CN107924117B - 防护膜组件框、含有其的防护膜组件、防护膜组件框的制造方法及防护膜组件的制造方法 - Google Patents

防护膜组件框、含有其的防护膜组件、防护膜组件框的制造方法及防护膜组件的制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN107924117B
CN107924117B CN201680047788.9A CN201680047788A CN107924117B CN 107924117 B CN107924117 B CN 107924117B CN 201680047788 A CN201680047788 A CN 201680047788A CN 107924117 B CN107924117 B CN 107924117B
Authority
CN
China
Prior art keywords
pellicle
frame
film
polyimide resin
electrodeposition coating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201680047788.9A
Other languages
English (en)
Other versions
CN107924117A (zh
Inventor
高村一夫
河关孝志
种市大树
前川真太朗
小野阳介
美谷岛恒明
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Chemicals Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsui Chemicals Inc filed Critical Mitsui Chemicals Inc
Publication of CN107924117A publication Critical patent/CN107924117A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN107924117B publication Critical patent/CN107924117B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
    • G03F1/64—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/66—Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/04—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B15/08—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2311/00—Metals, their alloys or their compounds
    • B32B2311/24—Aluminium
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2379/00—Other polymers having nitrogen, with or without oxygen or carbon only, in the main chain
    • B32B2379/08—Polyimides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
    • C25D11/02—Anodisation
