CN108025577B - 图像形成方法、图像形成设备、激光照射印刷墨和用于制造图像形成物体的方法 - Google Patents
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Abstract
一种形成图像的方法,其包括形成图像的步骤,其中将具有与吸收光的墨的光吸收波长对应的激光光束照射在所述墨上以使所述墨利用所述激光光束的能量在所述激光光束的照射方向上飞散并将所述墨附着在欲附着墨的物体上。
Description
技术领域
本公开涉及用于形成图像的方法、图像形成设备、激光发射记录用的墨和用于制造图像形成物体的方法。
背景技术
迄今,一直提议将通过喷墨方式的图像形成方法作为用于将图像例如图案形成到耐热基底诸如瓷砖(瓦,tile)和未上釉的陶器和瓷器(pottery and porcelain)的表面上的方法(参见例如专利文件1)。
然而,在所述喷墨方式中使用的墨由于喷出手段喷墨头的细的喷嘴形状的结构和所述墨的喷出方法而需要具有低的粘度。因此,所述墨中包含的组分和所述组分的量受到限制,使得所述组分具有低的粘度。结果,用于调节所述组分的浓度的介质(分散介质)以较大的量被包含(引入)。因此,成问题的是,将所述墨干燥耗费长的时间并且在耐热基底的表面上可能发生渗色(bleeding)现象。
如果使用具有高比重的无机颜料作为所述组分,则所述无机颜料可能在所述墨中沉降和聚集。因此,当所述无机颜料为细分散的时,对于所述无机颜料的一些,图像由于较低的耐久性和随时间的显著失色而劣化。而且,如果所述无机颜料具有晶体形状例如针状形状或鳞片状(scale-like)形状,则成问题的是,发生喷嘴阻塞,使得难以稳定地形成图像。
因此,一直提议通过向水性墨加入挥发性分散介质获得的墨作为用于解决关于所述渗色现象和所述喷嘴阻塞的问题的方法(参见例如专利文件2)。引文列表
专利文件
专利文件1:日本待审专利申请公布No.2001-39008
专利文件2:日本待审专利申请公布No.2001-81363
发明内容
根据本公开的一个方面,用于形成图像的方法包括通过将吸收光的墨用具有与所述墨的光吸收波长对应的波长的激光光束照射使所述墨借助所述激光光束的能量在发射所述激光光束的方向上飞行以使所述墨在被附着物(被附着靶体,attachment target)上附着而形成图像。
附图说明
图1A是说明典型的激光光束的波面(等相面)的实例的示意图;
图1B是说明典型的激光光束的光强度分布的实例的图示;
图1C是说明典型的激光光束的相分布的实例的图示;
图2A是说明光漩涡激光光束的波面(等相面)的实例的示意图;
图2B是说明光漩涡激光光束的光强度分布的实例的图示;
图2C是说明光漩涡激光光束的相分布的实例的图示;
图3A是说明光漩涡激光光束的干涉测量法的结果的实例的图示;
图3B是说明具有光强度在中心处为0的点的激光光束的干涉测量法的结果的实例的图示;
图4A是说明本公开的图像形成设备的实例的示意性视图;
图4B是说明本公开的图像形成设备的另一个实例的示意性视图;
图5A为说明在图4B中所示的且向其添加供墨手段和被附着物的输送(传送)手段的图像形成设备的实例的示意性视图;
图5B是说明在图4B中所示的且向其添加供墨手段和被附着物输送手段的图像形成设备的另一个实例的示意性视图;和
图5C为说明在图4B中所示的且向其添加供墨手段和被附着物输送手段的图像形成设备的又一个实例的示意性视图。
具体实施方式
(图像形成方法和图像形成设备)
本公开的图像形成方法包括图像形成步骤,优选地包括烧制步骤,且如果需要,进一步包括其它步骤。
本公开的图像形成设备包括图像形成手段,优选地包括烧制手段,且如果需要,进一步包括其它手段。
本公开的图像形成方法可使用本公开的图像形成设备实施。
现在将通过本公开的图像形成方法的描述详细地描述本公开的图像形成设备。
本公开具有如下目的:提供能够高效地制造高品质图像形成物体,同时导致较少的渗色现象且具有优异的耐刮擦性、优异的抗剥离性、良好的字点(点,dot)颗粒性(graininess)和良好的墨附着量稳定性的图像形成方法。
本公开可提供如下图像形成方法:其能够高效地制造高品质图像形成物体,同时在图像形成期间导致较少的渗色现象并且具有优异的耐刮擦性、优异的抗剥离性、良好的字点颗粒性和良好的墨附着量稳定性。
<图像形成步骤和图像形成手段>
所述图像形成步骤为将吸收光的墨用具有与所述墨的光吸收波长对应的波长的激光光束照射使所述墨借助所述激光光束的能量在发射所述激光光束的方向上飞行以使所述墨在被附着物上附着的步骤。所述图像形成步骤可适宜地使用所述图像形成手段实施。
所述图像形成手段至少包括激光光源,优选地包括光漩涡转换部,且如果需要,进一步包括其它构件。
所述墨在下文中可称为“激光发射记录用的墨”。
-激光光源-
激光光源没有特别限制并且取决于预期意图可适当地选择,只要该激光光源产生具有与所述墨的光吸收波长对应的波长的激光光束。所述激光光源的实例包括产生所述激光光束的固态激光器、气体激光器和半导体激光器。
固态激光器的实例包括YAG激光器和钛-蓝宝石激光器。
气体激光器的实例包括氩激光器、氦氖激光器和二氧化碳激光器。
半导体激光器的实例包括由例如GaAs或InGaAsP制成的那些。
在这些激光器中,能够使脉冲振荡的激光光源是优选的。在所述设备的小型化和成本节省方面,具有约30mW的输出(输出功率)的半导体激光器是更优选的。然而,在实施例中,在实验上使用钛-蓝宝石激光器。
激光光源可为可输出下述的光漩涡激光光束的激光光源。
所述激光光束的波长没有特别限制并且取决于预期意图可适当地选择,但是其优选地为300nm或更大但是11μm或更小且更优选地为350nm或更大但是1,100nm或更小。在优选范围内的所述激光光束的波长是有利的,因为可使所述墨以高的能量效率飞行。
所述激光光束的光束直径没有特别限制并且取决于预期意图可适当地选择,但是其优选为10μm或更大但是10mm或更小且更优选地为10μm或更大但是1mm或更小。在优选范围内的所述激光光束的波长是有利的,因为可使图像更清晰地显现。
所述激光光束的脉冲宽度没有特别限制并且取决于预期意图可适当地选择,但是其优选为2纳秒或更长但是100纳秒或更短并且更优选地为2纳秒或更长但是10纳秒或更短。在优选范围内的所述激光光束的脉冲宽度是有利的,因为可使所述墨以高的能量效率飞行。
所述激光光束的脉冲频率没有特别限制并且取决于预期意图可适当地选择,但是其优选为10Hz或更高但是200Hz或更低并且更优选地为20Hz或更高但是100Hz或更低。在优选范围内的所述激光光束的脉冲宽度是有利的,因为由于图像形成效率得以改善且较少的流动墨滴进一步被所述激光光束照射而使字点形状稳定化。
发射到所述墨的所述激光光束没有特别限制并且取决于预期意图可适当地选择。所述激光光束的实例包括其光强度根据高斯分布进行分布的典型的激光光束和光漩涡激光光束。在这些激光光束中,光漩涡激光光束是优选的。
典型的激光光束可在光漩涡转换部处转换成光漩涡激光光束。
-光漩涡转换部-
光漩涡转换部没有特别限制并且取决于预期意图可适当地选择,只要将所述激光光束转换成光漩涡激光光束。光漩涡转换手段的实例包括衍射光学元件、多模光纤和液晶相位调制器。
所述衍射光学元件的实例包括螺旋相板(相位片)和全息元件。
用于产生光漩涡激光光束的方法不限于使用光漩涡转换部的方法,并且其它实例包括由激光振荡器使光漩涡以固有模式振荡的方法、在振荡器中插入全息元件的方法、使用转换成甜甜圈(圆环形)光束的激发光的方法、使用具有盲点的共振腔(发射)镜的方法、和利用由侧面泵浦固态激光器作为空间滤光器产生的热透镜效应使光漩涡模式振荡的方法。
