CN109270696A - 3d膜的制备方法 - Google Patents

3d膜的制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN109270696A
CN109270696A CN201811325384.9A CN201811325384A CN109270696A CN 109270696 A CN109270696 A CN 109270696A CN 201811325384 A CN201811325384 A CN 201811325384A CN 109270696 A CN109270696 A CN 109270696A
Authority
CN
China
Prior art keywords
film
phase difference
preparation
line
wavelength phase
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201811325384.9A
Other languages
English (en)
Other versions
CN109270696B (zh
Inventor
梅敏敏
张文龙
杨枫
魏厚伟
王华波
顾开宇
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ningbo Regent Polytron Technologies Inc
Original Assignee
Ningbo Regent Polytron Technologies Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ningbo Regent Polytron Technologies Inc filed Critical Ningbo Regent Polytron Technologies Inc
Priority to CN201811325384.9A priority Critical patent/CN109270696B/zh
Publication of CN109270696A publication Critical patent/CN109270696A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN109270696B publication Critical patent/CN109270696B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B30/00—Optical systems or apparatus for producing three-dimensional [3D] effects, e.g. stereoscopic images
    • G02B30/20—Optical systems or apparatus for producing three-dimensional [3D] effects, e.g. stereoscopic images by providing first and second parallax images to an observer's left and right eyes
    • G02B30/22—Optical systems or apparatus for producing three-dimensional [3D] effects, e.g. stereoscopic images by providing first and second parallax images to an observer's left and right eyes of the stereoscopic type
    • G02B30/25—Optical systems or apparatus for producing three-dimensional [3D] effects, e.g. stereoscopic images by providing first and second parallax images to an observer's left and right eyes of the stereoscopic type using polarisation techniques

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)

Abstract

3D膜的制备方法，属于光学领域，本发明为解决现有3D膜隔行加工的方法存在利用率低的问题。本发明该方法包括以下步骤：步骤一、将1/2波长相位差膜的无离型膜一侧与硅胶基底贴合，然后将离型膜撕掉；步骤二、在1/2波长相位差膜上切割，形成等宽条形图案化结构；步骤三、在所述图案化结构的奇数行或偶数行的膜体上涂覆粘性涂层；步骤四、将剥离辅助膜通过粘性涂层与1/2波长相位差膜粘贴在一起；剥离辅助膜与1/2波长相位差膜之间粘性系数是硅胶基底与1/2波长相位差膜之间粘性系数的两倍以上；步骤五、借助剥离辅助膜将图案化结构的奇数行或偶数行的膜体整体剥离下来。

Description

3D膜的制备方法
技术领域
本发明属于立体显示技术领域，涉及制作3D偏光膜的工艺方法。
背景技术
偏振式立体显示是一种利用光线有“振动方向”的原理以实现原始图像的分解以及立体成像的3D显示方法，其主要是通过在显示装置上相邻行设置左旋和右旋的偏振膜(参见图1所示)，从而向观看者输送两幅偏振方向不同的两幅画面，而当画面经过偏振眼镜时，由于偏振式眼镜的每只镜片只能接受一个偏振方向的画面，这样人的左右眼就能接收两组画面，再经过大脑合成立体影像。
目前横向奇偶阵列的3D偏振膜也是一种偏振显示的趋势，其原理是在偏光膜贴合一层横向间隔排列的相位膜，使得经过相位膜的光旋转90°，从而得到两种间隔排列的不同偏振方向的光线。
为了保证不同行的偏振膜的排列位置，大多采用的方法是在整面的偏振膜上构建图案，再将图案化结构中的无效区域进行剥离，参见图2剥离白色无效区域后形成间隔行的左旋相位差补偿膜，参见图3剥离白色无效区域后形成间隔行的右旋相位差补偿膜，这种方法存在的问题是，在无效区域剥离过程中，由于受力不均导致无效区域的间隔条状被拉断或拉扯变形，剥离下来的部分散乱无规则，不能被再次利用，导致1/2波片相位补偿膜的利用率低于50％，制作成本高。
发明内容
本发明目的是为了解决现有3D膜隔行加工的方法存在利用率低的问题，提供了一种3D膜的制备方法。
本发明所述3D膜的制备方法，该方法包括以下步骤：
步骤一、将1/2波长相位差膜的无离型膜一侧与硅胶基底贴合，然后将离型膜撕掉；
步骤二、在1/2波长相位差膜上切割，形成等宽条形图案化结构；
步骤三、在所述图案化结构的奇数行或偶数行的膜体上涂覆粘性涂层；
步骤四、将剥离辅助膜通过粘性涂层与1/2波长相位差膜粘贴在一起；
剥离辅助膜与1/2波长相位差膜之间粘性系数是硅胶基底与1/2波长相位差膜之间粘性系数的两倍以上；
步骤五、借助剥离辅助膜将图案化结构的奇数行或偶数行的膜体整体剥离下来。
优选地，步骤二的切割方法选用激光切割。
优选地，切割前每行宽为P+d，其中P为相位差补偿膜每行的目标宽度，d为激光的烧边宽度，切割形成的图案化结构中奇、偶行的宽度均为P。
优选地，激光切割硅胶基底的深度不超过0.06mm。
优选地，最上端和最下端切割线的右端/左端较中间的切割线而言稍长，同时所有切割线的另一端则保持平齐，形成等宽条形图案化结构，从而可以通过进一步的剥离形成仅有左端/右端与外框相连的间隔条状结构。
优选地，步骤三所述的粘性涂层采用硅胶实现。
优选地，所述剥离辅助膜采用PET、PC、PVC或TAC实现。
优选地，步骤三中涂覆粘性涂层时，将材料首先喷涂在目标行的中心位置，经辊压后均匀分布，且涂覆面积为目标区域的85％～95％。
优选地，步骤五剥离时的剥离角度不大于60度。
本发明的有益效果：切割3D膜传统工艺的无效区域可利用本发明方法将其整体剥离下来，并被有效的应用于LED偏振膜的制作中，即利用率是传统工艺的两倍，制作成本大幅度的降低。
附图说明
图1是隔行左旋、右旋的偏光片示意图；
图2是制作左旋隔行偏光片，剥离无效区域的原理示意图；
图3是制作右旋隔行偏光片，剥离无效区域的原理示意图；
图4是本发明所述3D膜的制备方法的步骤一的流程图；
图5是本发明方法步骤二的流程图；
图6是本发明方法步骤三的流程图；
图7是本发明方法步骤四的流程图；
图8是本发明方法步骤五剥离后硅胶基底+奇数行膜的示意图；
图9是本发明方法步骤五剥离后剥离辅助膜+偶数行膜的示意图；
图10是本发明方法的框架总流程图。
具体实施方式
以下将结合附图及实施例来详细说明本发明的实施方式，借此对本发明如何应用技术手段来解决技术问题，并达成技术效果的实现过程能充分理解并据以实施。需要说明的是，只要不构成冲突，本发明中的各个实施例以及各实施例中的各个特征可以相互结合，所形成的技术方案均在本发明的保护范围之内。
本发明利用剥离辅助膜将1/2波长相位差膜剥离为完成的奇数行隔行膜、偶数行隔行膜，无效区域被高效的利用，利用率大幅度提高，制作成本被降低。
第一个实施例：
一种3D膜的制备方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：
步骤一、将1/2波长相位差膜的无离型膜一侧与硅胶基底贴合，然后将离型膜撕掉；
激光切割硅胶基底的深度不超过0.06mm。
步骤二、在1/2波长相位差膜上切割，形成等宽条形图案化结构；
切割方法选用激光切割。激光半切图形一般存在烧边宽幅，大致0.1mm～0.2mm，这就要求设计切割Pitch是要考虑烧边宽度，本实施方式中的切割前每行宽为P+d，其中P为相位差补偿膜每行的目标宽度，d为激光的烧边宽度，切割形成的图案化结构中奇、偶行的宽度均为P。
切割前构画基准线，每行宽均为P+d，激光对准基准线进行烧结，烧边宽度d位于相邻两行之间，奇数行和偶数行的上下边界均被烧掉1/2d的宽度，最后形成的行宽为P。
最上端和最下端切割线的右端/左端较中间的切割线而言稍长，同时所有切割线的另一端则保持平齐，形成等宽条形图案化结构，从而可以通过进一步的剥离形成仅有左端/右端与外框相连的间隔条状结构。
步骤三、在所述图案化结构的奇数行或偶数行的膜体上涂覆粘性涂层；
粘性涂层采用硅胶实现。
涂覆粘性涂层时，将材料首先喷涂在目标行的中心位置，经辊压后均匀分布，且涂覆面积为目标区域的85％～95％。若涂满则影响剥离质量。
步骤四、将剥离辅助膜通过粘性涂层与1/2波长相位差膜粘贴在一起；
剥离辅助膜与1/2波长相位差膜之间粘性系数是硅胶基底与1/2波长相位差膜之间粘性系数的两倍以上；
步骤五、借助剥离辅助膜将图案化结构的奇数行或偶数行的膜体整体剥离下来。
剥离辅助膜采用PET、PC、PVC或TAC实现。
剥离时的剥离角度不大于60度。
剥离时，由于剥离辅助膜这一侧的粘性更大，因此，将涂有粘性涂层的膜体剥离下来，由于剥离下来的部分是粘在剥离辅助膜上，因此，其相对位置没有发生改变，其效用与留在硅胶基底上的部分是一样的，因此，利用率被大幅度提高。
剥离完成形成的两份隔行补偿膜可用于与LED贴合，相比于传统一用一弃的方式，此方法提高了相位膜的利用率也间接缩减了加工此相位膜所用的时间与成本，更高效。
第二个实施例：与第一实施例的区别在于，涂覆的粘性涂层是位于剥离辅助膜上，再与1/2波长相位补偿膜对位贴合，达到与第一个实施例相同的效果。
虽然本发明所揭露的实施方式如上，但所述的内容只是为了便于理解本发明而采用的实施方式，并非用以限定本发明。任何本发明所属技术领域内的技术人员，在不脱离本发明所揭露的精神和范围的前提下，可以在实施的形式上及细节上作任何的修改与变化，但本发明的专利保护范围，仍须以所附的权利要求书所界定的范围为准。

Claims (9)

1.一种3D膜的制备方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：
步骤一、将1/2波长相位差膜的无离型膜一侧与硅胶基底贴合，然后将离型膜撕掉；
步骤二、在1/2波长相位差膜上切割，形成等宽条形图案化结构；
步骤三、在所述图案化结构的奇数行或偶数行的膜体上涂覆粘性涂层；
步骤四、将剥离辅助膜通过粘性涂层与1/2波长相位差膜粘贴在一起；
剥离辅助膜与1/2波长相位差膜之间粘性系数是硅胶基底与1/2波长相位差膜之间粘性系数的两倍以上；
步骤五、借助剥离辅助膜将图案化结构的奇数行或偶数行的膜体整体剥离下来。
2.根据权利要求1所述3D膜的制备方法，其特征在于，步骤二的切割方法选用激光切割。
3.根据权利要求2所述3D膜的制备方法，其特征在于，切割前每行宽为P+d，其中P为相位差补偿膜每行的目标宽度，d为激光的烧边宽度，切割形成的图案化结构中奇、偶行的宽度均为P。
4.根据权利要求2所述3D膜的制备方法，其特征在于，激光切割硅胶基底的深度不超过0.06mm。
5.根据权利要求2所述3D膜的制备方法，其特征在于，最上端和最下端切割线的右端/左端较中间的切割线而言稍长，同时所有切割线的另一端则保持平齐，形成等宽条形图案化结构，从而可以通过进一步的剥离形成仅有左端/右端与外框相连的间隔条状结构。
6.根据权利要求1所述3D膜的制备方法，其特征在于，步骤三所述的粘性涂层采用硅胶实现。
7.根据权利要求1所述3D膜的制备方法，其特征在于，所述剥离辅助膜采用PET、PC、PVC或TAC实现。
8.根据权利要求1所述3D膜的制备方法，其特征在于，步骤三中涂覆粘性涂层时，将材料首先喷涂在目标行的中心位置，经辊压后均匀分布，且涂覆面积为目标区域的85％～95％。
9.根据权利要求1所述3D膜的制备方法，其特征在于，步骤五剥离时的剥离角度不大于60度。
CN201811325384.9A 2018-11-08 2018-11-08 3d膜的制备方法 Active CN109270696B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201811325384.9A CN109270696B (zh) 2018-11-08 2018-11-08 3d膜的制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201811325384.9A CN109270696B (zh) 2018-11-08 2018-11-08 3d膜的制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN109270696A true CN109270696A (zh) 2019-01-25
CN109270696B CN109270696B (zh) 2021-02-09

Family

ID=65192595

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201811325384.9A Active CN109270696B (zh) 2018-11-08 2018-11-08 3d膜的制备方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN109270696B (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110142989A (zh) * 2019-04-02 2019-08-20 万维科研有限公司 一种柱状透镜光栅膜的制备方法

Citations (42)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61138234A (ja) * 1984-12-10 1986-06-25 Casio Comput Co Ltd 偏光板の貼付方法
CN87103691A (zh) * 1986-04-01 1988-04-13 明尼苏达采矿和制造公司 干转印图形制品和制备方法及其用途
CN1371411A (zh) * 1999-08-24 2002-09-25 3M创新有限公司 带整体拉袢的可拉伸剥离的粘合带
CN1397432A (zh) * 2002-08-28 2003-02-19 中国科学院长春应用化学研究所 一种热模塑高分子薄膜微图案化的制作方法
CN2545664Y (zh) * 2002-01-09 2003-04-16 徐家典 双色膜
CN1440304A (zh) * 2000-06-30 2003-09-03 久光制药株式会社 粘着剂粘贴用辅助器具
CN1470395A (zh) * 2003-07-07 2004-01-28 中国科学院长春应用化学研究所 热剥离薄膜图案化加工方法
CN2743866Y (zh) * 2004-11-26 2005-11-30 群录自动化工业股份有限公司 撕膜装置
US20050277034A1 (en) * 2004-06-02 2005-12-15 Hoya Corporation Mask blank, phase shift mask manufacturing method and template manufacturing method
CN1723553A (zh) * 2003-01-07 2006-01-18 S.O.I.Tec绝缘体上硅技术公司 在剥离其薄层之后通过机械方法重复利用包含剥离结构的晶片
CN1915681A (zh) * 2006-07-23 2007-02-21 王兆进 打印转印膜及制作方法和其在承印物上形成图案的方法
CN1932560A (zh) * 2005-09-15 2007-03-21 住友化学株式会社 制造复合相位延迟片和复合光学元件的方法
JP2007163694A (ja) * 2005-12-12 2007-06-28 Hitachi High-Technologies Corp 光学フィルム貼付け装置、光学フィルム貼付け方法、及び表示用パネルの製造方法
CN2932617Y (zh) * 2006-08-09 2007-08-08 黄伟民 薄膜剥离设备
CN101143699A (zh) * 2007-11-08 2008-03-19 上海交通大学 通用性薄膜材料图形化方法
CN101232952A (zh) * 2005-08-03 2008-07-30 肖特股份公司 包括至少一个全表面或部分表面宏观结构化的涂层的衬底及其制造方法和应用
CN101281268A (zh) * 2007-04-05 2008-10-08 达信科技股份有限公司 制造偏光板的方法及贴合方法
CN101303324A (zh) * 2008-07-03 2008-11-12 宗小林 一种快速检测试条电极的制备方法
CN101434141A (zh) * 2008-11-24 2009-05-20 友达光电（苏州）有限公司 分离薄膜与板体的装置及方法
CN101465355A (zh) * 2007-12-20 2009-06-24 株式会社日立制作所 半导体器件及其制造方法
CN101500807A (zh) * 2005-09-27 2009-08-05 反相有限公司 使用切割薄膜制造视觉控制板的方法
CN101577316A (zh) * 2009-05-12 2009-11-11 西安宝莱特光电科技有限公司 有机膜涂覆之图形化的工艺方法
CN101937114A (zh) * 2009-06-26 2011-01-05 住友化学株式会社 相位差板、含有相位差板的显示装置和相位差板的制造方法
CN102083928A (zh) * 2008-04-30 2011-06-01 德莎欧洲公司 聚烯烃剥离膜及其用途
CN102124067A (zh) * 2008-08-19 2011-07-13 3M创新有限公司 剥离材料
CN102209918A (zh) * 2008-11-07 2011-10-05 帝人化成株式会社 相位差膜
CN102263327A (zh) * 2011-08-04 2011-11-30 瑞声声学科技(深圳)有限公司 射频识别天线的制作方法
EP2409951A1 (fr) * 2010-07-21 2012-01-25 Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives Procede de fabrication d'une structure comprenant un feuillet de graphene muni de plots metalliques, structure ainsi obtenue et ses utilisations
CN102395908A (zh) * 2009-04-16 2012-03-28 住友化学株式会社 带粘合剂层的相位差膜、使用了其的椭圆偏振板和液晶显示装置
CN102511077A (zh) * 2010-08-05 2012-06-20 古河电气工业株式会社 粘合薄膜以及半导体晶片加工用胶带
CN102681071A (zh) * 2011-03-18 2012-09-19 银海科技股份有限公司 微相位差膜
CN102692663A (zh) * 2011-03-21 2012-09-26 财团法人工业技术研究院 相位差膜与立体显示装置的制作方法及相位差膜
CN103229080A (zh) * 2010-12-27 2013-07-31 三菱树脂株式会社 脱模膜
CN103941322A (zh) * 2014-04-10 2014-07-23 合肥京东方光电科技有限公司 一种相位差板的制作方法
CN104608463A (zh) * 2015-01-08 2015-05-13 深圳市联得自动化装备股份有限公司 撕膜装置
CN204516791U (zh) * 2015-03-20 2015-07-29 东莞市中镓半导体科技有限公司 一种转移过程同期图形化的GaN基复合衬底
CN105905867A (zh) * 2016-04-25 2016-08-31 华中科技大学 一种三维表面顺形或共形图案的制备方法
CN106292187A (zh) * 2015-05-13 2017-01-04 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 曝光方法
US20170184769A1 (en) * 2015-12-23 2017-06-29 Samsung Electronics Co., Ltd. Compensation film and method of manufacturing the same
CN206968219U (zh) * 2017-05-05 2018-02-06 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 深纹路图案转移膜
CN108169836A (zh) * 2018-01-11 2018-06-15 宁波维真显示科技股份有限公司 3d偏光膜的及其制备方法和应用以及包含其的3d显示装置和显示系统
CN108761623A (zh) * 2018-08-22 2018-11-06 宁波维真显示科技股份有限公司 一种奇偶阵列偏振膜及其制备方法

Patent Citations (42)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61138234A (ja) * 1984-12-10 1986-06-25 Casio Comput Co Ltd 偏光板の貼付方法
CN87103691A (zh) * 1986-04-01 1988-04-13 明尼苏达采矿和制造公司 干转印图形制品和制备方法及其用途
CN1371411A (zh) * 1999-08-24 2002-09-25 3M创新有限公司 带整体拉袢的可拉伸剥离的粘合带
CN1440304A (zh) * 2000-06-30 2003-09-03 久光制药株式会社 粘着剂粘贴用辅助器具
CN2545664Y (zh) * 2002-01-09 2003-04-16 徐家典 双色膜
CN1397432A (zh) * 2002-08-28 2003-02-19 中国科学院长春应用化学研究所 一种热模塑高分子薄膜微图案化的制作方法
CN1723553A (zh) * 2003-01-07 2006-01-18 S.O.I.Tec绝缘体上硅技术公司 在剥离其薄层之后通过机械方法重复利用包含剥离结构的晶片
CN1470395A (zh) * 2003-07-07 2004-01-28 中国科学院长春应用化学研究所 热剥离薄膜图案化加工方法
US20050277034A1 (en) * 2004-06-02 2005-12-15 Hoya Corporation Mask blank, phase shift mask manufacturing method and template manufacturing method
CN2743866Y (zh) * 2004-11-26 2005-11-30 群录自动化工业股份有限公司 撕膜装置
CN101232952A (zh) * 2005-08-03 2008-07-30 肖特股份公司 包括至少一个全表面或部分表面宏观结构化的涂层的衬底及其制造方法和应用
CN1932560A (zh) * 2005-09-15 2007-03-21 住友化学株式会社 制造复合相位延迟片和复合光学元件的方法
CN101500807A (zh) * 2005-09-27 2009-08-05 反相有限公司 使用切割薄膜制造视觉控制板的方法
JP2007163694A (ja) * 2005-12-12 2007-06-28 Hitachi High-Technologies Corp 光学フィルム貼付け装置、光学フィルム貼付け方法、及び表示用パネルの製造方法
CN1915681A (zh) * 2006-07-23 2007-02-21 王兆进 打印转印膜及制作方法和其在承印物上形成图案的方法
CN2932617Y (zh) * 2006-08-09 2007-08-08 黄伟民 薄膜剥离设备
CN101281268A (zh) * 2007-04-05 2008-10-08 达信科技股份有限公司 制造偏光板的方法及贴合方法
CN101143699A (zh) * 2007-11-08 2008-03-19 上海交通大学 通用性薄膜材料图形化方法
CN101465355A (zh) * 2007-12-20 2009-06-24 株式会社日立制作所 半导体器件及其制造方法
CN102083928A (zh) * 2008-04-30 2011-06-01 德莎欧洲公司 聚烯烃剥离膜及其用途
CN101303324A (zh) * 2008-07-03 2008-11-12 宗小林 一种快速检测试条电极的制备方法
CN102124067A (zh) * 2008-08-19 2011-07-13 3M创新有限公司 剥离材料
CN102209918A (zh) * 2008-11-07 2011-10-05 帝人化成株式会社 相位差膜
CN101434141A (zh) * 2008-11-24 2009-05-20 友达光电（苏州）有限公司 分离薄膜与板体的装置及方法
CN102395908A (zh) * 2009-04-16 2012-03-28 住友化学株式会社 带粘合剂层的相位差膜、使用了其的椭圆偏振板和液晶显示装置
CN101577316A (zh) * 2009-05-12 2009-11-11 西安宝莱特光电科技有限公司 有机膜涂覆之图形化的工艺方法
CN101937114A (zh) * 2009-06-26 2011-01-05 住友化学株式会社 相位差板、含有相位差板的显示装置和相位差板的制造方法
EP2409951A1 (fr) * 2010-07-21 2012-01-25 Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives Procede de fabrication d'une structure comprenant un feuillet de graphene muni de plots metalliques, structure ainsi obtenue et ses utilisations
CN102511077A (zh) * 2010-08-05 2012-06-20 古河电气工业株式会社 粘合薄膜以及半导体晶片加工用胶带
CN103229080A (zh) * 2010-12-27 2013-07-31 三菱树脂株式会社 脱模膜
CN102681071A (zh) * 2011-03-18 2012-09-19 银海科技股份有限公司 微相位差膜
CN102692663A (zh) * 2011-03-21 2012-09-26 财团法人工业技术研究院 相位差膜与立体显示装置的制作方法及相位差膜
CN102263327A (zh) * 2011-08-04 2011-11-30 瑞声声学科技(深圳)有限公司 射频识别天线的制作方法
CN103941322A (zh) * 2014-04-10 2014-07-23 合肥京东方光电科技有限公司 一种相位差板的制作方法
CN104608463A (zh) * 2015-01-08 2015-05-13 深圳市联得自动化装备股份有限公司 撕膜装置
CN204516791U (zh) * 2015-03-20 2015-07-29 东莞市中镓半导体科技有限公司 一种转移过程同期图形化的GaN基复合衬底
CN106292187A (zh) * 2015-05-13 2017-01-04 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 曝光方法
US20170184769A1 (en) * 2015-12-23 2017-06-29 Samsung Electronics Co., Ltd. Compensation film and method of manufacturing the same
CN105905867A (zh) * 2016-04-25 2016-08-31 华中科技大学 一种三维表面顺形或共形图案的制备方法
CN206968219U (zh) * 2017-05-05 2018-02-06 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 深纹路图案转移膜
CN108169836A (zh) * 2018-01-11 2018-06-15 宁波维真显示科技股份有限公司 3d偏光膜的及其制备方法和应用以及包含其的3d显示装置和显示系统
CN108761623A (zh) * 2018-08-22 2018-11-06 宁波维真显示科技股份有限公司 一种奇偶阵列偏振膜及其制备方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
冷俊敏 等: "三维显示技术现状与发展", 《中国印刷与包装研究》 *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110142989A (zh) * 2019-04-02 2019-08-20 万维科研有限公司 一种柱状透镜光栅膜的制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN109270696B (zh) 2021-02-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN108169836B (zh) 3d偏光膜的制备方法及应用与3d显示装置和显示系统
CN108919406A (zh) 低反射率3d偏光膜、低反射率偏光led及制备方法
CN103698893B (zh) 立体液晶显示装置
KR100952137B1 (ko) 입체 영상 디스플레이 장치 및 그 제조방법
CN108931857A (zh) 用于led立体显示系统的3d偏振膜及其制作方法
US9316877B2 (en) Display apparatus, display system having the same and method of manufacturing the display apparatus
CN103941469A (zh) 显示面板及其制作方法、显示装置
CN102213865A (zh) 3d面板、3d显示设备及相位差板制作方法
CN102466919A (zh) 彩膜基板及其制造方法和3d液晶显示器
CN109270696A (zh) 3d膜的制备方法
CN108594351B (zh) 一种led偏振膜连续制备的方法和装置
CN108761623A (zh) 一种奇偶阵列偏振膜及其制备方法
KR20100005265A (ko) 입체 엘씨디 패널 및 그 제조 방법
KR100613840B1 (ko) 렌티큘러 렌즈 및 이를 갖는 입체영상 표시장치
KR101861616B1 (ko) 액정표시장치 및 그 제조방법
CN102162958A (zh) 立体显示系统
CN103941322A (zh) 一种相位差板的制作方法
TWI585463B (zh) 用於自動立體顯示裝置之透鏡器件、自動立體顯示裝置及彼等之製造方法
CN112895418B (zh) 一种3d-led对位贴合的方法及一种对位贴合机
CN106950627B (zh) 裸眼3d成像光栅及其制备方法
KR101792577B1 (ko) 액정표시장치
CN101408692A (zh) 立体液晶显示器的结构改良
CN103852895B (zh) 立体图像显示器及其制造方法
CN206638948U (zh) 一种apr版及柔性基板
CN106405930B (zh) 裸眼三维显示装置及其方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant