 적층체 및 제2 적층체의, 파장 350~450nm의 범위에 있어서의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 36은 실시예 3에 따른 제1 적층체 및 제2 적층체의, 파장 350~450nm의 범위에 있어서의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 37은 실시예 4에 따른 제1 적층체 및 제2 적층체의, 파장 350~450nm의 범위에 있어서의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 38은 실시예 5에 따른 제1 적층체 및 제2 적층체의, 파장 350~450nm의 범위에 있어서의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 39는 실시예 6에 따른 제1 적층체 및 제2 적층체의, 파장 350~450nm의 범위에 있어서의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 40은 실시예 7에 따른 제1 적층체 및 제2 적층체의, 파장 350~450nm의 범위에 있어서의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 41은 실시예 8에 따른 제1 적층체 및 제2 적층체의, 파장 350~450nm의 범위에 있어서의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 42는 실시예 9에 따른 제1 적층체 및 제2 적층체의, 파장 350~450nm의 범위에 있어서의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 43은 실시예 10에 따른 제1 적층체 및 제2 적층체의, 파장 350~450nm의 범위에 있어서의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 44는 실시예 1에 따른 적외선 컷 필터의, 파장 350~450nm의 범위에 있어서의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 45는 실시예 2에 따른 적외선 컷 필터의, 파장 350~450nm의 범위에 있어서의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 46은 실시예 3에 따른 적외선 컷 필터의, 파장 350~450nm의 범위에 있어서의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 47은 실시예 4에 따른 적외선 컷 필터의, 파장 350~450nm의 범위에 있어서의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 48은 실시예 5에 따른 적외선 컷 필터의, 파장 350~450nm의 범위에 있어서의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 49는 실시예 6에 따른 적외선 컷 필터의, 파장 350~450nm의 범위에 있어서의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 50은 실시예 7에 따른 적외선 컷 필터의, 파장 350~450nm의 범위에 있어서의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 51은 실시예 8에 따른 적외선 컷 필터의, 파장 350~450nm의 범위에 있어서의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 52는 실시예 9에 따른 적외선 캇트피르타의, 파장 350~450nm의 범위에 있어서의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 53은 실시예 10에 따른 적외선 컷 필터의, 파장 350~450nm의 범위에 있어서의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 54는 TL84 형광등의 광 강도 스펙트럼 및 실시예 1의 적외선 컷 필터의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 55는 TL84 형광등의 광 강도 스펙트럼 및 실시예 8의 적외선 컷 필터의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 56은 자외선 흡수성 물질만을 포함하는 흡수막과 투명 유전체 기판으로 이루어지는 적층체의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 2는 본 발명의 다른 실시형태에 따른 적외선 컷 필터의 단면도
도 3은 본 발명의 또 다른 실시형태에 따른 적외선 컷 필터의 단면도
도 4는 본 발명의 또 다른 실시형태에 따른 적외선 컷 필터의 단면도
도 5는 본 발명의 또 다른 실시형태에 따른 적외선 컷 필터의 단면도
도 6은 본 발명의 또 다른 실시형태에 따른 적외선 컷 필터의 단면도
도 7은 본 발명의 또 다른 실시형태에 따른 적외선 컷 필터의 단면도
도 8은 본 발명의 또 다른 실시형태에 따른 적외선 컷 필터의 단면도
도 9는 본 발명의 실시형태에 따른 촬상 광학계를 나타내는 도면
도 10은 실시예 1에 따른 제1 적층체 및 제2 적층체의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 11은 실시예 1에 따른 적외선 컷 필터의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 12는 실시예 2에 따른 제1 적층체 및 제2 적층체의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 13은 실시예 2에 따른 적외선 컷 필터의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 14는 실시예 3에 따른 제1 적층체 및 제2 적층체의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 15는 실시예 3에 따른 적외선 컷 필터의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 16은 실시예 4에 따른 제1 적층체 및 제2 적층체의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 17은 실시예 4에 따른 적외선 컷 필터의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 18은 실시예 5에 따른 제1 적층체 및 제2 적층체의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 19는 실시예 5에 따른 적외선 컷 필터의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 20은 실시예 6에 따른 제1 적층체 및 제2 적층체의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 21은 실시예 6에 따른 적외선 컷 필터의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 22는 실시예 7에 따른 제1 적층체 및 제2 적층체의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 23은 실시예 7에 따른 적외선 컷 필터의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 24는 실시예 8에 따른 제1 적층체 및 제2 적층체의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 25는 실시예 8에 따른 적외선 컷 필터의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 26은 실시예 9에 따른 제1 적층체 및 제2 적층체의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 27은 실시예 9에 따른 적외선 컷 필터의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 28은 실시예 10에 따른 제1 반사막 및 제2 반사막의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 29는 실시예 10에 따른 제1 적층체 및 제2 적층체의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 30은 실시예 10에 따른 적외선 컷 필터의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 31은 실시예에 따른 적외선 컷 필터의 평가에 이용한 촬상 소자의 분광 감도를 RGB 컬러 필터의 색마다 나타내는 그래프
도 32는 실시예 7의 적외선 컷 필터의 분광 투과율과 도 31에 나타낸 촬상 소자의 분광 감도를 합성한 결과를 나타내는 그래프
도 33은 실시예 7에 따른 적외선 컷 필터를 도 31에 나타낸 분광 감도를 갖는 촬상 소자와 조합했을 때의 R/G비 및 B/G비와 입사각의 관계를 나타내는 그래프
도 34는 실시예 1에 따른 제1 적층체 및 제2 적층체의, 파장 350~450nm의 범위에 있어서의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 35는 실시예 2에 따른 제1 적층체 및 제2 적층체의, 파장 350~450nm의 범위에 있어서의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 36은 실시예 3에 따른 제1 적층체 및 제2 적층체의, 파장 350~450nm의 범위에 있어서의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 37은 실시예 4에 따른 제1 적층체 및 제2 적층체의, 파장 350~450nm의 범위에 있어서의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 38은 실시예 5에 따른 제1 적층체 및 제2 적층체의, 파장 350~450nm의 범위에 있어서의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 39는 실시예 6에 따른 제1 적층체 및 제2 적층체의, 파장 350~450nm의 범위에 있어서의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 40은 실시예 7에 따른 제1 적층체 및 제2 적층체의, 파장 350~450nm의 범위에 있어서의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 41은 실시예 8에 따른 제1 적층체 및 제2 적층체의, 파장 350~450nm의 범위에 있어서의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 42는 실시예 9에 따른 제1 적층체 및 제2 적층체의, 파장 350~450nm의 범위에 있어서의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 43은 실시예 10에 따른 제1 적층체 및 제2 적층체의, 파장 350~450nm의 범위에 있어서의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 44는 실시예 1에 따른 적외선 컷 필터의, 파장 350~450nm의 범위에 있어서의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 45는 실시예 2에 따른 적외선 컷 필터의, 파장 350~450nm의 범위에 있어서의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 46은 실시예 3에 따른 적외선 컷 필터의, 파장 350~450nm의 범위에 있어서의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 47은 실시예 4에 따른 적외선 컷 필터의, 파장 350~450nm의 범위에 있어서의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 48은 실시예 5에 따른 적외선 컷 필터의, 파장 350~450nm의 범위에 있어서의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 49는 실시예 6에 따른 적외선 컷 필터의, 파장 350~450nm의 범위에 있어서의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 50은 실시예 7에 따른 적외선 컷 필터의, 파장 350~450nm의 범위에 있어서의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 51은 실시예 8에 따른 적외선 컷 필터의, 파장 350~450nm의 범위에 있어서의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 52는 실시예 9에 따른 적외선 캇트피르타의, 파장 350~450nm의 범위에 있어서의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 53은 실시예 10에 따른 적외선 컷 필터의, 파장 350~450nm의 범위에 있어서의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 54는 TL84 형광등의 광 강도 스펙트럼 및 실시예 1의 적외선 컷 필터의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 55는 TL84 형광등의 광 강도 스펙트럼 및 실시예 8의 적외선 컷 필터의 분광 투과율을 나타내는 그래프
도 56은 자외선 흡수성 물질만을 포함하는 흡수막과 투명 유전체 기판으로 이루어지는 적층체의 분광 투과율을 나타내는 그래프
이하, 본 발명의 실시형태에 대해서 도면을 참조하면서 설명한다. 또한, 이하의 설명은, 본 발명의 일례에 관한 것이며, 본 발명은 이들로 한정되는 것은 아니다.
도 1에 나타낸 바와 같이, 적외선 컷 필터(1a)는, 근적외선 반사막(20)과, 흡수막(30)을 구비하고 있다. 흡수막(30)은, 근적외선 반사막(20)과 평행으로 연장되어 있다. 근적외선 반사막(20) 및 흡수막(30)은, 하기 (A)~(E)의 특성을 갖는다.
(A) 파장 600~800nm의 범위에 있어서 근적외선 반사막(20)에 수직으로 입사하는 광의 분광 투과율이 70%일 때의 파장을 파장 λH R(0°, 70%)로 정의하고, 또한, 파장 600~800nm의 범위에 있어서 근적외선 반사막(20)에 수직으로 입사하는 광의 분광 투과율이 20%일 때의 파장을 파장 λH R(0°, 20%)로 정의했을 때, 근적외선 반사막(20)에 수직으로 입사하는 광의 분광 투과율은, 파장 λH R(0°, 70%)가 700nm 이상이고, 또한, 파장 λH R(0°, 20%)가 770nm 이하임과 더불어 파장 λH R(0°, 70%)보다 크도록, 파장 λH R(0°, 70%)~파장 λH R(0°, 20%)의 범위에서 단조롭게 감소한다.
(B) 파장 600~800nm의 범위에 있어서 근적외선 반사막(20)에 40°의 입사각으로 입사하는 광의 분광 투과율이 70%일 때의 파장을 파장 λH R(40°, 70%)로 정의하고, 또한, 파장 600~800nm의 범위에 있어서 근적외선 반사막(20)에 40°의 입사각으로 입사하는 광의 분광 투과율이 20%일 때의 파장을 파장 λH R(40°, 20%)로 정의했을 때, 근적외선 반사막(20)에 40°의 입사각으로 입사하는 광의 분광 투과율은, 파장 λH R(40°, 70%)가 650nm 이상이고, 또한, 파장 λH R(40°, 20%)가 720nm 이하임과 더불어 파장 λH R(40°, 70%)보다 크도록, 파장 λH R(40°, 70%)~파장 λH R(40°, 20%)의 범위에서 단조롭게 감소한다.
(C) 흡수막(30)에 40°의 입사각으로 입사하는 광의 분광 투과율은, 파장 600~800nm의 범위에 있어서, 파장 λH R(40°, 20%)보다 작은 파장 λH A(40°, 20%)에서, 20%이다.
(D) 흡수막(30)에 수직으로 입사하는 광의 분광 투과율은 파장 λH R(0°, 20%)에 있어서 15% 이하이고, 또한, 흡수막(30)에 40°의 입사각으로 입사하는 광의 분광 투과율은 파장 λH R(40°, 20%)에 있어서 15% 이하이다.
(E) 근적외선 반사막(20)에 수직으로 입사하는 광의 분광 투과율 및 근적외선 반사막(20)에 40°의 입사각으로 입사하는 광의 분광 투과율의 450~600nm의 파장 범위에 있어서의 평균값은, 75% 이상이며, 또한, 흡수막(30)에 수직으로 입사하는 광의 분광 투과율 및 흡수막(30)에 40°의 입사각으로 입사하는 광의 분광 투과율의 450~600nm의 파장 범위에 있어서의 평균값은, 75% 이상이다.
근적외선 반사막(20)은, 상기 (A) 및 (B)의 특성을 가지므로, 근적외선 반사막(20)에 0°~40°의 입사각으로 입사하는 광에 대한 분광 투과율은, 파장 650nm~770nm의 범위에 있어서 가파르게 저하한다. 근적외선 반사막(20)에 수직으로 입사하는 광의 분광 투과율 및 근적외선 반사막(20)에 40°의 입사각으로 입사하는 광의 분광 투과율은, 예를 들면, 파장 770~1100nm의 범위에 있어서, 평균값이 1% 이하이다. 이에 의해, 적외선 컷 필터(1a)는, 근적외선을 효과적으로 반사할 수 있다. 파장 λH R(0°, 70%)로부터 파장 λH R(40°, 70%)를 뺀 차 ΔλH R(70%)(=λH R(0°, 70%)－λH R(40°, 70%))는, 예를 들면, 40~60nm이다. 또, 파장 λH R(0°, 20%)로부터 파장 λH R(40°, 20%)를 뺀 차 ΔλH R(20%)(=λH R(0°, 20%)－λH R(40°, 20%))는, 예를 들면, 40~55nm이다. 이와 같이, 근적외선 반사막(20)에 입사하는 광의 입사각이 0°에서 40°로 변화하면, 근적외선 반사막(20)에 입사하는 광의 투과율 스펙트럼이 단파장측으로 시프트한다.
흡수막(30)이 상기 (C) 및 (D)의 특성을 가짐으로써, 적외선 컷 필터(1a)에 0°~40°의 각도로 광의 입사각이 변화해도, 특정의 범위의 파장 600~700nm에 있어서의 투과율 스펙트럼의 변화가 작아진다. 예를 들면, 적외선 컷 필터(1a)에 수직으로 입사하는 광의 분광 투과율이 파장 600~700nm의 범위에서 50%인 파장과 적외선 컷 필터에 40°의 입사각으로 입사하는 광의 분광 투과율이 파장 600~700nm의 범위에서 50%인 파장의 차의 절대값 ｜ΔλH(50%)｜이 10nm 이하이다. 또한, 흡수막(30)에 입사하는 광의 분광 투과율은, 흡수막(30)에 입사하는 광의 입사각이 0°~40°의 범위에서는 거의 변화하지 않는다. 환언하면, 흡수막(30)에 수직으로 입사하는 광의 분광 투과율과 흡수막(30)에 40°의 입사각으로 입사하는 광의 분광 투과율은 실질적으로 동일하다.
근적외선 반사막(20) 및 흡수막(30)이 상기 (E)의 특성을 가짐으로써, 적외선 컷 필터(1a)는, 파장 450~600nm의 범위에서 높은 분광 투과율을 갖는다. 근적외선 반사막(20)에 수직으로 입사하는 광의 분광 투과율 및 근적외선 반사막(20)에 40°의 입사각으로 입사하는 광의 분광 투과율의 450~600nm의 파장 범위에 있어서의 평균값은, 바람직하게는 85% 이상이며, 보다 바람직하게는 90% 이상이다. 흡수막(30)에 수직으로 입사하는 광의 분광 투과율 및 흡수막(30)에 40°의 입사각으로 입사하는 광의 분광 투과율의 450~600nm의 파장 범위에 있어서의 평균값은, 바람직하게는 85% 이상이며, 보다 바람직하게는 90% 이상이다.
도 1에 나타낸 바와 같이, 적외선 컷 필터(1a)는, 예를 들면, 투명 유전체 기판(10)을 더 구비하고 있다. 이 경우, 근적외선 반사막(20) 및 흡수막(30)은, 투명 유전체 기판(10)의 주면에 평행하게 연장되어 있다. 투명 유전체 기판(10)은, 경우에 따라서는 생략 가능하다.
도 1에 나타낸 바와 같이, 적외선 컷 필터(1a)에 있어서, 근적외선 반사막(20)은 투명 유전체 기판(10)의 한쪽의 주면에 접촉하고 있다. 투명 유전체 기판(10)의 재료는, 예를 들면, 고온 고습 등의 환경에 대한 내성 및 뛰어난 내약품성을 갖는 것이 바람직하다. 특히, 근적외선 반사막(20)이 형성되는 공정에 있어서 투명 유전체 기판(10)이 고온 환경에 놓이는 경우에는, 투명 유전체 기판(10)은 그러한 고온 환경에 충분한 내성을 가질 필요가 있다. 투명 유전체 기판(10)의 재료는, 예를 들면, 붕규산 유리 등의 유리, 폴리올레핀계 수지, 아크릴계 수지, 폴리에스테르계 수지, 아라미드계 수지, 이미드계 수지, 아미드계 수지, 폴리카보네이트(PC), 아세틸셀룰로오스, 폴리염화비닐, 폴리비닐아세탈(PVA), 또는 폴리비닐부티랄이다. 투명 유전체 기판(10)의 두께는, 예를 들면 50~400μm이다.
근적외선 반사막(20)은, 가시광역의 광에 대해 높은 투과율을 나타내고, 또한, 적외선역의 광에 대해 낮은 투과율을 나타내는 투과율 스펙트럼을 갖는다. 환언하면, 근적외선 반사막(20)의 투과율 스펙트럼은 가시광역에 투과대역을 가짐과 더불어 적외선역에 적외선 반사대역을 갖고, 투과대역과 적외선 반사대역 사이에 천이대역이 존재한다.
근적외선 반사막(20)은, 예를 들면, 파장 400nm 이하의 광에 대한 낮은 투과율을 갖고 있어도 된다. 예를 들면, 근적외선 반사막(20)에 수직으로 입사하는 광의 파장 350~380nm의 범위에 있어서의 분광 투과율의 평균값은 20% 이하이다. 이 경우, 근적외선 반사막(20)의 투과율 스펙트럼의 가시광역, 적외선역, 및 자외선역에는, 각각, 투과대역, 적외선 반사대역, 및 자외선 반사대역이 존재한다. 더불어, 투과대역과 적외선 반사대역 사이에는 파장의 증가에 대해 투과율이 급속하게 저하하는 천이대역이 존재하고, 자외선 반사대역과 투과대역 사이에는 파장의 증가에 대해 투과율이 급속하게 증가하는 천이대역이 존재한다. 이 경우, 예를 들면, 흡수막(30)에 포함되는 성분에 자외선이 조사되는 것을 억제할 수 있다.
근적외선 반사막(20)은, 예를 들면, 투명 유전체 기판(10)의 한쪽의 주면 상에 무기 재료 또는 유기 재료의 층을 적층함으로써 형성되어 있다. 근적외선 반사막(20)은, 1종류의 재료가 투명 유전체 기판(10)의 한쪽의 주면에 적층되어 형성되어 있어도 되고, 2종류 이상의 재료가 투명 유전체 기판(10)의 한쪽의 주면으로부터 번갈아 적층되어 형성되어 있어도 된다. 근적외선 반사막(20)은, 예를 들면, SiO2, TiO2, Ta2O5, 및 MgF 등의 재료로부터 선택되는 1종의 재료가 투명 유전체 기판(10)의 한쪽의 주면에 적층되어 형성되어 있어도 된다. 또, 근적외선 반사막(20)은, 예를 들면, SiO2, TiO2, Ta2O5, 및 MgF 등의 재료로부터 선택된 굴절률이 상이한 2종 이상의 재료가 투명 유전체 기판(10)의 한쪽의 주면으로부터 번갈아 적층되어 형성되어 있어도 된다. 이 경우, 근적외선 반사막(20)의 설계의 자유도가 높아, 근적외선 반사막(20)의 특성을 미세하게 조정하기 쉽다. 이 때문에, 근적외선 반사막(20)이 원하는 광학 특성을 용이하게 발휘할 수 있다. 또, 근적외선 반사막(20)은, 예를 들면 2개 이상의 반사막으로 분할되어 형성되어 있어도 된다. 이 경우, 2개 이상의 반사막은 각각 상이한 파장역의 광을 반사하고 있어도 되고, 일부의 파장역의 광은 복수의 반사막으로 반사하고 있어도 된다. 예를 들면, 제1 반사막이 근적외 파장역 내의 예를 들면 파장 750~1100nm의 범위 내의 비교적 단파장측의 광을 주로 반사하고, 제2 반사막이 상기 파장 범위 내의 비교적 장파장측의 광을 주로 반사하도록 설계, 제작한 데다가, 제1 반사막과 제2 반사막의 반사 특성을 합성함으로써, 파장 750~1100nm의 범위 내의 파장역의 광을 반사할 수 있어, 경우에 따라서는 400nm 이하의 파장역의 광도 반사할 수 있도록 근적외선 반사막(20)을 설계 및 제작할 수 있다. 또는, 제1 반사막 및 제2 반사막 중 어느 한 반사막만의 특성만으로는, 예를 들면 반사막으로 차폐해야 할 파장 750~1100nm의 범위 내에 있어서 투과율이 베이스라인보다 커지는 범위가 나타나, 누설광이 발생하는 일이 있다. 이것을 저감 또는 방지하기 위해서 반사 특성이 상이한 반사막을 조합해도 된다. 근적외선 반사막(20)의 두께는, 예를 들면 4~10μm이다.