为了使光漩涡激光光束的输出稳定化,优选的是将(1/4)波片布置在光漩涡转换部下游的光路上并且将该(1/4)波片的光轴设定成与作为线偏振光的光漩涡激光光束呈+45度的角度以将该光漩涡激光光束转换成圆偏振光。
典型的激光光束在相位上是均匀的,并且因此具有平的(平面状,flat)等相面(波面),如图1A中所示的。典型的激光光束的坡印亭(Poynting)矢量的方向为与所述平的等相面垂直的方向。该方向为与典型的激光光束的发射方向相同的方向。因此,当用典型的激光光束照射所述墨时,在典型的激光光束发射的方向上的力在所述墨中起作用。然而,因为典型的激光光束的横截面上的光强度分布为其中所述光束的中心具有最大强度的正态分布(高斯分布),如图1B中所示,所以所述墨趋于飞散。进一步地,当观察相分布时,可确认没有相位差,如图1C中所示。
与之对比的,光漩涡激光光束具有螺旋等相面,如图2A中所示。光漩涡激光光束的坡印亭矢量的方向为与螺旋等相面垂直的方向。因此,当用光漩涡激光光束照射所述墨时,在所述垂直方向上的力起作用。因此,所述光强度分布为其中所述光束的中心为零的凹进的甜甜圈形分布,如图2B中所示。当用光漩涡激光光束照射所述墨时,将甜甜圈形能量作为辐射压施加到所述墨。同时,还赋予所述墨所谓的回转效应。因此,使所述墨像来复枪子弹一样沿着光漩涡激光光束发射的方向飞行,并且以不可容易飞散的状态在被附着物上附着。进一步地,当观察相分布时,可确认相位差出现,如图2C中所示。
用于判断激光光束是否为光漩涡激光光束的方法没有特别限制并且取决于预期意图可适当地选择。该方法的实例包括上述相分布的观察和干涉测量法。干涉测量法是常见的。
通过激光光束分析仪(profiler)(例如获自Spiricon,Inc.的激光光束分析仪和获自Hamamatsu Photonics K.K.的激光光束分析仪)的干涉测量法是可行的。使用所述激光光束分析仪的光漩涡激光光束的干涉测量法的结果的实例在图3A中示出。使用所述激光光束分析仪的具有光强度在中心处为0的点的激光光束的干涉测量法的结果的实例在图3B中示出。
图3A为说明光漩涡激光光束的干涉测量法的结果的实例的图示。图3B为说明具有光强度在中心处为0的点的激光光束的干涉测量法的结果的实例的图示。
当通过干涉测量法测量光漩涡激光光束时,如图3A中所示,可确认该光漩涡激光光束为如图1C中的具有甜甜圈形能量分布且具有光强度在中心处为0的点的激光光束。
另一方面,当通过干涉测量法测量具有光强度在中心处为0的点的典型的激光光束时,如图3B中所示,典型的激光光束具有与图3A中所示的光漩涡激光光束的干涉测量类似的能量分布,但是其在甜甜圈形部分中不是均匀的。因此,可确认与光漩涡激光光束的区别。
-被附着物-
被附着物没有特别限制并且取决于预期意图可适当地选择,但是其优选为耐热基底。耐热基底的被附着物是有利的,因为在将所述墨附着在耐热基底上之后耐热基底(上)可被烧制。
耐热基底没有特别限制并且取决于预期意图可适当地选择,只要该耐热基底可忍受下述的烧制方法。耐热基底的实例包括瓦、玻璃、未上釉的陶器和瓷器、陶器和瓷器、以及搪瓷(珐琅)。
-其它构件-
其它构件没有特别限制并且取决于预期意图可适当地选择。其它构件的实例包括光束直径改变构件、光束波长改变元件和能量调节滤光器。
--光束直径改变构件--
光束直径改变构件没有特别限制并且取决于预期意图可适当地选择,只要该光束直径改变构件可改变所述激光光束的光束直径。光束直径改变构件的实例包括聚光透镜。
光漩涡激光光束的光束直径没有特别限制并且取决于预期意图可适当地选择,但是其优选为几微米或更大但是10mm或更小,因为已经确认以这样的光束直径可使所述墨飞行。所述光束直径可通过激光斑直径和聚光透镜改变。
当所述墨中包含分散体时,所述光束直径优选地大于或等于分散体的最大体均粒径并且更优选地为分散体的最大值的3倍。在更优选范围内的光束直径是有利的,因为可使所述墨稳定地飞行。
--光束波长改变元件--
光束波长改变元件没有特别限制并且取决于预期意图可适当地选择,只要该光束波长改变元件可使所述激光光束的波长改变为可被所述墨吸收且对于下述的墨担载体透明的波长。光束波长改变元件的实例包括KTP晶体、BBO晶体、LBO晶体和CLBO晶体。
--能量调节滤光器--
能量调节滤光器没有特别限制并且取决于预期意图可适当地选择,只要该能量调节滤光器可将所述激光光束调节到适当的输出值。能量调节滤光器的实例包括ND滤光器和玻璃片。
用于使对应于1个字点的墨飞行的激光光束的能量强度没有特别限制并且取决于预期意图可适当地选择,但是其优选为0.1mJ/字点或更大但是3.0mJ/字点或更小且更优选地为0.2mJ/字点或更大但是1.5mJ/字点或更小。
<烧制步骤和烧制手段>
烧制步骤为将在被附着物上附着的墨烧制的步骤并且可通过烧制手段实施。
烧制手段为为用于将在被附着物上附着的墨烧制的手段。
烧制手段没有特别限制并且取决于预期意图可适当地选择。烧制手段的实例包括电炉和煤气炉。被附着物优选为耐热基底。
-烧制方法-
用于将在耐热基底上附着的墨烧制的方法没有特别限制并且取决于预期意图可适当地选择。所述方法的实例包括其中将所述墨在与耐热基底的表面邻近的区域中烧制的方法和其中将所述墨在距离耐热基底的表面更深的区域中烧制的方法。
其中将所述墨在与耐热基底的表面邻近的区域中烧制的方法的实例包括其中将温度从室温以约200℃/1小时的温度梯度逐渐地升高、在750℃或更高但是850℃或更低的温度范围中保持30分钟或更长但是1小时或更短、且然后自然地降至室温的方法。当使用该方法时,使釉料(釉面烧结料,glaze frit)熔融以容许将所述墨中包含的无机颜料在耐热基底的表面上烧制。结果,可获得在其上形成图像而没有白斑或不均匀的烧制的耐热基底的图像形成物体。
其中将所述墨在距离耐热基底的表面更深的区域中烧制的方法的实例包括其中将温度从室温以约200℃/1小时的温度梯度逐渐地升高、在1,100℃或更高但是1,300℃或更低的温度范围内保持30分钟或更长但是1小时或更短,然后自然降至室温的方法。
开始加热的温度没有特别限制并且取决于预期意图可适当地选择。该温度不限于室温。
在加热或冷却期间的温度梯度没有特别限制并且取决于预期意图可适当地选择,但是其优选为100℃/1小时或更大但是300℃/1小时或更小。在优选范围内的温度梯度是有利的,因为防止在耐热基底中发生故障(failure)例如开裂和变形。
在所述墨的焙烧期间的温度梯度优选地为50℃/1小时或更大但是500℃/1小时或更小。在优选范围内的温度梯度是有利的,因为焙烧效率得以改善并且故障例如开裂和变形在耐热基底中较少可能发生。
<其它步骤和其它手段>
其它步骤的实例包括墨供给步骤、光束扫描步骤、被附着物输送步骤,以及控制步骤。
其它手段的实例包括供墨手段、光束扫描手段、被附着物输送手段,以及控制手段。
图像形成手段、墨担载体、供墨手段和光束扫描手段可作为激光光束发射单元一体化操纵。
-墨供给步骤和供墨手段-
所述墨供给步骤没有特别限制并且取决于预期意图可适当地选择,只要所述墨供给步骤是将所述墨供给到在图像形成手段和被附着物之间的所述激光光束的光路的步骤。所述墨供给步骤可适宜地通过例如所述供墨手段实施。
所述供墨手段没有特别限制并且取决于预期意图可适当地选择,只要所述供墨手段可将所述墨供给到在图像形成手段和被附着物之间的所述激光光束的光路。例如,所述墨可使用墨担载体供给。图像形成手段优选地将在所述墨担载体的一个表面上担载的所述墨用所述激光光束从所述墨担载体的另一个表面照射。
所述墨担载体没有特别限制并且取决于预期意图可适当地选择,只要所述墨担载体对于包括所述激光光束的光可为透明的。
所述墨担载体可为例如平板形或圆筒状。
对于所述供墨手段,具体地,当所述墨为液体并且将所述墨供给到所述墨担载体上时,可将供给辊和调整刮板设置为所述供墨手段,使得在具有较少构件的非常简单的配置(构造)的情况下可将所述墨供给到所述墨担载体的一个表面上以具有恒定的平均厚度。
在这样的配置的情况下,优选的方面为如下方面,其中供给辊具有部分地浸没在存储墨的储槽中的表面、在该表面上担载所述墨的同时进行旋转、和转到抵接在所述墨担载体上以将所述墨供给到所述墨担载体上。所述调整刮板在供给辊的旋转方向上布置在储槽的下游且在所述墨担载体的上游,使得可调整供给辊上担载的所述墨以使平均厚度均匀并且使所述墨的飞行量稳定化。通过使所述墨的平均厚度非常薄,可减少所述墨的飞行量。这使得可将所述墨作为抑制飞散的微小字点在被附着物上附着并且抑制作为半色调字点增厚的字点扩大(dot gain)。所述调整刮板可在所述墨担载体的旋转方向上布置在所述供给辊的下游。
当所述墨具有高粘度时,为了确保与所述墨担载体接触,优选的是供给辊的材料至少在表面具有弹性。当所述墨具有相对低的粘度时,优选地使用在精确湿法涂布中使用的凹版印刷辊、微凹版印刷板和前进辊作为所述供给辊。
此外,当未设置有所述供给辊时,所述供墨手段可使所述墨担载体与储槽中的墨直接接触、且然后用例如丝棒(wire bar)刮掉过量的所述墨,以形成在所述墨担载体一个表面上所述墨的层。储槽可与所述供墨手段分开设置,从而可通过例如胶管将所述墨供给到所述供墨手段。
-光束扫描步骤和光束扫描手段-
光束扫描步骤没有特别限制并且取决于预期意图可适当地选择,只要所述光束扫描步骤为在例如配置成担载墨的墨担载体上扫描激光光束的步骤。光束扫描步骤可适宜地通过例如光束扫描手段实施。
光束扫描手段没有特别限制并且取决于预期意图可适当地选择,只要该光束扫描手段可在例如配置成担载墨的墨担载体上扫描激光光束。例如,光束扫描手段可包括配置成将由图像形成手段发射的激光光束向所述墨反射的反射镜、和配置成改变该反射镜的角度和位置以在所述墨上扫描激光光束的反射镜驱动部。
-被附着物输送步骤和被附着物输送手段-
被附着物输送步骤没有特别限制并且取决于预期意图可适当地选择,只要该被附着物输送步骤为输送被附着物的步骤。被附着物输送步骤可适宜地通过例如被附着物输送手段实施。
被附着物输送手段没有特别限制并且取决于预期意图可适当地选择,只要该被附着物输送手段可输送被附着物。被附着物输送手段的实例包括一对输送辊。
-控制步骤和控制手段-
控制步骤为控制所述步骤的每一个的步骤,并且可适宜地通过控制手段实施。
控制手段没有特别限制并且取决于预期意图可适当地选择,只要该控制手段可控制各手段的操作。控制手段的实例包括装置例如定序器和计算机。(激光发射记录用的墨)
本公开的激光发射记录用的墨没有特别限制并且取决于预期意图可适当地选择,只要该激光发射记录用的墨为这样的墨:其吸收光,将其用具有与所述光的波长对应的波长的激光光束照射以使其飞行,和具有2Pa·s或更高但是100Pa·s或更低的粘度。激光发射记录用的墨至少包括着色剂,优选地包括分散体介质和有机粘合剂,且如果需要,进一步包括其它组分。
<着色剂>
着色剂没有特别限制并且取决于预期意图可适当地选择,但是优选地包括无机颜料和釉料的至少一种。
-无机颜料-
无机颜料没有特别限制并且取决于预期意图可适当地选择。无机颜料的实例包括用于陶瓷工业的颜料、在烧制步骤之后显色的颜料。
用于陶瓷工业的颜料的实例包括属于周期表的第1族(Cu、Ag和Au)、第2族(Cd)、第4族(Ti)、第5族(V和Sb)、第6族(Se、Cr、Mo、W和U)、第7族(Mn)和第8族(Fe、Co、Ni、Ir和Pt)的元素的氧化物。
用于陶瓷工业的颜料的具体实例包括氧化钛、氧化锌、黑色氧化铁、黑色氧化铜、黑色氧化铬、黄色氧化铁、黄色镍钛、硫化镉、硒、硒化镉、铬酸铅、钼酸铅、氧化铁红、氧化钴、水合氧化铬、氧化铬、金、锑铅、氧化镍、氧化锰、氧化钕、氧化铒、氧化铈、氧化铝、铝、青铜、云母、炭黑、碳酸钙、硫酸钡、氧化锌、三氧化锑、硫化汞镉、普鲁士蓝和群青蓝。
这些可单独地或以组合使用。这些可形成混合物、复盐或络盐。
-釉料-
釉料没有特别限制并且取决于预期意图可适当地选择。釉料的实例包括碱金属或碱土金属的氢氧化物、碱金属或碱土金属的碳酸盐、碱金属或碱土金属的氯化物、碱金属或碱土金属的氯化物的硼酸盐、碱金属或碱土金属的氯化物的偏硼酸盐、碱金属或碱土金属的磷酸盐、碱金属或碱土金属的焦磷酸盐、碱金属或碱土金属的硅酸盐、碱金属或碱土金属的偏硅酸盐、氯化铝、硼酸、金属氧化物、金属氟化物和玻璃料(glasslet)。
这些可单独地或者以组合使用。
碱金属或碱土金属的氢氧化物的实例包括氢氧化锂。
碱金属或碱土金属的碳酸盐的实例包括碳酸锂。
金属氧化物的实例包括硅酸锆、骨灰、硼砂、偏钒酸铵、氧化钨、五氧化钒、氧化锡、氧化锆、氧化铈和氧化钼。
金属氟化物的实例包括氟化钙和氟化铝。
用于将釉料掺杂到着色剂中的方法的实例包括其中将无机颜料与釉料混合的方法、和其中将无机颜料和釉料的混合物热熔融、冷却且然后研磨的方法。
在这些方法中,优选的方法为其中通过将使多种金属合金化获得的无机颜料和釉料以预定的量混合、在650℃或更高但是800℃或更低的温度范围下热熔融、冷却、且然后研磨的方法。通过这样的方法将釉料掺杂到着色剂中是有利的,因为可在耐热基底例如陶瓷工业产品的表面上焙烧具有高的图像浓度的清晰的全色墨图像。
着色剂中无机颜料对釉料的质量比(无机颜料/釉料)优选为2/8或更高但是6/4或更低,且更优选为3/7或更高但是5/5或更低。在优选范围内的质量比是有利的,因为所述墨的颜料淀积程度较少可能是低的并且抑制在耐热基底的表面上焙烧的图案从耐热基底的表面剥离。
所述釉料起到在烧制步骤中烧结(到)在耐热基底表面的墨中的无机颜料的作用。所述釉料在烧制期间转变为熔融或半熔融的状态但是当冷却到室温时成形为固化的膜。
包括在着色剂中的釉料和无机颜料的至少一种的分散体的体均粒径没有特别限制并且取决于预期意图可适当地选择,但是其优选为0.1μm或更大但是100μm或更小且更优选为1μm或更大但是25μm或更小。在优选范围内的分散体的体均粒径是有利的,因为抑制所形成的图像随时间恶化。
在稳定化的字点颗粒性方面,所述体均粒径小于所述激光光束的激光斑直径是有利的。
用于增强釉料与耐热基底的结合的方法的实例包括使用通过将例如长石、天然矿物、碳酸钡、氧化锌或碳酸锶与釉料预先混合并且然后溶解而获得的那些的方法。
长石的实例包括石灰长石、钾长石、钠长石和透锂长石(锂长石)。
天然矿物的实例包括高岭土、硅石(silicastone)、矾土、二氧化硅、石英,氧化钛、氧化铅、耐火粘土、土灰(soil ash)、石灰石、菱镁矿、滑石和白云石。
<分散体介质>
分散体介质没有特别限制并且取决于预期意图可适当地选择,只要该分散体介质容许无机颜料和釉料分散到所述墨中。分散体介质的实例包括水、有机溶剂、蜡和树脂清漆。这些可单独地或以组合使用。在这些分散体介质中,从挥发性组分的安全性和没有爆炸风险的观点看,水是优选的。分散体介质可与例如界面活化剂或分散剂混合。
有机溶剂没有特别限制并且取决于预期意图可适当地选择。有机溶剂的实例包括基于烃的有机溶剂和多种醇。
蜡没有特别限制并且取决于预期意图可适当地选择。蜡的实例包括基于烃的蜡、酯蜡和酮蜡。
树脂清漆没有特别限制并且取决于预期意图可适当地选择。树脂清漆的实例包括丙烯酸类树脂清漆、聚酯树脂清漆、苯乙烯树脂清漆、聚氨酯树脂清漆、醇酸树脂清漆、环氧树脂清漆、琥珀树脂清漆和松香树脂清漆。
界面活化剂没有特别限制并且取决于预期意图可适当地选择。界面活化剂的实例包括阴离子界面活化剂、阳离子界面活化剂、非离子界面活化剂和两性界面活化剂。
阴离子界面活化剂的实例包括脂肪酸皂、琥珀酸烷基酯、烷基苯磺酸钠、烷基萘磺酸钠、烷基硫酸酯的钠盐、聚氧化亚乙基烷基醚硫酸钠、二烷基磺基琥珀酸钠、烷基磷酸钠和基于聚羧酸的聚合物界面活化剂。除了上述的钠盐之外,还可使用例如任何金属盐和铵盐。
阳离子界面活化剂的实例包括烷基三甲基氯化铵和烷基二甲基苄基氯化铵。
非离子界面活化剂的实例包括聚氧化亚乙基烷基醚、聚氧化亚乙基烷基烷基醚和山梨聚糖脂肪酸酯。
两性界面活化剂的实例包括烷基甜菜碱和酰胺甜菜碱。
<有机粘合剂>
当所述墨中包含有机粘合剂时,可将无机颜料和釉料以更稳定地分散状态保持在所述墨中。
有机粘合剂没有特别限制并且取决于预期意图可适当地选择。有机粘合剂的实例包括天然聚合物、半合成聚合物和合成聚合物。
天然聚合物的实例包括淀粉、天然橡胶、植物蛋白、海藻、酪蛋白和明胶。
半合成聚合物的实例包括醚纤维素、酯纤维素、醚淀粉、酯淀粉和改性的天然橡胶。
合成聚合物的实例包括聚乙烯醇、聚乙二醇、聚乙酸乙烯酯、聚丁酸乙烯酯树脂、聚丙烯酸乙烯酯树脂、聚乙烯基甲基树脂、交联的聚丙烯酸、聚丙烯酸钠、聚丙烯酸酯、聚丙烯酰胺、甲基丙烯酸钠、聚丁二烯、聚氨酯、聚酯和聚乳酸。
这些可单独地或者以组合使用。
在它们中,水溶性或水分散性有机聚合物是优选的,并且在有机粘合剂的分子结构中不包含金属原子的有机粘合剂是更优选的。在有机粘合剂的分子结构中不包含金属原子的有机粘合剂是有利的,因为在烧制期间金属原子的氧化较少可能赋予接收墨的层透明性。
有机粘合剂的量没有特别限制并且取决于预期意图可适当地选择,但是其优选地为0.1质量份或更大但是10质量份或更小,相对于100质量份的无机颜料和釉料的总质量。
<其它组分>
其它组分没有特别限制并且取决于预期意图可适当地选择。其它组分的实例包括热稳定剂、抗氧化剂、还原抑制剂(还原阻滞剂)、防腐剂、pH调节剂、消泡剂、润湿剂和渗透剂。
所述墨可通过将这些材料混合,使用分散机例如辊磨机、球磨机、胶体磨机、喷射磨机和珠磨机将所得的混合物分散,然后过滤而获得。
所述墨的粘度没有特别限制并且取决于预期意图可适当地选择,但是其优选为1Pa·s或更高但是300Pa·s或更低并且更优选为2Pa·s或更高但是100Pa·s或更低。在优选范围内的粘度是有利的,因为当将所述墨在耐热基底的表面上附着时所述墨较少可能飞溅或飞散,并且当叠加具有另一种颜色的墨时渗色现象较少可能发生。这也是有利的,因为在所述墨中包含的着色剂中具有特别高的比重的无机颜料和釉料较少可能沉降或聚集并且以具有恒定的平均厚度的层的形式连续地供给所述墨变得容易。
所述粘度可使用例如旋转粘度计(VISCOMATE VM-150III,其可获自Toki SangyoCo.,Ltd)在25℃的环境下测量。
(用于制造图像形成物体的方法)
本公开的用于制造图像形成物体的方法为用于制造具有如下图像的图像形成物体的方法,所述图像是通过本公开的图像形成方法在被附着物的表面上形成的。被附着物没有特别限制并且取决于预期意图可适当地选择,但是其优选地为耐热基底。
<图像形成物体>
图像形成物体的实例包括具有图案的瓦、玻璃、未上釉的陶器和瓷器、陶器和瓷器,以及搪瓷。
具体地,陶器和瓷器例如花瓶、杯子和小碗可通过用所述墨在具有预定形状的未上釉的陶器和瓷器上形成图像并烧制制造。而且,上釉的陶器和瓷器可通过用所述墨在陶器和瓷器上形成图像并烧制而制造。
现在将参考图描述本公开的图像形成设备的实例。
下述的构成构件的数量、位置和形状不限于本实施方式,但是其可改变为对于实践本公开优选的数量、位置和形状。
图4A为说明本公开的图像形成设备的实例的示意性视图。
在图4A中,图像形成设备300包括图像形成手段1、墨20和被附着物30,并且配置成容许图像形成手段1将吸收光的墨20用该光的激光光束11照射以使所述墨20借助所述激光光束11的能量在所述激光光束发射的方向上飞行,从而使所述墨在被附着物30上附着。
图像形成手段1包括激光光源2、光束直径改变手段3、光束波长改变手段4和能量调节滤光器6。
激光光源2为例如钛-蓝宝石激光器,并且配置成产生脉冲振荡的激光光束11和用所述激光光束11照射光束直径改变手段3。
光束直径改变手段3为例如聚光透镜、在由激光光源2产生的激光光束11的光路上布置在激光光源2的下游、且配置成改变所述激光光束11的直径。
光束波长改变手段4为例如KTP晶体,在所述激光光束11的光路上布置在光束直径改变手段3的下游、且配置成将所述激光光束11的波长改变为可由所述墨20吸收的波长。
能量调节滤光器6由例如所述激光光束11通过其的透射率低的玻璃形成、在所述激光光束11的光路上布置在光束波长改变手段4的下游、且配置成将已经穿过能量调节滤光器的激光光束11的能量改变到对于使所述墨20飞行足够的能量。
所述墨20被已经穿过能量调节滤光器6的激光光束11照射、在施加所述激光光束11的直径范围内的能量时飞行、且在被附着物30上附着。当所述激光光束11为光漩涡激光光束时,飞行的墨20在通过由光漩涡激光光束赋予的回转效应抑制其在周围飞散的同时在被附着物30上附着。
这里,所述墨20的附着量对应于所述墨20的用所述激光光束11照射的面积的一部分或全部,并且可通过例如能量调节滤光器6调节。
图4B为说明本公开的图像形成设备的另一个实例的示意性视图。
在图4B中,除了图4A中说明的图像形成设备300的手段之外,图像形成设备301还包括墨担载体40和光束扫描手段60。图像形成设备301可容许光束扫描手段60在垂直于所述激光光束11发射的方向的方向上扫描由图像形成手段1产生的激光光束11以用所述激光光束11照射担载在平板形墨担载体40上的墨20的任意位置而使所述墨20飞行并且使飞行的墨20在被附着物30上附着。
光束扫描手段60在所述激光光束11的光路上布置在图像形成手段1的下游,并且包括反射镜61。
反射镜61通过未示出的反射镜驱动手段在由图4B中的箭头S标明的扫描方向上是可移动的,并且配置成将所述激光光束11反射到所述墨担载体40上担载的所述墨20的任意位置。
光束扫描手段60可配置成通过例如移动图像形成手段1本身、转动图像形成手段1以改变所述激光光束11发射的方向、或使用多棱镜作为反射镜61将所述激光光束11扫描到任意位置。
所述墨担载体40在所述激光光束11的光路上布置在光束扫描手段60的下游。例如,当所述墨20为具有高粘度的液体时,所述墨担载体40用于使在所述墨担载体上涂布的所述墨20不动的意图。所述墨担载体40对于包括所述激光光束11的光是透明的,并且配置成在被附着物30的一个表面上担载所述墨20。用所述激光光束11从另一个表面照射所述墨20。
通过在墨担载体40上担载墨20的阶段控制由墨20形成的层具有恒定的平均厚度,可使在被附着物30上附着的墨20的量稳定化。.
图像形成手段1和光束扫描手段60的组合称为激光光束发射单元100。
图5A为说明图4B中所示的且将供墨手段和被附着物输送手段添加到其的图像形成设备的实例的示意性视图。
在图5A中,除了图4B中说明的图像形成设备301的手段之外,图像形成设备302还包括供墨手段50和被附着物输送手段70,并且包括圆筒状墨担载辊41而不是平板形墨担载体40。所述激光光束发射单元100布置在所述墨担载辊41内部,并且配置成用所述激光光束11照射在所述墨担载辊41的外周上担载的被附着物30。
所述供墨手段50包括储槽51、供给辊52和调整刮板53。
储槽51布置在供给辊52的下方邻近处,并且配置成存储墨10。
供给辊52布置成抵接在所述墨担载辊41上、部分地浸没在储槽51中的墨10中、且配置成借助未示出的旋转驱动手段或通过跟随墨担载辊41的旋转在由图5A中的箭头R2标明的旋转方向上旋转以使所述墨10在所述表面上附着。为了以层的形式进行供给,附着的墨10通过调整刮板53调整成均匀的平均厚度并且转移到墨担载辊41上。通过所述墨担载辊41的旋转将供给到所述墨担载辊41的表面上的墨10连续地供给到用所述激光光束11照射的位置。
调整刮板53在由所述图中的箭头R2标明的旋转方向上布置在所述墨担载辊41的上游,并且配置成调整已经附着于供给辊52的表面上的所述墨10以使供给到所述墨担载辊41上的墨10的层的平均厚度均匀。
被附着物输送手段70以不使所述墨担载辊41和输送的被附着物30彼此接触的方式布置在所述墨担载辊41附近,并且包括被附着物输送辊71和在被附着物输送辊71上张紧的被附着物输送带72。被附着物输送手段70配置成借助未示出的旋转驱动手段使被附着物输送辊71旋转以借助被附着物输送带72在由图5A中的箭头C标明的输送方向上输送被附着物30。
所述激光光束发射单元100配置成基于图像信息从所述墨担载辊41的内部发射所述激光光束11以使所述墨20在被附着物30上附着。通过在借助被附着物输送带72移动被附着物30的同时实施将所述墨20在被附着物30上附着的这一附着操作,可在被附着物30上形成二维图像。
已经担载在所述墨担载辊41的表面上但是尚未飞行的所述墨20由于所述墨担载辊41在供给辊52上的旋转抵接而积聚,并且最终落到储槽51中而被收集。用于收集所述墨20的方法不限于以上方法,并且例如,可设置配置成将所述墨担载辊41的表面上的墨20刮掉的刮铲。
图5B为说明图4B中说明且将供墨手段和被附着物输送手段添加到其的图像形成设备的另一个实例的示意性视图。
在图5B中,图像形成设备303通过改造所述激光光束发射单元100的布置、通过将图5A中说明的图像形成设备302的圆筒状墨担载辊41沿着轴向分成2个部分作为墨担载部42而获得。
所述墨担载部42具有由圆筒状的部分表面限定的形状并且在相对于圆筒体的中心线的相对侧上不具有表面。这样的不具有相对表面的担载手段可简化所述设备,因为所述激光光束发射单元100未设置在圆筒状墨担载辊41的内部,从而更容易固定所述激光光束11的光路。
图5C为说明图4B中所示的且向其添加供墨手段和被附着物输送手段的图像形成设备的另一个实例的示意性视图。
在图5C中,图像形成设备304通过改变图5A中说明的图像形成设备302中的调整刮板53的位置而获。特别地当所述墨20为粉末时,使用图像形成设备304是优选的。
靠近所述墨担载辊41布置的调整刮板53配置成调整由所述供墨手段50供给到所述墨担载辊41上的所述墨20的担载量。调整刮板53的这种布置与例如在典型的电子照相的单组分显影装置中在用于将调色剂供给到显影辊上的手段中的调整刮板的布置是相同的。
如在此情形中一样,当所述墨20为粉末时,通过处理例如加压或加热可将在被附着物30的表面上附着的所述墨20固定在被附着物30上。
已经举例说明其中将被附着物输送或移动的图像形成设备,但是图像形成设备不限于以上的。例如,激光光束发射单元可移动同时例如被附着物停止不动;或者激光光束发射单元和被附着物两者可移动。
例如,当在被附着物的整个表面上同时形成图像时,可停止两者并且至少在印刷期间仅激光器移动。
实施例
现在将描述本公开的实施例。本公开无论如何不限于这些实施例。
(制造实施例1)
<釉料的制造)
将Al2O3(80g)、SiO2(370g)、Na2O(50g)和PbO(500g)组合、使用捣磨机(ANS-143PL,可获自NITTO KAGAKU CO.,Ltd)将其研磨、且然后使用亨舍尔混合机(可获自NIPPON COKE&ENGINEERING CO.,LTD.)将其混合。将所得物在1,200℃烧制、再次使用捣磨机将其研磨、且然后使用具有5mm氧化锆珠的行星式球磨机(P-5,可获自Fritsch)将其精细研磨以制造所述釉料。
(制造实施例2)
<黑色着色剂的制造>
将Cr2O3(110g)、MnO(270g)、Fe2O3(112g)和Co2O3(508g)组合作为无机颜料组分、使用捣磨机将其研磨、且然后使用所述亨舍尔混合机将其混合。将所得物在1,100℃下烧制、且然后再次使用捣磨机将其研磨以制造黑色无机着色剂。
使用亨舍尔混合机将所得的黑色无机着色剂(300g)和釉料(500g)一起混合、在750℃下烧制、再次使用捣磨机将其研磨、且然后使用具有5mm氧化锆珠的行星式球磨机(P-5,可获自Fritsch)将其精细研磨以制造黑色着色剂。
(制造实施例3)
<黄色着色剂的制造>
以和制造实施例2中相同的方式制造黄色着色剂,除了将无机颜料组分改变为CuO(10g)、ZnO(190g)和Sb2O3(800g)之外。
(制造实施例4)
<品红色着色剂的制造>
以和制造实施例2中相同的方式制造品红色着色剂,除了将无机颜料组分改变为Fe2O3(160g)、NiO(40g)、CuO(40g)和Au2O(760g)之外。
(制造实施例5)
<青色着色剂的制造>
以和制造实施例2中相同的方式制造青色着色剂,除了将无机颜料组分改变为Cr2O3(170g)、Fe2O3(10g)、Co2O3(690g)和ZnO(130g)之外。
(制造实施例6)
<水性墨的制造>
水性墨由以上着色剂通过混合下述的原材料而制造。
·各自的所得着色剂…100质量份
·聚羧酸界面活化剂(SANSPEARL(注册商标)PS-2,可获自Sanyo ChemicalIndustries,Ltd.)…3质量份
·聚乙二醇400(PEG#400,可获自NOF CORPORATION)…10质量份
·纯水…20质量份
发现所得的水性墨的粘度为20Pa·s(水性墨Bk(黑色))、50Pa·s(水性墨Y(黄色))、10Pa·s(水性墨M(品红色))和90Pa·s(水性墨C(青色))。
注意,所述粘度使用旋转粘度计(VISCOMATE VM-150III,可获自Toki SangyoCo.,Ltd)在25℃的环境下测量。
(制造实施例7)
<油性墨的制造>
油性墨由以上着色剂通过混合下述的原材料而制造。
·各自的所得着色剂…100质量份
·乙基纤维素(ETHOCEL(注册商标)10,可获自Dow Chemical Company)…10质量份
·丁醇…90质量份
发现所得的水性墨的粘度为8.0Pa·s(油性墨Bk(黑色))、15Pa·s(油性墨Y(黄色))、2.4Pa·s(油性墨M(品红色))和100Pa·s(油性墨C(青色))。
注意,所述粘度使用旋转粘度计(VISCOMATE VM-150III,可获自Toki SangyoCo.,Ltd)在25℃的环境下测量。
(实施例1)
使用橡胶辊将所制造的墨各自施加到充当墨担载体的载玻片(MICROSLIDE GLASSS7213,可获自Matsunami Glass Ind.,Ltd.,在532nm波长下光的透射率:99%)上以形成具有25μm平均厚度的层。然后,将已经在其上施加所述墨的表面布置成与下述的被附着物相对。因此,将所述墨担载体放置成使得能够用所述激光光束从与已经在其上施加所述墨的表面相对的表面垂直地照射所述墨担载体。
<被附着物>
使用瓦(RS252/1001,可获自LIXIL corporation,尺寸:150mm×150mm×9mm)作为被附着物。瓦和已经在其上施加所述墨的表面之间的间隙设定为1.5mm。
<图像形成>
使所得的墨各自在下述条件下飞行到所述瓦上以形成墨图像。
使用CPA-2001(可获自CLARK-MXR)作为激光光源以产生具有1,064nm波长、1.25mm×1.23mm的光束直径、2纳秒的脉冲宽度和20Hz的脉冲频率的激光光束。用所产生的1脉冲的激光光束照射充当光束直径改变构件的聚光透镜(YAG激光器聚光透镜,可获自SigmaKoki Co.,Ltd.),使得所述墨将被具有400μm×400μm的光束直径的激光光束照射。用通过光束直径改变构件的激光光束照射用作光束波长改变元件的KTP晶体(可获自CESTECH)以将所述波长从1,064nm改变至532nm。接着,让所得的激光光束通过能量调节滤光器(ND滤光器,可获自Sigma Koki Co.,Ltd.),使得所述墨将以0.5mJ/字点的激光器输出被照射。
<烧制>
在于瓦上形成墨图像之后,使用陶器和瓷器用电炉将形成在瓦上的墨图像通过以100℃/1小时的温度梯度加热到800℃、在800℃下保持1小时、且然后自然冷却而烧制。因此,制造了图像形成物体1。
如下所述地对所得的实施例1的墨1和图像形成物体1的多种性质进行评价。结果列在表1-1和1-2中。
<无机颜料的沉降能力的评价>
将制造的墨1(30cm3)各自放置在螺旋小瓶(体积:50cm3)中。将螺旋小瓶盖住并且然后使其在25℃和50%RH的的环境下静置1小时。然后,根据下述标准视觉评价所述无机颜料的沉降能力。在该评价中,“好”代表对于实践使用没有问题的水平。
[评价标准]
好:没有观察到无机颜料的沉降。
差:无机颜料沉降并且从上清液分离。
<渗色的评价>
根据下述标准对在所得的图像形成物体1的每一个上的墨图像存在或不存在渗色现象进行视觉评价。在该评价中,“好”或“尚可(中等,fair)”代表对于实践使用没有问题的水平。
[评价标准]
好:图像甚至在图像形成和烧制之后也保持清晰(尖锐,sharp)而不渗色。
尚可:在图像形成和烧制之后渗色现象稍微出现。
差:在图像形成和烧制之后由于渗色严重而使无法保持图像。
<耐刮擦性的评价>
根据JIS K 5600-5-4(ISO/DIN 15184)对在所得的图像形成物体1的每一个上的墨图像的耐刮擦性进行评价。在该评价中,“非常好”、“好”或“尚可”代表对于实践使用没有问题的水平。
[评价标准]
非常好:在2H或更大的硬度下没有擦伤。
好:在H硬度下没有擦伤。
尚可:在HB硬度下没有擦伤。
差:在小于HB的硬度有任何擦伤。
<抗剥离性的评价>
通过用橡皮(MONO(注册商标)橡皮,可获自Tombow Pencil Co.,Ltd.)擦拭将一片胶带(CELLOTAPE(注册商标),可获自NICHIBAN Co.,Ltd.)粘附到包括在所得的图像形成物体1的每一个上的墨图像的固化膜上。将胶带片剥离。然后,视觉观察固化膜以根据下述标准对抗剥离性进行评价。在该评价中,“好”代表对于实践使用没有问题的水平。
[评价标准]
好:固化膜未从耐热基底剥离。
尚可:固化膜开裂或在固化膜和耐热基底之间有气泡。
差:固化膜完全剥离。
<字点颗粒性的评价>
根据下述标准视觉评价在所得的图像形成物体1的每一个上的墨图像的字点颗粒性。在该评价中,“非常好”或“好”代表对于实践使用没有问题的水平。
[评价标准]
非常好:稳定地形成圆点。
好:在字点周围有一点(些许)墨飞散。
尚可:在字点周围有显著的墨飞散。
差:字点未再现。
<墨附着量的稳定性的评价>
在1小时的连续图像形成之后根据下述标准视觉评价墨附着量的稳定性。在该评价中,“好”代表对于实践使用没有问题的水平。
[评价标准]
好:所述墨附着量是稳定的并且所述墨图像是清楚的。
尚可:所述墨附着量是不稳定的并且所述墨图像是不清楚的。
差:不能使所述墨飞行。
<综合评价>
基于无机颜料的沉降能力、渗色、耐刮擦性、抗剥离性、字点颗粒性和墨附着量的稳定性的评价结果,根据下述标准进行综合评价。
[评价标准]
好:所有均为“好”或更高的评分。
尚可:一个或多个为尚可或更低的评分(尚可或差)。
(实施例2)
以和实施例1中相同的方式制造实施例2各自的图像形成物体并且进行评价,除了将充当光漩涡转换部的螺旋相位板(VOLTEX相位板,可获自Luminex Trading,Inc.)在图4A中的激光光束11的光路上放置在光束波长改变手段4和能量调节滤光器6之间以将所述激光光束转换成光漩涡激光光束之外。结果列在表1-1和1-2中。
(对比例1)
以和实施例1中相同的方式尝试制造对比例1各自的图像形成物体,除了将具有本公开的图像形成手段的图像形成设备改变为具有喷墨头(MH2820,可获自Ricoh Company,Ltd.)的喷嘴直径-可调的(modified)产品的图像形成设备并且通过在以下喷出条件下将所述墨喷出来实施图像形成之外。然而,所述墨具有过高的粘度而无法被喷出。
[喷出条件]
模式:层积压电挤压模式
喷嘴直径:30μm
驱动频率:10kHz
施加电压:20V
(对比例2)
以和实施例1中相同的方式制造对比例2各自的图像形成物体并且进行评价,除了用分散体介质将所述墨进行稀释直至能够在对比例1的喷出条件下将所述墨喷出、然后将具有本公开的图像形成手段的图像形成设备改变为具有喷墨头的图像形成设备、和通过在所述喷出条件下将所述墨喷出来实施图像形成之外。结果列在表1-1和1-2中。
注意,已经将其稀释直至能够将墨喷出的墨的粘度为30mPa·s或更低。所述粘度使用旋转粘度计(VISCOMATE VM-150III,可获自Toki Sangyo Co.,Ltd)在25℃的环境下测量。
表1-1
表1-2
由表1-1和1-2中的结果可看出,在对比例2中,所制造的墨中包含的无机颜料沉降。因此,据认为,稳定的图像形成是困难的,除非采取措施防止所述沉降。
例如,本公开的各方面于下。
<1>用于形成图像的方法,该方法包括
通过将吸收光的墨用具有与所述墨的光吸收波长对应的波长的激光光束照射使所述墨借助所述激光光束的能量在发射所述激光光束的方向上飞行以使所述墨在被附着物上附着而形成图像。
<2>根据<1>的用于形成图像的方法,
其中所述墨具有2Pa·s或更高但是100Pa·s或更低的粘度。
<3>根据<1>或<2>的用于形成图像的方法,
其中所述激光光束包括光漩涡激光光束。
<4>根据<1>至<3>任一项的用于形成图像的方法,
其中所述激光光束具有10Hz或更大但是200Hz或更小的脉冲频率。
<5>根据<1>至<4>任一项的用于形成图像的方法,
其中所述方法进一步包括烧制在所述被附着物上附着的墨。
<6>根据<5>的用于形成图像的方法,
其中所述被附着物包括耐热基底。
<7>根据<6>的用于形成图像的方法,
其中耐热基底包括选自瓦、玻璃、未上釉的陶器和瓷器、陶器和瓷器、和搪瓷的至少一种。
<8>根据<1>至<7>任一项的用于形成图像的方法,
其中所述墨至少包括着色剂;和
其中所述着色剂包括选自无机颜料和釉料的至少一种。
<9>根据<8>或<9>的用于形成图像的方法,
其中所述无机颜料和所述釉料的一次粒子具有0.1μm或更大但是100μm或更小的体均粒径。
<10>根据<8>或<9>的用于形成图像的方法,
其中所述无机颜料对所述釉料的质量比(无机颜料/釉料)为2/8或更高但是6/4或更低。
<11>根据<8>至<10>任一项的用于形成图像的方法,
其中所述墨进一步包含有机粘合剂。
<12>根据<11>的用于形成图像的方法,
其中所述有机粘合剂以相对于100质量份的所述无机颜料和所述釉料的总质量的0.1质量份或更大但是10质量份或更小的量包含。
<13>图像形成设备,其包括:
吸收光的墨;和
图像形成手段,其将所述墨用具有与所述墨的光吸收波长对应的波长的激光光束照射使所述墨借助所述激光光束的能量在发射所述激光光束的方向上飞行以使所述墨在被附着物上附着。
<14>根据<13>的图像形成设备,
其中所述墨具有2Pa·s或更高但是100Pa·s或更低的粘度。
<15>根据<13>或<14>的图像形成设备,
其中所述图像形成手段配置成将担载在对于所述光透明的墨担载体的一个表面上的所述墨用所述激光光束从所述墨担载体的另一个表面照射。
<16>根据<13>至<15>任一项的图像形成设备,
其中所述图像形成手段进一步包括配置成将所述激光光束转换成光漩涡激光光束的光漩涡转换部。
<17>根据<13>至<16>任一项的图像形成设备,
其中所述图像形成设备进一步包括用于烧制在所述被附着物上附着的墨的烧制手段。
<18>根据<17>的图像形成设备,
其中所述被附着物包括耐热基底。
<19>激光发射记录用的墨,
其中所述墨吸收光;
其中所述墨配置成响应于用具有与所述光的波长对应的波长的激光光束的照射而飞行;和
其中所述墨具有2Pa·s或更高但是100Pa·s或更低的粘度。
<20>用于制造图像形成物体的方法,
制造包括图像的图像形成物体,该图像通过根据<1>至<12>任一项的用于形成图像的方法在所述被附着物的表面上形成。
按照根据<1>至<12>任一项的用于形成图像的方法、根据<13>至<18>任一项的图像形成设备、根据<19>的激光发射记录用的墨和根据<20>的用于制造图像形成物体的方法,可解决以上存在的问题,可实现以上的本公开的目的。
参考数字的描述
1:图像形成手段
2:激光光源
11:激光光束
20:墨
30:被附着物
40:墨担载体
100:激光光束发射单元
300-304:图像形成设备
Claims (13)
1.用于形成图像的方法,该方法包括
通过将吸收光的墨用具有与所述墨的光吸收波长对应的波长的激光光束照射使所述墨借助所述激光光束的能量在发射所述激光光束的方向上飞行以使所述墨在被附着物上附着而形成图像,
其中所述激光光束包括光漩涡激光光束。
2.根据权利要求1所述的用于形成图像的方法,
其中所述墨具有2Pa·s或更高但是100Pa·s或更低的粘度。
3.根据权利要求1-2任一项所述的用于形成图像的方法,
其中所述方法进一步包括将在所述被附着物上附着的所述墨烧制。
4.根据权利要求3所述的用于形成图像的方法,
其中所述被附着物包括耐热基底。
5.根据权利要求4所述的用于形成图像的方法,
其中所述耐热基底包括选自瓷砖、玻璃、未上釉的陶器和瓷器、陶器和瓷器、以及搪瓷的至少一种。
6.根据权利要求1-2任一项所述的用于形成图像的方法,
其中所述墨至少包含着色剂;和
其中所述着色剂包括选自无机颜料和釉料的至少一种。
7.图像形成设备,其包括:
吸收光的墨;和
图像形成手段,其用于将所述墨用具有与所述墨的光吸收波长对应的波长的激光光束照射使所述墨借助所述激光光束的能量在发射所述激光光束的方向上飞行以使所述墨在被附着物上附着,
其中所述图像形成手段进一步包括配置成将所述激光光束转换成光漩涡激光光束的光漩涡转换部。
8.根据权利要求7所述的图像形成设备,
其中所述墨具有2Pa·s或更高但是100Pa·s或更低的粘度。
9.根据权利要求7或8所述的图像形成设备,
其中所述图像形成手段配置成将担载在对于所述光透明的墨担载体的一个表面上的所述墨用所述激光光束从所述墨担载体的另一个表面照射。
10.根据权利要求7-8任一项所述的图像形成设备,
其中所述图像形成设备进一步包括用于将在被附着物上附着的所述墨烧制的烧制手段。
11.根据权利要求10所述的图像形成设备,
其中所述被附着物包括耐热基底。
12.激光发射记录用的墨,
其中所述墨吸收光;
其中所述墨配置成响应于具有与所述光的波长对应的波长的光漩涡激光光束的照射而飞行;和
其中所述墨具有2Pa·s或更高但是100Pa·s或更低的粘度。
13.用于制造图像形成物体的方法,该方法包括
制造包括图像的图像形成物体,该图像通过根据权利要求1-6任一项所述的用于形成图像的方法在所述被附着物的表面上形成。
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Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3743287B1 (en) * | 2018-01-27 | 2022-07-20 | HELIOSONIC GmbH | Laser printing process |
JP7139804B2 (ja) * | 2018-09-10 | 2022-09-21 | 株式会社リコー | システム、画像形成装置、サーバ装置、印刷方法 |
WO2020184525A1 (en) * | 2019-03-08 | 2020-09-17 | Ricoh Company, Ltd. | Apparatus configured to model three-dimensional modeled object, apparatus configured to fly particles, and method of modeling three-dimensional modeled object |
JP7424093B2 (ja) * | 2019-03-08 | 2024-01-30 | 株式会社リコー | 立体造形物を造形する装置、立体造形物を造形する方法 |
JP2020157751A (ja) * | 2019-03-20 | 2020-10-01 | 株式会社リコー | 光渦レーザーを用いた飛翔体発生方法、画像形成方法及び装置 |
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CN110149425B (zh) * | 2019-04-17 | 2020-09-18 | 华为技术有限公司 | 移动终端、盖板、显示组件 |
KR20230054449A (ko) * | 2020-09-22 | 2023-04-24 | 와커 헤미 아게 | 층 전사 프린팅을 사용한 대상의 다층 제작을 위한 방법 및 3d 프린팅 방법 |
US12031917B2 (en) * | 2022-08-30 | 2024-07-09 | Robert R. Alfano | Raman scattering from orbital and spin angular momentum in materials |
Family Cites Families (32)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61112665A (ja) * | 1984-11-07 | 1986-05-30 | Fuji Xerox Co Ltd | 熱転写型記録装置 |
DE3702643A1 (de) | 1986-02-10 | 1987-08-13 | Toshiba Kawasaki Kk | Tintenstrahlschreiber sowie schreibkopf und schreibkopfkassette dafuer |
JPS62184860A (ja) * | 1986-02-10 | 1987-08-13 | Toshiba Corp | インクジエツト記録装置 |
JPS62191157A (ja) * | 1986-02-17 | 1987-08-21 | Toshiba Corp | サ−マルインクジエツト方式記録装置 |
JPH08118795A (ja) * | 1994-10-21 | 1996-05-14 | Sony Corp | 記録方法、記録装置及び記録材組成物 |
JPH1016392A (ja) * | 1996-07-02 | 1998-01-20 | Ricoh Co Ltd | レーザ画像形成方法及び装置 |
JPH11245416A (ja) * | 1998-03-03 | 1999-09-14 | Fuji Xerox Co Ltd | インクジェット記録装置 |
CN1165817C (zh) * | 1998-04-20 | 2004-09-08 | 株式会社理光 | 能够控制成像处理速度的图像形成方法及其装置 |
JP3871099B2 (ja) | 1999-01-21 | 2007-01-24 | 株式会社リコー | トナー画像を有する転写シート及びこれを用いるトナー画像焼き付け方法 |
DE19921925A1 (de) | 1999-05-12 | 2000-11-16 | Dmc2 Degussa Metals Catalysts | Verfahren zur Dekoration fester Materialien |
JP2001071168A (ja) * | 1999-06-30 | 2001-03-21 | Canon Inc | レーザ加工方法、該レーザ加工方法を用いたインクジェット記録ヘッドの製造方法、該製造方法で製造されたインクジェット記録ヘッド |
JP3829047B2 (ja) * | 1999-07-01 | 2006-10-04 | 株式会社リコー | 画像形成装置 |
JP4234279B2 (ja) | 1999-09-09 | 2009-03-04 | 岐阜県 | インクジェットプリンタ用カラーインクおよびこのインクを用いた描画体 |
DE10210146A1 (de) | 2002-03-07 | 2003-09-25 | Aurentum Innovationstechnologi | Qualitätsdruckverfahren und Druckmaschine sowie Drucksbustanz hierfür |
JP4210750B2 (ja) | 2002-08-21 | 2009-01-21 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 活性酸素を包含した無機化合物及びその製造法 |
JP4368640B2 (ja) | 2002-08-23 | 2009-11-18 | セーレン株式会社 | 無機質基材へのインクジェットプリント方法 |
CN1208199C (zh) * | 2002-09-30 | 2005-06-29 | 华中科技大学 | 激光热转印机 |
US20050264600A1 (en) * | 2004-05-27 | 2005-12-01 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Emission of fluid droplet from printhead with coherent irradiation |
ES2375153T3 (es) * | 2005-08-29 | 2012-02-27 | Sinclair Systems International, Llc. | Procedimiento y aparato para el marcaje de soportes de múltiples capas que se pueden marcar con luz. |
TWI431380B (zh) * | 2006-05-12 | 2014-03-21 | Photon Dynamics Inc | 沉積修復設備及方法 |
US8728589B2 (en) * | 2007-09-14 | 2014-05-20 | Photon Dynamics, Inc. | Laser decal transfer of electronic materials |
US8603370B2 (en) * | 2008-10-09 | 2013-12-10 | Fujifilm Corporation | Near-infrared absorptive composition, near-infrared absorptive coated material, near-infrared absorptive liquid dispersion, near-infrared absorptive ink, printed material, and near-infrared absorptive image-forming composition |
JP5531261B2 (ja) * | 2009-03-27 | 2014-06-25 | 国立大学法人 千葉大学 | レーザー加工方法、円偏光光渦レーザービームを用いたレーザー加工方法、針状体を有する部材の製造方法、および針状体を有する部材 |
TWI478990B (zh) * | 2009-04-09 | 2015-04-01 | Sicpa Holding Sa | 明亮之磁性凹刻印刷油墨 |
DE102009029903A1 (de) * | 2009-06-19 | 2010-12-23 | Tesa Se | Verfahren zum Aufbringen einer dauerhaften Prozessmarke auf einem Produkt, insbesondere Glas |
JP6103597B2 (ja) * | 2011-06-07 | 2017-03-29 | 国立大学法人 千葉大学 | 光渦レーザー発振方法及び光渦レーザー発振装置 |
EP2909034A4 (en) * | 2012-10-21 | 2017-11-29 | Photon Jet Ltd. | A multi-technology printing system |
JP5939640B2 (ja) | 2013-03-08 | 2016-06-22 | 富士フイルム株式会社 | 多層構成物、及び、多層構成物の製造方法 |
WO2014181890A2 (ja) * | 2013-05-10 | 2014-11-13 | 国立大学法人 千葉大学 | 有機螺旋構造体の製造方法、及びそれにより製造される有機螺旋構造体 |
WO2015068290A1 (ja) * | 2013-11-08 | 2015-05-14 | 共同印刷株式会社 | 赤外線吸収性凹版印刷インキ |
US9416285B2 (en) * | 2014-12-17 | 2016-08-16 | Xerox Corporation | Acrylate ink compositions for ink-based digital lithographic printing |
CN107635779B (zh) * | 2015-02-25 | 2019-12-13 | 株式会社理光 | 光吸收材料喷射装置、光吸收材料喷射方法和使用其的应用 |
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