CN108325788A - 涂敷装置以及涂敷方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供涂敷装置以及涂敷方法。在一边以使基板浮起的状态进行搬运，并且使喷嘴向与基板的搬运方向相逆的方向移动，一边从喷嘴的吐出口排出涂敷液并涂敷于基板的涂敷技术中，使涂敷于基板的涂敷液的厚度稳定化。在由基板搬运机构搬运的上述基板的前端到达上述多个孔列中的上述搬运方向上位于最下游的最下游孔列的上方前，开始从上述喷嘴向由上述涂敷浮起部浮起的上述基板排出上述涂敷液，并且，开始使上述喷嘴向上述相逆方向移动。

Description

涂敷装置以及涂敷方法

技术领域

本发明涉及通过搬运基板并且使从吐出口排出涂敷液的喷嘴向与基板的搬运方向相逆的方向移动来在基板上涂敷涂敷液的涂敷装置以及涂敷方法。

背景技术

在半导体装置、液晶显示装置等电子部件等的制造工序中，使用在基板的表面涂敷抗蚀剂液(与本发明的“涂敷液”的一个例子相当)的涂敷装置。例如在日本专利第4571525号所记载的涂敷装置中，向基板的背面吹气体，在使基板浮起的状态下搬运该基板。另外，在该基板的搬运方向上使长条型喷嘴移动，相对于该长条型喷嘴相对地搬运基板。而且，从长条型喷嘴向像这样相对移动的基板的表面排出抗蚀剂液，几乎在整个基板上涂敷抗蚀剂液。

在如上述那样构成的涂敷装置中，为了浮起基板来进行搬运，而沿基板的搬运方向将搬入区域、涂敷区域以及搬出区域按该顺序设置成一列。在这些区域中的涂敷区域，在该区域内的各位置向基板赋予几乎均匀的浮起力，在将基板从搬入区域搬运至搬出区域的中途，基板覆盖涂敷区域的几乎整个区域的期间，使用长条型喷嘴在基板的被处理面涂敷抗蚀剂液(涂敷处理)。另外，在该涂敷处理中，使向基板的被处理面供给抗蚀剂液的长条型喷嘴的位置从涂敷区域的下游侧端部向与搬运方向相反的方向移动至上游侧端部。

然而，在涂敷区域需要以较高的精度使基板浮起，作为其浮起量例如设定为50μm。与此相对，在搬入区域以及搬出区域不要求较高的浮起精度，浮起量例如设定在100～150μm的范围内。而且，在长条型喷嘴位于涂敷区域的下游侧端部的上方的状态下开始涂敷处理，在其之后立即将基板的前端移载至以与涂敷区域不同的浮起量使基板浮起的搬出区域。此时，在长条型喷嘴的正下位置的浮起量变动，抗蚀剂液的膜厚变得不稳定。

另外，在涂敷处理的结束阶段也产生这样的问题。即，由于涂敷处理的进行，长条型喷嘴向与基板的搬运方向相逆的方向移动，移动至涂敷区域的上游侧端部的上方结束涂敷处理。在该涂敷结束阶段，基板的后端从具有与涂敷区域不同的浮起量的搬入区域移载至涂敷区域。此时，在长条型喷嘴的正下位置的浮起量变动，抗蚀剂液的膜厚变得不稳定。

发明内容

本发明是鉴于上述问题而成的，目的在于在涂敷技术中使涂敷至基板的涂敷液的厚度稳定，其中，上述涂敷技术是一边在使基板浮起的状态下进行搬运，并且使喷嘴向与基板的搬运方向相逆的方向移动，一边从喷嘴的吐出口排出涂敷液并涂敷在基板上的技术。

本发明的第一方式是一种涂敷装置，具备：浮起机构，使基板浮起；基板搬运机构，搬运由浮起机构浮起的基板；喷嘴，从吐出口向由基板搬运机构搬运来的基板排出涂敷液并涂敷；以及喷嘴移动部，使排出涂敷液的喷嘴向与基板的搬运方向相逆的方向，浮起机构具有：涂敷浮起部，具有沿搬运方向排列多个沿与搬运方向垂直的宽度方向交替地配置喷出气体的喷出孔以及吸引气体的吸引孔而成的孔列而成的面、或者沿搬运方向交互地排列沿宽度方向配置多个喷出孔而成的孔列和沿宽度方向配置多个吸引孔而成的孔列而成的面，上述涂敷浮起部使基板从面浮起；以及下游侧辅助浮起部，在搬运方向上与涂敷浮起部的下游侧邻接设置，向基板赋予浮起力，在由基板搬运机构搬运的基板的前端到达多个孔列中的在搬运方向上位于最下游的最下游孔列的上方前，开始从喷嘴向由涂敷浮起部浮起的基板排出涂敷液，并且开始使喷嘴向相反方向移动。

另外，本发明的第二方式是一种涂敷方法，具备：涂敷工序，一边搬运由涂敷浮起部浮起的基板，并且，使喷嘴向与基板的搬运方向相逆的方向移动，一边从喷嘴的吐出口排出涂敷液并涂敷于基板；以及搬出工序，由在搬运方向上与涂敷浮起部的下游侧邻接设置的下游侧辅助浮起部使从涂敷浮起部搬运来的基板浮起并沿搬运方向搬运，涂敷浮起部构成为，具有沿搬运方向排列多个沿与搬运方向垂直的宽度方向交替地配置喷出气体的喷出孔以及吸引气体的吸引孔而成的孔列而成的面、或者沿搬运方向交替地排列沿宽度方向配置多个喷出孔而成的孔列和沿宽度方向配置多个吸引孔而成的孔列而成的面，上述涂敷浮起部使基板从面浮起，此时，在涂敷工序中，在基板的前端到达多个孔列中的在搬运方向上位于最下游的最下游孔列的上方前，开始从喷嘴向由涂敷浮起部浮起的基板排出涂敷液，并且开始使喷嘴向相逆方向移动。

在像这样构成的第一方式以及第二方式所涉及的发明中，一边在由涂敷浮起部使基板浮起的状态下沿搬运方向进行搬运，一边向该基板涂敷涂敷液(涂敷处理)。在开始该涂敷处理后立即将基板的前端经由涂敷浮起部的最下游孔列的上方搬运至搬出浮起部。换句话说，并不像专利第4571525号所记载的发明那样，在开始涂敷后立即将基本从涂敷浮起部(与专利第4571525号的“涂敷区域”相当)的下游端直接地移载至搬出浮起部(与专利第4571525号的“搬出区域”相当)，而使经由基板的浮起量稳定的最下游孔列的上方移载受到涂敷处理的基板。因此，避免由该移载引起的浮起量的变动超过最下游孔列而波及至搬运方向的上游侧，涂敷于基板的涂敷液的厚度稳定。

另外，本发明的第三方式是一种涂敷装置，具备：浮起机构，使基板浮起；基板搬运机构，搬运由浮起机构浮起的基板；喷嘴，从吐出口向由基板搬运机构搬运的基板排出涂敷液并涂敷；以及喷嘴移动部，使排出涂敷液的喷嘴向与基板的搬运方向相逆的方向移动，浮起机构具有：涂敷浮起部，具有沿搬运方向排列多个沿与搬运方向垂直的宽度方向交替地配置喷出气体的喷出孔以及吸引气体的吸引孔而成的孔列而成的面、或者沿搬运方向交替地排列沿宽度方向配置多个喷出孔而成的孔列和沿宽度方向配置多个吸引孔而成的孔列而成的面，上述涂敷浮起部使基板从面浮起；以及上游侧辅助浮起部，在搬运方向上与涂敷浮起部的上游侧邻接设置，向基板赋予浮起力，在由基板搬运机构搬运的基板的前端通过多个孔列中的在搬运方向上位于最上游的最上游孔列的上方后，停止从喷嘴向由涂敷浮起部浮起的基板排出涂敷液。

并且，本发明的第四方式是一种涂敷方法，具备：涂敷工序，一边搬运由涂敷浮起部浮起的基板，并且使喷嘴向与基板的搬运方向相逆的方向移动，一边从喷嘴的吐出口排出涂敷液并涂敷于基板；以及搬入工序，由在搬运方向上与涂敷浮起部的上游侧邻接设置的上游侧辅助浮起部使应搬运至涂敷浮起部的基板浮起并沿搬运方向搬运，涂敷浮起部构成为，具有沿搬运方向排列多个沿与搬运方向垂直的宽度方向交替地配置喷出气体的喷出孔以及吸引气体的吸引孔而成的孔列而成的面、或者沿搬运方向交替地排列沿宽度方向配置多个喷出孔而成的孔列和沿宽度方向配置多个吸引孔而成的孔列而成的面，使基板从面浮起，此时，在涂敷工序中，在基板的前端通过多个孔列中的在搬运方向上位于最上游的最上游孔列的上方后，停止从喷嘴向由涂敷浮起部浮起的基板排出涂敷液。

在像这样构成的第三方式以及第四方式所涉及的发明中，在由上游侧辅助浮起部使基板浮起的状态下搬入至涂敷浮起部，一边利用涂敷浮起部沿搬运方向进行搬运一边针对该基板涂敷涂敷液(涂敷处理)。在该涂敷处理中，经由涂敷浮起部的最上游孔列的上方搬运基板。换句话说，并不像专利第4571525号所记载的发明那样，在从搬入浮起部(与专利第4571525号的“搬入区域”相当)移载至涂敷浮起部(与专利第4571525号的“涂敷区域”相当)后立即执行涂敷处理，而是经由在移载后基板的浮起量稳定的涂敷浮起部的上游侧区域的上方搬运基板，进行涂敷处理。因此，避免由移载引起的浮起量的变动超越最上游孔列而波及搬运方向的下游侧，涂敷于基板的涂敷液的厚度稳定。

如上述那样，根据本发明，能够抑制基板的浮起量的变动，能够以稳定的厚度将涂敷液涂敷于基板。

附图说明

图1A是表示本发明所涉及的涂敷装置的一实施方式的图。

图1B是从图1A取下涂敷机构后的俯视图。

图2是表示控制图1A所示的涂敷装置的控制机构的框图。

图3A是浮起机构的俯视图。

图3B是示意地表示浮起机构与涂敷机构的关系的侧视图。

图4是图1A所示的涂敷装置的侧视图。

图5是表示由图1A所示的涂敷装置执行的涂敷处理的流程图。

图6A-6E是表示涂敷处理中的各阶段的各部的位置关系的图。

附图标记的说明：

1…涂敷装置；

3…浮起机构；

3A…上游浮起单元(上游侧辅助浮起部)；

3B…中央浮起单元(涂敷浮起部)；

3C…下游浮起单元(下游侧辅助浮起部)；

4…(基板)搬运机构；

5…涂敷机构；

34a…喷出孔；

33…(中央浮起单元的)载台面；

34b…吸引孔；

35a…最上游孔列(第三孔列)；

35b…(第四)孔列；

35i…(第二)孔列；

35j…最下游孔列(第一孔列)；

511…狭缝喷嘴；

511a…吐出口；

518…(喷嘴)移动机构；

CL…涂敷膜；

PE…涂敷结束位置；

PS…涂敷开始位置；

X…搬运方向；

Y…宽度方向。

具体实施方式

图1A是表示本发明所涉及的涂敷装置的一实施方式的图，是从铅垂上方观察的俯视图，另外，图1B是从图1A取下涂敷机构后的俯视图。另外，图2是表示控制图1A所示的涂敷装置的控制机构的框图。应予说明，在图1A、图1B以及在后面说明的各图中，为了明确装置各部的配置关系，将基板S的搬运方向作为“X方向”，将从图1A、图1B的左手侧朝向右手侧的水平方向称作“+X方向”，将相反方向称作“－X方向”。另外，将与X方向正交的水平方向Y中，装置的正面侧称作“－Y方向”，并且，将装置的背面侧称作“+Y方向”。并且，将铅垂方向Z的上方向以及下方向分别称作“+Z方向”以及“－Z方向”。

涂敷装置1是接受从辊输送机100搬运来的水平姿势的矩形基板S，并在该基板S的表面Sf涂敷涂敷液的狭缝式涂布机。在该涂敷装置1，与辊输送机100邻接地设置有移载机构2。该移载机构2从辊输送机100接受基板S并移载至浮起机构3。

浮起机构3具有三个浮起单元3A～3C。这些浮起单元3A～3C如图1B所示那样，沿基板S的搬运方向X排列，具有向搬运中的基板S赋予浮起力的功能。更加详细而言，在最上游侧，换句话说在(－X)方向侧，上游浮起单元3A和移载机构2邻接配置，在最下游侧，换句话说在(+X)方向侧配置有下游浮起单元3C。另外，在上游浮起单元3A与下游浮起单元3C之间配置有中央浮起单元3B。

图3A是浮起机构的俯视图，图3B是示意地表示浮起机构与涂敷机构的关系的侧视图。应予说明，在这些附图中，示意地示出中央浮起单元3B的全部和上游浮起单元3A以及下游浮起单元3C的一部分。

上游浮起单元3A以及下游浮起单元3C均通过多个空气的喷出孔31以矩阵状遍及分散于一个板状的载台面32的整个面而形成。而且，通过向各喷出孔31赋予压缩空气，来利用压缩空气从各喷出孔31喷出所引起的气体压力使基板S浮起。由此，在上游浮起单元3A以及下游浮起单元3C，基板S从上述载台面32浮起规定的浮起高度，例如浮起10～500微米。应予说明，为了向各喷出孔31供给压缩空气，例如能够使用专利第5346643号所记载的构成。

另外，虽然在图3A以及图3B中省略图示，但下游浮起单元3C除上述喷出孔31以外还具有多个升降机顶升销以及升降机顶升销升降机构。多个升降机顶升销被设置为，能够穿插在喷出孔31的缝隙间并间隔规定间隔地与基板S的背面Sb整体对置。而且，升降机顶升销由设置于载台面32的下方的升降机顶升销升降机构沿铅垂方向(Z轴向)升降驱动。换句话说，下降时，升降机顶升销的前端下降至比下游浮起单元3C的载台面32靠(－Z)方向侧，上升时，升降机顶升销的前端上升至将基板S交接给移载机器人(图示省略)的位置。由于基板S的下表面被这样上升后的升降机顶升销支承并举起，因此，基板S从下游浮起单元3C的载台面32上升。由此，能够利用移载机器人从涂敷装置1卸载基板S。

另一方面，中央浮起单元3B如以下方式构成，具有比上游浮起单元3A以及下游浮起单元3C高的浮起精度。即，中央浮起单元3B具有矩形形状的板状的载台面33。在该载台面33，以比设置于上游浮起单元3A以及下游浮起单元3C的喷出孔31窄的间距以矩阵状分散设置有多个孔。另外，与上游浮起单元3A以及下游浮起单元3C不同，在中央浮起单元3B中，孔中的一半作为压缩空气的喷出孔34a发挥作用，剩余的一半作为吸引孔34b发挥作用。换句话说，从喷出孔34a朝向基板S的背面Sb喷出压缩空气而向载台面33与基板S的背面Sb之间的空间SP(图3B)送入压缩空气。另一方面，经由吸引孔34b从空间SP吸引空气。通过像这样针对上述空间SP进行空气的喷出和吸引，在上述空间SP，从各喷出孔34a喷出的压缩空气的空气流在水平方向扩散开后被与该喷出孔34a邻接的吸引孔34b吸引，在上述空间SP扩散开的空气层(压力气体层)中的压力平衡变得更稳定，能够高精度且稳定地控制基板S的浮起高度。应予说明，为了向各喷出孔34a供给压缩空气以及从吸引孔34b吸引空气，例如能够使用专利第5346643号所记载的构成。

另外，若从其它角度如上述那样地观察喷出孔34a以及吸引孔34b的排列构造，则能够定义为具有如下这样的构造。即，中央浮起单元3B以沿与基板S的搬运方向X正交的水平方向Y延伸的带状具有使基板S的一部分稳定地浮起的十个孔列35a～35j。这些孔列35a～35j按该顺序沿搬运方向(+X)配置。应予说明，以下，将配置于搬运方向(+X)的最上游侧的孔列35a称作“最上游孔列35a”，并且，将配置于最下游侧的孔列35j称作“最下游孔列35j”。

该十个孔列中从上游侧数第奇数列的孔列35a、35c、35e、35g、35i是将喷出孔34a、吸引孔34b、喷出孔34a、…、吸引孔34b以及喷出孔34a按该顺序沿Y方向排列而成的。另一方面，剩余的孔列，换句话说，第偶数列孔列35b、35d、35f、35h、35j是将吸引孔34b、喷出孔34a、吸引孔34b、…、喷出孔34a以及吸引孔34b按该顺序沿Y方向排列而成。应予说明，各孔列35a～35j的Y方向尺寸与基板S的Y方向尺寸相同或者比基板S的Y方向尺寸稍宽，因此，能够在Y方向上使基板S稳定地浮起。

另一方面，在搬运方向X上，孔列35a～35j以规定距离分离配置。因此，如在后面详述的那样，在使狭缝喷嘴511位于相互邻接的两列孔列之间的上方的情况下，避免设置于狭缝喷嘴511的下端部的吐出口511a位于喷出孔34a以及吸引孔34b的正上方的位置，能够有效地防止产生狭缝喷嘴511内的涂敷液的粘度增大、吐出口511a的堵塞等故障。另外，在使狭缝喷嘴511在涂敷开始时刻位于最下游孔列35j和比该最下游孔列35j靠前一列的上游侧的孔列35i之间的上方后，使上述狭缝喷嘴511向与搬运方向相反的方向(－X)移动，并使上述狭缝喷嘴511在涂敷结束阶段移动至最上游孔列35a与比该最上游孔列35a靠下一列的下游侧的孔列35b之间的上方。由此，能够使涂敷开始阶段、涂敷结束阶段的涂敷液的膜厚稳定地均匀化。因此，在本实施方式中，使狭缝喷嘴511在涂敷处理中移动的范围(以下称作“喷嘴移动范围”)为从最下游孔列35j与孔列35i之间的上方位置至最上游孔列35a与孔列35b时间的上方位置。后面参照图5以及图6A至图6E对这些方面进行详细叙述。

在涂敷装置1中，为了沿搬运方向X间歇性地搬运被浮起单元3A～3C浮起的状态的基板S，设置有搬运机构4。以下，参照图1A、图1B、图3B以及图4对搬运机构4的构成进行说明。

图4是图1A所示的涂敷装置的侧视图。搬运机构4具有如下功能，即，一边吸引并保持由浮起机构3以浮起状态支承的基板S的Y方向的两侧端部，一边在由浮起机构3使基板S浮起的状态下沿搬运方向X进行搬运。搬运机构4如图1B所示那样，具备多个吸附保持基板S的卡盘部41。这里，在(+Y)侧以及(－Y)方向侧分别设置一个卡盘部41，合计设置两个，上述卡盘部41的两个卡盘部件41a沿X方向排列并能够一体地沿X方向移动，也可以将各卡盘部件41a作为卡盘部41来设置。在本实施方式中，上述的两个卡盘部41为左右对称(在+Y侧和－Y侧对称)构造，分别在左右吸附保持基板S。另外，搬运机构4具备搬运卡盘行驶导轨42、搬运卡盘线性马达43、搬运卡盘线性标尺44、以及卡盘升降缸45。能够通过卡盘升降缸45的动作使卡盘部41升降。因此，通过卡盘升降缸45根据来自控制装置整体的控制部9(图2)的保持指令而工作，使得卡盘部41上升来支承(+Y)侧、(－Y)侧的基板S的两端部的下表面并对下表面进行吸附保持。另外，搬运卡盘行驶导轨42在涂敷装置1的基台10上沿X方向延伸设置，通过搬运卡盘线性马达43根据来自控制部9的搬运指令而工作，使卡盘部41沿搬运卡盘行驶导轨42在搬运方向X上往复驱动。由此，沿搬运方向X搬运被卡盘部41保持的基板S。应予说明，在本实施方式中，能够由搬运卡盘线性标尺44检测基板S在搬运方向X的位置，控制部9基于搬运卡盘线性标尺44的检测结果来驱动控制搬运卡盘线性马达43。

通过上述的搬运机构4，在使表面Sf朝向铅垂上方的所谓的面朝上状态下沿搬运方向X搬运基板S，但为了在该搬运中在基板S的表面Sf涂敷涂敷液，设置有涂敷机构5。涂敷机构5具有能够相对于基台10沿搬运方向X移动的喷嘴单元51、在搬运方向X上位于该喷嘴单元51的上游侧(图1A的左手侧)且固定于基台10的喷嘴清洗待机单元52、将涂敷液供给给喷嘴单元51的涂敷液供给单元58、以及涂敷液补充单元59。

喷嘴单元51如图4所示那样，具备与基板S的表面Sf对置并沿Y方向延伸设置的狭缝喷嘴511、支承狭缝喷嘴511的喷嘴支承部件512、以及在Y方向上设置于比搬运机构4靠外侧且具有左右对称(在+Y侧和－Y侧对称)构造的升降部513。在该实施方式中，构成为利用一对升降部513经由喷嘴支承部件512使狭缝喷嘴511在铅垂方向Z升降。更加详细而言，各升降部513具备柱状部件514、在铅垂方向Z上平行延伸的状态下安装于柱状部件514的滚珠丝杠515、与滚珠丝杠515的上端部连结的旋转马达516、以及与滚珠丝杠515旋合的托架517。而且，若旋转马达516根据来自控制部9的旋转指令而工作，则滚珠丝杠515旋转，托架517与滚珠丝杠515的旋转量相应地沿铅垂方向Z升降。在这样构成的(+Y)方向侧以及(－Y)方向侧的托架517分别安装喷嘴支承部件512的两端部，以能够经由喷嘴支承部件512升降的方式支承。

另外，各升降部513如图4所示那样，通过涂敷机构5的移动机构518沿搬运方向X往复移动。该移动机构518如图4所示那样，具备从下方支承升降部513的基部518a、行驶导轨518b、以及线性马达518c。行驶导轨518b如图1A、图1B所示那样，在涂敷装置1的基台10上沿X方向延伸设置，通过线性马达518c根据来自控制部9的移动指令而工作，使升降部513沿行驶导轨518b在搬运方向X上往复移动，能够与升降部513一同将狭缝喷嘴511定位于维护位置和排出位置。这里，“维护位置”是指利用喷嘴清洗待机单元52进行包括预备排出的维护动作的位置，“排出位置”是指朝向基板S进行排出涂敷液的动作的位置，换句话说，是指中央浮起单元3B的正上位置。

在喷嘴支承部件512的下端部以吐出口511a朝向下方的状态安装有狭缝喷嘴511。因此，能够通过控制部9对旋转马达516的控制使狭缝喷嘴511升降来使吐出口511a接近由搬运机构4搬运的基板S的表面Sf，或相反地向上方远离基板S的表面Sf。另外，控制部9基于下述的浮起高度检测传感器(图3B中的附图标记53)的输出来控制旋转马达516，由此，能够高精度地调整基板S的表面Sf与吐出口511a的间隔。而且，若在使吐出口511a接近基板S的表面Sf的状态下从涂敷液供给单元58向狭缝喷嘴511压送涂敷液，则涂敷液从吐出口511a朝向基板S的表面Sf排出。应予说明，在狭缝喷嘴511设置有用于保护喷嘴前端的保护部件(图3B中的附图标记6B1)、浮起高度检测传感器(图3B中的附图标记53)以及振动传感器(图3B中的附图标记6B2)。

该涂敷液供给单元58如图4所示那样，作为用于将涂敷液压送至狭缝喷嘴511的压送源，使用管泵、隔膜泵等利用体积变化送出涂敷液的泵581。在该泵581的输出侧连接有配管582的一方端。另外，该配管582的另一方端分出两根，如图4所示那样，其中的一方的配管583与狭缝喷嘴511的(－Y)方向侧的端部连接，另一方的配管584与狭缝喷嘴511的(+Y)方向侧的端部连接。在这些配管583、584分别设置有开闭阀585、586，根据来自控制部9的开闭指令开闭，由此，能够对涂敷液向狭缝喷嘴511的送出和送出停止进行切换。

另外，由于涂敷液向狭缝喷嘴511的供给，导致填充至泵581的涂敷液的比例减少，换句话说泵填充率减少。因此，设置有涂敷液补充单元59。该涂敷液补充单元59如图3B所示那样，具备存积涂敷液的存积罐591、将该存积罐591与泵581连接的配管592、以及设置于配管592的开闭阀593。该开闭阀593根据来自控制部9的补充指令打开，能够将存积罐591内的涂敷液补充至泵581。相反，根据来自控制部9的补充停止指令关闭，限制从存积罐591向泵581补充涂敷液。应予说明，在本实施方式中，不仅控制上述的开闭阀593的开闭，也可以一边控制涂敷液供给单元58的开闭阀585、586的开闭一边进行涂敷液的补充动作。换句话说，在不进行补充动作的期间，开闭阀593关闭，限制涂敷液从存积罐591流入至泵581。与此相对，通过在关闭开闭阀585、586的同时打开开闭阀593的状态下泵581工作，而将存积罐591内的涂敷液导入填充至泵581。

喷嘴清洗待机单元52是从向基板S的表面Sf供给涂敷液后的狭缝喷嘴511的前端部清洗去除涂敷液的装置，通过该清洗处理，狭缝喷嘴511的吐出口511a被整理成适于下一个涂敷处理的状态。该喷嘴清洗待机单元52如图3B以及图4所示那样，主要具备由滚子521、清洗单元522、滚子缸(Vat)523等构成来进行喷嘴清洗以及预备排出的清洗待机部524。在该清洗待机部524，清洗进行涂敷处理后的狭缝喷嘴511的吐出口511a。另外，若在使狭缝喷嘴511接近滚子521的外周面的状态下使规定的涂敷液从吐出口511a排出，则在吐出口511a形成涂敷液的液积留(预备排出动作)。若像这样在吐出口511a均匀地形成液积留，则能够高精度地进行液积留后的涂敷处理。像这样，狭缝喷嘴511的吐出口511a被初始化，为下一个涂敷处理作准备。应予说明，滚子旋转马达(图示省略)根据来自控制部9的旋转指令驱动滚子521使其旋转。另外，附着于滚子521的涂敷液由于在滚子521旋转时下端浸渍于存积在滚子缸523内的清洗液而被去除。

如上述那样，在本实施方式中，由于是使狭缝喷嘴511接近基板S的表面Sf来进行涂敷处理，因此，一旦表面Sf存在异物，则存在由于异物与狭缝喷嘴511的碰撞而导致狭缝喷嘴511损伤的情况。另外，若由上述碰撞导致在狭缝喷嘴511的位置产生误差，则不能够继续之后的涂敷处理。因此，在本实施方式中，为了检测存在于基板S的表面Sf的异物，设置有两种异物检测机构6A、6B。

异物检测机构6A是在搬运方向X上的设置于涂敷机构的狭缝喷嘴511的上游侧以非接触方式检测上述异物的机构，具有投光部6A1以及受光部6A2。投光部6A1以及受光部6A2如图1B所示那样，以在Y方向上从外侧夹着中央浮起单元3B的方式配置。投光部6A1以及受光部6A2分别安装于从基台10的上表面沿铅垂方向Z竖立设置的支承部件(图示省略)的上端部，能够调整投光部6A1以及受光部6A2的高度位置。更具体而言，如图3B所示那样，以从投光部6A1照射的激光通过基板S的表面Sf上而入射至受光部6A2的方式配设投光部6A1以及受光部6A2。而且，投光部6A1朝向受光部6A2照射激光。另一方面，受光部6A2接受从投光部6A1照射出的激光，受光部6A2测量其受光量并输出至控制部9。而且，控制部9基于该受光量进行异物检测。

另一方的异物检测机构6B是以接触方式检测上述异物的机构，在本实施方式中，安装于涂敷机构5的狭缝喷嘴511。异物检测机构6B具有在搬运方向X上的吐出口511a的上游侧安装于狭缝喷嘴511的保护部件6B1、以及检测狭缝喷嘴511的振动的振动传感器6B2。保护部件6B1是为了保护狭缝喷嘴511的喷嘴前端而沿水平方向Y延伸设置的板部件，以板面与基板S的表面Sf正交的方式配置保护部件6B1。因此，在喷嘴单元51的正下位置搬运基板S时，在基板S上存在异物的情况下，保护部件6B1抑制由狭缝喷嘴511的喷嘴前端和异物的接触引起的狭缝喷嘴511的破损。另外，在存在异物的情况下，保护部件6B1与异物接触而在该保护部件6B1中产生振动，并传递至狭缝喷嘴511。振动传感器6B2检测该振动并输出至控制部9。然后，控制部9基于该振动进行异物检测。应予说明，除上述异物检测机构6B以外，在狭缝喷嘴511上还设置有用于在比保护部件6B1先进入至基板S的上方区域的位置以非接触的方式检测基板S的浮起高度的浮起高度检测传感器53。能够通过该浮起高度检测传感器53测定浮起的基板S与中央浮起单元3B的载台面33的上表面的分离距离，能够根据该检测值经由控制部9调整狭缝喷嘴511下降的位置。应予说明，作为浮起高度检测传感器53，能够使用光学式传感器、超声波式传感器等。

像这样，在本实施方式中，通过设置两种异物检测机构6A、6B，能够可靠地进行异物检测。并且，在异物检测时，控制部9强制地停止基板S的搬运而事先防止狭缝喷嘴511的破损、基板S的损伤等。

控制部9如上述那样具有控制涂敷装置1的装置各部的功能。在该控制部9设置有执行预先决定的处理程序来控制各部的动作的CPU91、用于存储保存由CPU91执行的处理程序和/或在处理中生成的数据等的存储器92、以及用于根据需要向用户报告处理的进行状况、异物检测等的显示部93。而且，在涂敷装置1中，通过CPU91按照处理程序，以如下方式控制装置各部来执行涂敷处理。

图5是表示由图1A所示的涂敷装置执行的涂敷处理的流程图。另外，图6A至图6E是表示在涂敷处理中的各阶段的各部的位置关系的图。图5所示的涂敷处理是在从辊输送机100接受未处理的基板S后，一边沿(+X)方向浮起搬运该基板S一边从狭缝喷嘴511向基板S的表面Sf排出涂敷液来形成涂敷层的处理。该涂敷处理通过CPU91执行预先存储的处理程序以控制各部来进行。

若向控制部9赋予涂敷指令，则移载机构2从辊输送机100接受基板S，并移载至浮起单元3A(步骤S101)。另外，控制部9获取涂敷指令所包括的与涂敷处理相关的各种信息，换句话说，获取从吐出口511a排出的涂敷液的排出速度、基板速度、喷嘴速度、涂敷液的厚度等涂敷条件，并基于这些条件运算基板S的搬运时机、狭缝喷嘴511的移动时机以及涂敷液的排出时机等。

在接下来的步骤S102，在喷嘴清洗待机单元52执行预备排出。该预备排出是在使狭缝喷嘴511接近滚子521的外周面的状态下从吐出口511a排出规定的涂敷液的动作，由此，如图6A所示那样，在吐出口511a形成涂敷液的液积留LD。若像这样在吐出口511a均匀地形成液积留LD，则能够高精度地进行之后的涂敷处理。这样，狭缝喷嘴511的吐出口511a被初始化，完成接下来的涂敷处理的准备。

接下来，升降部513以及移动机构518根据来自控制部9的移动指令而工作，使狭缝喷嘴511移动至涂敷开始位置PS，使吐出口511a(图6B)朝向铅垂下方并静止定位(步骤S103)。另外，与狭缝喷嘴511的移动同时或者在狭缝喷嘴511的移动前后，搬运机构4根据来自控制部9的搬运指令沿(+X)方向搬运基板S，在基板S的表面Sf中的最初应涂敷的区域(在本实施方式中为基板S的前端区域)位于涂敷开始位置PS的时刻停止基板S的搬入并使基板S静止(步骤S104：搬入工序)。这样，若如图6B所示那样，狭缝喷嘴511以及基板S向涂敷开始位置PS的定位均完成，则如图5以及图6B至图6E所示那样执行涂敷处理(步骤S105)。另外，移载机构2与涂敷处理并行地从辊输送机100接受下一基板S，并移载至浮起单元3A(步骤S106)，为接下来的涂敷处理作准备。

涂敷处理的临开始前，如图6B所示那样，狭缝喷嘴511的吐出口511a以及基板S的(+X)侧端部静止于涂敷开始位置PS(换句话说，基板搬运速度、喷嘴移动速度均为零)，狭缝喷嘴511位于基板S的表面Sf的正上位置。另外，利用升降部513使狭缝喷嘴511接近基板S。在这样地使吐出口511a接近的状态下，在规定时间的期间，控制部9控制涂敷液供给单元58将规定量的涂敷液压送至狭缝喷嘴511来形成液珠B(在基板S上的液积留)。

然后，执行基板S向(+X)方向的搬运、狭缝喷嘴511向(－X)方向的移动、以及涂敷液从吐出口511a的排出。在该涂敷处理的开始时刻，基板S的前端以及狭缝喷嘴511的吐出口511a均定位于涂敷开始位置PS。换句话说，在基板S的前端位于最下游孔列35j与比最下游孔列35j靠前一列的上游侧的孔列35i之间的上方的状态下，从狭缝喷嘴511的吐出口511a排出涂敷液，开始在基板S的(+X)侧端部的涂敷处理，形成涂敷膜CL。另外，基板S向(+X)方向移动，相对于此，狭缝喷嘴511向(－X)方向移动，如图6C所示那样，涂敷膜CL的形成区域向基板S的后端侧扩展。此时，基板S的前端受到在通过最下游孔列35j的时刻向下游浮起单元3C移载所带来的影响，一旦从最下游孔列35j到达下游浮起单元3C的上游端，基板S的浮起量瞬间增大。因此，若与专利第4571525号所记载的发明同样地在中央浮起单元3B的前端开始涂敷处理，则涂敷膜CL在前端的膜厚产生变动。

与此相对，在本实施方式中，如上述那样，在基板S的前端到达最下游孔列35j的上方前开始涂敷处理。因此，即使基板S的浮起量在比最下游孔列35j靠下游侧产生变动，在涂敷处理的开始时刻及其以后，在狭缝喷嘴511所处的范围(喷嘴移动范围)，基板S的浮起量也稳定。

该稳定状态持续至基板S的后端到达涂敷结束位置PE。是因为如图3A、图3B、图6A至图6E所示那样，在本实施方式中，涂敷结束位置PE设定于最上游孔列35a和比最上游孔列35a靠下一列的下游侧的孔列35b之间。参照图6B至图6D对该理由进行说明。在开始涂敷处理的时刻，基板S在比中央浮起单元3B靠上游侧(同图的左手侧)的浮起量增大，在直至到达中央浮起单元3B的最上游孔列35a的期间，基板S的浮起量逐渐减小。因此，若与专利第4571525号所记载的发明同样地在中央浮起单元3B的后端结束涂敷处理，则涂敷膜CL在后端的膜厚产生变动。

与此相对，在本实施方式中，狭缝喷嘴511的喷嘴移动范围的上游限(位置PE)设定于比最上游孔列35a靠下游侧，在基板S的后端通过最上游孔列35a的上方而到达涂敷结束位置PE的时刻停止涂敷液的排出。因此，如图6C、图6D所示那样，不受从上游浮起单元3A向中央浮起单元3B移载基板S的影响，在狭缝喷嘴511的正下位置的基板S的浮起量稳定。并且，如图6E所示那样，在狭缝喷嘴511到达上游限的时刻，基板S向中央浮起单元3B的移载已经完成，基板S的后端位于比最上游孔列35a靠下游侧。

像这样，在本实施方式中，在进行涂敷处理的期间，基板S在狭缝喷嘴511的正下位置的浮起量稳定。而且，在狭缝喷嘴511的吐出口511a以及基板S的后端均移动至涂敷结束位置PE的时刻停止涂敷液的排出。这样，涂敷液的层，换句话说，涂敷层CL能够以均匀的膜厚涂敷于基板S的整个面。

在上述的涂敷处理(步骤S105)完成的时刻，如图6E所示那样，基板S的表面Sf中的最后应涂敷的区域(在本实施方式中为基板S的后端区域)和狭缝喷嘴511位于涂敷结束位置PE。之后，狭缝喷嘴511从涂敷结束位置PE朝向喷嘴清洗待机单元52移动(步骤S107)。另一方面，涂敷涂敷液后的基板S以如下的方式被搬出(步骤S108)。即，在基板S被搬运至下游浮起单元3C后使升降机顶升销(图示省略)上升，从下游浮起单元3C的载台面32举起基板S。并且，该基板S被移载机器人(图示省略)从涂敷装置1搬出。

这里，在由移载机构2将下一未处理基板S移载至浮起单元3A待机时(在步骤S109为“是”)，返回至步骤S102反复进行上述处理。

如上述那样，根据本实施方式，在比最下游孔列35j靠上游侧开始涂敷处理。另外，由于受到涂敷膜CL的涂敷的基板S至少经由最下游孔列35j的上方移载至下游浮起单元3C，因此，由该移载引起的浮起量的变动不会因超越最下游孔列35j而波及到搬运方向X的上游侧，能够使涂敷至基板S的涂敷膜CL的厚度稳定。

另外，在比最上游孔列35a靠下游侧结束涂敷处理。另外，由于在必须经由最上游孔列35a的上方而搬入基板S后进行涂敷处理，因此，由从上游浮起单元3A向中央浮起单元3B移载基板S引起的浮起量的变动不会因超越最上游孔列35a而波及到搬运方向X的下游侧。其结果，能够使涂敷至基板S的涂敷膜CL的厚度稳定地均匀化。

并且，在上述实施方式中，从孔列偏移地设定涂敷开始位置PS以及涂敷结束位置PE。更具体而言，如图3A以及图3B所示，涂敷开始位置PS设定于最下游孔列35j与比最下游孔列35j靠前一列的上游侧的孔列35i的中间位置，并且，涂敷结束位置PE设定于最上游孔列35a与比最上游孔列35a靠下一列的下游侧的孔列35b的中间位置。因此，在涂敷开始时刻，吐出口511a位于最下游孔列35j与比最下游孔列35j靠前一列的上游侧的孔列35i之间的上方。另外，在涂敷结束时刻，吐出口511a位于最上游孔列35a与比最上游孔列35a靠下一列的下游侧的孔列35b之间的上方。通过采用这样的构成，能够防止从喷出孔34a喷出的气体直接吹至吐出口511a。其结果，能够抑制狭缝喷嘴511内的涂敷液的粘度的增加、由涂敷液的固化引起的吐出口511a的堵塞等的产生，能够稳定地进行高品质的涂敷处理。

如上述那样，在该实施方式中，构成浮起机构3的上游浮起单元3A、中央浮起单元3B以及下游浮起单元3C分别与本发明的“上游侧辅助浮起部”、“涂敷浮起部”以及“下游侧辅助浮起部”的一个例子相当。另外，搬运机构4以及移动机构518分别与本发明的“基板搬运机构”以及“喷嘴移动机构”的一个例子相当。另外，最下游孔列35j与本发明的“第一孔列”的一个例子相当，并且，最下游孔列35j的前一列的上游侧的孔列35i与本发明的“第二孔列”的一个例子相当。另外，最上游孔列35a与本发明的“第三孔列”的一个例子相当，并且，最上游孔列35a的下一列的下游侧的孔列35b与本发明的“第四孔列”的一个例子相当。步骤S104、S105、S108分别与本发明的“搬入工序”、“涂敷工序”以及“搬出工序”的一个例子相当。

应予说明，本发明并不局限于上述的实施方式，只要不脱离其主旨，能够在上述的方式以外进行各种变更。例如，在上述实施方式中，将涂敷开始位置PS设定于最下游孔列35j与比最下游孔列35j靠前一列的上游侧的孔列35i之间，但也可以设定于比最下游孔列35j靠上游侧且比涂敷结束位置PE靠下游侧。另外，将涂敷结束位置PE设定于最上游孔列35a与比最上游孔列35a靠下一列的下游侧的孔列35b之间，但也可以设定于比最上游孔列35a靠下游侧且比涂敷开始位置PS靠上游侧。但是，为了有效地防止涂敷液的粘度增加、吐出口511a的堵塞等的产生，优选将涂敷开始位置PS设定于相互邻接的两列孔列之间，将涂敷结束位置PE设定于相互邻接的两列孔列之间。

另外，在上述实施方式中，在使基板S的前端定位于涂敷开始位置PS后开始涂敷处理，但在基板S的前端设置非涂敷区域的情况下，也可以在将基板S的前端搬运至最下游孔列35j与涂敷开始位置PS之间后，开始涂敷液的排出、基板S的搬运以及狭缝喷嘴511的移动。另外，在基板S的后端设置非涂敷区域的情况下，也可以在狭缝喷嘴511到达涂敷结束位置PE的时刻基板S的后端被搬运至最上游孔列35a与涂敷结束位置PE之间，执行涂敷液的排出停止、基板S的搬运停止以及狭缝喷嘴511的移动停止。

另外，在上述实施方式中，在中央浮起单元3B的载台面33，沿搬运方向X排列多列在沿与搬运方向X垂直的宽度方向Y交替地配置喷出孔34a以及吸引孔34b而成的孔列35a～35j，中央浮起单元3B的孔列的构成、配置以及个数等并不局限于此。例如在与专利第4571525号所记载的发明同样地，具有沿搬运方向X交替地排列沿宽度方向Y配置多个喷出孔34a而成的孔列和沿宽度方向Y配置多个吸引孔34b而成的孔列而成的面的情况下，通过适用本发明也能够得到相同的作用效果。

本发明能够普遍适用于如下的涂敷技术，即，通过搬运基板，并且使从吐出口排出涂敷液的喷嘴向与基板的搬运方向相逆的方向移动，来在基板涂敷涂敷液的技术。

Claims (13)

1.一种涂敷装置，其特征在于，具备：

浮起机构，使基板浮起；

基板搬运机构，搬运由所述浮起机构浮起的所述基板；

喷嘴，从该喷嘴的排出口向由所述基板搬运机构搬运的所述基板排出涂敷液并涂敷；以及

喷嘴移动机构，使正在排出所述涂敷液的所述喷嘴向与所述基板的搬运方向相反的相反方向移动，

所述浮起机构具有：

涂敷浮起部，所述涂敷浮起部具有沿所述搬运方向排列有多个孔列的面，所述孔列是沿与所述搬运方向正交的宽度方向交替地配置喷出气体的喷出孔以及吸引气体的吸引孔而成的孔列，所述涂敷浮起部使所述基板从所述面浮起，或者，该涂敷浮起部具有沿所述搬运方向交替地排列有沿宽度方向配置多个所述喷出孔而成的孔列和沿所述宽度方向配置多个所述吸引孔而成的孔列的面，所述涂敷浮起部使所述基板从所述面浮起；以及

下游侧辅助浮起部，在所述搬运方向上与所述涂敷浮起部的下游侧邻接设置，向所述基板赋予浮起力，

在由所述基板搬运机构搬运的所述基板的前端到达多个所述孔列中的在所述搬运方向上位于最下游的最下游孔列的上方前，开始从所述喷嘴向由所述涂敷浮起部浮起的所述基板排出所述涂敷液，并且开始使所述喷嘴向所述相反方向移动。

2.根据权利要求1所述的涂敷装置，其特征在于，

所述喷嘴移动机构以所述吐出口在开始排出所述涂敷液之前位于所述多个孔列中的相互邻接的第一孔列与第二孔列之间的上方的方式使所述喷嘴移动。

3.根据权利要求2所述的涂敷装置，其特征在于，

所述第一孔列是所述最下游孔列，所述第二孔列是在所述搬运方向上配置于所述最下游孔列的上游侧的孔列。

4.根据权利要求2或者3所述的涂敷装置，其特征在于，

在所述基板的前端到达由所述喷嘴移动机构定位的所述喷嘴的所述吐出口的正下方位置后，开始从所述喷嘴向所述基板排出所述涂敷液，并且，开始使所述喷嘴向所述相反方向移动。

5.根据权利要求1至3中任意一项所述的涂敷装置，其特征在于，

所述浮起机构还具有上游侧辅助浮起部，所述上游侧辅助浮起部在所述搬运方向上与所述涂敷浮起部的上游侧邻接设置，向所述基板赋予浮起力，

在由所述基板搬运机构搬运的所述基板的后端通过多个所述孔列中的在所述搬运方向上位于最上游的最上游孔列的上方后，停止从所述喷嘴向由所述涂敷浮起部浮起的所述基板排出所述涂敷液。

6.根据权利要求1至3中任意一项所述的涂敷装置，其特征在于，

所述喷嘴移动机构以所述吐出口在停止排出所述涂敷液的时刻位于多个所述孔列中的相互邻接的第三孔列与第四孔列之间的上方的方式使所述喷嘴移动。

7.根据权利要求6所述的涂敷装置，其特征在于，

所述第三孔列是所述最上游孔列，所述第四孔列是在所述搬运方向上配置于所述最上游孔列的下游侧的孔列。

8.一种涂敷装置，其特征在于，具备：

浮起机构，使基板浮起；

基板搬运机构，搬运由所述浮起机构浮起的所述基板；

喷嘴，从该喷嘴的吐出口向由所述基板搬运机构搬运的所述基板排出涂敷液并涂敷；以及

喷嘴移动机构，使正在排出所述涂敷液的所述喷嘴向与所述基板的搬运方向相反的相反方向移动，

所述浮起机构具有：

涂敷浮起部，所述涂敷浮起部具有沿所述搬运方向排列有多个孔列的面，所述孔列是沿与所述搬运方向正交的宽度方向交替地配置喷出气体的喷出孔以及吸引气体的吸引孔而成的孔列，所述涂敷浮起部使所述基板从所述面浮起，或者，所述涂敷浮起部具有沿所述搬运方向交替地排列有沿宽度方向配置多个所述喷出孔而成的孔列和沿所述宽度方向配置多个所述吸引孔而成的孔列的面，所述涂敷浮起部使所述基板从所述面浮起；以及

上游侧辅助浮起部，在所述搬运方向上与所述涂敷浮起部的上游侧邻接设置，向所述基板赋予浮起力，

在由所述基板搬运机构搬运的所述基板的前端通过多个所述孔列中的在所述搬运方向上位于最上游的最上游孔列的上方后，停止从所述喷嘴向由所述涂敷浮起部浮起的所述基板排出所述涂敷液。

9.根据权利要求8所述的涂敷装置，其特征在于，

所述喷嘴移动机构以所述吐出口在停止排出所述涂敷液的时刻位于多个所述孔列中的相互邻接的第三孔列与第四孔列之间的上方的方式使所述喷嘴移动。

10.根据权利要求9所述的涂敷装置，其特征在于，

所述第三孔列是所述最上游孔列，所述第四孔列是在所述搬运方向上配置于所述最上游孔列的下游侧的孔列。

11.一种涂敷方法，其特征在于，具备：

涂敷工序，搬运由涂敷浮起部浮起的基板，并且一边使喷嘴向与所述基板的搬运方向相反的相反方向移动，一边从所述喷嘴的吐出口排出涂敷液并涂敷于所述基板；以及

搬出工序，由在所述搬运方向上与所述涂敷浮起部的下游侧邻接设置的下游侧辅助浮起部使从所述涂敷浮起部搬运来的所述基板浮起并沿所述搬运方向搬运，

所述涂敷浮起部构成为，所述涂敷浮起部具有沿所述搬运方向排列多个孔列的面，所述孔列是沿与所述搬运方向正交的宽度方向交替地配置喷出气体的喷出孔以及吸引气体的吸引孔而成的孔列，所述涂敷浮起部使所述基板从所述面浮起，或者，所述涂敷浮起部具有沿所述搬运方向交替地排列有沿宽度方向配置多个所述喷出孔而成的孔列和沿所述宽度方向配置多个所述上述吸引孔而成的孔列的面，所述涂敷浮起部使所述基板从所述面浮起，此时，

在所述涂敷工序中，在所述基板的前端到达多个所述孔列中的在所述搬运方向上位于最下游的最下游孔列的上方前，开始从所述喷嘴向由所述涂敷浮起部浮起的所述基板排出所述涂敷液，并且开始使所述喷嘴向所述相反方向移动。

12.根据权利要求11所述的涂敷方法，其特征在于，

还具备搬入工序，由在所述搬运方向上与所述涂敷浮起部的上游侧邻接设置的上游侧辅助浮起部使应搬运至所述涂敷浮起部的所述基板浮起并沿所述搬运方向搬运，

在所述涂敷工序中，在所述基板的前端通过多个所述孔列中的在所述搬运方向上位于最上游的最上游孔列的上方后，停止从所述喷嘴向由所述涂敷浮起部浮起的所述基板排出所述涂敷液。

13.一种涂敷方法，其特征在于，具备：

涂敷工序，搬运由涂敷浮起部浮起的基板，并且一边使喷嘴向与所述基板的搬运方向相反的相反方向移动，一边从所述喷嘴的吐出口排出涂敷液并涂敷于所述基板；以及

搬入工序，由在所述搬运方向上与所述涂敷浮起部的上游侧邻接设置的上游侧辅助浮起部使应搬运至所述涂敷浮起部的所述基板浮起并沿所述搬运方向搬运，

所述涂敷浮起部构成为，所述涂敷浮起部具有沿所述搬运方向排列多个孔列的面，所述孔列是沿与所述搬运方向正交的宽度方向交替地配置喷出气体的喷出孔以及吸引气体的吸引孔而成的孔列，所述涂敷浮起部使所述基板从所述面浮起，或者，所述涂敷浮起部具有沿所述搬运方向交替地排列有沿所述宽度方向配置多个所述喷出孔而成的孔列和沿所述宽度方向配置多个所述吸引孔而成的孔列的面，所述涂敷浮起部使所述基板从所述面浮起，此时，

在所述涂敷工序中，在所述基板的前端通过多个所述孔列中的在所述搬运方向上位于最上游的最上游孔列的上方后，停止从所述喷嘴向由所述涂敷浮起部浮起的所述基板排出所述涂敷液。