근적외선 반사막(20)은, 예를 들면, (i) 증착법, 스퍼터링법, 이온 플레이팅법, 및 이온 어시스트 증착(IAD)법 등의 물리적인 방법, (ii) 화학 기상 증착(CVD)법 등의 화학적인 방법, 또는 (iii) 졸겔법 등의 습식법에 의해서 형성된다.
근적외선 반사막(20) 및 흡수막(30)은, 하기 (F)~(I)의 특성을 더 갖는다.
(F) 근적외선 반사막(20)에 수직으로 입사하는 광의 분광 투과율은, 파장 350~450nm의 범위에 있어서, 당해 분광 투과율이 20%일 때의 파장 λL R(0°, 20%)가 390nm 이상임과 더불어, 당해 분광 투과율이 70%일 때의 파장 λL R(0°, 70%)보다 작도록, 파장 λL R(0°, 20%)~파장 λL R(0°, 70%)의 범위에서 단조롭게 증가한다.
(G) 근적외선 반사막(20)에 40°의 입사각으로 입사하는 광의 분광 투과율은, 파장 350~450nm의 범위에 있어서, 당해 분광 투과율이 20%일 때의 파장 λL R(40°, 20%)가 370nm 이상임과 더불어, 당해 분광 투과율이 70%일 때의 파장 λL R(40°, 70%)보다 작도록, 파장 λL R(40°, 20%)~파장 λL R(40°, 70%)의 범위에서 단조롭게 증가한다.
(H) 흡수막(30)에 40°의 입사각으로 입사하는 광의 분광 투과율은, 파장 350~450nm의 범위에 있어서, 당해 분광 투과율이 20%일 때의 파장 λL A(40°, 20%)가 370nm 이상임과 더불어, 당해 분광 투과율이 50%일 때의 파장 λL A(40°, 50%)보다 작도록, 파장 λL A(40°, 20%)~파장 λL A(40°, 50%)의 범위에서 단조롭게 증가한다.
(I) 파장 350~450nm의 범위에 있어서, 근적외선 반사막(20)에 수직으로 입사하는 광의 분광 투과율이 50%일 때의 파장 λL R(0°, 50%)에 있어서의, 흡수막(30)에 40°의 입사각으로 입사하는 광의 분광 투과율이 60% 이하이다.
흡수막(30)이 상기 (H) 및 (I)의 특성을 가짐으로써, 적외선 컷 필터(1a)에 0°~40°의 각도로 광의 입사각이 변화해도, 특정의 범위의 파장 350~450nm, 특히 파장 400nm 부근에 있어서의 투과율 스펙트럼의 변화가 작다.
근적외선 반사막(20) 및 흡수막(30)이 (F)~(I)의 특성을 갖는 경우, 예를 들면, 적외선 컷 필터(1a)에 수직으로 입사하는 광의 분광 투과율이 파장 350~450nm의 범위에서 50%인 파장과, 적외선 컷 필터(1a)에 40°의 입사각으로 입사하는 광의 분광 투과율이 파장 350~450nm의 범위에서 50%인 파장의 차의 절대값 ｜ΔλL(50%)｜이 10nm 이하이다.
근적외선 반사막(20)은, 하기 (J)의 특성을 가져도 된다.
(J) 근적외선 반사막(20)에 40°의 입사각으로 입사하는 광의 분광 투과율이, 파장 400~450nm의 범위에서 베이스라인과의 차가 10포인트 이상인 극소값을 갖고, 또한, 당해 극소값에 대응하는 반값폭이 10nm 이상이며, 당해 반값폭을 ΔλC로 정의했을 때에 (400－ΔλC/2)~(450－ΔλC/2)nm의 범위에 극대값이 존재하는 스펙트럼을 갖는다.
적외선 컷 필터(1a)에 입사하는 광의 입사각이 0°에서 40°로 증대하면, 자외선 반사대역과 투과대역 사이의 천이대역이 단파장측으로 시프트한다. 이에 의해, 적외선 컷 필터(1a)에 입사하는 광의 입사각의 증가에 수반해 적외선 컷 필터(1a)를 투과하는 단파장의 광의 광량이 증가하기 쉽다. 근적외선 반사막(20)이 상기 (J)의 특성을 갖고 있으면, 이러한 단파장의 광의 광량의 증가를 상쇄할 수 있다. 이에 의해, 예를 들면, 적외선 컷 필터(1a)를 구비한 촬상 장치로부터 얻어지는 화상의 색 재현성 또는 그 화상의 면 내에 있어서의 색미의 균일성을 높일 수 있다.
적외선 컷 필터(1a)를 소정의 촬상 소자와 함께 이용한 경우에, 입사각 0°로 적외선 컷 필터(1a)에 입사광을 입사시켰을 때의 촬상 소자의 분광 감도의 비인 B/G비를 1로 한다. 이 때, 예를 들면, 입사각 40°로 적외선 컷 필터(1a)에 입사광을 입사시켰을 때의 B/G비가 0.97 이상, 또한, 1.03 이하이다.
근적외선 반사막(20)에 입사하는 광의 투과율 스펙트럼에는, 투과대역, 반사대역, 및 천이대역의 각각에 있어서, 리플이라 불리는 베이스라인으로부터 돌출한 스펙트럼이 출현하는 일이 있다. 적외선 컷 필터(1a)가 디지털 카메라 등의 촬상 장치에 이용되고 있는 경우, 적외선 컷 필터(1a)에는, 형광등으로부터의 광과 같이 휘선 스펙트럼을 갖는 광이 입사하는 일이 있다. 이 경우, 근적외선 반사막(20)에 입사하는 광의 투과율 스펙트럼에 출현하는 리플은 적외선 컷 필터(1a)에 입사하는 광의 투과율 스펙트럼에 영향을 미친다. 이 때문에, 이 리플이 휘선 스펙트럼과 서로 겹치지 않는 것이 바람직하다. 리플과 휘선 스펙트럼이 서로 겹치면, 형광등 등의 광원으로부터의 광이 적외선 컷 필터(1a)에 입사하는 경우에 적외선 컷 필터(1a)를 투과하는 광량이, 그 광원 이외의 광원으로부터의 광이 적외선 컷 필터(1a)에 입사하는 경우에 비해 특정 범위의 파장에서 크게 상이할 가능성이 있다.
예를 들면, 적외선 컷 필터(1a)에 수직으로 입사하는 광의 분광 투과율 및 적외선 컷 필터(1a)에 40°의 입사각으로 입사하는 광의 분광 투과율은, 440nm 부근, 550nm 부근, 및 610nm 부근에 나타나는 TL84 광원의 휘선 스펙트럼과 겹쳐지는, 베이스라인과 극값과의 차가 4포인트 이상이며, 또한, 반값폭이 15nm인 스펙트럼을 갖지 않는다. 이 경우, 적외선 컷 필터(1a)는, TL84 광원의 휘선 스펙트럼과 겹쳐지는 리플을 갖지 않기 때문에, 광원이 바뀜으로써 적외선 컷 필터(1a)를 투과하는 광량이 특정의 파장에서 크게 변동하는 것을 억제할 수 있다.
도 1에 나타낸 바와 같이, 예를 들면, 흡수막(30)은, 투명 유전체 기판(10)의 다른쪽의 주면에 접촉하고 있다. 환언하면, 흡수막(30)은, 투명 유전체 기판(10)에 대해 근적외선 반사막(20)과 반대측에 형성되어 있다. 흡수막(30)은, 예를 들면, 특정 범위의 파장(예를 들면, λH R(40°, 70%)~λH R(0°, 20%))에 있어서 흡수 피크를 갖는 물질(흡수 물질)이 분산되어 있는 바인더 수지를 포함하는 용액을 도포하고, 이 도막을 건조 및 경화시킴으로써 형성된다. 흡수막(30)을 형성하기 위한 바인더 수지는, 예를 들면, 파장 400~1100nm의 광에 대해 85% 이상의 분광 투과율을 갖는다. 또, 흡수막(30)을 형성하기 위한 바인더 수지는, 예를 들면, 고온 고습 등의 환경에 대해 내성을 갖는다. 흡수막(30)을 형성하기 위한 바인더 수지는, 예를 들면, 아크릴계 수지, 폴리스티렌계 수지, 폴리우레탄계 수지, 불소 수지, PC 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리올레핀계 수지, 실리콘계 수지, 또는 에폭시계 수지이다. 이들 수지는, 1종의 모노머, 1종의 올리고머, 또는 1종의 폴리머에 의해서 형성되어 있어도 되고, 2종 이상의 모노머, 2종 이상의 올리고머, 또는 2종 이상의 폴리머가 조합됨으로써 형성되어 있어도 된다. 흡수막(30)의 두께는, 예를 들면 1~200μm이다.
흡수막(30)이 투명 유전체 기판(10)과 접촉하고 있는 경우, 흡수막(30)과 투명 유전체 기판(10)의 계면에 있어서의 반사를 억제하는 관점으로부터, 흡수막(30)을 형성하기 위한 바인더 수지의 굴절률 na와 투명 유전체 기판(10)의 재료의 굴절률 ns와의 차는 작은 것이 바람직하다. 예를 들면, ｜na－ns｜은 0.1 이하이다.
흡수 물질이 분산되어 있는 바인더 수지를 포함하는 용액은, 예를 들면, 스핀 코팅, 디핑, 그라비아 코팅, 스프레이 코팅, 다이 코팅, 바 코팅, 및 잉크젯 등의 방법에 의해 도포된다. 이 용액은, 예를 들면, 메틸에틸케톤, 톨루엔, 시클로헥산, 시클로헥사논, 및 테트라히드로퓨란 등의 용매 중에서 흡수 물질과 바인더 수지를 혼합시켜 조제되고 있다. 또한, 이 용액의 조제에 있어서, 2종류 이상의 용매를 혼합하여 사용해도 된다.
흡수 물질은, 예를 들면, (i) 인산에스테르, 포스핀산, 및 포스폰산 등의 인 함유 화합물 혹은 황산 및 설폰산 등의 유황 함유 화합물이 구리(Cu) 및 코발트(Co) 등의 금속의 이온에 배위(配位)한 금속 착체, (ii) 인듐주석산화물(ITO) 및 안티몬주석산화물(ATO) 등의 금속 산화물, 또는 (iii) 아조계의 유기 색소, 프탈로시아닌계의 유기 색소, 나프탈로시아닌계의 유기 색소, 디임모늄계의 유기 색소, 시아닌 등의 메틴계의 유기 색소, 안트라퀴논(Anthraquinone)계의 유기 색소, 및 스쿠아리륨(squarylium)계의 유기 색소 등의 유기 색소이다. 이들 물질이 단독으로 사용되어도 되고, 이들 물질 중 2종류 이상의 물질이 혼합되어 사용되어도 된다.
흡수막(30)은, 자외선 흡수성 물질을 포함하고 있어도 된다. 이 경우, 예를 들면, 흡수 물질이 분산되어 있는 바인더 수지를 포함하는 용액에, 자외선 흡수성 물질이 첨가된다. 또, 흡수 물질이 분산되어 있는 바인더 수지를 포함하는 용액과 자외선 흡수성 물질을 포함하는 용액을 혼합해도 된다. 자외선 흡수성 물질은, 예를 들면, 벤조페논계 화합물, 벤조트리아졸계 화합물, 또는 벤조에이트계 화합물이다. 이들 화합물이 단독으로 사용되어도 되고, 이들 화합물 중 2종류 이상의 조합이 사용되어도 된다. 또, 자외선 흡수성 물질이 포함되는 막과 흡수 물질이 포함되는 막은 따로 따로 형성되어 있어도 된다. 자외선 흡수성 물질과 흡수 물질이 동일한 층에 혼재하는 경우, 물질간의 상호 작용이 발생해, 흡수 능력이나 내후성을 저하시키거나, 또는 색소의 열화를 초래하거나 하는 경우가 있다. 그래서 자외선 흡수성 물질이 포함되는 막과 흡수 물질이 포함되는 막을 따로 따로 형성함으로써, 이러한 문제를 회피할 수 있다.
자외선 흡수성 물질을 가시광역에서 충분히 투명한 PVB 등의 수지에 함유시킨 도포액을 파장 400~1100nm에 있어서 90% 이상의 평균 분광 투과율을 갖는 투명 유전체 기판에 도포하여 건조 또는 경화시킴으로써 자외선 흡수막과 투명 유전체 기판의 적층체를 제작한다. 이 적층체의 투과율 스펙트럼을 측정함으로써 자외선 흡수성 물질을 포함하는 적층체의 특성을 평가할 수 있다. 자외선 흡수성 물질을 포함하는 적층체는, 바람직하게는, 이하의 (K) 및 (L)의 특성을 갖는다.
(K) 파장 450~1100nm의 범위에 있어서, 평균의 분광 투과율이 85% 이상이다.
(L) 파장 390nm에 있어서의 분광 투과율이 파장 420nm에 있어서의 분광 투과율보다 작다.
흡수 물질이 분산되어 있는 바인더 수지를 포함하는 용액에는, 흡수 물질, 바인더 수지, 및 용매의 조합에 따라서는, 분산제가 더 첨가된다. 이에 의해, 흡수 물질이 용액 중에서 응집되는 것을 방지할 수 있다. 분산제로는, (i) 도데실벤젠설폰산염 등의 음이온계의 계면활성제, (ii) 폴리옥시에틸렌알킬에테르황산에스테르 및 폴리옥시에틸렌알킬에테르인산염 등의 폴리옥시에틸렌알킬에테르 및 폴리아크릴산염 등의 비이온계의 계면활성제, (iii) 실리콘계 계면활성제, 또는 (iv) 불소계 계면활성제를 사용할 수 있다. 이들 분산제는 단독으로 사용되어도 되고, 이들 분산제 중 2종류 이상의 조합이 사용되어도 된다. 이들 계면활성제는, 흡수 물질이 분산되어 있는 바인더 수지를 포함하는 용액의 점도를 저하시키는 작용, 그 용액의 도포면에 대한 젖음성을 높이는 작용, 및 도막의 레벨링을 용이하게 하는 작용을 발생시킬 수도 있다. 이에 의해, 흡수 물질이 분산되어 있는 바인더 수지를 포함하는 용액의 도막에 결점이 발생하는 것을 방지할 수 있다. 흡수 물질이 분산되어 있는 바인더 수지를 포함하는 용액에 있어서의 분산제의 첨가량은, 예를 들면, 그 용액의 고형분의 0.001~5중량%이다.
흡수 물질이 분산되어 있는 바인더 수지를 포함하는 용액에는, 흡수 물질, 바인더 수지, 및 용매의 조합에 따라서는, 산화 방지제가 더 첨가된다. 이에 의해, 흡수 물질 또는 바인더 수지의 열화를 억제할 수 있다. 산화 방지제로는, 페놀계의 산화 방지제, 힌더드페놀계의 산화 방지제, 아민계의 산화 방지제, 힌더드아민계의 산화 방지제, 유황계 화합물류, 니트로기 함유 화합물류, 및 아인산을 예시할 수 있다. 이들 산화 방지제는 단독으로 사용되어도 되고, 이들 산화 방지제 중 2종류 이상의 조합이 사용되어도 된다. 바인더 수지를 포함하는 용액에 있어서의 산화 방지제의 첨가량은, 예를 들면, 그 용액의 고형분의 0.001~5중량%이다.
흡수막(30)은, 복수의 막이 적층됨으로써 형성되어 있어도 된다. 이 경우, 1개의 막에 포함되는 흡수 물질 및 다른 막에 포함되는 흡수 물질은, 동일해도 되고, 상이해도 된다.
패시베이션을 위해서, 흡수막(30) 상에는 무기 재료 또는 수지로 만들어진 보호막이 더 형성되어도 된다. 이에 의해, 고온 또는 고습 등의 환경에서 흡수막(30)의 바인더 수지 및 흡수 물질의 열화를 방지할 수 있다.
본 발명의 다른 실시형태에 따른 적외선 컷 필터(1b~1h)에 대해서 설명한다. 적외선 컷 필터(1b~1e, 1h)는, 특별히 설명하는 경우를 제외하고, 적외선 컷 필터(1a)와 동일하게 구성되어 있다. 적외선 컷 필터(1a)의 구성 요소와 동일 또는 대응하는 적외선 컷 필터(1b~1e, 1h)의 구성 요소에는 동일한 부호를 부여해 상세한 설명을 생략한다. 적외선 컷 필터(1a)에 관한 설명은 기술적으로 모순되지 않는 한 적외선 컷 필터(1b~1e, 1h)에도 적용된다. 적외선 컷 필터(1f 및 1g)는, 투명 유전체 기판(10)을 갖지 않는 것 이외에는, 적외선 컷 필터(1a)와 동일하게 구성되어 있고, 적외선 컷 필터(1a)의 구성 요소와 동일 또는 대응하는 적외선 컷 필터(1f 및 1g)의 구성 요소에는 동일한 부호를 부여해 상세한 설명을 생략한다.
도 2에 나타낸 바와 같이, 적외선 컷 필터(1b)의 흡수막(30)은, 투명 유전체 기판(10)에 접촉하고 있는 근적외선 반사막(20)의 주면과 반대측의 주면에 접촉하고 있다.
도 3에 나타낸 바와 같이, 적외선 컷 필터(1c)는, 한 쌍의 근적외선 반사막(20)을 구비하고, 한 쌍의 근적외선 반사막(20)은, 제1 반사막(201)과 제2 반사막(202)을 포함한다. 제1 반사막(201)과 제2 반사막(202)은, 투명 유전체 기판(10)의 양 주면에 접촉하여 형성되어 있다. 투명 유전체 기판(10)의 한쪽의 주면에만 접촉하도록 단일의 근적외선 반사막(20)을 형성하는 경우, 근적외선 반사막(20)에서 발생하는 응력에 의해 투명 유전체 기판(10)에 휨이 발생할 가능성이 있다. 그러나, 한 쌍의 반사막, 예를 들면, 제1 반사막(201)과 제2 반사막(202)을 포함하는 근적외선 반사막(20)이 투명 유전체 기판(10)의 양 주면에 접촉하여 형성되어 있으면, 제1 반사막(201)과 제2 반사막(202)에서 발생하는 응력의 합성에 의해 투명 유전체 기판(10)에 휨이 발생하는 것을 방지할 수 있다. 특히, 단일의 근적외선 반사막(20)에 있어서 다수(예를 들면, 16층 이상)의 층이 적층되어 있으면, 근적외선 반사막(20)에서 발생하는 응력이 커지므로, 한 쌍의 근적외선 반사막(20)이 투명 유전체 기판(10)의 양 주면에 접촉하여 형성되어 있는 것이 바람직하다.
도 4에 나타낸 바와 같이, 적외선 컷 필터(1d)의 근적외선 반사막(20)은, 투명 유전체 기판(10)에 접촉하고 있는 흡수막(30)의 주면과 반대측의 주면에 접촉하고 있다.
도 5에 나타낸 바와 같이, 적외선 컷 필터(1e)의 흡수막(30)은, 제1 흡수막(301) 및 제2 흡수막(302)을 포함한다. 제2 흡수막(302)은 투명 유전체 기판(10)에 접촉하고 있다. 제1 흡수막(301)은, 투명 유전체 기판(10)에 접촉하고 있는 제2 흡수막(302)의 주면과 반대측의 주면에 접촉하고 있다. 제1 흡수막(301)은 제1의 흡수 물질을 포함하고, 제2 흡수막(302)은 제2의 흡수 물질을 포함한다. 제2의 흡수 물질은, 전형적으로는 제1의 흡수 물질과는 상이한 흡수 물질이다. 이에 의해, 흡수막(30)에 원하는 특성을 부여하기 쉽다. 제1의 흡수 물질은, 예를 들면, 유기 색소이다. 제2의 흡수 물질은, 예를 들면, 인산에스테르, 포스핀산, 및 포스폰산 등의 인 함유 화합물과 Cu 및 Co 등의 금속 원소와의 착체여도 된다. 제2 흡수막(302)의 두께는, 예를 들면, 제1 흡수막(301)의 두께보다 크다. 제1 흡수막(301)의 두께는, 예를 들면 1μm~3μm이며, 제2 흡수막(302)의 두께는, 예를 들면 30μm~150μm이다.
도 6에 나타낸 바와 같이, 적외선 컷 필터(1f)는 투명 유전체 기판(10)을 구비하고 있지 않다. 또, 적외선 컷 필터(1f)의 흡수막(30)은, 제1 흡수막(301) 및 제2 흡수막(302)을 포함한다. 제1 흡수막(301)은 제1의 흡수 물질을 포함하고, 제2 흡수막(302)은 제2의 흡수 물질을 포함한다. 제2의 흡수 물질은, 전형적으로는 제1의 흡수 물질과는 상이한 흡수 물질이다. 이에 의해, 흡수막(30)에 원하는 특성을 부여하기 쉽다. 제1의 흡수 물질은, 예를 들면, 유기 색소이다. 제2의 흡수 물질은, 예를 들면, 인산에스테르, 포스핀산, 및 포스폰산 등의 인 함유 화합물과 Cu 및 Co 등의 금속 원소와의 착체여도 된다. 적외선 컷 필터(1f)의 두께 방향에 있어서, 제1 흡수막(301)과 제2 흡수막(302) 사이에는 SiO2막(40)이 형성되어 있다. SiO2막(40)의 양면은, 제1 흡수막(301) 및 제2 흡수막(302)에 접촉하고 있다. SiO2막(40)은, 예를 들면, 증착법 등의 방법에 의해 형성되어 있다. 적외선 컷 필터(1f)의 근적외선 반사막(20)은, 제2 흡수막(302)에 접촉하고 있다. 제1 흡수막(301)의 두께는, 예를 들면 1μm~3μm이며, 제2 흡수막(302)의 두께는, 예를 들면 50μm~150μm이며, SiO2막(40)의 두께는, 예를 들면 0.5μm~3μm이다.
도 7에 나타낸 바와 같이, 적외선 컷 필터(1g)는, 적외선 컷 필터(1f)와 동일하게 제1 흡수막(301) 및 제2 흡수막(302)을 포함하는 흡수막(30)과, SiO2막(40)을 구비하고 있다. 적외선 컷 필터(1g)의 근적외선 반사막(20)은, 제1 반사막(201) 및 제2 반사막(202)를 포함한다. 제1 반사막(201) 및 제2 반사막(202)은, 서로 상이한 반사 특성을 갖는다. 근적외선 반사막(20)은, 제1 반사막(201)과 제2 반사막(202)의 조합에 의해, 원하는 근적외선 반사 기능을 발휘한다. 제1 반사막(201)은, 예를 들면 제2 흡수막(302)에 접촉하고 있고, 제2 반사막(202)은, 예를 들면 제1 흡수막(301)에 접촉하고 있다. 제1 반사막(201)의 두께는, 예를 들면 2μm~4μm이며, 제2 반사막(202)의 두께는, 예를 들면 2μm~4μm이다.
도 8에 나타낸 바와 같이, 적외선 컷 필터(1h)의 흡수막(30)에는 자외선 흡수성 물질 함유막(305)이 겹쳐져 있어도 된다. 자외선 흡수성 물질 함유막(305)은, 벤조페논계 화합물, 벤조트리아졸계 화합물, 또는 벤조에이트계 화합물 등의 자외선 흡수성 물질을 함유하고 있다. 예를 들면, 흡수막(30)의 투명 유전체 기판(10)과 접촉하고 있는 주면과 반대측의 주면과 접촉하도록 배치되어 있다. 자외선 흡수성 물질 함유막(305)의 두께는, 예를 들면, 1μm~10μm이다. 이 경우, 적외선 컷 필터(1h)가 원하는 자외선 흡수 기능을 발휘하기 쉽다.
다음에, 본 발명의 실시형태에 따른 촬상 광학계(100)에 대해서 설명한다. 도 9에 나타낸 바와 같이, 촬상 광학계(100)는, 예를 들면, 적외선 컷 필터(1a)를 구비하고 있다. 촬상 광학계(100)는, 예를 들면, 촬상 렌즈(3)를 더 구비하고 있다. 촬상 광학계(100)는, 디지털 카메라 등의 촬상 장치에 있어서, 촬상 소자(2)의 전방에 배치되어 있다. 촬상 소자(2)는, 예를 들면, CCD 또는 CMOS 등의 고체 촬상 소자이다. 도 9에 나타낸 바와 같이, 피사체로부터의 광은, 촬상 렌즈(3)에 의해서 집광되고, 적외선 컷 필터(1a)에 의해서 적외선역의 광이 컷된 후, 촬상 소자(2)에 입사한다. 이로 인해, 색 재현성이 높은 양호한 화상을 얻을 수 있다. 더불어, 촬상 광학계(100)를 구비한 촬상 장치의 화각이 크고, 적외선 컷 필터(1a)에 대해 예를 들면 40°의 입사각으로 입사한 광이 촬상 소자(2)에 유도되는 경우에도, 얻어지는 화상의 화질이 높다. 특히, 얻어지는 화상의 중심부 및 주변부에 있어서 색미가 균일하게 유지된다. 또한, 촬상 광학계(100)는, 적외선 컷 필터(1a) 대신에, 적외선 컷 필터(1b~1h) 중 어느 1개를 구비하고 있어도 된다.
[실시예]
실시예에 의해, 본 발명을 보다 상세하게 설명한다. 또한, 본 발명은 이하의 실시예로는 한정되지 않는다.
<실시예 1>
(제1 적층체)
0.21mm의 두께를 갖는 붕규산유리로 만들어진 투명 유리 기판(SCHOTT사 제조, 제품명：D263)의 한쪽의 주면에 SiO2막과 TiO2막이 번갈아 적층된 근적외선 반사막 R1을 증착법에 의해 형성했다. 이와 같이 하여, 실시예 1에 따른 제1 적층체를 제작했다. 실시예 1에 따른 제1 적층체의 근적외선 반사막 R1의 두께는, 5μm였다. 또, 실시예 1에 따른 제1 적층체의 근적외선 반사막 R1은, 17층의 SiO2막과 17층의 TiO2막을 포함하고 있었다. 실시예 1에 따른 제1 적층체의 파장 350~1100nm에 있어서의 분광 투과율을, 분광 광도계(일본분광사 제조, 형식：V－670)을 이용하여 측정했다. 이 측정에 있어서, 실시예 1에 따른 제1 적층체에는, 0°, 30°및 40°의 입사각으로 광을 입사시켰다. 얻어진 투과율 스펙트럼을 도 10에 나타낸다. 실시예 1에 따른 제1 적층체에서 이용한 투명 유리 기판(D263)은, 파장 350nm~1100nm에 있어서 높은 분광 투과율을 갖고, 실시예 1에 따른 제1 적층체의 투과율 스펙트럼을 근적외선 반사막 R1의 투과율 스펙트럼으로 간주해도 무방하다. 이것은, 이하의 다른 실시예 및 비교예에 대해서도 적용된다.
실시예 1에 따른 제1 적층체에 40°의 입사각으로 입사하는 광의 투과율 스펙트럼에 있어서 파장 490nm 부근에 리플이 발생하고 있지만, 광의 입사각이 어느 경우에도, 450~600nm의 파장 범위에 있어서의 분광 투과율의 평균값은 80%를 넘고 있었다. 한편, 입사각이 40°일 때의 실시예 1에 따른 제1 적층체의 투과율 스펙트럼에 있어서, 파장 약 410nm에 분광 투과율이 약 69%인 극소값을 갖고 있었다. 이 투과율 스펙트럼에 있어서, 분광 투과율이 95%의 라인을 베이스라인으로 가정한 경우, 이 극소값을 포함해 아래로 볼록해진 부분은, 베이스라인으로부터 20포인트 이상 저하한 분광 투과율을 갖고, 약 16nm의 반값 전폭을 갖고 있었다.
제1 적층체로의 입사각이 X°일 때에 얻어진 투과율 스펙트럼에 있어서 파장 600~800nm의 범위에 있어서 투과율이 Y%인 파장을, 특정 파장으로서 λH R(X°, Y%)로 정의했다. 실시예 1에 따른 제1 적층체의 투과율 스펙트럼에 있어서의 파장 600~800nm의 범위의 각 특정 파장을 표 1에 나타낸다. 또, ΔλH R(70%)=λH R(0°, 70%)－λH R(40°, 70%), ΔλH R(50%)=λH R(0°, 50%)－λH R(40°, 50%), 및 ΔλH R(20%)=λH R(0°, 20%)－λH R(40°, 20%)로 정의했다. 실시예 1에 따른 제1 적층체에 있어서의, ΔλH R(70%), ΔλH R(50%) 및 ΔλH R(20%)를 표 1에 나타낸다.
제1 적층체로의 입사각이 W°일 때에 얻어진 투과율 스펙트럼에 있어서 파장 350~450nm의 범위에 있어서 투과율이 Z%인 파장을 동일하게 특정 파장으로서 λL R(W°, Z%)로 정의했다. 실시예 1에 따른 제1 적층체의 투과율 스펙트럼에 있어서의 파장 350~450nm의 범위의 각 특정 파장을 표 1에 나타낸다. 또, ΔλL R(70%)=λL R(0°, 70%)－λL R(40°, 70%), ΔλL R(50%)=λL R(0°, 50%)－λL R(40°, 50%), 및 ΔλL R(20%)=λL R(0°, 20%)－λL R(40°, 20%)로 정의했다. 실시예 1에 따른 제1 적층체에 있어서의, ΔλL R(70%), ΔλL R(50%) 및 ΔλL R(20%)를 표 1에 나타낸다.
(제2 적층체)
파장 700~750nm에 흡수 피크를 갖고, 가시역의 흡수가 적고, 메틸에틸케톤(MEK)에 가용인 유기 색소(시아닌계, 스쿠아리륨계, 프탈로시아닌계, 및 디임모늄계의 유기 색소로부터 선택되는 1종류 이상의 유기 색소)를 조합하고, 용매로서 MEK를 이용해, 고형분비로 99중량%의 폴리비닐부티랄(PVB)을 첨가하고, 그 후 2시간 교반하여, 코팅액 a1을 얻었다. 도막화하여 분광 특성을 측정했을 때에 도 10의 제2 적층체의 분광 스펙트럼 특성이 얻어지도록 각 유기 색소의 함유량과 배합비를 결정했다.
이 코팅액 a1을, 0.21mm의 두께를 갖는 붕규산유리로 만들어진 투명 유리 기판(SCHOTT사 제조, 제품명：D263)의 한쪽의 주면에, 스핀 코팅에 의해 도포하여 도막을 형성했다. 이 도막을 140℃의 환경에 0.5시간 노출하여, 도막을 건조 및 경화시켜 흡수막 A1을 형성했다. 이와 같이 하여, 실시예 1에 따른 제2 적층체를 제작했다. 흡수막 A1의 두께는 3μm였다. 실시예 1에 따른 제2 적층체의 파장 350~1100nm에 있어서의 분광 투과율을, 분광 광도계(일본분광사 제조, 형식：V－670)을 이용하여 측정했다. 이 측정에 있어서, 실시예 1에 따른 제2 적층체에는, 0°, 30°및 40°의 입사각으로 광을 입사시켰는데, 어느 입사각으로도 실질적으로 동일한 투과율 스펙트럼이 얻어졌다. 입사각이 0°일 때에 얻어진 투과율 스펙트럼을 도 10에 나타낸다. 도 10에 나타낸 바와 같이, 450~600nm의 파장 범위에 있어서의 실시예 1에 따른 제2 적층체의 분광 투과율의 평균값은 75%를 넘고 있었다. 실시예 1에 따른 제2 적층체는, 파장 약 700nm 및 파장 약 760nm에 있어서 흡수 피크를 갖고 있었다. 더불어, 실시예 1에 따른 제2 적층체는, 파장 약 410nm에 있어서 흡수 피크를 갖고 있었다. 실시예 1에 따른 제2 적층체에서 이용한 투명 유리 기판(D263)은, 파장 350nm~1100nm에 있어서 높은 분광 투과율을 갖고, 실시예 1에 따른 제2 적층체의 투과율 스펙트럼을 흡수막 A1의 투과율 스펙트럼으로 간주해도 무방하다. 이것은, 이하의 다른 실시예 및 비교예에 대해서도 적용된다.
제2 적층체로의 입사각이 X°일 때에 얻어진 투과율 스펙트럼에 있어서, 파장 600~800nm의 범위에 있어서 투과율이 Y%인 파장을 특정 파장으로서 λH A(X°, Y%)로 정의했다. 실시예 1에 따른 제2 적층체의 투과율 스펙트럼에 있어서의 파장 600~800nm의 범위의 각 특정 파장을 표 1에 나타낸다. 실시예 1에 따른 제2 적층체의 투과율 스펙트럼의, 파장 711nm(=λH R(0°, 70%)), 파장 714nm(=λH R(0°, 50%)), 파장 721nm(=λH R(0°, 20%)), 파장 655nm(=λH R(40°, 70%)), 파장 666nm(=λH R(40°, 50%)), 파장 677nm(=λH R(40°, 20%)), 파장 413nm(=λL R(0°, 70%)), 파장 411nm(=λL R(0°, 50%)), 파장 403nm(=λL R(0°, 20%)), 파장 410nm(=λL R(40°, 70%)), 파장 393nm(=λL R(40°, 50%)), 및 파장 384nm(=λL R(40°, 20%))에 있어서의 투과율을 표 1에 나타낸다.
(적외선 컷 필터)
실시예 1에 따른 제1 적층체의 투명 유리 기판의 근적외선 반사막 R1이 형성되어 있지 않은 주면에, 제2 적층체의 제작과 동일하게 하여 흡수막 A1을 형성했다. 이와 같이 하여, 실시예 1에 따른 적외선 컷 필터를 제작했다. 실시예 1에 따른 적외선 컷 필터의 파장 350~1100nm에 있어서의 분광 투과율을, 분광 광도계(일본분광사 제조, 형식：V－670)을 이용해 측정했다. 이 측정에 있어서, 실시예 1에 따른 적외선 컷 필터에는, 0°, 30°및 40°의 입사각으로 광을 입사시켰다. 얻어진 투과율 스펙트럼을 도 11에 나타낸다.
적외선 컷 필터로의 입사각이 X°일 때에 얻어진 투과율 스펙트럼에 있어서 파장 600~800nm의 범위에 있어서 투과율이 Y%인 파장을 특정 파장으로서 λH(X°, Y%)로 정의했다. 표 4에 나타낸 바와 같이, 파장 λH(0°, 70%)=614nm, 파장 λH(40°, 70%)=612nm이며, 그들의 차의 절대값을 ｜ΔλH(70%)｜로 정의하면, ｜ΔλH(70%)｜=2nm였다. 파장 λH(0°, 50%)=638nm, 파장 λH(40°, 50%)=635nm이며, 그들의 차의 절대값을 ｜ΔλH(50%)｜로 정의하면, ｜ΔλH(50%)｜=3nm였다. 파장 λH(0°, 20%)=672nm, 파장 λH(40°, 20%)=658nm이며, 그들의 차의 절대값을 ｜ΔλH(20%)｜로 하면, ｜ΔλH(20%)｜=14nm였다.
<실시예 2>
(제1 적층체)
0.21mm의 두께를 갖는 붕규산유리로 만들어진 투명 유리 기판(SCHOTT사 제조, 제품명：D263)의 한쪽의 주면에, SiO2막과 TiO2막이 번갈아 적층된 실시예 1에 기재된 근적외선 반사막 R1과는 상이한 근적외선 반사막 R2를 증착법에 의해 형성했다. 이와 같이 하여, 실시예 2에 따른 제1 적층체를 제작했다. 실시예 2에 따른 제1 적층체의 근적외선 반사막 R2의 두께는, 5μm였다. 또, 실시예 2에 따른 제1 적층체의 근적외선 반사막 R2는, 17층의 SiO2막과 17층의 TiO2막을 포함하고 있었다. 실시예 2에 따른 제1 적층체의 파장 350~1100nm에 있어서의 분광 투과율을 실시예 1과 동일하게 측정했다. 얻어진 투과율 스펙트럼을 도 12에 나타낸다.
실시예 2에 따른 제1 적층체에 관한 투과율 스펙트럼에 있어서, 광의 입사각이 어느 경우에도, 450~600nm의 파장 범위에 있어서의 분광 투과율의 평균값은 80%를 넘고 있었다. 실시예 2에 따른 제1 적층체의 투과율 스펙트럼에 있어서의 파장 600~800nm의 범위의 각 특정 파장 및 ΔλH R(70%), ΔλH R(50%) 및 ΔλH R(20%)를 표 1에 나타낸다. 또, 실시예 2에 따른 제1 적층체의 투과율 스펙트럼에 있어서의 파장 350~450nm의 범위의 각 특정 파장 및 ΔλL R(70%), ΔλL R(50%) 및 ΔλL R(20%)를 표 1에 나타낸다.
(제2 적층체)
파장 700~750nm에 흡수 피크를 갖고, 가시역의 흡수가 적고, MEK에 가용인 유기 색소로 이루어지고, 실시예 1에서 사용한 유기 색소의 조합과는 상이한, 흡수성 물질을 조합하고, 용매로서 MEK를 이용해, 고형분비로 99중량%의 PVB를 첨가하고, 그 후 2시간 교반하여, 코팅액 a2를 얻었다. 도막화하여 분광 특성을 측정했을 때에 도 12의 제2 적층체의 분광 스펙트럼 특성이 얻어지도록 유기 색소의 함유량과 배합비를 결정했다.
코팅액 a2를 0.21mm의 두께를 갖는 붕규산유리로 만들어진 투명 유리 기판(SCHOTT사 제조, 제품명：D263)의 한쪽의 주면에, 스핀 코팅에 의해 도포하여 도막을 형성했다. 이 도막을 140℃의 환경에 0.5시간 노출하여, 도막을 건조 및 경화시켜 흡수막 A2를 형성했다. 이와 같이 하여, 실시예 2에 따른 제2 적층체를 제작했다. 흡수막 A2의 두께는 3μm였다. 실시예 2에 따른 제2 적층체의 파장 350~1100nm에 있어서의 분광 투과율을, 실시예 1과 동일하게 하여 측정했다. 이 측정에 있어서, 실시예 2에 따른 제2 적층체에는, 0°, 30°및 40°의 입사각으로 광을 입사시켰는데, 어느 입사각으로도 실질적으로 동일한 투과율 스펙트럼이 얻어졌다. 입사각이 0°일 때에 얻어진 투과율 스펙트럼을 도 12에 나타낸다. 도 12에 나타낸 바와 같이, 450~600nm의 파장 범위에 있어서의 실시예 2에 따른 제2 적층체의 분광 투과율의 평균값은 75%를 넘고 있었다. 실시예 2에 따른 제2 적층체는, 파장 약 710nm에 있어서 흡수 피크를 갖고 있었다. 더불어, 실시예 2에 따른 제2 적층체는, 파장 약 420nm에 있어서 흡수 피크를 갖고 있었다.
제2 적층체로의 입사각이 W°일 때에 얻어진 투과율 스펙트럼에 있어서 파장 350~450nm의 범위에 있어서 투과율이 Z%인 파장을 동일하게 특정 파장으로서 λL A(W°, Z%)로 정의했다. 실시예 2에 따른 제2 적층체의 투과율 스펙트럼에 있어서의 파장 600~800nm의 범위의 각 특정 파장 및 λL A(0°, 70%)를 표 1에 나타낸다. 실시예 2에 따른 제2 적층체의 투과율 스펙트럼의, 파장 715nm(=λH R(0°, 70%)), 파장 720nm(=λH R(0°, 50%)), 파장 731nm(=λH R(0°, 20%)), 파장 658nm(=λH R(40°, 70%)), 파장 670nm(=λH R(40°, 50%)), 파장 684nm(=λH R(40°, 20%)), 파장 406nm(=λL R(0°, 70%)), 파장 405nm(=λL R(0°, 50%)), 파장 402nm(=λL R(0°, 20%)), 파장 389nm(=λL R(40°, 70%)), 파장 387nm(=λL R(40°, 50%)), 및 파장 385nm(=λL R(40°, 20%))에 있어서의 투과율을 표 1에 나타낸다.
(적외선 컷 필터)
실시예 2에 따른 제1 적층체의 투명 유리 기판의 근적외선 반사막 R2가 형성되어 있지 않은 주면에, 제2 적층체와 동일하게 하여 흡수막 A2를 형성했다. 실시예 2에 따른 적외선 컷 필터의 파장 350~1100nm에 있어서의 분광 투과율을 실시예 1과 동일하게 측정했다. 얻어진 투과율 스펙트럼을 도 13에 나타낸다.
표 4에 나타낸 바와 같이, 실시예 2에 따른 적외선 컷 필터의 투과율 스펙트럼에 있어서, 파장 λH(0°, 70%)=621nm, 파장 λH(40°, 70%)=618nm이며, 그들의 차의 절대값 ｜ΔλH(70%)｜=3nm였다. 파장 λH(0°, 50%)=644nm, 파장 λH(40°, 50%)=640nm이며, 그들의 차의 절대값 ｜ΔλH(50%)｜=4nm였다. 파장 λH(0°, 20%)=676nm, 파장 λH(40°, 20%)=663nm이며, 그들의 차의 절대값 ｜ΔλH(20%)｜=13nm였다.
<실시예 3>
(제1 적층체)
0.21mm의 두께를 갖는 붕규산유리로 만들어진 투명 유리 기판의 한쪽의 주면에, SiO2막과 TiO2막이 번갈아 적층된 실시예 1 및 2에 기재된 근적외선 반사막 R1 및 R2는 상이한 근적외선 반사막 R3을 증착법에 의해 형성했다. 이와 같이 하여, 실시예 3에 따른 제1 적층체를 제작했다. 실시예 3에 따른 제1 적층체의 근적외선 반사막 R3의 두께는, 6μm였다. 또, 실시예 3에 따른 제1 적층체의 근적외선 반사막 R3은, 20층의 SiO2막과 20층의 TiO2막을 포함하고 있었다. 실시예 3에 따른 제1 적층체의 파장 350~1100nm에 있어서의 분광 투과율을 실시예 1과 동일하게 측정했다. 얻어진 투과율 스펙트럼을 도 14에 나타낸다.
실시예 3에 따른 제1 적층체에 있어서, 광의 입사각이 어느 경우에도, 450~600nm의 파장 범위에 있어서의 분광 투과율의 평균값은 80%를 넘고 있었다. 실시예 3에 따른 제1 적층체의 투과율 스펙트럼에 있어서의 파장 600~800nm의 범위의 각 특정 파장 및 ΔλH R(70%), ΔλH R(50%) 및 ΔλH R(20%)를 표 1에 나타낸다. 또, 실시예 3에 따른 제1 적층체의 투과율 스펙트럼에 있어서의 파장 350~450nm의 범위의 각 특정 파장 및 ΔλL R(70%), ΔλL R(50%) 및 ΔλL R(20%)를 표 1에 나타낸다.
(제2 적층체)
0.21mm의 두께를 갖는 붕규산유리로 만들어진 투명 유리 기판(SCHOTT사 제조, 제품명：D263)의 한쪽의 주면에, 페닐포스폰산구리 미립자를 포함하는 코팅액 b1을 도포하고, 도막을 건조 및 경화시켜 흡수막 B1(제2 흡수막)을 형성했다.
코팅액 b1은 이하와 같이 하여 조제했다. 아세트산구리일수화물 1.1g과 테트라히드로퓨란(THF) 60g을 혼합하여 3시간 교반해 아세트산구리 용액을 얻었다. 다음에, 얻어진 아세트산구리 용액에, PLYSURF A208F(다이이치공업제약사 제조)를 2.3g 더해 30분간 교반해, b11액을 얻었다. 또, 페닐포스폰산(도쿄카세이공업주식회사 제조) 0.6g에 THF 10g를 더해, 30분 교반하고, b12액을 얻었다. 다음에, b11액을 교반하면서 b11액에 b12액을 더하고, 실온에서 1분간 교반했다. 다음에, 이 용액에 톨루엔 45g을 더한 후, 실온에서 1분간 교반해, b13액을 얻었다. 이 b13액을 플라스크에 넣고 오일 배스(TOKYO RIKAKIKAI사 제조, 형식：OSB－2100)로 가온하면서, 로터리 에바포레이터(TOKYO RIKAKIKAI사 제조, 형식：N－1110SF)에 의해서, 25분간 탈용매 처리를 행했다. 오일 배스의 설정 온도는, 120℃로 조정했다. 그 후, 플라스크 중에서 탈용매 처리 후의 용액을 취출했다. 취출한 용액에, 실리콘 수지(신에츠화학공업사 제조, 제품명：KR－300)을 4.4g 첨가하고, 실온에서 30분간 교반해, 코팅액 b1을 얻었다.
얻어진 코팅액 b1을, 투명 유리 기판의 한쪽의 주면에, 다이 코팅에 의해서 도포하고, 다음에, 코팅액 b1의 미건조의 도막을 갖는 투명 유리 기판을 오븐에 넣고, 85℃에서 3시간, 다음에 125℃에서 3시간, 다음에 150℃에서 1시간, 다음에 170℃에서 3시간의 조건으로 도막에 대해 가열 처리를 행하고, 도막을 경화시켜 흡수막 B1(제2 흡수막)을 형성했다. 제2 흡수막인 흡수막 B1의 두께는 50μm였다. 다음에, 제2 흡수막인 흡수막 B1 위에, 실시예 2에서 사용한 코팅액 a2를 스핀 코팅에 의해 도포하여 도막을 형성했다. 이 도막을 140℃의 환경에 0.5시간 노출시켜, 도막을 건조 및 경화시켜 흡수막 A2(제1 흡수막)를 형성했다. 흡수막 A2의 두께는 3μm였다. 이와 같이 하여, 실시예 3에 따른 제2 적층체를 제작했다. 즉, 실시예 3에 따른 제2 적층체의 흡수막은, 두께가 50μm인 흡수막 B1(제2 흡수막) 및 두께가 3μm인 흡수막 A2(제1 흡수막)를 포함하고 있었다.
실시예 3에 따른 제2 적층체의 파장 350~1100nm에 있어서의 분광 투과율을, 실시예 1과 동일하게 하여 측정했다. 이 측정에 있어서, 실시예 3에 따른 제2 적층체에는, 0°, 30°및 40°의 입사각으로 광을 입사시켰는데, 어느 입사각으로도 실질적으로 동일한 투과율 스펙트럼이 얻어졌다. 입사각이 0°일 때에 얻어진 투과율 스펙트럼을 도 14에 나타낸다. 도 14에 나타낸 바와 같이, 450~600nm의 파장 범위에 있어서의 실시예 3에 따른 제2 적층체의 분광 투과율의 평균값은 75%를 넘고 있었다. 실시예 3에 따른 제2 적층체의 투과율 스펙트럼은, 파장 약 700~ 약 770nm의 범위에 이르는 폭넓은 흡수 피크를 갖고 있었다. 또 실시예 3에 따른 제2 적층체는, 파장 약 410nm에 있어서 흡수 피크를 갖고 있었다.
실시예 3에 따른 제2 적층체의 투과율 스펙트럼에 있어서의 파장 600~800nm의 범위의 각 특정 파장 및 실시예 3에 따른 제2 적층체의 투과율 스펙트럼에 있어서의 파장 350~450nm의 범위의 각 특정 파장을 표 1에 나타낸다. 실시예 3에 따른 제2 적층체의 투과율 스펙트럼의, 파장 727nm(=λH R(0°, 70%)), 파장 738nm(=λH R(0°, 50%)), 파장 766nm(=λH R(0°, 20%)), 파장 672nm(=λH R(40°, 70%)), 파장 685nm(=λH R(40°, 50%)), 파장 717nm(=λH R(40°, 20%)), 파장 406nm(=λL R(0°, 70%)), 파장 405nm(=λL R(0°, 50%)), 파장 402nm(=λL R(0°, 20%)), 파장 389nm(=λL R(40°, 70%)), 파장 387nm(=λL R(40°, 50%)), 및 파장 385nm(=λL R(40°, 20%))에 있어서의 투과율을 표 1에 나타낸다.
(적외선 컷 필터)
실시예 3에 따른 제1 적층체의 투명 유리 기판의 근적외선 반사막이 형성되어 있지 않은 주면에, 제2 적층체와 동일하게 하여 흡수막 A2(제1 흡수막) 및 흡수막 B1(제2 흡수막)로 이루어지는 흡수막을 형성했다. 실시예 3에 따른 적외선 컷 필터의 파장 350~1100nm에 있어서의 분광 투과율을 실시예 1과 동일하게 측정했다. 얻어진 투과율 스펙트럼을 도 15에 나타낸다.
표 4에 나타낸 바와 같이, 실시예 3에 따른 적외선 컷 필터의 투과율 스펙트럼에 있어서, 파장 λH(0°, 70%)=612nm, 파장 λH(40°, 70%)=607nm이며, 그들의 차의 절대값 ｜ΔλH(70%)｜=5nm였다. 파장 λH(0°, 50%)=635nm, 파장 λH(40°, 50%)=632nm이며, 그들의 차의 절대값 ｜ΔλH(50%)｜=3nm였다. 파장 λH(0°, 20%)=669nm, 파장 λH(40°, 20%)=661nm이며, 그들의 차의 절대값 ｜ΔλH(20%)｜=8nm였다.
<실시예 4>
(제1 적층체)
0.21mm의 두께를 갖는 붕규산유리로 만들어진 투명 유리 기판(SCHOTT사 제조, 제품명：D263)의 한쪽의 주면에 SiO2막과 TiO2막이 번갈아 적층된 실시예 2에 따른 근적외선 반사막과 동일한 근적외선 반사막 R2를 증착법에 의해 형성했다. 이와 같이 하여, 실시예 4에 따른 제1 적층체를 제작했다. 실시예 4에 따른 제1 적층체의 파장 350~1100nm에 있어서의 분광 투과율을 실시예 1과 동일하게 측정했다. 얻어진 투과율 스펙트럼을 도 16에 나타낸다. 실시예 4에 따른 제1 적층체에 관한 투과율 스펙트럼은 실시예 2에 따른 제1 적층체에 관한 투과율 스펙트럼과 동일했다.
(제2 적층체)
파장 700~750nm에 흡수 피크를 갖고, 가시역의 흡수가 적고, MEK(메틸에틸케톤)에 가용인 유기 색소이며, 실시예 2의 흡수막에 포함되는 유기 색소의 조합과 동일한 유기 색소의 조합으로 이루어지는 흡수성 물질과, 가시역의 흡수가 적고, MEK(메틸에틸케톤)에 가용인 벤조페논계 자외선 흡수성 물질로 이루어지는 자외선 흡수성 물질을 조합하고, 용매로서 MEK를 이용해, 고형분비로 99중량%의 PVB를 첨가해, 조합(調合) 후 2시간 교반해 코팅액 a3을 얻었다. 코팅액 a3의 조제를 위해서 이용한 벤조페논계 자외선 흡수성 물질은, 그것만을 폴리비닐부티랄에 내포시켜 제작한 자외선 흡수막의 분광 투과율이, 파장 350~450nm의 범위에 있어서, 10% 이하에서 70% 이상으로 증가하는 특성을 구비하고 있었다. 그 자외선 흡수막의 투과율 스펙트럼을 도 56에 나타낸다.
코팅액 a3에 있어서의 유기 색소 및 벤조페논계 자외선 흡수성 물질의 함유량 및 배합비는, 도막화하여 분광 특성을 측정했을 때에 도 16의 제2 적층체의 분광 스펙트럼 특성이 얻어지도록 결정했다. 이 코팅액 a3을, 0.21mm의 두께를 갖는 붕규산유리로 만들어진 투명 유리 기판(SCHOTT사 제조, 제품명：D263)의 한쪽의 주면에, 스핀 코팅에 의해 도포하여 도막을 형성했다. 이 도막을 140℃의 환경에 0.5시간 노출시키고, 도막을 건조 및 경화시켜 흡수막 A3을 형성했다. 이와 같이 하여, 실시예 4에 따른 제2 적층체를 제작했다. 흡수막 A3의 두께는 3μm였다.
실시예 4에 따른 제2 적층체의 파장 350~1100nm에 있어서의 분광 투과율을, 실시예 1과 동일하게 하여 측정했다. 이 측정에 있어서, 실시예 4에 따른 제2 적층체에는, 0°, 30°및 40°의 입사각으로 광을 입사시켰는데, 어느 입사각으로도 실질적으로 동일한 투과율 스펙트럼이 얻어졌다. 입사각이 0°일 때에 얻어진 투과율 스펙트럼을 도 16에 나타낸다. 도 16에 나타낸 바와 같이, 450~600nm의 파장 범위에 있어서의 실시예 4에 따른 제2 적층체의 분광 투과율의 평균값은 75%를 넘고 있었다. 실시예 4에 따른 제2 적층체의 투과율 스펙트럼은, 파장 약 710nm에 흡수 피크를 갖고 있었다. 실시예 4에 따른 제2 적층체의 투과율 스펙트럼은, 파장 350~450nm의 범위에 있어서 분광 투과율이 70%에서 10% 이하로 저하하는 특성을 갖고 있었다.
실시예 4에 따른 제2 적층체의 투과율 스펙트럼에 있어서의 파장 600~800nm의 범위의 각 특정 파장 및 실시예 4에 따른 제2 적층체의 투과율 스펙트럼에 있어서의 파장 350~450nm의 범위의 각 특정 파장을 표 1에 나타낸다. 실시예 4에 따른 제2 적층체의 투과율 스펙트럼의, 파장 715nm(=λH R(0°, 70%)), 파장 720nm(=λH R(0°, 50%)), 파장 731nm(=λH R(0°, 20%)), 파장 658nm(=λH R(40°, 70%)), 파장 670nm(=λH R(40°, 50%)), 파장 684nm(=λH R(40°, 20%)), 파장 406nm(=λL R(0°, 70%)), 파장 405nm(=λL R(0°, 50%)), 파장 402nm(=λL R(0°, 20%)), 파장 389nm(=λL R(40°, 70%)), 파장 387nm(=λL R(40°, 50%)), 및 파장 385nm(=λL R(40°, 20%))에 있어서의 투과율을 표 1에 나타낸다.
(적외선 컷 필터)
실시예 4에 따른 제1 적층체의 투명 유리 기판의 근적외선 반사막 R2가 형성되어 있지 않은 주면에, 제2 적층체와 동일하게 하여 흡수막 A3을 형성하고, 실시예 4에 따른 적외선 컷 필터를 얻었다. 실시예 4에 따른 적외선 컷 필터의 파장 350~1100nm에 있어서의 분광 투과율을 실시예 1과 동일하게 측정했다. 얻어진 투과율 스펙트럼을 도 17에 나타낸다.
표 4에 나타낸 바와 같이, 실시예 4에 따른 적외선 컷 필터의 투과율 스펙트럼에 있어서, 파장 λH(0°, 70%)=621nm, 파장 λH(40°, 70%)=620nm이며, 그들의 차의 절대값 ｜ΔλH(70%)｜=1nm였다. 파장 λH(0°, 50%)=643nm, 파장 λH(40°, 50%)=642nm이며, 그들의 차의 절대값 ｜ΔλH(50%)｜=1nm였다. 파장 λH(0°, 20%)=676nm, 파장 λH(40°, 20%)=663nm이며, 그들의 차의 절대값 ｜ΔλH(20%)｜=13nm였다. 적외선 컷 필터로의 입사각이 W°일 때에 얻어진 투과율 스펙트럼에 있어서 파장 350~450nm의 범위에 있어서 투과율이 Z%인 파장을 λL(W°, Z%)로 정의했다. 표 4에 나타낸 바와 같이, 파장 λL(0°, 70%)=426nm, 파장 λL(40°, 70%)=433nm이며, 그들의 차의 절대값을 ｜ΔλL(70%)｜로 하면, ｜ΔλL(70%)｜=7nm였다. 파장 λL(0°, 50%)=409nm, 파장 λL(40°, 50%)=408nm이며, 그들의 차의 절대값을 ｜ΔλL(50%)｜로 하면, ｜ΔλL(50%)｜=1nm였다. 파장 λL(0°, 20%)=404nm, 파장 λL(40°, 20%)=398nm이며, 그들의 차의 절대값을 ｜ΔλL(20%)｜로 하면, ｜ΔλL(20%)｜=6nm였다.
<실시예 5>
(제1 적층체)
0.21mm의 두께를 갖는 붕규산유리로 만들어진 투명 유리 기판(SCHOTT사 제조, 제품명：D263)의 한쪽의 주면에, SiO2막과 TiO2막이 번갈아 적층된 실시예 1~4에 기재된 근적외선 반사막 R1~R3과는 상이한 근적외선 반사막 R4를 증착법에 의해 형성했다. 이와 같이 하여, 실시예 5에 따른 제1 적층체를 제작했다. 실시예 5에 따른 제1 적층체의 근적외선 반사막의 두께는, 6μm였다. 또, 실시예 5에 따른 제1 적층체의 근적외선 반사막 R4는, 20층의 SiO2막과 20층의 TiO2막을 포함하고 있었다. 실시예 5에 따른 제1 적층체의 파장 350~1100nm에 있어서의 분광 투과율을 실시예 1과 동일하게 측정했다. 얻어진 투과율 스펙트럼을 도 18에 나타낸다.
실시예 5에 따른 제1 적층체에 관한 투과율 스펙트럼에 있어서, 광의 입사각이 어느 경우에도, 450~600nm의 파장 범위에 있어서의 분광 투과율의 평균값은 80%를 넘고 있었다. 실시예 5에 따른 제1 적층체의 투과율 스펙트럼에 있어서의 파장 600~800nm의 범위의 각 특정 파장 및 ΔλH R(70%), ΔλH R(50%) 및 ΔλH R(20%)를 표 2에 나타낸다. 또, 실시예 5에 따른 제1 적층체의 투과율 스펙트럼에 있어서의 파장 350~450nm의 범위의 각 특정 파장 및 ΔλL R(70%), ΔλL R(70%) 및 ΔλL R(20%)를 표 2에 나타낸다.
(제2 적층체)
실시예 3에서 사용한 코팅액 b1을, 0.21mm의 두께를 갖는 붕규산유리로 만들어진 투명 유리 기판(SCHOTT사 제조, 제품명：D263)의 한쪽의 주면에, 다이 코팅에 의해서 도포하여 도막을 형성했다. 이 도막을 85℃에서 3시간, 다음에 125℃에서 3시간, 다음에 150℃에서 1시간, 다음에 170℃에서 3시간의 조건으로 도막에 대해 가열 처리를 행하고, 실시예 3과 동일하게 하여 흡수막 B1을 형성했다. 흡수막 B1의 두께는 50μm였다. 이와 같이 하여, 실시예 5에 따른 제2 적층체의 제2 흡수막인 흡수막 B1을 제작했다. 다음에, 흡수막 B1 위에, 실시예 4에서 사용한 코팅액 a3을 스핀 코팅에 의해 도포하여 도막을 형성했다. 이 도막을 140℃의 환경에 0.5시간 노출시키고, 도막을 건조 및 경화시켜, 실시예 4와 동일하게 흡수막 A3을 형성했다. 이와 같이 하여, 실시예 5에 따른 제2 적층체의 제1 흡수막인 흡수막 A3을 제작했다. 흡수막 A3의 두께는 3μm였다. 이와 같이 하여, 실시예 5에 따른 제2 적층체를 제작했다. 즉, 실시예 5에 따른 제2 적층체의 흡수막은, 두께가 50μm인 흡수막 B1(제2 흡수막) 및 두께가 3μm인 흡수막 A3(제1 흡수막)을 포함하고 있었다.
실시예 5에 따른 제2 적층체의 파장 350~1100nm에 있어서의 분광 투과율을, 실시예 1과 동일하게 하여 측정했다. 이 측정에 있어서, 실시예 5에 따른 제2 적층체에는, 0°, 30°및 40°의 입사각으로 광을 입사시켰는데, 어느 입사각으로도 실질적으로 동일한 투과율 스펙트럼이 얻어졌다. 입사각이 0°일 때에 얻어진 투과율 스펙트럼을 도 18에 나타낸다. 도 18에 나타낸 바와 같이, 450~600nm의 파장 범위에 있어서의 실시예 5에 따른 제2 적층체의 분광 투과율의 평균값은 75%를 넘고 있었다. 실시예 5에 따른 제2 적층체의 투과율 스펙트럼은, 파장 약 700nm~약 770nm의 범위에 이르는 폭넓은 흡수 피크를 갖고 있었다. 실시예 5에 따른 제2 적층체의 투과율 스펙트럼은, 파장 350~450nm의 범위에 있어서 분광 투과율이 10% 이하에서 70% 이상으로 증가하는 특성을 갖고 있었다.
실시예 5에 따른 제2 적층체의 투과율 스펙트럼에 있어서의 파장 600~800nm의 범위의 각 특정 파장 및 실시예 5에 따른 제2 적층체의 투과율 스펙트럼에 있어서의 파장 350~450nm의 범위의 각 특정 파장을 표 2에 나타낸다. 실시예 5에 따른 제2 적층체의 투과율 스펙트럼의, 파장 727nm(=λH R(0°, 70%)), 파장 738nm(=λH R(0°, 50%)), 파장 766nm(=λH R(0°, 20%)), 파장 672nm(=λH R(40°, 70%)), 파장 685nm(=λH R(40°, 50%)), 파장 717nm(=λH R(40°, 20%)), 파장 406nm(=λL R(0°, 70%)), 파장 405nm(=λL R(0°, 50%)), 파장 402nm(=λL R(0°, 20%)), 파장 389nm(=λL R(40°, 70%)), 파장 387nm(=λL R(40°, 50%)), 및 파장 385nm(=λL R(40°, 20%))에 있어서의 투과율을 표 2에 나타낸다.
(적외선 컷 필터)
실시예 5에 따른 제1 적층체의 투명 유리 기판의 근적외선 반사막 R4가 형성되어 있지 않은 주면에, 제2 적층체와 동일하게 하여 흡수막 A3(제1 흡수막) 및 흡수막 B1(제2 흡수막)로 이루어지는 흡수막을 형성했다. 실시예 5에 따른 적외선 컷 필터의 파장 350~1100nm에 있어서의 분광 투과율을 실시예 1과 동일하게 측정했다. 얻어진 투과율 스펙트럼을 도 19에 나타낸다.
표 5에 나타낸 바와 같이, 실시예 5에 따른 적외선 컷 필터의 투과율 스펙트럼에 있어서, 파장 λH(0°, 70%)=611nm, 파장 λH(40°, 70%)=606nm이며, 그들의 차의 절대값 ｜ΔλH(70%)｜=5nm였다. 파장 λH(0°, 50%)=634nm, 파장 λH(40°, 50%)=632nm이며, 그들의 차의 절대값 ｜ΔλH(50%)｜=2nm였다. 파장 λH(0°, 20%)=669nm, 파장 λH(40°, 20%)=661nm이며, 그들의 차의 절대값 ｜ΔλH(20%)｜=8nm였다. 또, 표 5에 나타낸 바와 같이, 실시예 5에 따른 적외선 컷 필터의 투과율 스펙트럼에 있어서, 파장 λL(0°, 70%)=427nm, 파장 λL(40°, 70%)=436nm이며, 그들의 차의 절대값 ｜ΔλL(70%)｜=9nm였다. 파장 λL(0°, 50%)=409nm, 파장 λL(40°, 50%)=409nm이며, 그들의 차의 절대값 ｜ΔλL(50%)｜=0nm였다. 파장 λL(0°, 20%)=404nm, 파장 λL(40°, 20%)=398nm이며, 그들의 차의 절대값 ｜ΔλL(20%)｜=6nm였다.
<실시예 6>
(제1 적층체)
0.21mm의 두께를 갖는 붕규산유리로 만들어진 투명 유리 기판(SCHOTT사 제조, 제품명：D263)의 한쪽의 주면에, SiO2막과 TiO2막이 번갈아 적층된 실시예 1~5에 기재된 근적외선 반사막 R1~R4와는 상이한 근적외선 반사막 R5를 증착법에 의해 형성했다. 이와 같이 하여, 실시예 6에 따른 제1 적층체를 제작했다. 실시예 6에 따른 제1 적층체의 근적외선 반사막 R5의 두께는 5.5μm였다. 또, 실시예 6에 따른 제1 적층체의 근적외선 반사막은, 18층의 SiO2막과 18층의 TiO2막을 포함하고 있었다. 실시예 6에 따른 제1 적층체의 파장 350~1100nm에 있어서의 분광 투과율을 실시예 1과 동일하게 측정했다. 얻어진 투과율 스펙트럼을 도 20에 나타낸다.
실시예 6에 따른 제1 적층체의 투과율 스펙트럼에 있어서, 광의 입사각이 어느 경우에도, 450~600nm의 파장 범위에 있어서의 분광 투과율의 평균값은 80%를 넘고 있었다. 입사각이 30°일 때의 실시예 6에 따른 제1 적층체의 투과율 스펙트럼에 있어서, 파장 약 422nm에 분광 투과율이 약 71%인 극소값을 갖고 있었다. 이 투과율 스펙트럼에 있어서, 분광 투과율이 93%의 라인을 베이스라인으로 가정한 경우, 이 극소값을 포함해 아래로 볼록해진 부분은, 베이스라인으로부터 15포인트 이상 저하한 분광 투과율을 갖고, 약 14nm의 반값 전폭을 갖고 있었다. 또한 입사각이 40°일 때의 실시예 6에 따른 제1 적층체의 투과율 스펙트럼에 있어서, 파장 약 415nm에 분광 투과율이 약 55%인 극소값을 갖고 있었다. 마찬가지로, 이 투과율 스펙트럼에 있어서, 분광 투과율이 93%의 라인을 베이스라인으로 가정한 경우, 이 극소값을 포함해 아래로 볼록해진 부분은, 베이스라인으로부터 30포인트 이상 저하한 분광 투과율을 갖고, 약 16nm의 반값 전폭을 갖고 있었다.
실시예 6에 따른 제1 적층체의 투과율 스펙트럼에 있어서의 파장 600~800nm의 범위의 각 특정 파장 및 ΔλH R(70%), ΔλH R(50%) 및 ΔλH R(20%)를 표 2에 나타낸다. 또, 실시예 6에 따른 제1 적층체의 투과율 스펙트럼에 있어서의 파장 350~450nm의 범위의 각 특정 파장 및 ΔλL R(70%), ΔλL R(50%), 및 ΔλL R(20%)를 표 2에 나타낸다.
(제2 적층체)
실시예 3에서 사용한 코팅액 b1을, 0.21mm의 두께를 갖는 붕규산유리로 만들어진 투명 유리 기판(SCHOTT사 제조, 제품명：D263)의 한쪽의 주면에, 다이 코팅에 의해서 도포하여 도막을 형성했다. 이 도막을 85℃에서 3시간, 다음에 125℃에서 3시간, 다음에 150℃에서 1시간, 다음에 170℃에서 3시간의 조건으로 도막에 대해 가열 처리를 행하고, 실시예 3과 동일하게 흡수막 B1을 형성했다. 흡수막 B1의 두께는 50μm였다. 이와 같이 하여, 실시예 6에 따른 제2 적층체의 제2 흡수막인 흡수막 B1을 제작했다. 다음에, 흡수막 B1 위에, 실시예 2에서 사용한 코팅액 a2를 스핀 코팅에 의해 도포하여 도막을 형성했다. 이 도막을 140℃의 환경에 0.5시간 노출하여, 도막을 건조 및 경화시켜, 실시예 2와 동일하게 흡수막 A2를 형성했다. 이와 같이 하여, 실시예 6에 따른 제2 적층체의 제1 흡수막인 흡수막 A2를 제작했다. 흡수막 A2의 두께는 3μm였다. 이와 같이 하여, 실시예 6에 따른 제2 적층체를 제작했다. 즉, 실시예 6에 따른 제2 적층체의 흡수막은, 두께가 50μm인 흡수막 B1(제2 흡수막) 및 두께가 3μm인 흡수막 A3(제1 흡수막)을 포함하고, 실시예 3에 따른 제2 적층체의 흡수막과 동일했다.
실시예 6에 따른 제2 적층체의 파장 350~1100nm에 있어서의 분광 투과율을, 실시예 1과 동일하게 하여 측정했다. 이 측정에 있어서, 실시예 6에 따른 제2 적층체에는, 0°, 30°및 40°의 입사각으로 광을 입사시켰는데, 어느 입사각으로도 실질적으로 동일한 투과율 스펙트럼이 얻어지고, 실시예 3에 따른 제2 적층체와 동일한 투과율 스펙트럼이 얻어졌다. 입사각이 0°일 때에 얻어진 투과율 스펙트럼을 도 20에 나타낸다. 도 20에 나타낸 바와 같이, 450~600nm의 파장 범위에 있어서의 실시예 6에 따른 제2 적층체의 분광 투과율의 평균값은 75%를 넘고 있었다. 실시예 6에 따른 제2 적층체의 투과율 스펙트럼은, 파장 약 700~약 770nm의 범위에 이르는 폭넓은 흡수 피크를 갖고 있었다. 실시예 6에 따른 제2 적층체의 투과율 스펙트럼은, 파장 약 410nm에 있어서 흡수 피크를 갖고 있었다. 실시예 6에 따른 제2 적층체의 투과율 스펙트럼에 있어서의 파장 600~800nm의 범위의 각 특정 파장 및 실시예 6에 따른 제2 적층체의 투과율 스펙트럼에 있어서의 파장 350~450nm의 범위의 각 특정 파장을 표 2에 나타낸다. 실시예 6에 따른 제2 적층체의 투과율 스펙트럼의, 파장 714nm(=λH R(0°, 70%)), 파장 720nm(=λH R(0°, 50%)), 파장 730nm(=λH R(0°, 20%)), 파장 659nm(=λH R(40°, 70%)), 파장 668nm(=λH R(40°, 50%)), 파장 685nm(=λH R(40°, 20%)), 파장 411nm(=λL R(0°, 70%)), 파장 410nm(=λL R(0°, 50%)), 파장 406nm(=λL R(0°, 20%)), 파장 394nm(=λL R(40°, 70%)), 파장 392nm(=λL R(40°, 50%)), 및 파장 388nm(=λL R(40°, 20%))에 있어서의 투과율을 표 2에 나타낸다.
(적외선 컷 필터)
실시예 6에 따른 제1 적층체의 투명 유리 기판의 근적외선 반사막 R5가 형성되어 있지 않은 주면에, 제2 적층체와 동일하게 하여 흡수막 A2(제1 흡수막) 및 흡수막 B1(제2 흡수막)로 이루어지는 흡수막을 형성했다. 이와 같이 하여, 실시예 6에 따른 적외선 컷 필터를 제작했다. 실시예 6에 따른 적외선 컷 필터의 파장 350~1100nm에 있어서의 분광 투과율을 실시예 1과 동일하게 하여 측정했다. 얻어진 투과율 스펙트럼을 도 21에 나타낸다.
표 5에 나타낸 바와 같이, 실시예 6에 따른 적외선 컷 필터의 투과율 스펙트럼에 있어서, 파장 λH(0°, 70%)=621nm, 파장 λH(40°, 70%)=617nm이며, 그들의 차의 절대값 ｜ΔλH(70%)｜=4nm였다. 파장 λH(0°, 50%)=643nm, 파장 λH(40°, 50%)=637nm이며, 그들의 차의 절대값 ｜ΔλH(50%)｜=6nm였다. 파장 λH(0°, 20%)=675nm, 파장 λH(40°, 20%)=663nm이며, 그들의 차의 절대값 ｜ΔλH(20%)｜=12nm였다. 실시예 6에 따른 적외선 컷 필터의 투과율 스펙트럼에 있어서, 파장 λL(0°, 70%)=413nm, 파장 λL(40°, 70%)=397nm이며, 그들의 차의 절대값 ｜ΔλL(70%)｜=16nm였다. 파장 λL(0°, 50%)=411nm, 파장 λL(40°, 50%)=394nm이며, 그들의 차의 절대값 ｜ΔλL(50%)｜=17nm였다. 파장 λL(0°, 20%)=407nm, 파장 λL(40°, 20%)=389nm이며, 그들의 차의 절대값 ｜ΔλL(20%)｜=18nm였다.
<실시예 7>
(제1 적층체)
0.21mm의 두께를 갖는 붕규산유리로 만들어진 투명 유리 기판(SCHOTT사 제조, 제품명：D263)의 한쪽의 주면에, SiO2막과 TiO2막이 번갈아 적층된 실시예 1~6에 기재된 근적외선 반사막 R1~R5와는 상이한 근적외선 반사막 R6을 증착법에 의해 형성했다. 이와 같이 하여, 실시예 7에 따른 제1 적층체를 제작했다. 실시예 7에 따른 제1 적층체의 근적외선 반사막 R6의 두께는 5.5μm였다. 또, 실시예 7에 따른 제1 적층체의 근적외선 반사막 R6은, 18층의 SiO2막과 18층의 TiO2막을 포함하고 있었다. 실시예 7에 따른 제1 적층체의 파장 350~1100nm에 있어서의 분광 투과율을 실시예 1과 동일하게 측정했다. 얻어진 투과율 스펙트럼을 도 22에 나타낸다.
실시예 7에 따른 제1 적층체의 투과율 스펙트럼에 있어서, 광의 입사각이 어느 경우에도, 450~600nm의 파장 범위에 있어서의 분광 투과율의 평균값은 80%를 넘고 있었다. 입사각이 30°일 때의 실시예 7에 따른 제1 적층체의 투과율 스펙트럼에 있어서, 파장 약 425nm에 분광 투과율이 약 75%인 극소값을 갖고 있었다. 이 투과율 스펙트럼에 있어서, 분광 투과율이 93%의 라인을 베이스라인으로 가정한 경우, 이 극소값을 포함해 아래로 볼록해진 부분은, 베이스라인으로부터 15포인트 이상 저하한 분광 투과율을 갖고, 약 12nm의 반값 전폭을 갖고 있었다. 또한 입사각이 40°일 때의 실시예 7에 따른 제1 적층체의 투과율 스펙트럼에 있어서, 파장 약 415nm에 분광 투과율이 약 58%인 극소값을 갖고 있었다. 이 투과율 스펙트럼에 있어서, 마찬가지로, 분광 투과율이 93%의 라인을 베이스라인으로 가정한 경우, 이 극소값을 포함해 아래로 볼록해진 부분은, 베이스라인으로부터 30포인트 이상 저하한 분광 투과율을 갖고, 약 14nm의 반값 전폭을 갖고 있었다.
실시예 7에 따른 제1 적층체의 투과율 스펙트럼에 있어서의 파장 600~800nm의 범위의 각 특정 파장 및 ΔλH R(70%), ΔλH R(50%) 및 ΔλH R(20%)를 표 2에 나타낸다. 또, 실시예 7에 따른 제1 적층체의 투과율 스펙트럼에 있어서의 파장 350~450nm의 범위의 각 특정 파장 및 ΔλL R(70%), ΔλL R(50%) 및 ΔλL R(20%)를 표 2에 나타낸다.
(제2 적층체)
0.21mm의 두께를 갖는 붕규산유리로 만들어진 투명 유리 기판(SCHOTT사 제조, 제품명：D263)의 한쪽의 주면에, 실시예 4에서 사용한 코팅액 a3을 스핀 코팅에 의해 도포하여 도막을 형성했다. 이 도막을 140℃의 환경에 0.5시간 노출하여, 도막을 건조 및 경화시켜 흡수막 A3을 형성했다. 이와 같이 하여, 실시예 7에 따른 제2 적층체의 흡수막 A3을 제작했다. 흡수막 A3의 두께는 3μm였다.
실시예 7에 따른 제2 적층체의 파장 350~1100nm에 있어서의 분광 투과율을, 실시예 1과 동일하게 하여 측정했다. 이 측정에 있어서, 실시예 7에 따른 제2 적층체에는, 0°, 30°및 40°의 입사각으로 광을 입사시켰는데, 어느 입사각으로도 실질적으로 동일한 투과율 스펙트럼이 얻어져, 실시예 4에 따른 제2 적층체에 관한 투과율 스펙트럼과 동일했다. 입사각이 0°일 때에 얻어진 투과율 스펙트럼을 도 22에 나타낸다. 도 22에 나타낸 바와 같이, 450~600nm의 파장 범위에 있어서의 실시예 7에 따른 제2 적층체의 분광 투과율의 평균값은 75%를 넘고 있었다. 실시예 7에 따른 제2 적층체의 투과율 스펙트럼은, 파장 약 710nm에 흡수 피크를 갖고 있었다. 실시예 7에 따른 제2 적층체의 투과율 스펙트럼은, 파장 350~450nm의 범위에 있어서 분광 투과율이 10% 이하에서 70% 이상으로 증가하는 특성을 갖고 있었다.
실시예 7에 따른 제2 적층체의 투과율 스펙트럼에 있어서의 파장 600~800nm의 범위의 각 특정 파장 및 실시예 7에 따른 제2 적층체의 투과율 스펙트럼에 있어서의 파장 350~450nm의 범위의 각 특정 파장을 표 2에 나타낸다. 실시예 7에 따른 제2 적층체의 투과율 스펙트럼의, 파장 715nm(=λH R(0°, 70%)), 파장 720nm(=λH R(0°, 50%)), 파장 731nm(=λH R(0°, 20%)), 파장 659nm(=λH R(40°, 70%)), 파장 667nm(=λH R(40°, 50%)), 파장 684nm(=λH R(40°, 20%)), 파장 411nm(=λL R(0°, 70%)), 파장 409nm(=λL R(0°, 50%)), 파장 406nm(=λL R(0°, 20%)), 파장 394nm(=λL R(40°, 70%)), 파장 391nm(=λL R(40°, 50%)), 및 파장 388nm(=λL R(40°, 20%))에 있어서의 투과율을 표 2에 나타낸다.
(적외선 컷 필터)
실시예 7에 따른 제1 적층체의 투명 유리 기판의 근적외선 반사막 R6이 형성되어 있지 않은 주면에, 제2 적층체와 동일하게 하여 흡수막 A3을 형성했다. 이와 같이 하여, 실시예 7에 따른 적외선 컷 필터를 제작했다. 실시예 7에 따른 적외선 컷 필터의 파장 350~1100nm에 있어서의 분광 투과율을 실시예 1과 동일하게 하여 측정했다. 얻어진 투과율 스펙트럼을 도 23에 나타낸다.
표 5에 나타낸 바와 같이, 실시예 7에 따른 적외선 컷 필터의 투과율 스펙트럼에 있어서, 파장 λH(0°, 70%)=620nm, 파장 λH(40°, 70%)=618nm이며, 그들의 차의 절대값 ｜ΔλH(70%)｜=2nm였다. 파장 λH(0°, 50%)=642nm, 파장 λH(40°, 50%)=636nm이며, 그들의 차의 절대값 ｜ΔλH(50%)｜=6nm였다. 파장 λH(0°, 20%)=675nm, 파장 λH(40°, 20%)=663nm이며, 그들의 차의 절대값 ｜ΔλH(20%)｜=12nm였다. 실시예 7에 따른 적외선 컷 필터의 투과율 스펙트럼에 있어서, 파장 λL(0°, 70%)=428nm, 파장 λL(40°, 70%)=429nm이며, 그들의 차의 절대값 ｜ΔλL(70%)｜=1nm였다. 파장 λL(0°, 50%)=412nm, 파장 λL(40°, 50%)=420nm이며, 그들의 차의 절대값 ｜ΔλL(50%)｜=8nm였다. 파장 λL(0°, 20%)=408nm, 파장 λL(40°, 20%)=398nm이며, 그들의 차의 절대값 ｜ΔλL(20%)｜=10nm였다.
<실시예 8>
(제1 적층체)
0.21mm의 두께를 갖는 붕규산유리로 만들어진 투명 유리 기판(SCHOTT사 제조, 제품명：D263)의 한쪽의 주면에, SiO2막과 TiO2막이 번갈아 적층된 실시예 1~7에 기재된 근적외선 반사막 R1~R6과는 상이한 근적외선 반사막 R7을 증착법에 의해 형성했다. 이와 같이 하여, 실시예 8에 따른 제1 적층체를 제작했다. 실시예 8에 따른 제1 적층체의 근적외선 반사막 R7의 두께는 6μm였다. 또, 실시예 8에 따른 제1 적층체의 근적외선 반사막 R7은, 19층의 SiO2막과 19층의 TiO2막을 포함하고 있었다. 실시예 8에 따른 제1 적층체의 파장 350~1100nm에 있어서의 분광 투과율을 실시예 1과 동일하게 측정했다. 얻어진 투과율 스펙트럼을 도 24에 나타낸다.
실시예 8에 따른 제1 적층체의 투과율 스펙트럼에 있어서, 광의 입사각이 어느 경우에도, 450~600nm의 파장 범위에 있어서의 분광 투과율의 평균값은 80%를 넘고 있었다. 입사각이 30°일 때의 실시예 8에 따른 제1 적층체의 투과율 스펙트럼에 있어서, 파장 약 420nm의 범위에 분광 투과율이 약 76%인 극소값을 갖고 있었다. 이 투과율 스펙트럼에 있어서, 분광 투과율이 93%의 라인을 베이스라인으로 가정한 경우, 이 극소값을 포함해 아래로 볼록해진 부분은, 베이스라인으로부터 10포인트 이상 저하한 분광 투과율을 갖고, 약 14nm의 반값 전폭을 갖고 있었다. 또한 입사각이 40°일 때의 실시예 8에 따른 제1 적층체의 투과율 스펙트럼에 있어서, 파장 약 429nm에 분광 투과율이 약 55%인 극소값을 갖고 있었다. 이 투과율 스펙트럼에 있어서, 마찬가지로, 분광 투과율이 93%의 라인을 베이스라인으로 가정한 경우, 이 극소값을 포함해 아래로 볼록해진 부분은, 베이스라인으로부터 30포인트 이상 저하한 분광 투과율을 갖고, 약 16nm의 반값 전폭을 갖고 있었다.
실시예 8에 따른 제1 적층체의 투과율 스펙트럼에 있어서의 파장 600~800nm의 범위의 각 특정 파장 및 ΔλH R(70%), ΔλH R(50%) 및 ΔλH R(20%)를 표 2에 나타낸다. 또, 실시예 8에 따른 제1 적층체의 투과율 스펙트럼에 있어서의 파장 350~450nm의 범위의 각 특정 파장 및 ΔλL R(70%), ΔλL R(50%) 및 ΔλL R(20%)를 표 2에 나타낸다.
(제2 적층체)
실시예 3에서 사용한 코팅액 b1을, 0.21mm의 두께를 갖는 붕규산유리로 만들어진 투명 유리 기판(SCHOTT사 제조, 제품명：D263)의 한쪽의 주면에, 다이 코팅에 의해서 도포하여 도막을 형성했다. 이 도막을 85℃에서 3시간, 다음에 125℃에서 3시간, 다음에 150℃에서 1시간, 다음에 170℃에서 3시간의 조건으로 도막에 대해 가열 처리를 행하고, 실시예 3과 동일하게 흡수막 B1을 형성했다. 흡수막 B1의 두께는 50μm였다. 이와 같이 하여, 실시예 8에 따른 제2 적층체의 제2 흡수막인 흡수막 B1을 제작했다. 다음에, 흡수막 B1 위에, 실시예 4에서 사용한 코팅액 a3을 스핀 코팅에 의해 도포하여 도막을 형성했다. 이 도막을 140℃의 환경에 0.5시간 노출하고, 도막을 건조 및 경화시켜, 실시예 4와 동일하게 흡수막 A3을 형성했다. 이와 같이 하여, 실시예 8에 따른 제2 적층체의 제1 흡수막인 흡수막 A3을 제작했다. 흡수막 A3의 두께는 3μm였다. 이와 같이 하여, 실시예 8에 따른 제2 적층체를 제작했다. 즉, 실시예 8에 따른 제2 적층체의 흡수막은, 두께가 50μm인 흡수막 B1(제2 흡수막) 및 두께가 3μm인 흡수막 A3(제1 흡수막)을 포함하고, 실시예 5에 따른 제2 적층체의 흡수막과 동일한 구성이었다.
실시예 8에 따른 제2 적층체의 파장 350~1100nm에 있어서의 분광 투과율을, 실시예 1과 동일하게 하여 측정했다. 이 측정에 있어서, 실시예 8에 따른 제2 적층체에는, 0°, 30°및 40°의 입사각으로 광을 입사시켰는데, 어느 입사각으로도 실질적으로 동일한 투과율 스펙트럼이 얻어지고, 실시예 5에 따른 제2 적층체와 동일한 투과율 스펙트럼이 얻어졌다. 입사각이 0°일 때에 얻어진 투과율 스펙트럼을 도 24에 나타낸다. 도 24에 나타낸 바와 같이, 450~600nm의 파장 범위에 있어서의 실시예 8에 따른 제2 적층체의 분광 투과율의 평균값은 75%를 넘고 있었다. 실시예 8에 따른 제2 적층체의 투과율 스펙트럼은, 파장 약 700~약 770nm의 범위에 이르는 폭넓은 흡수 피크를 갖고 있었다. 실시예 8에 따른 제2 적층체의 투과율 스펙트럼은, 파장 350~450nm의 범위에 있어서 분광 투과율이 10% 이하에서 70% 이상으로 증가하는 특성을 갖고 있었다.
실시예 8에 따른 제2 적층체의 투과율 스펙트럼에 있어서의 파장 600~800nm의 범위의 각 특정 파장 및 실시예 8에 따른 제2 적층체의 투과율 스펙트럼에 있어서의 파장 350~450nm의 범위의 각 특정 파장을 표 2에 나타낸다. 실시예 8에 따른 제2 적층체의 투과율 스펙트럼의, 파장 743nm(=λH R(0°, 70%)), 파장 749nm(=λH R(0°, 50%)), 파장 761nm(=λH R(0°, 20%)), 파장 683nm(=λH R(40°, 70%)), 파장 697nm(=λH R(40°, 50%)), 파장 712nm(=λH R(40°, 20%)), 파장 414nm(=λL R(0°, 70%)), 파장 410nm(=λL R(0°, 50%)), 파장 408nm(=λL R(0°, 20%)), 파장 396nm(=λL R(40°, 70%)), 파장 394nm(=λL R(40°, 50%)), 및 파장 390nm(=λL R(40°, 20%))에 있어서의 투과율을 표 2에 나타낸다.
(적외선 컷 필터)
실시예 8에 따른 제1 적층체의 투명 유리 기판의 근적외선 반사막 R7이 형성되어 있지 않은 주면에, 제2 적층체와 동일하게 하여 흡수막 A3(제1 흡수막) 및 흡수막 B1(제2 흡수막)로 이루어지는 흡수막을 형성했다. 이와 같이 하여, 실시예 8에 따른 적외선 컷 필터를 제작했다. 실시예 8에 따른 적외선 컷 필터의 파장 350~1100nm에 있어서의 분광 투과율을 실시예 1과 동일하게 하여 측정했다. 얻어진 투과율 스펙트럼을 도 25에 나타낸다.
표 5에 나타낸 바와 같이, 실시예 8에 따른 적외선 컷 필터의 투과율 스펙트럼에 있어서, 파장 λH(0°, 70%)=610nm, 파장 λH(40°, 70%)=607nm이며, 그들의 차의 절대값 ｜ΔλH(70%)｜=3nm였다. 파장 λH(0°, 50%)=634nm, 파장 λH(40°, 50%)=630nm이며, 그들의 차의 절대값 ｜ΔλH(50%)｜=4nm였다. 파장 λH(0°, 20%)=668nm, 파장 λH(40°, 20%)=662nm이며, 그들의 차의 절대값 ｜ΔλH(20%)｜=6nm였다. 실시예 8에 따른 적외선 컷 필터의 투과율 스펙트럼에 있어서, 파장 λL(0°, 70%)=435nm, 파장 λL(40°, 70%)=440nm이며, 그들의 차의 절대값 ｜ΔλL(70%)｜=5nm였다. 파장 λL(0°, 50%)=414nm, 파장 λL(40°, 50%)=412nm이며, 그들의 차의 절대값 ｜ΔλL(50%)｜=2nm였다. 파장 λL(0°, 20%)=409nm, 파장 λL(40°, 20%)=399nm이며, 그들의 차의 절대값 ｜ΔλL(20%)｜=10nm였다.
<실시예 9>
(제1 적층체)
0.21mm의 두께를 갖는 붕규산유리로 만들어진 투명 유리 기판(SCHOTT사 제조, 제품명：D263)의 한쪽의 주면에, 실시예 8과 동일하게 하여, SiO2막과 TiO2막이 번갈아 적층된 근적외선 반사막 R7을 증착법에 의해 형성했다. 이와 같이 하여, 실시예 9에 따른 제1 적층체를 제작했다. 실시예 9에 따른 제1 적층체의 파장 350~1100nm에 있어서의 분광 투과율을 실시예 1과 동일하게 측정했다. 얻어진 투과율 스펙트럼을 도 26에 나타낸다. 실시예 9에 따른 제1 적층체에 관한 투과율 스펙트럼은 실시예 8에 따른 제1 적층체에 관한 투과율 스펙트럼과 동일했다.
(제2 적층체)
0.21mm의 두께를 갖는 붕규산유리로 만들어진 투명 유리 기판(SCHOTT사 제조, 제품명：D263)의 한쪽의 주면에, 바인더로서의 실리콘 수지(신에츠화학공업사 제조, 제품명：KR－300)의 함유량을 4.4g에서 2배의 8.8g으로 변경한 것 이외에는 코팅액 b1과 동일하게 하여 제작한 코팅액 b2를 도포하고, 흡수막 B2(제2 흡수막)를 형성했다. 제2 흡수막인 흡수막 B2의 두께는 100μm였다. 다음에, 제2 흡수막인 흡수막 B2 위에, 증착법에 의해 SiO2막을 형성했다. SiO2막의 두께는 3μm였다. 또한 SiO2막 위에, 실시예 4에서 사용한 코팅액 a3을 스핀 코팅에 의해 도포하여 도막을 형성했다. 이 도막을 140℃의 환경에 0.5시간 노출해, 도막을 건조 및 경화시켜 흡수막 A3(제1 흡수막)을 형성했다. 이와 같이 하여 실시예 9에 따른 제2 적층체를 제작했다. 즉, 실시예 9에 따른 제2 적층체의 흡수막은, 두께가 100μm인 흡수막 B2(제2 흡수막), 두께가 3μm인 SiO2막, 및 두께가 3μm인 흡수막 A3(제1 흡수막)을 포함하고 있었다. 실시예 9에 따른 제2 적층체의 파장 350~1100nm에 있어서의 분광 투과율을, 실시예 1과 동일하게 하여 측정했다. 이 측정에 있어서, 실시예 9에 따른 제2 적층체에는, 0°, 30°및 40°의 입사각으로 광을 입사시켰는데, 어느 입사각으로도 실질적으로 동일한 투과율 스펙트럼이 얻어져, 실시예 8에 따른 제2 적층체와 실질적으로 동일한 투과율 스펙트럼이 얻어졌다. 입사각이 0°일 때에 얻어진 투과율 스펙트럼을 도 26에 나타낸다.
(적외선 컷 필터)
0.21mm의 두께를 갖는 붕규산유리로 만들어진 투명 유리 기판(SCHOTT사 제조, 제품명：D263)의 한쪽의 주면에, 제2 적층체와 동일하게 흡수막 B2(제2 흡수막)를 형성했다. 흡수막 B2(제2 흡수막)의 두께는 100μm였다. 흡수막 B2(제2 흡수막) 위에, 제1 적층체의 근적외선 반사막과 동일한 근적외선 반사막 R7을 형성했다. 다음에, 흡수막 B2(제2 흡수막)를 투명 유리 기판으로부터 박리한, 이와 같이 하여 흡수막 B2(제2 흡수막) 상에 근적외선 반사막 R7이 형성된 필름을 얻었다. 이 필름은 근적외선 반사막 R7측이 볼록면이 되도록 휜 상태가 되었다. 또한, 근적외선 반사막 R7이 형성되어 있지 않은 흡수막 B2(제2 흡수막)의 또 다른 한쪽의 면에, 증착법에 의해 SiO2막을 형성했다. SiO2막의 두께는 3μm였다. 이에 의해 필름의 휨이 완화되었다. 계속해서, SiO2막 위에, 제2 적층체의 흡수막 A3(제1 흡수막)과 동일한 흡수막 A3을 형성했다. 흡수막 A3의 두께는 마찬가지로 3μm였다. 이와 같이 하여, 실시예 9에 따른 적외선 컷 필터를 제작했다. 실시예 9에 따른 적외선 컷 필터의 파장 350~1100nm에 있어서의 분광 투과율을 실시예 1과 동일하게 측정했다. 얻어진 투과율 스펙트럼을 도 27에 나타낸다. 실시예 9에 따른 적외선 컷 필터의 투과율 스펙트럼은, 실시예 8에 따른 적외선 컷 필터와 거의 동일하다고 확인되었다. 투명 유리 기판과 제2 적층체의 굴절률차가 적기 때문에, 적외선 컷 필터에 있어서의 투명 유리 기판의 유무는 적외선 컷 필터의 분광 투과율에 대해 실질적으로 영향을 주지 않는다고 생각된다.
<실시예 10>
(제1 적층체)
0.21mm의 두께를 갖는 붕규산유리로 만들어진 투명 유리 기판(SCHOTT사 제조, 제품명：D263)의 한쪽의 주면에, SiO2막과 TiO2막이 번갈아 적층된 근적외선 반사막 R81(제1 반사막)을 증착법에 의해 형성했다. 제1 반사막인 근적외선 반사막 R81은, 후술하는 반사막 R82와의 조합에 의해, 원하는 근적외선 반사막의 기능을 구비하는 것이다. 제1 반사막 R81의 두께는, 4μm이며, 16층의 SiO2막과 16층의 TiO2막을 포함하고 있었다. 투명 유리 기판과 근적외선 반사막 R81(제1 반사막)의 적층체의 파장 350~1100nm에 있어서의 분광 투과율을 입사각 0°로 실시예 1과 동일하게 측정했다. 얻어진 투과율 스펙트럼을 도 28에 나타낸다.
투명 유리 기판의, 제1 반사막 R81이 형성되어도 되는 다른 한쪽의 주면에, SiO2막과 TiO2막이 번갈아 적층된 반사막 R82(제2 반사막)를 증착법에 의해 형성했다. 반사막 R82의 두께는, 4μm였다. 또, 반사막 R82는, 16층의 SiO2막과 16층의 TiO2막을 포함하고 있었다. 반사막 R82의 파장 350~1100nm에 있어서의 분광 투과율을 실시예 1과 동일하게 측정하기 위해서, 제2 반사막인 반사막 R82를 제작할 때와 동일한 배치에, 양면에 아무것도 형성되어 있지 않은 0.21mm의 두께를 갖는 붕규산유리로 만들어진 투명 유리 기판(SCHOTT사 제조, 제품명：D263)를 투입하여, 투명 유리 기판의 한쪽의 면에 반사막 R82가 형성된 적층체를 얻고, 분광 투과율을 입사각 0°로 측정했다. 얻어진 투과율 스펙트럼을 도 28에 나타낸다.
이와 같이 하여, 실시예 10에 따른 제1 적층체를 제작했다. 즉, 실시예 10에 따른 제1 적층체는, 유리 기판의 양방의 주면 상에 제1 반사막인 근적외선 반사막 R81 및 제2 반사막인 근적외선 반사막 R82가 각각 형성되어 있는 적층체였다. 이 제1 적층체의 파장 350~1100nm에 있어서의 분광 투과율을 실시예 1과 동일하게 측정했다. 얻어진 투과율 스펙트럼을 도 29에 나타낸다. 도 29에 나타낸 바와 같이, 제1 적층체의 투과역(예를 들면, 0°의 입사각인 경우에는 파장 약 420~690nm의 범위)에 있어서의 분광 투과율은, 다른 실시예의 제1 적층체와는 달리 100%에 가까웠다. 이것은, 제1 반사막인 근적외선 반사막 R81 및 제2 반사막인 반사막 R82가 투과역에 있어서의 반사 방지 기능을 구비하도록 설계되어 있었기 때문이며, 이 결과, 실시예 10에 따른 제1 적층체의 공기와의 계면에 있어서의 반사 손실이 억제되었던 것에 유의한다.
실시예 10에 따른 제1 적층체에 40°의 입사각으로 입사하는 광의 투과율 스펙트럼에 있어서, 파장 약 500nm 부근에 리플이 발생하고 있지만, 광의 입사각이 어느 경우에도, 450~600nm의 파장 범위에 있어서의 분광 투과율의 평균값은 80%를 넘고 있었다. 입사각이 30°일 때의 실시예 10에 따른 제1 적층체의 투과율 스펙트럼에 있어서, 파장 약 425nm에 분광 투과율이 약 80%인 극소값을 갖고 있었다. 이 투과율 스펙트럼에 있어서, 분광 투과율이 99%인 라인을 베이스라인으로 가정한 경우, 이 극소값을 포함해 아래로 볼록해진 부분은, 베이스라인으로부터 약 20포인트 저하한 분광 투과율을 갖고, 약 15nm의 반값 전폭을 갖고 있었다. 또한 입사각이 40°일 때의 실시예 10에 따른 제1 적층체의 투과율 스펙트럼에 있어서, 파장 약 415nm에 분광 투과율이 약 55%인 극소값을 갖고 있었다. 이 투과율 스펙트럼에 있어서, 마찬가지로, 분광 투과율이 99%인 라인을 베이스라인으로 가정한 경우, 이 극소값을 포함해 아래로 볼록해진 부분은, 베이스라인으로부터 40포인트 이상 저하한 분광 투과율을 갖고, 약 19nm의 반값 전폭을 갖고 있었다.
실시예 10에 따른 제1 적층체의 투과율 스펙트럼에 있어서의 파장 600~800nm의 범위의 각 특정 파장 및 ΔλH R(70%), ΔλH R(50%) 및 ΔλH R(20%)를 표 3에 나타낸다. 또, 실시예 10에 따른 제1 적층체의 투과율 스펙트럼에 있어서의 파장 350~450nm의 범위의 각 특정 파장 및 ΔλL R(70%), ΔλL R(50%) 및 ΔλL R(20%)를 표 3에 나타낸다.
(제2 적층체)
0.21mm의 두께를 갖는 붕규산유리로 만들어진 투명 유리 기판(SCHOTT사 제조, 제품명：D263)의 한쪽의 주면에, 제2 흡수막인 흡수막 B2, SiO2막, 및 제1 흡수막인 흡수막 A3으로 이루저는 실시예 9의 제2 적층체와 동일 구성의 흡수막을 형성했다. 이와 같이 하여 실시예 10에 따른 제2 적층체를 제작했다. 즉, 실시예 10에 따른 제2 적층체의 흡수막은, 두께가 100μm인 제2 흡수막인 흡수막 B2, 두께가 3μm인 SiO2막, 및 두께가 3μm인 제1 흡수막인 흡수막 A3을 포함하고 있었다.
실시예 10에 따른 제2 적층체의 파장 350~1100nm에 있어서의 분광 투과율을, 실시예 1과 동일하게 하여 측정했다. 이 측정에 있어서, 실시예 10에 따른 제2 적층체에는, 0°, 30°및 40°의 입사각으로 광을 입사시켰는데, 어느 입사각으로도 실질적으로 동일한 투과율 스펙트럼이 얻어져, 실시예 9에 따른 제2 적층체와 동일한 투과율 스펙트럼이 얻어졌다. 입사각이 0°일 때에 얻어진 투과율 스펙트럼을 도 29에 나타낸다. 도 29에 나타낸 바와 같이, 450~600nm의 파장 범위에 있어서의 실시예 10에 따른 제2 적층체의 분광 투과율의 평균값은 75%를 넘고 있었다. 실시예 10에 따른 제2 적층체의 투과율 스펙트럼은, 파장 약 700~약 770nm의 범위에 이르는 폭넓은 흡수 피크를 갖고 있었다. 실시예 10에 따른 제2 적층체의 투과율 스펙트럼은, 파장 350~450nm의 범위에 있어서 분광 투과율이 10% 이하에서 70% 이상으로 증가하는 특성을 갖고 있었다.
실시예 10에 따른 제2 적층체의 투과율 스펙트럼에 있어서의 파장 600~800nm의 범위의 각 특정 파장 및 실시예 10에 따른 제2 적층체의 투과율 스펙트럼에 있어서의 파장 350~450nm의 범위의 각 특정 파장을 표 3에 나타낸다. 실시예 10에 따른 제2 적층체의 투과율 스펙트럼의, 파장 715nm(=λH R(0°, 70%)), 파장 719nm(=λH R(0°, 50%)), 파장 727nm(=λH R(0°, 20%)), 파장 659nm(=λH R(40°, 70%)), 파장 676nm(=λH R(40°, 50%)), 파장 684nm(=λH R(40°, 20%)), 파장 411nm(=λL R(0°, 70%)), 파장 410nm(=λL R(0°, 50%)), 파장 409nm(=λL R(0°, 20%)), 파장 389nm(=λL R(40°, 70%)), 파장 386nm(=λL R(40°, 50%)), 및 파장 383nm(=λL R(40°, 20%))에 있어서의 투과율을 표 3에 나타낸다.
(적외선 컷 필터)
0.21mm의 두께를 갖는 붕규산유리로 만들어진 투명 유리 기판(SCHOTT사 제조, 제품명：D263)의 한쪽의 주면에, 제2 적층체의 제2 흡수막과 동일한 흡수막 B2를 형성했다. 제2 흡수막인 흡수막 B2의 두께는 100μm였다. 제2 흡수막인 흡수막 B2 위에, 제1 적층체의 제1 반사막과 동일한 근적외선 반사막 R81을 형성했다. 다음에, 제2 흡수막인 흡수막 B2를 투명 유리 기판으로부터 박리했다. 이와 같이 하여 제2 흡수막인 흡수막 B2 상에 제1 반사막인 근적외선 반사막 R81이 형성된 필름을 얻었다. 이 필름은 근적외선 반사막 R81측이 볼록면이 되도록 휜 상태가 되었다. 또한, 근적외선 반사막 R81이 형성되어 있지 않은 제2 흡수막의 다른 한쪽의 면에, 증착법에 의해 SiO2막을 형성했다. SiO2막의 두께는 3μm였다. 이에 의해 필름의 휨이 완화되었다. 계속해서, SiO2막 위에, 제2 적층체의 제1 흡수막과 동일한 흡수막 A3을 형성했다. 제1 흡수막인 흡수막 A3의 두께는 동일하게 3μm였다. 또한, 제1 흡수막인 흡수막 A3 위에, 제1 적층체의 제2 반사막과 동일한 반사막 R82를 형성했다. 이와 같이 하여, 실시예 10에 따른 적외선 컷 필터를 제작했다. 실시예 10에 따른 적외선 컷 필터의 파장 350~1100nm에 있어서의 분광 투과율을 실시예 1과 동일하게 측정했다. 얻어진 투과율 스펙트럼을 도 30에 나타낸다.
표 6에 나타낸 바와 같이, 실시예 10에 따른 적외선 컷 필터의 투과율 스펙트럼에 있어서, 파장 λH(0°, 70%)=615nm, 파장 λH(40°, 70%)=611nm이며, 그들의 차의 절대값 ｜ΔλH(70%)｜=4nm였다. 파장 λH(0°, 50%)=637nm, 파장 λH(40°, 50%)=633nm이며, 그들의 차의 절대값 ｜ΔλH(50%)｜=4nm였다. 파장 λH(0°, 20%)=669nm, 파장 λH(40°, 20%)=659nm이며, 그들의 차의 절대값 ｜ΔλH(20%)｜=10nm였다. 실시예 10에 따른 적외선 컷 필터의 투과율 스펙트럼에 있어서, 파장 λL(0°, 70%)=423nm, 파장 λL(40°, 70%)=430nm이며, 그들의 차의 절대값 ｜ΔλL(70%)｜=7nm였다. 파장 λL(0°, 50%)=411nm, 파장 λL(40°, 50%)=421nm이며, 그들의 차의 절대값 ｜ΔλL(50%)｜=10nm였다. 파장 λL(0°, 20%)=410nm, 파장 λL(40°, 20%)=399nm이며, 그들의 차의 절대값 ｜ΔλL(20%)｜=11nm였다.
<평가 1>
실시예 7에 따른 적외선 컷 필터를 소정의 감도 특성을 갖는 촬상 소자와 조합했을 때의 분광 감도에 대해서 평가했다. 이 평가에는, 도 31에 나타낸 분광 감도를 갖는 촬상 소자를 이용했다. 촬상 소자 자체에는 색의 식별 능력은 없기 때문에, RGB 컬러 필터에 의해 색 분해된 광이 촬상 소자에 이끌린 결과, 도 31에 나타낸 분광 감도가 얻어져다. 실시예 7에 따른 적외선 컷 필터에 0°및 40°의 입사각으로 광을 입사시켰을 때의 분광 투과율과, 도 31에 나타낸 분광 감도를 합성한 결과를 도 32에 나타낸다. 도 32에 있어서, 가장 단파장측에 피크를 갖는 스펙트럼은 B필터(청색 필터)를 투과한 광에 관한 것이다. 또, 가장 장파장측에 피크를 갖는 스펙트럼은 R필터(적색 필터)를 통과한 광에 관한 것이다. 또한, 그들 피크의 중간에 피크를 갖는 스펙트럼은 G필터(녹색 필터)를 통과한 광에 관한 것이다. 도 32에 나타낸 바와 같이, 입사각이 40°일 때의 합성된 분광 감도는, 입사각이 0°일 때의 합성된 분광 감도와 상이했다.
촬상 장치에서 얻어지는 화상에 있어서의 색미의 차이를 평가하는 지표로서, B/G비가 있다. 실시예 7에 따른 적외선 컷 필터에 입사하는 광의 입사각을 0°에서 40°까지 단계적으로 변화시켜 각 입사각에 대해서 350~1100nm의 파장 범위에 있어서의 투과율 스펙트럼을 얻었다. 게다가, 실시예 7에 따른 적외선 컷 필터를 도 31에 나타낸 분광 감도를 갖는 촬상 소자와 조합했을 때의 B/G비가, 실시예 7에 따른 적외선 컷 필터에 입사하는 광의 입사각을 0°에서 40°까지 단계적으로 변화시켰을 때에 어떻게 변화하는지를 평가했다. 여기서, B/G비는, 적외선 컷 필터 및 G필터를 투과한 광의 촬상 소자에 있어서의 분광 감도에 대한, 적외선 컷 필터 및 B필터를 투과한 광의 촬상 소자에 있어서의 분광 감도의 비이다. 실시예 7에 따른 적외선 컷 필터에 입사하는 광의 입사각이 0°일 때의 B/G비의 값을 1.0으로 했을 때의 상대값으로서, 각 입사각에 있어서의 B/G비를 구한 바, 도 33에 나타낸 결과가 얻어졌다. 특히 입사각이 40°일 때의 B/G비는 1.02였다. 또 마찬가지로 실시예, 1~10에 따른 적외선 컷 필터에 대해서 얻어진 결과를 표 4~표 6의 최하단에 나타낸다. 이들로부터 알 수 있는 바와 같이, 모든 실시예에 대해서, B/G비가 1.03 이하가 되었다. 일반적으로는 B/G비는 0.97 이상, 또한 1.03 이하의 범위에 있음으로써, 색 재현성이 좋은 품질이 높은 화질이 얻어진다고 여겨지고 있으며, 모든 실시예에 따른 적외선 컷 필터는, 실시예에 따른 적외선 컷 필터에 입사하는 광의 입사각을 0°에서 40°까지 증가시켜도, B/G비의 상대값은 그만큼 변화하지 않고, 실시예에 따른 적외선 컷 필터는, 입사각이 크게 변화해도 색 재현성이 높은 화상을 얻는데 유리한 것이 시사되었다.
실시예 1, 6, 7, 8, 9, 및 10에 따른 제1 적층체의 입사각이 40°인 투과율 스펙트럼은, 파장 400~450nm의 범위에, 입사각이 40°일 때에 발생하는 리플을 갖고 있었다. 또, 실시예 4, 5, 7, 8, 9, 및 10에 따른 제2 적층체는 자외선 흡수성 물질을 갖고 있었다. 그래서, 이들 실시예를 포함시킨 모든 실시예에 따른 제2 적층체 및 적외선 컷 필터의 파장 350~450nm에 있어서의 투과율 스펙트럼에 주목했다. 실시예 1~10의 파장 350~450nm의 제1 적층체의 투과율 스펙트럼을 도 34~도 43에, 실시예 1~10의 파장 350~450nm의 적외선 컷 필터의 투과율 스펙트럼을 도 44~도 53에 나타낸다. 도 34~도 43에 나타낸 바와 같이, 실시예 1~10에 따른 제1 적층체에 40°의 입사각으로 광이 입사할 때의 투과율 스펙트럼의 투과대역과 자외선 반사대역 사이의 천이대역은, 실시예 1~10에 따른 제1 적층체에 수직으로 광이 입사할 때에 비해 단파장측으로 시프트하고 있었다. 이 때문에, 실시예 1에 따른 제1 적층체에 있어서, 입사각이 0°일 때 투과율 스펙트럼의 그 천이대역에서 투과율이 50%인 파장 λL R(0°, 50%)는 약 411nm인 반면, 입사각이 40°일 때 투과율 스펙트럼의 그 천이대역에서 투과율이 50%인 파장 λL R(40°, 50%)는 393nm였다. 실시예 2에 있어서는, λL R(0°, 50%)는 405nm인 반면, λL R(40°, 50%)는 387nm였다. 실시예 3에 있어서는, λL R(0°, 50%)는 405nm인 반면, λL R(40°, 50%)는 약 387nm였다. 실시예 4에 있어서는, λL R(0°, 50%)는 405nm인 반면, λL R(40°, 50%)는 387nm였다. 실시예 5에 있어서는, λL R(0°, 50%)는 405nm인 반면, λL R(40°, 50%)는 387nm였다. 실시예 6에 있어서는, λL R(0°, 50%)는 410nm인 반면, λL R(40°, 50%)는 392nm였다. 실시예 7에 있어서는, λL R(0°, 50%)는 410nm인 반면, λL R(40°, 50%)는 392nm였다. 실시예 8에 있어서는, λL R(0°, 50%)는 410nm인 반면, λL R(40°, 50%)는 394nm였다. 실시예 9에 있어서는, λL R(0°, 50%)는 410nm인 반면, λL R(40°, 50%)는 394nm였다. 실시예 10에 있어서는, λL R(0°, 50%)는 410nm인 반면, λL R(40°, 50%)는 386nm였다. 이에 의해, 모든 실시예에 따른 적외선 컷 필터를 투과하는 단파장측의 광의 광량이 입사각의 증가에 수반해 증가하기 쉬운 것이 시사되었다. 또한, B필터를 투과 가능한 광의 실효적인 파장 범위(투과율이 20% 이상인 파장의 범위)는, 예를 들면 약 380~550nm이다. 이 때문에, 입사각의 증가에 따른 단파장측의 광의 광량의 증가는 촬상 소자에 있어서의 수광량에도 영향을 미쳐, 얻어지는 화상에 있어서의 색 재현성 및 색미의 균일성을 저하시킬 가능성이 있다.
도 34, 도 39~도 43에 나타낸 바와 같이, 실시예 1, 6, 7, 8, 9, 및 10에 따른 제1 적층체에 40°의 입사각으로 광이 입사할 때의 투과율 스펙트럼은, 파장 400~450nm의 범위에서, 베이스라인과의 차가 15포인트 이상인 극소값을 갖고, 또한, 반값 전폭이 10nm 이상이며, 반값 전폭을 ΔλC로 하면 (400－ΔλC/2)~(450－ΔλC/2)nm에 극대값이 존재하는 스펙트럼(리플)을 갖고 있었다. 이것에 수반해, 도 44, 도 49~도 53에 나타낸 바와 같이, 실시예 1, 6, 7, 8, 9, 및 에 따른 적외선 컷 필터에 40°의 입사각으로 광이 입사할 때의 투과율 스펙트럼에 그 리플이 반영되어 있었다. 이 때문에, 실시예 1, 6, 7, 8, 9, 및 10에 따른 적외선 컷 필터에서는, 입사각의 증가에 수반해 천이대역이 단파장측으로 증가하는 것에 의한 단파장측의 광의 광량의 증가를 상쇄할 수 있어, 표 4~표 6에 나타낸 바와 같이, 촬상 소자로서 중요한 지표인 B/G비를 소정의 범위 내에 억제할 수 있는 것이 시사되었다. 또, 도 37, 도 38, 도 40~도 43에 나타낸 바와 같이, 실시예 4, 5, 7, 8, 9, 및 10에 따른 제2 적층체에 광이 입사할 때의 투과율 스펙트럼에 있어서, 파장 λL R(0°, 50%)에 있어서의 분광 투과율이 55% 이하이며, 또한, 제2 적층체의 분광 투과율이 파장 350~450nm의 범위에서 70%에서 20% 이하로 저하하고 있었다. 이것에 수반해, 도 47, 도 48, 도 50~도 53에 나타낸 바와 같이, 실시예 4, 5, 7, 8, 9, 및 10에 따른 적외선 컷 필터에 0°및 40°의 입사각으로 광이 입사할 때의 투과율 스펙트럼에 있어서, 입사각이 0°일 때의 분광 투과율이 50%인 파장 λL(0°, 50%)와 입사각이 40°일 때의 분광 투과율이 50%인 파장 λL(40°, 50%)의 차의 절대값 ｜ΔλL(50%)｜는, 10nm 이내였다. 이 때문에, 실시예 4, 5, 7, 8, 9, 및 10에 따른 적외선 컷 필터에서는, 입사각의 증가에 수반해 천이대역이 단파장측으로 시프트하는 것에 의한 단파장측의 광의 광량의 증가를 상쇄할 수 있어, 표 4~표 6에 나타낸 바와 같이, 촬상 소자로서 중요한 지표인 B/G비를 소정의 범위 내로 억제할 수 있는 것이 시사되었다.
<평가 2>
모든 실시예를 대표해 실시예 1 및 실시예 8에 따른 적외선 컷 필터의 투과율 스펙트럼과 TL84 광원의 휘선 스펙트럼의 관계에 대해서 평가했다. 도 54 및 도 55에 나타낸 바와 같이, TL84 광원의 광 강도 스펙트럼은, 파장 440nm 부근, 파장 550nm 부근, 및 파장 610nm 부근에 휘선 스펙트럼을 갖고 있었다. 이들 휘선 스펙트럼과 겹쳐지는 비교적 큰 리플(예를 들면, 베이스라인과 극값의 차가 4포인트 이상이며, 또한, 반값폭이 15nm 이상인 스펙트럼)이 적외선 컷 필터의 투과율 스펙트럼에 나타나 있으면, 그 적외선 컷 필터를 구비한 촬상 장치로부터 양호한 색 재현성을 갖는 화상이 얻어지지 않을 가능성이 있다. 그러나, 도 54, 도 55, 또, 도 10~도 30 등에 나타낸 바와 같이, 실시예 1~10에 따른 적외선 컷 필터의 어느 입사각에 있어서의 투과율 스펙트럼에도, TL84 광원의 파장 440nm 부근, 파장 550nm 부근, 및 파장 610nm 부근에 나타나는 휘선 스펙트럼과 겹쳐지는 비교적 큰 리플은 나타나지 않았다. 이 때문에, 실시예 1~10에 따른 적외선 컷 필터를 촬상 장치에 이용하면, TL84 광원하에서도 양호한 색 재현성을 갖는 화상이 얻어지기 쉬운 것이 시사되었다.
Claims (10)
- 굴절률이 상이한 2종 이상의 재료가 번갈아 적층되어 형성된 근적외선 반사막과,
상기 근적외선 반사막과 평행으로 연장되어 있는 흡수막으로, 하기 (B)에서 정의된 파장 λH R(40°, 70%)~하기 (A)에서 정의된 파장 λH R(0°, 20%)에 있어서 흡수 피크를 갖는 물질을 포함하는 흡수막을 구비하고,
상기 근적외선 반사막 및 상기 흡수막은, 하기 (A)~(E)의 특성을 갖는,
적외선 컷 필터.
(A) 파장 600~800nm의 범위에 있어서 상기 근적외선 반사막에 수직으로 입사하는 광의 분광 투과율이 70%일 때의 파장을 파장 λH R(0°, 70%)로 정의하고, 또한, 파장 600~800nm의 범위에 있어서 상기 근적외선 반사막에 수직으로 입사하는 광의 분광 투과율이 20%일 때의 파장을 파장 λH R(0°, 20%)로 정의했을 때, 상기 근적외선 반사막에 수직으로 입사하는 광의 분광 투과율은, 상기 파장 λH R(0°, 70%)가 700nm 이상이고, 또한, 상기 파장 λH R(0°, 20%)가 770nm 이하임과 더불어 상기 파장 λH R(0°, 70%)보다 크도록, 상기 파장 λH R(0°, 70%)~상기 파장 λH R(0°, 20%)의 범위에서 단조롭게 감소하고,
(B) 파장 600~800nm의 범위에 있어서 상기 근적외선 반사막에 40°의 입사각으로 입사하는 광의 분광 투과율이 70%일 때의 파장을 파장 λH R(40°, 70%)로 정의하고, 또한, 파장 600~800nm의 범위에 있어서 상기 근적외선 반사막에 40°의 입사각으로 입사하는 광의 분광 투과율이 20%일 때의 파장을 파장 λH R(40°, 20%)로 정의했을 때, 상기 근적외선 반사막에 40°의 입사각으로 입사하는 광의 분광 투과율은, 상기 파장 λH R(40°, 70%)가 650nm 이상이고, 또한, 상기 파장 λH R(40°, 20%)가 720nm 이하임과 더불어 상기 파장 λH R(40°, 70%)보다 크도록, 상기 파장 λH R(40°, 70%)~상기 파장 λH R(40°, 20%)의 범위에서 단조롭게 감소하고,
(C) 상기 흡수막에 40°의 입사각으로 입사하는 광의 분광 투과율은, 파장 600~800nm의 범위에 있어서, 상기 파장 λH R(40°, 20%)보다 작은 파장 λH A(40°, 20%)에서, 20%이고,
(D) 상기 흡수막에 수직으로 입사하는 광의 분광 투과율은 상기 파장 λH R(0°, 20%)에 있어서 15% 이하이고, 또한, 상기 흡수막에 40°의 입사각으로 입사하는 광의 분광 투과율은 상기 파장 λH R(40°, 20%)에 있어서 15% 이하이며,
(E) 상기 근적외선 반사막에 수직으로 입사하는 광의 분광 투과율 및 상기 근적외선 반사막에 40°의 입사각으로 입사하는 광의 분광 투과율의 450~600nm의 파장 범위에 있어서의 평균값은, 75% 이상이고, 또한, 상기 흡수막에 수직으로 입사하는 광의 분광 투과율 및 상기 흡수막에 40°의 입사각으로 입사하는 광의 분광 투과율의 450~600nm의 파장 범위에 있어서의 평균값은, 75% 이상이다. - 청구항 1에 있어서,
당해 적외선 컷 필터에 수직으로 입사하는 광의 분광 투과율이 파장 600~700nm의 범위에서 50%인 파장 λH(0°, 50%)와 당해 적외선 컷 필터에 40°의 입사각으로 입사하는 광의 분광 투과율이 파장 600~700nm의 범위에서 50%인 파장 λH(40°, 50%)의 차의 절대값이 10nm 이하인, 적외선 컷 필터. - 청구항 1에 있어서,
상기 근적외선 반사막 및 상기 흡수막은, 하기 (F)~(I)의 특성을 더 갖는, 적외선 컷 필터.
(F) 상기 근적외선 반사막에 수직으로 입사하는 광의 분광 투과율은, 파장 350~450nm의 범위에 있어서, 당해 분광 투과율이 20%일 때의 파장 λL R(0°, 20%)가 390nm 이상임과 더불어, 당해 분광 투과율이 70%일 때의 파장 λL R(0°, 70%)보다 작도록, 파장 λL R(0°, 20%)~파장 λL R(0°, 70%)의 범위에서 단조롭게 증가한다.
(G) 상기 근적외선 반사막에 40°의 입사각으로 입사하는 광의 분광 투과율은, 파장 350~450nm의 범위에 있어서, 당해 분광 투과율이 20%일 때의 파장 λL R(40°, 20%)가 370nm 이상임과 더불어, 당해 분광 투과율이 70%일 때의 파장 λL R(40°, 70%)보다 작도록, 파장 λL R(40°, 20%)~파장 λL R(40°, 70%)의 범위에서 단조롭게 증가한다.
(H) 상기 흡수막에 40°의 입사각으로 입사하는 광의 분광 투과율은, 파장 350~450nm의 범위에 있어서, 당해 분광 투과율이 20%일 때의 파장 λL A(40°, 20%)가 370nm 이상임과 더불어, 당해 분광 투과율이 50%일 때의 파장 λL A(40°, 50%)보다 작도록, 파장 λL A(40°, 20%)~파장 λL A(40°, 50%)의 범위에서 단조롭게 증가한다.
(I) 파장 350~450nm의 범위에 있어서, 상기 근적외선 반사막에 수직으로 입사하는 광의 분광 투과율이 50%일 때의 파장 λL R(0°, 50%)에 있어서의, 상기 흡수막에 40°의 입사각으로 입사하는 광의 분광 투과율이 60% 이하이다. - 청구항 3에 있어서,
당해 적외선 컷 필터에 수직으로 입사하는 광의 분광 투과율이 파장 350~450nm의 범위에서 50%인 파장과, 당해 적외선 컷 필터에 40°의 입사각으로 입사하는 광의 분광 투과율이 파장 350~450nm의 범위에서 50%인 파장의 차의 절대값 ｜ΔλL(50%)｜이 10nm 이하인, 적외선 컷 필터. - 청구항 1에 있어서,
상기 근적외선 반사막은, 하기 (J)의 특성을 갖는, 적외선 컷 필터.
(J) 상기 근적외선 반사막에 40°의 입사각으로 입사하는 광의 분광 투과율이, 파장 400~450nm의 범위에서 베이스라인과의 차가 10포인트 이상인 극소값을 갖고, 또한, 상기 극소값에 대응하는 반값폭이 10nm 이상이며, 상기 반값폭을 ΔλC로 정의했을 때에 (400－ΔλC/2)~(450－ΔλC/2)nm의 범위에 극대값이 존재하는 스펙트럼을 갖는다. - 청구항 3 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서,
소정의 촬상 소자와 함께 이용한 경우에, 입사각 0°로 당해 적외선 컷 필터에 입사광을 입사시켰을 때의 상기 촬상 소자의 분광 감도의 비인 B/G비를 1로 했을 때에, 입사각 40°로 당해 적외선 컷 필터에 입사광을 입사시켰을 때의 B/G비가 0.97 이상, 또한, 1.03 이하인, 적외선 컷 필터. - 청구항 1에 있어서,
당해 적외선 컷 필터에 수직으로 입사하는 광의 분광 투과율 및 당해 적외선 컷 필터에 40°의 입사각으로 입사하는 광의 분광 투과율은, 440nm 부근, 550nm 부근, 및 610nm 부근에 나타나는 TL84 광원의 휘선 스펙트럼과 겹쳐지는, 베이스라인과 극값의 차가 4포인트 이상이고, 또한, 반값폭이 15nm 이상인 스펙트럼을 갖지 않는, 적외선 컷 필터. - 청구항 1에 있어서,
투명 유전체 기판을 더 구비하고,
상기 근적외선 반사막 및 상기 흡수막은, 상기 투명 유전체 기판의 주면에 평행으로 연장되어 있는, 적외선 컷 필터. - 청구항 1에 기재된 적외선 컷 필터를 구비한, 촬상 광학계.
- 삭제
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2016129878A JP6087464B1 (ja) | 2016-06-30 | 2016-06-30 | 赤外線カットフィルタ及び撮像光学系 |
| JPJP-P-2016-129878 | 2016-06-30 | ||
| PCT/JP2017/023451 WO2018003756A1 (ja) | 2016-06-30 | 2017-06-26 | 赤外線カットフィルタ及び撮像光学系 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20190020820A KR20190020820A (ko) | 2019-03-04 |
| KR102153243B1 true KR102153243B1 (ko) | 2020-09-07 |
Family
ID=58186032
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020197002775A KR102153243B1 (ko) | 2016-06-30 | 2017-06-26 | 적외선 컷 필터 및 촬상 광학계 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10795066B2 (ko) |
| JP (1) | JP6087464B1 (ko) |
| KR (1) | KR102153243B1 (ko) |
| CN (1) | CN109416421B (ko) |
| TW (1) | TWI731996B (ko) |
| WO (1) | WO2018003756A1 (ko) |
Families Citing this family (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6339755B1 (ja) * | 2016-11-14 | 2018-06-06 | 日本板硝子株式会社 | 光吸収性組成物及び光学フィルタ |
| JP6955343B2 (ja) * | 2017-02-14 | 2021-10-27 | 日本板硝子株式会社 | 赤外線カットフィルタ及び撮像光学系 |
| US11535726B2 (en) | 2017-03-22 | 2022-12-27 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Ultraviolet- and infrared-absorbing composition and ultraviolet- and infrared-absorbing filter |
| JP6232161B1 (ja) | 2017-07-27 | 2017-11-15 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ |
| JP6267823B1 (ja) | 2017-07-27 | 2018-01-24 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ、カメラモジュール、及び情報端末 |
| CN110832362B (zh) * | 2017-07-27 | 2022-01-11 | Jsr株式会社 | 近红外线截止滤波器及其制造方法、固体摄像装置以及照相机模块 |
| KR102491491B1 (ko) | 2017-09-08 | 2023-01-20 | 삼성전자주식회사 | 근적외선 흡수 필름용 조성물, 근적외선 흡수 필름, 카메라 모듈 및 전자 장치 |
| JP7070555B2 (ja) * | 2017-09-11 | 2022-05-18 | Ａｇｃ株式会社 | 光学フィルタおよび撮像装置 |
| JP6966334B2 (ja) * | 2017-10-03 | 2021-11-17 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ及び撮像装置 |
| JP6259155B1 (ja) | 2017-10-03 | 2018-01-10 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ及び撮像装置 |
| JP6273064B1 (ja) | 2017-10-03 | 2018-01-31 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ及び撮像装置 |
| JP6259157B1 (ja) * | 2017-10-03 | 2018-01-10 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ及び撮像装置 |
| KR20200095518A (ko) * | 2017-12-06 | 2020-08-10 | 니혼 이타가라스 가부시키가이샤 | 광학 필터 및 촬상 장치 |
| WO2019138976A1 (ja) * | 2018-01-09 | 2019-07-18 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ及び撮像装置 |
| JP7040362B2 (ja) * | 2018-08-29 | 2022-03-23 | Jsr株式会社 | 光学フィルター、固体撮像装置、カメラモジュールおよび生体認証装置 |
| CN111399100A (zh) * | 2019-01-03 | 2020-07-10 | 株式会社Lms | 近红外线吸收基板和光学滤波器及它们的制造方法 |
| JP6640404B2 (ja) * | 2019-06-19 | 2020-02-05 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ及びカメラ付き情報端末 |
| JP6634541B1 (ja) * | 2019-10-24 | 2020-01-22 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ、カメラモジュール、及び情報端末 |
| JP6634540B1 (ja) * | 2019-10-24 | 2020-01-22 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ、カメラモジュール、及び情報端末 |
| KR102475669B1 (ko) * | 2020-09-22 | 2022-12-09 | 주식회사 창강화학 | 광학 필터 |
| KR102561457B1 (ko) * | 2021-08-11 | 2023-07-31 | 한국광기술원 | 광학 모듈의 자외선 흡수 및 근적외선 투과를 위한 광학 코팅 구조 및 그의 코팅 방법, 광학 모듈의 자외선 흡수 및 근적외선 투과를 위한 광학 코팅 장치 |
| CN114779396A (zh) * | 2022-04-27 | 2022-07-22 | 歌尔股份有限公司 | 光波导系统及增强现实设备 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004029181A (ja) | 2002-06-24 | 2004-01-29 | Nitto Denko Corp | 積層光学フィルム及びその用途 |
| JP2005109196A (ja) * | 2003-09-30 | 2005-04-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | カラー固体撮像素子及びこのカラー固体撮像素子を用いた固体撮像装置並びにデジタルカメラ |
| WO2014104370A1 (ja) | 2012-12-28 | 2014-07-03 | 旭硝子株式会社 | 近赤外線カットフィルタ |
| JP2014203044A (ja) * | 2013-04-09 | 2014-10-27 | 日本板硝子株式会社 | 赤外線カットフィルタおよび撮像装置 |
| WO2014192714A1 (ja) | 2013-05-29 | 2014-12-04 | Jsr株式会社 | 光学フィルターおよび前記フィルターを用いた装置 |
| WO2015099060A1 (ja) * | 2013-12-26 | 2015-07-02 | 旭硝子株式会社 | 光学フィルタ |
| US20160139308A1 (en) | 2013-04-04 | 2016-05-19 | Lms Co., Ltd. | Near-infrared cut filter and solid-state image pickup device including same |
Family Cites Families (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20080041540A (ko) * | 2007-02-16 | 2008-05-13 | 엘지전자 주식회사 | 필터 및 그를 이용한 플라즈마 디스플레이 장치 |
| US8778489B2 (en) * | 2007-03-31 | 2014-07-15 | Tomoegawa Co., Ltd. | Optical layered product |
| JP5489669B2 (ja) | 2008-11-28 | 2014-05-14 | Ｊｓｒ株式会社 | 近赤外線カットフィルターおよび近赤外線カットフィルターを用いた装置 |
| KR20100137229A (ko) * | 2009-06-22 | 2010-12-30 | 삼성전자주식회사 | 디지털 카메라용 복합형 적외선 차단 필터 |
| KR20140068982A (ko) | 2011-09-21 | 2014-06-09 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 근적외선 커트 필터 |
| JP6317875B2 (ja) | 2012-09-06 | 2018-04-25 | 日本板硝子株式会社 | 赤外線カットフィルタ、撮像装置および赤外線カットフィルタの製造方法 |
| JP2014167163A (ja) * | 2013-01-31 | 2014-09-11 | Nitto Denko Corp | 赤外線反射フィルムの製造方法 |
| JP2014167162A (ja) * | 2013-01-31 | 2014-09-11 | Nitto Denko Corp | 赤外線反射フィルムの製造方法 |
| WO2014192715A1 (ja) * | 2013-05-29 | 2014-12-04 | Jsr株式会社 | 光学フィルターおよび前記フィルターを用いた装置 |
| JP6423198B2 (ja) * | 2014-08-05 | 2018-11-14 | 日東電工株式会社 | 赤外線反射フィルム |
| JP2016038420A (ja) * | 2014-08-05 | 2016-03-22 | 日東電工株式会社 | 赤外線反射基板 |
| WO2016042738A1 (ja) * | 2014-09-16 | 2016-03-24 | 株式会社デンソー | 炭化珪素半導体装置およびその製造方法 |
| JP2016090781A (ja) * | 2014-11-04 | 2016-05-23 | 株式会社Adeka | 波長カットフィルタ |
| TWI709767B (zh) | 2015-07-28 | 2020-11-11 | 日商Ｊｓｒ股份有限公司 | 光學濾波器、環境光感測器及電子設備 |
| JP6724329B2 (ja) * | 2015-10-08 | 2020-07-15 | Jsr株式会社 | 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた撮像素子 |
| KR101832114B1 (ko) | 2015-12-01 | 2018-02-23 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 광학 필터 및 촬상 장치 |
-
2016
- 2016-06-30 JP JP2016129878A patent/JP6087464B1/ja active Active
-
2017
- 2017-06-26 KR KR1020197002775A patent/KR102153243B1/ko active IP Right Grant
- 2017-06-26 CN CN201780039817.1A patent/CN109416421B/zh active Active
- 2017-06-26 US US16/311,096 patent/US10795066B2/en active Active
- 2017-06-26 WO PCT/JP2017/023451 patent/WO2018003756A1/ja active Application Filing
- 2017-06-28 TW TW106121575A patent/TWI731996B/zh active
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004029181A (ja) | 2002-06-24 | 2004-01-29 | Nitto Denko Corp | 積層光学フィルム及びその用途 |
| JP2005109196A (ja) * | 2003-09-30 | 2005-04-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | カラー固体撮像素子及びこのカラー固体撮像素子を用いた固体撮像装置並びにデジタルカメラ |
| WO2014104370A1 (ja) | 2012-12-28 | 2014-07-03 | 旭硝子株式会社 | 近赤外線カットフィルタ |
| US20160139308A1 (en) | 2013-04-04 | 2016-05-19 | Lms Co., Ltd. | Near-infrared cut filter and solid-state image pickup device including same |
| JP2014203044A (ja) * | 2013-04-09 | 2014-10-27 | 日本板硝子株式会社 | 赤外線カットフィルタおよび撮像装置 |
| WO2014192714A1 (ja) | 2013-05-29 | 2014-12-04 | Jsr株式会社 | 光学フィルターおよび前記フィルターを用いた装置 |
| WO2015099060A1 (ja) * | 2013-12-26 | 2015-07-02 | 旭硝子株式会社 | 光学フィルタ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN109416421B (zh) | 2020-11-24 |
| WO2018003756A1 (ja) | 2018-01-04 |
| TWI731996B (zh) | 2021-07-01 |
| TW201812348A (zh) | 2018-04-01 |
| US10795066B2 (en) | 2020-10-06 |
| JP2018004869A (ja) | 2018-01-11 |
| KR20190020820A (ko) | 2019-03-04 |
| JP6087464B1 (ja) | 2017-03-01 |
| US20190219749A1 (en) | 2019-07-18 |
| CN109416421A (zh) | 2019-03-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR102153243B1 (ko) | 적외선 컷 필터 및 촬상 광학계 | |
| CN106062591B (zh) | 近红外线截止滤波器和固体摄像装置 | |
| CN108761612B (zh) | 近红外线截止滤波器和固体摄像装置 | |
| JP6642578B2 (ja) | 光学フィルタおよび撮像装置 | |
| CN105122095A (zh) | 红外线遮蔽滤波器、固体摄像元件和摄像·显示装置 | |
| KR20200095518A (ko) | 광학 필터 및 촬상 장치 | |
| CN103608705A (zh) | 滤光片、固体摄像元件、摄像装置用透镜和摄像装置 | |
| TWI765095B (zh) | 濾光器及攝像裝置 | |
| TWI762722B (zh) | 濾光器及攝像裝置 | |
| KR20200096221A (ko) | 광학 필터 및 촬상 장치 | |
| TWI787431B (zh) | 濾光器及攝像裝置 | |
| JP6955343B2 (ja) | 赤外線カットフィルタ及び撮像光学系 | |
| CN111164468B (zh) | 滤光器和摄像装置 | |
| JP2020172614A (ja) | 色素組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置及び赤外線センサ | |
| JP2019066745A (ja) | 光学フィルタ及び撮像装置 | |
| JP2019066744A (ja) | 光学フィルタ及び撮像装置 | |
| CN114402235B (zh) | 滤光片和成像装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant |