CN102692663A - 相位差膜与立体显示装置的制作方法及相位差膜 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种相位差膜与立体显示装置的制作方法及相位差膜,其中相位差膜的制作方法包括下列步骤。提供透光基板。在透光基板上形成配向层。将配向层配向。在配向层上形成双折射材料膜。利用致反应光使双折射材料膜的第一图案化区域曝光而产生反应,其中致反应光不使双折射材料膜的第二图案化区域曝光。移除双折射材料膜的第二图案化区域。本发明的制作方法较为简化,可有效降低制作成本与工时,且可以不采用高温制程。

Description

相位差膜与立体显示装置的制作方法及相位差膜
技术领域
本发明是有关于一种光学膜片、光学膜片的制作方法及显示装置的制作方法,且特别是有关于一种相位差膜、相位差膜的制作方法及立体显示装置的制作方法。
背景技术
公元2010年被国际订为立体显示元年,根据统计预测,未来全球立体显示器市场,每年平均可成长95%,因此,各显示器大厂皆相继加入战局。在此一需求的驱使下,平面显示器迈入了另一个纪元,那就是立体显示器(stereoscopic display)。
立体显示器可以更真实地呈现所欲传达的内容,就像人类双眼所见的大自然影像一般。传统利用外贴式微相位差膜的立体显示器,是以特殊高分子材料制成的微相位差膜,其贴附于液晶屏幕外侧的玻璃上。当光信号影像穿过显示器的液晶开关与所贴附的微相位差膜后,相位将产生改变。如此,在搭配偏光眼镜的过滤后,可以形成两个不同的影像信息,分别提供给左眼及右眼观看。通过人类与生俱来的视差现象,两个相异影像最后在大脑便形成了立体的影像。
立体显示器可区分为戴眼镜式及裸眼式两大类,各有其优缺点及适合的市场应用面。外贴微相位差膜的方式可应用在戴眼镜式的立体显示器,然而,习知微相位差膜的制作方式往往需经由两道以上的光罩制程,而使得制程复杂,且难以有效降低制作成本与工时。
发明内容
本发明的一实施例提出一种相位差膜的制作方法,其包括下列步骤。提供透光基板。在透光基板上形成配向层。将配向层配向。在配向层上形成双折射材料膜。利用致反应光使双折射材料膜的第一图案化区域曝光而产生反应,其中致反应光不使双折射材料膜的第二图案化区域曝光。移除双折射材料膜的第二图案化区域。
本发明的另一实施例提出一种立体显示装置的制作方法,其包括上述制作相位差膜的步骤及将透光基板连同配向层及第一图案化区域配置于显示器上,其中显示器所发出的影像光具有偏振性。
本发明的又一实施例提出一种相位差膜,其由一透光基板、一配向层及一图案化双折射材料所组成。配向层配置于透光基板上,且配向层具有单一方向性。图案化双折射材料配置于配向层上并受到配向层的配向作用,且图案化双折射材料覆盖部分配向层。
与现有技术相比,本发明的有益技术效果在于:
本发明的制作方法与立体显示装置的制作方法中,由于可以仅采用一次的光罩制程来完成相位差膜,因此相位差膜的制作方法与立体显示装置的制作方法较为简化,可有效降低制作成本与工时,且可以不采用高温制程。另外,由于第二图案化区域在移除后即形成间隔,因此第一图案化区域与间隔的定位精准。本发明亦可以不要采用光罩制程来使第二图案化区域曝光,而可采用雷射光源直接对第二图案化区域进行扫描,而使第二图案化区域曝光,如此亦可以仅采用一次的曝光制程,同样可使制作方法较为简化,且可有效降低制作成本与工时。此外,本发明的相位差膜的结构较为简化,因此可具有较低的成本。
为让本发明的上述特征能更明显易懂,下文特举实施例,并配合所附图式作详细说明如下。
附图说明
图1A至图1F为本发明的一实施例的相位差膜的制作方法的流程示意图;
图2为本发明的一实施例的立体显示装置的制作方法的示意图;
图3为图2的立体显示装置显示立体影像的示意图。
其中,附图标记:
50:滚轮
60:致反应光
70:光罩
72:图案化透光区
74:图案化遮光区
80:偏光眼镜
82:左眼偏光镜片
84:右眼偏光镜片
90:醇类溶剂
92:容器
100:相位差膜
110:透光基板
120:配向层
130:双折射材料膜
132:第一图案化区域
133:第一子条状区域
134:第二图案化区域
135:第二子条状区域
200:显示器
210:影像光
212:第一部分影像光
214:第二部分影像光
220:第一偏光片
230:主动元件阵列基板
240:液晶层
250:对向基板
251、252、254:像素
260:第二偏光片
270:背光模块
300:立体显示装置
D1:第一方向
D2:第二方向
G:间隔
具体实施方式
以下结合附图和具体实施例对本发明进行详细描述,但不作为对本发明的限定。
图1A至图1F为本发明的一实施例的相位差膜的制作方法的流程示意图。请参照图1A至图1F,本实施例的相位差膜的制作方法包括下列步骤。首先,如图1A所绘示,提供透光基板110。在本实施例中,透光基板110为透明基板,其例如为玻璃基板。然而,在本实施例中,透光基板110亦可以是其它材质的透光基板。
接着,在透光基板110上形成配向层120。在本实施例中,配向层120的材质例如为聚酰亚胺(polyimide)。具体而言,可先在透光基板110上旋转涂布一层含聚酰亚胺的配向液,或以其它方式涂布此配向液。之后,将此配向液加热以使其固化成配向层120。
然后,如图1B所绘示,将配向层120配向。在本实施例中,将配向层120配向的方法例如为摩擦配向法。举例而言,可利用表面具有绒毛的滚轮50一边滚动一边扫过配向层120的表面。在本实施例中,当滚轮50扫过配向层120时,滚轮50的滚动方向维持实质上不变,因此配向层120便可以被沿着单一方向配向。然而,在本实施例中,亦可以使用光配向法来对配向层120进行配向,而当光以某一特定方向照射配向层120时,亦可使配向层120被沿着单一方向配向。
之后,如图1C所绘示,在配向层120上形成双折射材料膜130。在本实施例中,双折射材料膜130例如为反应型液晶(reactive mesogen)材料膜。接着,如图1D所绘示,利用致反应光60使双折射材料膜130的第一图案化区域132曝光而产生反应,且致反应光60不使双折射材料膜130的第二图案化区域134曝光。具体而言,在本实施例中,致反应光60例如为紫外光,其可由光源所发出。此外,可在双折射材料膜130与上述光源之间设置光罩70,光罩70具有图案化透光区72与图案化遮光区74。致反应光60会穿透图案化透光区72而照射在第一图案化区域132上,而使第一图案化区域132产生曝光反应。另一方面,图案化遮光区74则遮挡致反应光60,而使致反应光60无法传递至第二图案化区域134,因此第二图案化区域134不会曝光。
在本实施例中,第一图案化区域132包括多个彼此分离的第一子条状区域133,第二图案化区域134包括多个彼此分离的第二子条状区域135,且第一子条状区域133与第二子条状区域135交替排列于透光基板110上。具体而言,每一第一子条状区域133沿着第二方向D2延伸,每一第二子条状区域135亦沿着第二方向D2延伸,且这些第一子条状区域133与这些第二子条状区域135在第一方向D1上交替排列。在本实施例中,第一方向D1实质上垂直于第二方向D2。
此外,在本实施例中,利用致反应光60使双折射材料膜130的第一图案化区域132曝光而产生反应的步骤为利用致反应光60使第一图案化区域132曝光固化。换言之,双折射材料膜130所采用的反应型液晶(reactive mesogen)材料为一种光固化材料。
然后,请参照图1E,移除双折射材料膜130的第二图案化区域134。在本实施例中,移除双折射材料膜130的第二图案化区域134的步骤包括对第二图案化区域134进行湿式蚀刻。具体而言,进行湿式蚀刻的步骤例如是将透光基板110连同配向层120、曝光后的第一图案化区域132及未曝光的第二图案化区域134浸泡于醇类溶剂90中,或浸泡于其它溶剂中,以使第二图案化区域134从透光基板110上移除。举例而言,可将透光基板110连同配向层120、曝光后的第一图案化区域132及未曝光的第二图案化区域134放入盛有醇类溶剂90的容器92中,以浸泡于醇类溶剂90中。然而,在其它实施例中,移除双折射材料膜130的第二图案化区域134的步骤亦可以是对第二图案化区域134进行干式蚀刻,以移除第二图案化区域134。接着,请参照图1F,在将第二图案化区域134移除后,即完成本实施例的相位差膜100。
在本实施例中,相位差膜100包括一透光基板110、一配向层120及一图案化双折射材料(即上述第一图案化区域132),其中配向层120配置于透光基板110上。在本实施例中,且配向层120具有单一方向性,而图案化双折射材料(即第一图案化区域132)配置于配向层120上并受到配向层120的配向作用,且图案化双折射材料覆盖部分配向层120。在本实施例中,图案化双折射材料例如为经过光固化后的反应型液晶材料。此外,图案化双折射材料(即第一图案化区域132)包括多个条状区域(即上述第一子条状区域133),这些条状区域(即第一子条状区域133)在第一方向D1上间隔配置,且每一条状区域(即第一子条状区域133)沿着第二方向D2延伸。
图2为本发明的一实施例的立体显示装置的制作方法的示意图。请参照图2,本实施例的立体显示装置的制作方法包括上述制作相位差膜100的步骤。此外,本实施例的立体显示装置的制作方法还包括将相位差膜100配置于显示器200上,亦即将透光基板110连同配向层120及第一图案化区域132配置于显示器200上,其中显示器200所发出的影像光210具有偏振性。如此,即完成本实施例的立体显示装置300的制作。
在本实施例中,显示器200为液晶显示器,其包括依序配置的背光模块270、第一偏光片220、主动元件阵列基板230、液晶层240、对向基板250及第二偏光片260。主动元件阵列基板230例如为薄膜晶体管阵列基板,而对向基板250例如为彩色滤光基板。在本实施例中,对向基板250具有多个像素251,这些像素251可分成两组,即像素252与像素254。像素252与第一图案化区域132对应,而像素254与被移除的第二图案化区域134原本所在的位置对应,即与第一图案化区域132的相邻两第一子条状区域133之间的间隔G对应。来自像素252且通过第二偏光片260的第一部分影像光212具有线偏振性,而通过适当调整第一图案化区域132的厚度,可使第一图案化区域132形成二分之一波片,即具有二分之一波长的相位延迟效果。此外,可使此二分之一波片的快轴与来自第二偏光片260的第一部分影像光212的线偏振方向实质上夹45度,如此一来,当第一部分影像光212在通过第一图案化区域132后,其线偏振方向会旋转90度。另一方面,来自像素254且通过第二偏光片260的第二部分影像光214具有线偏振性,且第二部分影像光214在通过间隔G后,其线偏振方向不会改变。换言之,通过第一图案化区域132的第一部分影像光212与通过间隔G的第二部分影像光214的线偏振方向便会相差90度。如此一来,便可使像素252显示左眼画面与右眼画面的其一,且使像素254显示左眼画面与右眼画面的另一,而使用者则配戴左眼偏光镜片与右眼偏光镜片的穿透轴相差90度的偏光眼镜即可观看到立体显示器装置300所显示的立体影像。
在本实施例的相位差膜的制作方法与立体显示装置的制作方法中,由于可以仅采用一次的光罩制程来完成相位差膜100,因此本实施例的相位差膜的制作方法与立体显示装置的制作方法较为简化,可有效降低制作成本与工时,且可以不采用高温制程。另外,由于第二图案化区域134在移除后即形成间隔G,因此第一图案化区域132与间隔G的定位精准。在另一实施例中,亦可以不要采用光罩制程来使第一图案化区域132曝光,而可采用雷射光源直接对第一图案化区域132进行扫描,而使第一图案化区域132曝光,但雷射光源不对第二图案化区域134扫描,如此亦可以仅采用一次的曝光制程,同样可使制作方法较为简化,且可有效降低制作成本与工时。此外,本实施例的相位差膜100的结构较为简化,因此可具有较低的成本。
在另一实施例中,显示器200亦可以采用显示面配置有偏光膜的有机发光二极管显示器(organic light emitting diode display,OLED display)、电浆显示器(plasma display panel)、阴极射线管(cathode ray tube)或其它适当的显示器。
以下举出立体显示装置的影像光在不同的阶段的线偏振方向、相位差膜的方向及使用者所配戴的偏光眼镜的偏振方向的一实施例,但其只是用以举例说明,而不是用以限制本发明。图3为图2的立体显示装置显示立体影像的示意图。请参照图2与图3,显示器200所刚发出的影像光210的分布如图3所绘示的最左边的四边形,其中第一部分影像光212与第二部分影像光214的线偏振方向例如皆为0度。接着,影像光210通过相位差膜100。第一图案化区域132例如为二分之一波片,而其快轴的方向例如与刚发出的影像光210的线偏振方向夹45度。如此一来,当影像光210通过相位差膜100后,第一部分影像光212因通过第一图案化区域132而具有90度的线偏振方向,而第二部分影像光214因通过间隔G而具有0度的线偏振方向,如图3所绘示的最右边的四边形。使用者所配戴的偏光眼镜80的左眼偏光镜片82的穿透轴例如是设置在90度的方向,而偏光眼镜80的右眼偏光镜片84的穿透轴例如是设置在0度的方向。如此一来,使用者的左眼会看到第一部分影像光212,但不会看到第二部分影像光214,而使用者的右眼则会看到第二部分影像光214,但不会看到第一部分影像光212。因此,只要让第一部分影像光212含有左眼画面的信息,且让第二部分影像光214含有右眼画面的信息,则使用者便可以看到立体影像。
综上所述,在本发明的实施例的相位差膜的制作方法与立体显示装置的制作方法中,由于可以仅采用一次的光罩制程来完成相位差膜,因此本实施例的相位差膜的制作方法与立体显示装置的制作方法较为简化,可有效降低制作成本与工时,且可以不采用高温制程。另外,由于第二图案化区域在移除后即形成间隔,因此第一图案化区域与间隔的定位精准。在本发明的另一实施例中,亦可以不要采用光罩制程来使第二图案化区域曝光,而可采用雷射光源直接对第二图案化区域进行扫描,而使第二图案化区域曝光,如此亦可以仅采用一次的曝光制程,同样可使制作方法较为简化,且可有效降低制作成本与工时。此外,本发明的实施例的相位差膜的结构较为简化,因此可具有较低的成本。
当然,本发明还可有其它多种实施例,在不背离本发明精神及其实质的情况下,熟悉本领域的技术人员当可根据本发明做出各种相应的改变和变形,但这些相应的改变和变形都应属于本发明所附的权利要求的保护范围。

Claims (23)

1.一种相位差膜的制作方法,其特征在于,包括:
提供透光基板;
在所述透光基板上形成配向层;
将所述配向层配向;
在所述配向层上形成双折射材料膜;
利用致反应光使所述双折射材料膜的第一图案化区域曝光而产生反应,其中所述致反应光不使所述双折射材料膜的第二图案化区域曝光;以及
移除所述双折射材料膜的所述第二图案化区域。
2.根据权利要求1所述的相位差膜的制作方法,其特征在于,将所述配向层配向的方法为摩擦配向法。
3.根据权利要求1所述的相位差膜的制作方法,其特征在于,将所述配向层配向的方法为光配向法。
4.根据权利要求1所述的相位差膜的制作方法,其特征在于,将所述配向层配向的步骤包括使所述配向层沿单一方向配向。
5.根据权利要求1所述的相位差膜的制作方法,其特征在于,所述双折射材料膜为反应型液晶材料膜。
6.根据权利要求1所述的相位差膜的制作方法,其特征在于,利用所述致反应光使所述双折射材料膜的所述第一图案化区域曝光而产生反应的步骤为利用所述致反应光使所述第一图案化区域曝光固化。
7.根据权利要求1所述的相位差膜的制作方法,其特征在于,移除所述双折射材料膜的所述第二图案化区域的步骤包括对所述第二图案化区域进行湿式蚀刻。
8.根据权利要求7所述的相位差膜的制作方法,其特征在于,进行所述湿式蚀刻的步骤包括将所述透光基板连同所述配向层、曝光后的所述第一图案化区域及未曝光的所述第二图案化区域浸泡于醇类溶剂中。
9.根据权利要求1所述的相位差膜的制作方法,其特征在于,移除所述双折射材料膜的所述第二图案化区域的步骤包括对所述第二图案化区域进行干式蚀刻。
10.根据权利要求1所述的相位差膜的制作方法,其特征在于,所述第一图案化区域包括多个彼此分离的第一子条状区域,所述第二图案化区域包括多个彼此分离的第二子条状区域,且所述第一子条状区域与所述第二子条状区域交替排列于所述透光基板上。
11.一种立体显示装置的制作方法,其特征在于,包括:
提供透光基板;
在所述透光基板上形成配向层;
将所述配向层配向;
在所述配向层上形成双折射材料膜;
利用致反应光使所述双折射材料膜的第一图案化区域曝光而产生反应,其中所述致反应光不使所述双折射材料膜的第二图案化区域曝光;
移除所述双折射材料膜的所述第二图案化区域;以及
将所述透光基板连同所述配向层及所述第一图案化区域配置于显示器上,其中所述显示器所发出的影像光具有偏振性。
12.根据权利要求11所述的立体显示装置的制作方法,其特征在于,将所述配向层配向的方法为摩擦配向法。
13.根据权利要求11所述的立体显示装置的制作方法,其特征在于,将所述配向层配向的方法为光配向法。
14.根据权利要求11所述的立体显示装置的制作方法,其特征在于,将所述配向层配向的步骤包括使所述配向层沿单一方向配向。
15.根据权利要求11所述的立体显示装置的制作方法,其特征在于,所述双折射材料膜为反应型液晶材料膜。
16.根据权利要求11所述的立体显示装置的制作方法,其特征在于,利用所述致反应光使所述双折射材料膜的所述第一图案化区域曝光而产生反应的步骤为利用所述致反应光使所述第一图案化区域曝光固化。
17.根据权利要求11所述的立体显示装置的制作方法,其特征在于,移除所述双折射材料膜的所述第二图案化区域的步骤包括对所述第二图案化区域进行湿式蚀刻。
18.根据权利要求17所述的立体显示装置的制作方法,其特征在于,进行所述湿式蚀刻的步骤包括将所述透光基板连同所述配向层、曝光后的所述第一图案化曝光区及未曝光的所述第二图案化曝光区浸泡于醇类溶剂中。
19.根据权利要求11所述的立体显示装置的制作方法,其特征在于,移除所述双折射材料膜的所述第二图案化区域的步骤包括对所述第二图案化区域进行干式蚀刻。
20.根据权利要求11所述的立体显示装置的制作方法,其特征在于,所述第一图案化区域包括多个彼此分离的第一子条状区域,所述第二图案化区域包括多个彼此分离的第二子条状区域,且所述第一子条状区域与所述第二子条状区域交替排列于所述透光基板上。
21.一种相位差膜,其特征在于,由一透光基板、一配向层及一图案化双折射材料所组成,所述配向层配置于所述透光基板上,且所述配向层具有单一方向性,所述图案化双折射材料配置于所述配向层上并受到所述配向层的配向作用,且所述图案化双折射材料覆盖部分所述配向层。
22.根据权利要求21所述的相位差膜,其特征在于,所述图案化双折射材料为经过光固化后的反应型液晶材料。
23.根据权利要求21所述的相位差膜,其特征在于,所述图案化双折射材料包括多个条状区域,所述多个条状区域在第一方向上间隔配置,且每一条状区域沿着第二方向延伸。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102937728A (zh) * 2012-11-15 2013-02-20 京东方科技集团股份有限公司 相位差板及其制作方法、显示装置
WO2015089879A1 (zh) * 2013-12-17 2015-06-25 深圳市华星光电技术有限公司 用于薄膜偏光式3d显示的液晶显示面板及液晶显示装置
CN109270696A (zh) * 2018-11-08 2019-01-25 宁波维真显示科技股份有限公司 3d膜的制备方法

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9995997B2 (en) 2012-10-03 2018-06-12 Prysm, Inc. Seamless emission tile quilt
EP2887411A1 (en) * 2013-12-23 2015-06-24 Nederlandse Organisatie voor toegepast- natuurwetenschappelijk onderzoek TNO Photoactive birefringent materials in OLEDs
CN105467606A (zh) * 2016-02-03 2016-04-06 宁波维真显示科技有限公司 适于量产的裸眼3d显示器的制造方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6055103A (en) * 1997-06-28 2000-04-25 Sharp Kabushiki Kaisha Passive polarisation modulating optical element and method of making such an element
JP2001166299A (ja) * 1999-12-06 2001-06-22 Nitto Denko Corp 導光板、面光源装置及び液晶表示装置
US6384971B1 (en) * 1990-06-11 2002-05-07 Reveo, Inc. Methods for manufacturing micropolarizers
US20040239835A1 (en) * 2001-04-27 2004-12-02 Jin-Hee Jung Autostereoscopic display apparatus and method of manufacturing the same
CN101452173A (zh) * 2007-12-05 2009-06-10 索尼株式会社 液晶显示装置及其制造方法
CN101910889A (zh) * 2008-03-31 2010-12-08 凸版印刷株式会社 相位差板及其制造方法以及液晶显示装置

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2331812A (en) 1997-11-26 1999-06-02 Sharp Kk Optical retardation devices
US7002662B2 (en) 2001-10-16 2006-02-21 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Method of producing optical element by patterning liquid crystal films
CN101943800A (zh) 2009-07-06 2011-01-12 Lg伊诺特有限公司 偏振转换装置及其制造方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6384971B1 (en) * 1990-06-11 2002-05-07 Reveo, Inc. Methods for manufacturing micropolarizers
US6055103A (en) * 1997-06-28 2000-04-25 Sharp Kabushiki Kaisha Passive polarisation modulating optical element and method of making such an element
JP2001166299A (ja) * 1999-12-06 2001-06-22 Nitto Denko Corp 導光板、面光源装置及び液晶表示装置
US20040239835A1 (en) * 2001-04-27 2004-12-02 Jin-Hee Jung Autostereoscopic display apparatus and method of manufacturing the same
CN101452173A (zh) * 2007-12-05 2009-06-10 索尼株式会社 液晶显示装置及其制造方法
CN101910889A (zh) * 2008-03-31 2010-12-08 凸版印刷株式会社 相位差板及其制造方法以及液晶显示装置

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102937728A (zh) * 2012-11-15 2013-02-20 京东方科技集团股份有限公司 相位差板及其制作方法、显示装置
WO2015089879A1 (zh) * 2013-12-17 2015-06-25 深圳市华星光电技术有限公司 用于薄膜偏光式3d显示的液晶显示面板及液晶显示装置
CN109270696A (zh) * 2018-11-08 2019-01-25 宁波维真显示科技股份有限公司 3d膜的制备方法
CN109270696B (zh) * 2018-11-08 2021-02-09 宁波维真显示科技股份有限公司 3d膜的制备方法

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