CN108364571A - 柔性背板及其制备方法、显示设备 - Google Patents
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Abstract
本发明实施例公开了一种柔性背板及其制备方法、显示设备,该柔性背板包括:第一柔性材料层,包括若干沟槽;应力减缓材料,填充于所述第一柔性材料层的沟槽内;表面层,位于所述填充了应力减缓材料的第一柔性材料层上。本发明实施例所提供的柔性背板及其制备方法、显示设备,通过在作为柔性背板的衬底的第一柔性材料层上开设沟槽,并在沟槽内填充应力减缓材料,能够有效减小第一柔性材料层的应力,使得柔性背板从基板上剥离后,也不会轻易翘曲,保证柔性背板的正常使用。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,特别涉及一种柔性背板及其制备方法、显示设备。
背景技术
目前,一般通过如下步骤来制备柔性背板:首先,在玻璃基板依次形成第一柔性材料层、缓冲层等多个膜层;然后,在相关膜层成型后,将这些膜层从玻璃基板上分离,以得到柔性背板。
然而,将相关膜层从玻璃基板分离时,常会由于第一柔性材料层自身的应力导致柔性背板发生弯曲,导致所制备的柔性背板无法正常使用。
发明内容
本发明实施例的目的是提供一种柔性背板及其制备方法、显示设备,以解决上述问题。
为解决上述技术问题,本发明实施例提供一种柔性背板,包括:
第一柔性材料层,包括若干沟槽;
应力减缓材料,填充于所述第一柔性材料层的沟槽内;
表面层,位于所述填充了应力减缓材料的第一柔性材料层上。
在一实施例中,所述应力减缓材料为氧化硅。
在一实施例中,所述若干沟槽等间隔排布于所述第一柔性材料层上。
在一实施例中,所述表面层包括:
第一缓冲层,位于所述填充了应力减缓材料的第一柔性材料层上;
第一非多晶硅,位于所述第一缓冲层上;
第二柔性材料层,位于所述第一非晶硅层上;
第二缓冲层,位于所述第二柔性材料层上;
第二非晶硅层,位于所述第二缓冲层上。
在一实施例中,所述第一缓冲层和第二缓冲层均包括氧化硅层以及氮化硅层。
解决上述技术问题,本发明实施例提供一种显示设备,所述显示设备包括如发明内容所述的柔性背板。
为解决上述技术问题,本发明实施例提供一种柔性背板的制备方法,包括:
提供基板,在所述基板上沉积第一柔性材料层;
在所述第一柔性材料层上形成若干沟槽;
在所述沟槽内填充应力减缓材料;
在填充了应力减缓材料的第一柔性材料层上形成表面层;
将所述第一柔性材料层从所述基板上剥离,以得到柔性背板。
在一实施例中,所述在所述第一柔性材料层上形成若干沟槽的步骤,包括:
图形化所述第一柔性材料层,以在所述第一柔性材料层上形成若干沟槽。
在一实施例中,所述在所述沟槽内填充应力减缓材料的步骤,包括:
在所述形成有沟槽的第一柔性材料层上沉积应力减缓材料;
去除位于沟槽外的应力减缓材料。
在一实施例中,所述去除位于沟槽外的应力减缓材料的步骤,包括:
在应力减缓材料上形成具有预设图形的光刻胶;
利用所述光刻胶做掩膜,去除位于沟槽外的应力减缓材料,并去除所述光刻胶。
在一实施例中,所述在填充了应力减缓材料的第一柔性材料层上形成表面层的步骤,包括:
在填充了应力减缓材料的第一柔性材料层上沉积第一缓冲层以及第一非晶硅层;
在所述第一非晶硅层上再次沉积第二柔性材料层、第二缓冲层以及第二非晶硅层。
由以上本发明一实施例提供的技术方案可见,本发明实施例所提供的柔性背板及其制备方法、显示设备,通过在作为柔性背板的衬底的第一柔性材料层上开设沟槽,并在沟槽内填充应力减缓材料,能够有效减小第一柔性材料层的应力,使得柔性背板从基板上剥离后,也不会轻易翘曲,保证柔性背板的正常使用。
附图说明
为了更清楚地说明本发明一实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明中记载的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明一实施例中柔性背板的制备方法的流程图。
图2至图6为本发明实施例中柔性背板的制备方法内各个阶段的器件的剖面示意图。
具体实施方式
为了使本技术领域的人员更好地理解本发明中的技术方案,下面将结合本发明一实施例中的附图,对本发明一实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都应当属于本发明保护的范围。
图1为本发明一实施例中柔性背板的制备方法的流程图。参图1所示,该方法可以包括如下步骤。
步骤101、提供基板,在所述基板上沉积第一柔性材料层。
结合图2所示,基板10可以是各种类型的刚性基板,例如可以是玻璃基板。第一柔性材料层20可以是聚酰亚胺PI材料层。第一柔性材料层20的厚度可以根据柔性背板的使用要求进行设定,在此不作赘述。
步骤102、在所述第一柔性材料层上形成若干沟槽。
结合图3所示,可以通过对第一柔性材料层20进行图形化,在第一柔性材料层20上形成若干沟槽21,这些沟槽21可以是等间隔的、呈阵列状的排布于第一柔性材料层20的。在实际应用中,可以通过再第一柔性材料层20上形成具有对应图案的光刻胶,通过光刻胶做掩膜,对第一柔性材料层20做刻蚀,去掉没有被光刻胶保护的第一柔性材料层并去掉光刻胶,从而在第一柔性材料层20上形成沟槽21。
步骤103、在所述沟槽内填充应力减缓材料。
结合图4所示,应力减缓材料30可以是例如氧化硅的材料,应力减缓材料填充至沟槽21后,可以改善第一柔性材料层20内部的应力,使得第一柔性材料层20不会轻易翘曲。
可选地,作为一个例子,可以通过如下子步骤来实现填充应力减缓材料:首先,在所述形成有沟槽的第一柔性材料层上沉积应力减缓材料,此时应力减缓材料覆盖整个第一柔性材料层20以及沟槽21;后续,去除位于沟槽21外的应力减缓材料,使得应力减缓材料30仅位于沟槽21内。在实际应用中,可以通过在覆盖整个第一柔性材料层20以及沟槽21上的应力减缓材料上形成具有预设图形的光刻胶,再利用所述光刻胶做掩膜,采用湿法刻蚀或干法刻蚀的手段来去除位于沟槽21外的应力减缓材料并去除所述光刻胶,使得应力减缓材料30仅位于沟槽21内。
步骤104、在填充了应力减缓材料的第一柔性材料层上形成表面层。
结合图5所示,在将应力减缓材料30填充至第一柔性材料层20上的沟槽21后,可以以此时的第一柔性材料层20作为衬底,形成表面层(未标号)。
可选地,作为一个例子,形成表面层的过程具体如下:首先,在填充了应力减缓材料的第一柔性材料层20上沉积第一缓冲层40以及第一非晶硅层50;然后,在所述第一非晶硅层50上再次沉积第二柔性材料层60、第二缓冲层70以及第二非晶硅层80,其中,第一缓冲层40和第二缓冲层70均可以包括氧化硅和氮化硅。这其中,第一缓冲层40、第一非晶硅层50、第二柔性材料层60、第二缓冲层70以及第二非晶硅层80共同组成表面层,这些膜层的厚度均可根据柔性背板的使用需求进行预设,在此不作赘述。
步骤105、将所述第一柔性材料层从所述基板上剥离,以得到柔性背板。
结合图6所示,将第一柔性材料层20从基板10上剥离后,所制得柔性背板可以很容易的弯折。
进一步的,这种柔性背板可以被引用至显示设备中,尤其是例如智能手机、平板电脑、虚拟显示设备、增强显示设备、车载中控屏等。
综上,在本发明实施例中的柔性背板,在作为柔性背板的衬底的第一柔性材料层上开设沟槽,并在沟槽内填充应力减缓材料,能够有效减小第一柔性材料层的应力,使得柔性背板从基板上剥离后,也不会轻易翘曲,保证柔性背板的正常使用。
本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述,各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可,每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处。尤其,对于系统实施例而言,由于其基本相似于方法实施例,所以描述的比较简单,相关之处参见方法实施例的部分说明即可。
以上所述仅为本发明的实施例而已,并不用于限制本发明。对于本领域技术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原理之内所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的权利要求范围之内。
Claims (11)
1.一种柔性背板,其特征在于,包括:
第一柔性材料层,包括若干沟槽;
应力减缓材料,填充于所述第一柔性材料层的沟槽内;
表面层,位于所述填充了应力减缓材料的第一柔性材料层上。
2.如权利要求1所述的柔性背板,其特征在于,所述应力减缓材料为氧化硅。
3.如权利要求1所述的柔性背板,其特征在于,所述若干沟槽等间隔排布于所述第一柔性材料层上。
4.如权利要求1至3中任一项所述的柔性背板,其特征在于,所述表面层包括:
第一缓冲层,位于所述填充了应力减缓材料的第一柔性材料层上;
第一非多晶硅,位于所述第一缓冲层上;
第二柔性材料层,位于所述第一非晶硅层上;
第二缓冲层,位于所述第二柔性材料层上;
第二非晶硅层,位于所述第二缓冲层上。
5.如权利要求4所述的柔性背板,其特征在于,所述第一缓冲层和第二缓冲层均包括氧化硅层以及氮化硅层。
6.一种显示设备,其特征在于,所述显示设备包括如权利要求1至5中任一项所述的柔性背板。
7.一种柔性背板的制备方法,其特征在于,包括:
提供基板,在所述基板上沉积第一柔性材料层;
在所述第一柔性材料层上形成若干沟槽;
在所述沟槽内填充应力减缓材料;
在填充了应力减缓材料的第一柔性材料层上形成表面层;
将所述第一柔性材料层从所述基板上剥离,以得到柔性背板。
8.如权利要求7所述的方法,其特征在于,所述在所述第一柔性材料层上形成若干沟槽的步骤,包括:
图形化所述第一柔性材料层,以在所述第一柔性材料层上形成若干沟槽。
9.如权利要求7所述的方法,其特征在于,所述在所述沟槽内填充应力减缓材料的步骤,包括:
在所述形成有沟槽的第一柔性材料层上沉积应力减缓材料;
去除位于沟槽外的应力减缓材料。
10.如权利要求9所述的方法,其特征在于,所述去除位于沟槽外的应力减缓材料的步骤,包括:
在应力减缓材料上形成具有预设图形的光刻胶;
利用所述光刻胶做掩膜,去除位于沟槽外的应力减缓材料,并去除所述光刻胶。
11.如权利要求7至10中任一项所述的方法,其特征在于,所述在填充了应力减缓材料的第一柔性材料层上形成表面层的步骤,包括:
在填充了应力减缓材料的第一柔性材料层上沉积第一缓冲层以及第一非晶硅层;
在所述第一非晶硅层上再次沉积第二柔性材料层、第二缓冲层以及第二非晶硅层。
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