    • C25D11/04—Anodisation of aluminium or alloys based thereon
    • C25D11/18—After-treatment, e.g. pore-sealing
    • C25D11/20—Electrolytic after-treatment
    • C25D11/22—Electrolytic after-treatment for colouring layers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Abstract

本发明的目的在于提供一种即便照射准分子光等短波长光也难以劣化，进而难以产生逸气或异物的防护膜组件框、使用其的防护膜组件。为了实现上述目的，设为如下的防护膜组件框，其为支撑防护膜的外周的防护膜组件框，包括框架和形成于所述框架的表面的含有聚酰亚胺树脂的膜。

Description

防护膜组件框、含有其的防护膜组件、防护膜组件框的制造方 法及防护膜组件的制造方法
技术领域
本发明涉及一种防护膜组件框、含有其的防护膜组件、防护膜组件框的制造方法及防护膜组件的制造方法。
背景技术
在大规模集成电路(LSI)、超LSI等半导体器件或液晶显示板等的制造工序中，隔着掩模(曝光原板)来照射光，从而形成各种图案。此时，若异物附着于掩模，则光会被异物吸收、或光发生折射。其结果，图案化精度变低，所获得的器件的质量或外观受损。因此，一般在掩模表面安装防护膜组件来抑制异物对掩模的附着。
防护膜组件通常由能够透过图案化用的光的防护膜、及支撑该防护膜的外周的防护膜组件框构成。防护膜组件框由铝合金等金属形成，有时为了保护表面而实施阳极氧化处理。然而，经阳极氧化处理的防护膜组件框中容易残留硫酸根离子等各种离子。而且，在这些防护膜组件框中，残留离子会成为逸气而导致防护膜组件模糊，或者残留离子与其他离子反应而成为异物的原因，因此图案化精度容易下降。
对于此种课题，正在研究对阳极氧化皮膜进行封孔处理，但其效果尚不充分。另一方面，提出了在框架的表面电沉积涂装丙烯酸系树脂或氟系树脂等来保护框架(例如专利文献1)。另外，还提出了将热固化型树脂电沉积涂装于框架表面(例如专利文献2)。进而，还提出了将环氧系的树脂电沉积涂装于框架表面(例如专利文献3)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开平7-43892号公报
专利文献2：日本特开2007-333910号公报
专利文献3：国际公开第2011/007523号
发明内容
发明所要解决的问题
然而，专利文献1中记载的含有丙烯酸系树脂的电沉积涂装膜的膜的强度低。因此有在将防护膜组件贴附于曝光用掩模时、运送防护膜组件时，电沉积涂装膜容易自框架剥离的课题。另外，在防护膜组件框的制造工序中，有时防护膜组件表面会受到摩擦，推测氟系树脂的膜因摩擦而产生灰尘的情况多。
另一方面，专利文献2或专利文献3的电沉积涂装膜的膜强度相对较高。然而，若图案化用的光为短波长光(例如KrF、ArF等准分子光等)，则有容易因该光而劣化的课题。
本发明是鉴于此种课题而成的。即，本发明的目的在于提供一种即便通过准分子光等短波长光也难以劣化，进而难以产生逸气、异物的防护膜组件框、及使用其的防护膜组件、以及它们的制造方法。
解决问题的手段
即，本发明涉及以下的防护膜组件框、及含有其的防护膜组件。
[1]一种防护膜组件框，其为支撑防护膜的外周的防护膜组件框，包括：框架、以及形成于所述框架的表面的含有聚酰亚胺树脂的膜。
[2]如[1]所述的防护膜组件框，所述框架为经阳极氧化处理的铝合金框架。
[3]如[1]或[2]所述的防护膜组件框，所述含有聚酰亚胺树脂的膜为电沉积涂装膜。
[4]如[3]所述的防护膜组件框，所述电沉积涂装膜为含有缩聚聚酰亚胺树脂、热交联酰亚胺树脂和阳离子性聚合物的组合物的固化膜。
[5]如[1]～[4]中任一项所述的防护膜组件框，所述含有聚酰亚胺树脂的膜的厚度为25μm以下。
[6]如[1]～[5]中任一项所述的防护膜组件框，所述框架为黑色。
[7]一种防护膜组件，包括：防护膜、以及支撑所述防护膜的外周的[1]～[6]中任一项所述的防护膜组件框。
另外，本发明是有关于以下的防护膜组件框的制造方法、及防护膜组件的制造方法。
[8]一种防护膜组件框的制造方法，其为制造支撑防护膜的外周的防护膜组件框的方法，包括：对铝合金框架进行阳极氧化的工序；对所述铝合金框架的表面进行黑色化处理的工序；以及将含有聚酰亚胺树脂的涂料涂装于经所述黑色化处理的所述铝合金框架，而形成含有聚酰亚胺树脂的膜的工序。
[9]一种防护膜组件的制造方法，其为制造具有防护膜、及支撑所述防护膜的外周的防护膜组件框的防护膜组件的方法，包括：将光刻用防护膜贴附于通过上述[8]中所述的防护膜组件框的制造方法而获得的防护膜组件框的工序。
发明的效果
根据本发明的防护膜组件框、或使用其的防护膜组件，难以从防护膜组件框产生逸气，进而也难以产生异物。因此，图案化用的掩模、防护膜不会受到污染，能够进行高精细的图案化。
附图说明
图1是表示本发明的防护膜组件的结构的一例的概略剖面图。
具体实施方式
以下，对本发明的实施方式进行说明。
本说明书中，使用“～”所表示的数值范围是指包括“～”的前后所记载的数值作为下限值及上限值的范围。
1.防护膜组件框
本发明的防护膜组件框包括框架、及形成于该框架表面的含有聚酰亚胺树脂的膜。
如上所述，若在防护膜组件框的表面形成有阳极氧化皮膜，则在阳极氧化处理时所附着的离子容易溶出而成为异物，或成为逸气，从而容易污染掩模、防护膜。另外，对于包含氟树脂、丙烯酸树脂、环氧树脂等的膜而言，有膜强度、耐热性、耐摩擦性、耐光性等并不充分而容易劣化的课题。
相对于此，本发明的防护膜组件框在表面具有含有聚酰亚胺树脂的膜。聚酰亚胺树脂对光、热的耐受性非常高，例如即便利用准分子光等也难以分解。另外，含有聚酰亚胺树脂的膜与金属制的框架的密合性非常高。因此，在防护膜组件框的制作时、将防护膜组件与曝光用掩模贴合时、防护膜组件的运送时，含有聚酰亚胺树脂的膜难以从框架剥离。进而，即便框架经阳极氧化处理，也可通过含有聚酰亚胺树脂的膜来抑制离子溶出。因此，具有该防护膜组件框的防护膜组件作为各种曝光用掩模的保护构件是非常有用的。
另外，在防护膜组件框的验收检查工序、在防护膜组件框上设置有防护膜的防护膜组件的发货检查工序等中，检查有无附着于这些构件的尘埃。在防护膜组件框的验收检查工序中，对防护膜组件框照射强光，通过光的反射来检查有无尘埃。若存在人眼无法观察到的大小的尘埃，则所照射的光发生反射而闪光。因此，仅将光不发生反射的防护膜组件框视为合格。
以下，对本发明的防护膜组件框的含有聚酰亚胺树脂的膜及框架进行说明。
1-1.框架
本发明的防护膜组件框的框架的形状对应于与防护膜组件贴合的掩模的形状而适当选择。框架的材质只要是能够在表面形成含有聚酰亚胺树脂的膜的金属，则并无特别限制，其例子包括：铝、铝合金、镁合金、钛、黄铜、铁、不锈钢等。其中，就重量、加工性、耐久性等观点而言，优选为铝合金。另外，就可通过电沉积涂装而容易地形成含有聚酰亚胺树脂的膜的观点而言，优选为包含铝合金的框架。
此处，框架也可通过等离子体处理、表面粗化处理、喷砂处理、喷丸处理等来进行表面处理。通过这些处理，附着于表面的异物、油成分被去除。因此，若对框架实施了此种表面处理，则框架与含有聚酰亚胺树脂的膜的密合性容易提高。另外，若通过所述处理对框架表面进行表面粗化，则容易使防护膜组件框的表面消光，容易检测出附着于防护膜组件框表面的异物。
就防护膜组件框的化学稳定性等观点而言，框架优选具有通过阳极氧化处理而形成的阳极氧化皮膜。框架的阳极氧化处理方法或其条件只要不损及本发明的效果就并无特别限制，可应用现有公知的各种阳极氧化处理方法。例如，可应用使用硫酸、磷酸、硝酸、酒石酸等的公知的阳极氧化处理方法。本发明的防护膜组件框于框架表面具有后述含有聚酰亚胺树脂的膜，因此即便框架经阳极氧化处理，各种离子也难以溶出至防护膜组件框表面。另外，尤其若利用酒石酸对框架进行了阳极氧化处理，则容易抑制离子在防护膜组件框表面上的溶出、逸气的产生。阳极氧化皮膜优选为具有直径10μm以上且30μm以下的孔的、厚度为5μm以上且70μm以下的氧化铝膜。
框架也可于阳极氧化处理后，通过进一步的电解析出处理等而被着色为黑色(黑色化处理)。若框架为黑色、即防护膜组件框为黑色，则在对防护膜组件框照射光并通过光的反射来检查有无尘埃的防护膜组件框的验收检查中，杂散光得到抑制，容易对尘埃加以确认。另外，通过电解析出处理而在框架表面析出的金属的种类并无特别限制，例如可为：Ni(镍)、Co(钴)、Cu(铜)、Sn(锡)、Mn(锰)、Fe(铁)等。
另外，也可通过利用黑色染料进行染色而将框架着色为黑色。利用黑色染料的框架的染色可设为公知的方法。例如已知有使有机染料等浸透至通过阳极氧化处理而产生的皮膜中，从而着色为黑色的方法。
1-2.含有聚酰亚胺树脂的膜
含有聚酰亚胺树脂的膜是形成于框架的表面的膜。含有聚酰亚胺树脂的膜的厚度优选为0.5μm以上且小于30μm，更优选为5μm以上且小于30μm，进一步优选为7μm以上且25μm以下。
含有聚酰亚胺树脂的膜的形成方法并无特别限定，可通过各种涂装方法将聚酰亚胺涂料形成于框架的表面。作为具体的涂装方法，可列举喷雾涂装、电沉积涂装、浸渍涂装等。优选为喷雾涂装、电沉积涂装。另一方面，聚酰亚胺涂料根据涂装方法而适当选择。以下，对通过喷雾涂装而形成的膜(也称作“喷雾涂装膜”)及通过电沉积涂装而形成的膜(也称作“电沉积涂装膜”)进行说明。
1-2-1.喷雾涂装膜
喷雾涂装膜是通过喷雾涂装法形成于框架表面的膜，是含有聚酰亚胺树脂的膜。在通过喷雾涂装法形成含有聚酰亚胺树脂的膜的情况下，利用稀释剂调整聚酰亚胺或其前体的浓度后，自喷雾涂装装置的喷雾喷嘴将涂料与高压空气一同喷附。然后，使自喷雾喷嘴所喷射出的涂料的粒子均匀地附着于上述框架，并视需要进行加热等而使其固化。
此处，通过喷雾涂装法而涂布的聚酰亚胺涂料可使用一般的聚酰亚胺涂料。其例子包括：日本专利特开2009-221398、日本专利特开2009-091573、日本专利特开2007-332369等中所记载的涂料。
1-2-2.电沉积涂装膜
电沉积涂装膜是通过电沉积涂装法形成于框架表面的膜，是含有聚酰亚胺树脂的膜。电沉积涂装膜可为通过阳离子电沉积涂装法而形成的膜，也可为通过阴离子电沉积涂装法而形成的膜。就可获得外观性良好的膜、即表面状态平坦的涂装膜的观点而言，优选为通过阳离子电沉积涂装法而形成的膜。
电沉积涂装膜可通过如下方式获得：使用含有聚酰亚胺树脂、其前体、或者它们的改性物等的电沉积涂装用组合物，利用后述方法来进行电沉积涂装。以下，对阳离子电沉积涂装法中所使用的阳离子电沉积涂装用组合物的例子进行说明，但电沉积涂装用组合物并不受这些例子限制。
(阳离子电沉积涂装用组合物)
阳离子电沉积涂装用组合物例如可设为含有(A)聚酰亚胺树脂、(B)阳离子性聚合物、(C)中和剂、及(D)水性介质的组合物。另外，也可代替(A)聚酰亚胺树脂及(B)阳离子性聚合物而含有聚酰亚胺树脂经阳离子改性而成的(A')阳离子改性聚酰亚胺树脂。另外，阳离子电沉积涂装用组合物视需要也可含有(E)颜料、(F)其他成分。以下，对这些成分进行说明。
(A)聚酰亚胺树脂
阳离子电沉积涂装用组合物所含的聚酰亚胺树脂并无特别限制。就提高电沉积涂装膜的耐热性、耐光性的观点而言，(A)聚酰亚胺树脂优选包含例如具有下述通式(1)所表示的重复单元的“缩聚聚酰亚胺树脂”。另外，本发明中所谓“缩聚聚酰亚胺树脂”是指使四羧酸二酐与二胺缩聚而获得的聚酰亚胺树脂，可为全芳香族聚酰亚胺类、全脂肪族聚酰亚胺类、半芳香族(半脂肪族)聚酰亚胺类的任一种。其中，缩聚聚酰亚胺树脂不包括后述的“热交联酰亚胺树脂”。
[化学式1]
Figure GDA0001578915080000071
通式(1)中的A选自下述通式所表示的二价基团。
[化学式2]
-Z1-、-Z2-X1-Z3-、-Z4-X2-Z5-X3-Z6-、-Z7-X4-Z8-X5-Z9-X6-Z10-
上述通式中的Z1～Z10分别为苯二胺残基、萘二胺残基、蒽二胺残基、菲二胺残基、通式CxH2x中的x为6～12的烷烃二胺残基、环丁烷二胺残基、环己烷二胺残基、环庚烷二胺残基、环癸烷二胺残基、二氨基双环己烷残基、二氨基双环庚烷残基、降冰片烷二胺残基、异佛尔酮二胺残基。X1～X6分别为单键、-O-、-S-、-CO-、-COO-、-C(CH3)2-、-C(CF3)2-、-SO2-或-NHCO-。多个A中所含的Z1～Z10及X1～X6分别可相同也可不同。
可为通式(1)中的A的含有芳香环的二价基团可以是由芳香族二胺衍生的二价基团。芳香族二胺的例子包括：间苯二胺、邻苯二胺、对苯二胺、1,4-二氨基萘、1,5-二氨基萘、1,8-二氨基萘、2,6-二氨基萘、2,7-二氨基萘、2,6-二氨基蒽、2,7-二氨基蒽、1,8-二氨基蒽、3,3'-二氨基二苯基醚、3,4'-二氨基二苯基醚、4,4'-二氨基二苯基醚、3,3'-二氨基二苯基硫醚、3,4'-二氨基二苯基硫醚、4,4'-二氨基二苯基硫醚、3,3'-二氨基二苯基砜、3,4'-二氨基二苯基砜、4,4'-二氨基二苯基砜、3,3'-二氨基二苯甲酮、3,3'-二氨基二苯基甲烷、3,4'-二氨基二苯基甲烷、4,4'-二氨基二苯基甲烷、2,2-双(3-氨基苯基)丙烷、2,2-双(4-氨基苯基)丙烷、2,2-双(3-氨基苯基)-1,1,1,3,3,3-六氟丙烷、2,2-双(4-氨基苯基)-1,1,1,3,3,3-六氟丙烷、3,3'-二氨基二苯基亚砜、3,4'-二氨基二苯基亚砜、4,4'-二氨基二苯基亚砜、1,3-双(3-氨基苯基)苯、1,3-双(4-氨基苯基)苯、1,4-双(3-氨基苯基)苯、1,4-双(4-氨基苯基)苯、1,3-双(3-氨基苯氧基)苯、1,3-双(4-氨基苯氧基)苯、1,4-双(3-氨基苯氧基)苯、1,4-双(4-氨基苯氧基)苯、1,3-双(3-氨基苯基硫醚)苯、1,3-双(4-氨基苯基硫醚)苯、1,4-双(4-氨基苯基硫醚)苯、1,3-双(3-氨基苯基砜)苯、1,3-双(4-氨基苯基砜)苯、1,4-双(4-氨基苯基砜)苯、1,3-双(3-氨基苄基)苯、1,3-双(4-氨基苄基)苯、1,4-双(4-氨基苄基)苯、1,3-双(3-氨基-4-苯氧基苯甲酰基)苯、3,3'-双(3-氨基苯氧基)联苯、3,3'-双(4-氨基苯氧基)联苯、4,4'-双(3-氨基苯氧基)联苯、4,4'-双(4-氨基苯氧基)联苯、双[3-(3-氨基苯氧基)苯基]醚、双[3-(4-氨基苯氧基)苯基]醚、双[4-(3-氨基苯氧基)苯基]醚、双[4-(4-氨基苯氧基)苯基]醚、双[3-(3-氨基苯氧基)苯基]酮、双[3-(4-氨基苯氧基)苯基]酮、双[4-(3-氨基苯氧基)苯基]酮、双[4-(4-氨基苯氧基)苯基]酮、双[3-(3-氨基苯氧基)苯基]硫醚、双[3-(4-氨基苯氧基)苯基]硫醚、双[4-(3-氨基苯氧基)苯基]硫醚、双[4-(4-氨基苯氧基)苯基]硫醚、双[3-(3-氨基苯氧基)苯基]砜、双[3-(4-氨基苯氧基)苯基]砜、双[4-(3-氨基苯氧基)苯基]砜、双[4-(4-氨基苯氧基)苯基]砜、双[3-(3-氨基苯氧基)苯基]甲烷、双[3-(4-氨基苯氧基)苯基]甲烷、双[4-(3-氨基苯氧基)苯基]甲烷、双[4-(4-氨基苯氧基)苯基]甲烷、2,2-双[3-(3-氨基苯氧基)苯基]丙烷、2,2-双[3-(4-氨基苯氧基)苯基]丙烷、2,2-双[4-(3-氨基苯氧基)苯基]丙烷、2,2-双[4-(4-氨基苯氧基)苯基]丙烷、2,2-双[3-(3-氨基苯氧基)苯基]-1,1,1,3,3,3-六氟丙烷、2,2-双[3-(4-氨基苯氧基)苯基]-1,1,1,3,3,3-六氟丙烷、2,2-双[4-(3-氨基苯氧基)苯基]-1,1,1,3,3,3-六氟丙烷、2,2-双[4-(4-氨基苯氧基)苯基]-1,1,1,3,3,3-六氟丙烷等。聚酰亚胺树脂中，可仅含有一种这些芳香族二胺，也可含有多种。
优选的芳香族二胺的例子中，更优选为间苯二胺、邻苯二胺、对苯二胺、3,3'-二氨基二苯基醚、3,4'-二氨基二苯基醚、4,4'-二氨基二苯基醚、3,3'-二氨基二苯基砜、4,4'-二氨基二苯基砜、3,3'-二氨基二苯甲酮、3,3'-二氨基二苯基甲烷、4,4'-二氨基二苯基甲烷、1,3-双(3-氨基苯氧基)苯、1,3-双(4-氨基苯氧基)苯、4,4'-双(3-氨基苯氧基)联苯，特别优选为间苯二胺、邻苯二胺、对苯二胺、3,3'-二氨基二苯基醚、3,4'-二氨基二苯基醚、4,4'-二氨基二苯基醚、4,4'-双(3-氨基苯氧基)联苯、1,3-双(3-氨基苯氧基)苯。
另外，可为通式(1)中的A的烯基、或含有脂环式结构的二价基团可以是源自脂肪族二胺或脂环式二胺的二价基团。优选的脂肪族二胺、脂环式二胺的例子包括：1,5-二氨基戊烷、1,6-二氨基己烷、环丁烷二胺、环己烷二胺、双(氨基甲基)环己烷、二氨基双环庚烷、降冰片烷二胺、二氨基甲基双环庚烷、二氨基氧基双环庚烷、氧杂降冰片烷二胺、二氨基甲基氧基双环庚烷、异佛尔酮二胺、二氨基三环癸烷、二氨基甲基三环癸烷、双(氨基环己基)甲烷、双(氨基环己基)异亚丙基等。作为更优选的脂肪族二胺，可列举：环己烷二胺、1,4-双(氨基甲基)环己烷、二氨基甲基双环庚烷。本发明的聚酰亚胺树脂中，可仅含有一种上述二胺，也可含有多种。另外，可仅含有芳香族二胺及脂肪族二胺的任一者，也可含有两者。
另一方面，上述通式(1)中的B选自下述式所表示的四价基团。
[化学式3]
Figure GDA0001578915080000091
上述式中的W1～W10为：含有苯、萘、蒽、菲和苝等芳香环的四价基团；含有环丁烷、环戊烷、环己烷、环癸烷、双环庚烷类、双环辛烷类、四氢呋喃类等脂环式结构的四价基团。另外，Y1～Y5分别为单键、-O-、-S-、-CO-、-COO-、-C(CH3)2-、-C(CF3)2-、-SO2-或-NHCO-。多个B中所含的W1～W10、及Y1～Y5分别可相同也可不同。
可为通式(1)中的B的含有芳香环的四价基团可以是由含有芳香环的四羧酸二酐衍生的四价基团。含有芳香环的四羧酸二酐的例子包括：均苯四甲酸二酐、3,3',4,4'-联苯四羧酸二酐、2,3,3',4-联苯-四羧酸二酐、3,3',4,4'-二苯甲酮四羧酸二酐、3,3',4,4'-二苯基砜四羧酸二酐、4,4'-氧双邻苯二甲酸二酐、1,2,4,5-萘四羧酸二酐、1,2,5,6-萘四羧酸二酐、1,2,6,7-萘四羧酸二酐、1,4,5,8-萘四羧酸二酐、2,3,6,7-萘四羧酸二酐、2,3,6,7-蒽四羧酸二酐、1,2,5,6-蒽四羧酸二酐、1,2,6,7-菲四羧酸二酐、1,2,7,8-菲四羧酸二酐、1,2,9,10-菲四羧酸二酐、3,4,9,10-苝四羧酸二酐、双(3,4-二羧基苯基)醚二酐、双(3,4-二羧基苯基)硫醚二酐、双(3,4-二羧基苯基)砜二酐、双(3,4-二羧基苯基)甲烷二酐、2,2-双(3,4-二羧基苯基)丙烷二酐、2,2-双(3,4-二羧基苯基)-1,1,1,3,3,3-六氟丙烷二酐、1,3-双(3,4-二羧基苯氧基)苯二酐、1,4-双(3,4-二羧基苯氧基)苯二酐、1,4-双(3,4-二羧基苯氧基)联苯二酐、2,2-双[(3,4-二羧基苯氧基)苯基]丙烷二酐等。
可为通式(1)中的B的含有脂环式结构的四价基团可以是由含有脂环式结构的四羧酸二酐衍生的四价基团。含有脂环式结构的四羧酸二酐的优选例子包括：环丁烷四羧酸二酐、1,2,3,4-环戊烷四羧酸二酐、1,2,4,5-环己烷四羧酸二酐、双环[2.2.1]庚烷-2,3,5,6-四羧酸二酐、双环[2.2.2]辛-7-烯-2,3,5,6-四羧酸二酐、双环[2.2.2]辛烷-2,3,5,6-四羧酸二酐、2,3,5-三羧基环戊基乙酸二酐、双环[2.2.1]庚烷-2,3,5-三羧酸-6-乙酸二酐、1-甲基-3-乙基环己-1-烯-3-(1,2),5,6-四羧酸二酐、十氢-1,4,5,8-二甲桥萘-2,3,6,7-四羧酸二酐、4-(2,5-二氧代四氢呋喃-3-基)-四氢萘-1,2-二羧酸二酐、3,3',4,4'-二环己基四羧酸二酐等。
优选的四羧酸二酐的例子包括：均苯四甲酸二酐、3,3',4,4'-联苯四羧酸二酐、2,3,3',4-联苯-四羧酸二酐、3,3',4,4'-二苯甲酮四羧酸二酐、4,4'-氧双邻苯二甲酸二酐、3,3',4,4'-二苯基砜四羧酸二酐、2,2-双[(3,4-二羧基苯氧基)苯基]丙烷二酐、2,2-双(3,4-二羧基苯基)-1,1,1,3,3,3-六氟丙烷二酐、环丁烷四羧酸二酐、1,2,4,5-环己烷四羧酸二酐。特别优选为均苯四甲酸二酐、3,3',4,4'-联苯四羧酸二酐、2,2-双[(3,4-二羧基苯氧基)苯基]丙烷二酐、2,2-双(3,4-二羧基苯基)-1,1,1,3,3,3-六氟丙烷二酐、环丁烷四羧酸二酐、1,2,4,5-环己烷四羧酸二酐。本发明的聚酰亚胺树脂中可仅含有一种上述酸二酐，也可含有多种。另外，可仅含有芳香族酸二酐及脂肪族酸二酐的任一者，也可含有两者。
优选为在阳离子电沉积涂装用组合物中含有5质量％～50质量％的上述缩聚聚酰亚胺树脂，更优选为含有10质量％～40质量％。若缩聚聚酰亚胺树脂的量为上述范围，则在(D)水性介质中的分散性容易提高。
(A)聚酰亚胺树脂优选为一并含有上述“缩聚聚酰亚胺树脂”及“热交联酰亚胺树脂”。本发明中的所谓“热交联酰亚胺树脂”是指含有酰亚胺键、且在分子末端含有不饱和双键等能够进行热交联的基团的树脂。此处，热交联酰亚胺树脂与上述缩聚聚酰亚胺树脂及后述的(B)阳离子性聚合物均容易相容。因此，若阳离子电沉积涂装用组合物含有热交联酰亚胺树脂，则容易使上述缩聚聚酰亚胺树脂在水性介质中的分散性提高，或阳离子电沉积涂装时缩聚聚酰胺树脂的析出性提高。另外，关于热交联酰亚胺树脂，是热交联酰亚胺树脂彼此反应，或者热交联酰亚胺树脂的能够进行热交联的基团与后述的(B)阳离子性聚合物的OH基等发生反应，而形成交联结构。因此，若阳离子电沉积涂装用组合物含有热交联酰亚胺树脂，则所得的电沉积涂装膜的膜强度容易提高。
热交联酰亚胺树脂的例子包括：N,N'-间二甲苯双马来酰亚胺、N,N'-4,4'-二苯基甲烷双马来酰亚胺、2,2-双[4-(4-马来酰亚胺苯氧基)苯基]丙烷、N,N'-间苯双马来酰亚胺、N,N'-4,4'-二苯基醚双马来酰亚胺、N,N'-间二甲苯双纳迪克酰亚胺、N,N'-4,4'-二苯基甲烷双烯丙基纳迪克酰亚胺等。
优选在阳离子电沉积涂装用组合物中含有10质量％～80质量％的热交联酰亚胺树脂，更优选为15质量％～60质量％，进一步优选为20质量％～50质量％。若热交联酰亚胺树脂的量为上述范围，则(D)水性介质中的缩聚聚酰亚胺树脂等的分散性容易提高，电沉积涂装膜的强度容易提高。
(B)阳离子性聚合物
(B)阳离子性聚合物例如可为含有至少一种氨基、氨基的季盐等阳离子性基团的聚合物。在阳离子电沉积涂装用组合物含有(B)阳离子性聚合物的情况下，即便不直接将阳离子性基团导入所述(A)聚酰亚胺树脂中，也能够通过(B)阳离子性聚合物与(A)聚酰亚胺树脂的相容性等，使(A)聚酰亚胺树脂在框架表面析出。(B)阳离子性聚合物例如可为丙烯酸共聚物、环氧胺加合物树脂等。
丙烯酸共聚物的例子包括将(甲基)丙烯酸的氨基衍生物、(甲基)丙烯酸的羟基衍生物、及乙烯基酯共聚合而成的共聚物等。此处，所谓(甲基)丙烯酸是指丙烯酸及甲基丙烯酸的任一者、或两者。
(甲基)丙烯酸的氨基衍生物的例子包括：(甲基)丙烯酸二甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸二乙基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸乙基三甲基氯化铵等。另一方面，(甲基)丙烯酸的羟基衍生物的例子包括：(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸3-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羟基丁酯、(甲基)丙烯酸2-羟基-3-苯氧基丙酯等。进而，乙烯基酯的例子包括：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸环己酯、丙烯酸异冰片酯、甲基丙烯酸2-(全氟辛基)乙酯、甲基丙烯酸三氟甲酯等。
另一方面，环氧胺加合物树脂可为利用伯胺或仲胺将环氧树脂的环氧基改性而成的衍生物等。环氧树脂的例子包括：双酚A型环氧树脂(商品名：jER树脂828、834、1001、1004、1007、1009(三菱化学公司制造))；酚醛清漆酚型环氧树脂(商品名：jER树脂152、154(三菱化学公司制造))等。
将所述环氧树脂改性的伯胺的例子包括：单甲醇胺、单乙醇胺、单正丙醇胺、单异丙醇胺、二甲基氨基乙基胺、二乙基氨基乙基胺、二乙基氨基丙基胺等。仲胺的例子包括：二甲醇胺、二乙醇胺、二正丙醇胺、二异丙醇胺、甲基乙醇胺、甲基丙醇胺、二正丁基胺等。
在阳离子电沉积涂装用组合物中，优选含有10质量％～70质量％(B)阳离子性聚合物，更优选为20质量％～70质量％，进一步优选为30质量％～60质量％。若(B)阳离子性聚合物的量为上述范围，则(D)水性介质中的(A)聚酰亚胺树脂的分散性容易提高。另一方面，若(B)阳离子性聚合物的量为上述范围，则相对而言(A)聚酰亚胺树脂的量变得充分，因此电沉积涂装膜的耐热性等容易充分地提高。
(A')阳离子改性聚酰亚胺树脂
如上所述，阳离子电沉积涂装用组合物中也可代替所述(A)聚酰亚胺树脂及(B)阳离子性聚合物而含有(A')阳离子改性聚酰亚胺树脂。在阳离子电沉积涂装用组合物含有(A')阳离子改性聚酰亚胺树脂的情况下，阳离子电沉积涂装用组合物中不必另外含有包含上述的丙烯酸树脂、环氧树脂等的(B)阳离子性聚合物。因此，电沉积涂装膜的耐热性容易进一步提高。
(A')阳离子改性聚酰亚胺树脂可为阳离子性基团经由脲键或氨基甲酸酯键等而键合于所述(A)聚酰亚胺树脂而成的树脂等。阳离子性基团的例子包括：伯氨基、仲氨基、叔氨基等。作为使阳离子性基团键合于所述(A)聚酰亚胺树脂的方法的一例，有以下方法。
使“多官能嵌段异氰酸酯化合物”与所述(A)聚酰亚胺树脂的酸酐基反应，而将嵌段异氰酸酯基导入聚酰亚胺树脂中。然后，利用公知的方法(例如日本专利特开2009-256489号公报中记载的方法)使“含阳离子性基团的化合物”与嵌段异氰酸酯基反应，由此获得(A')阳离子改性聚酰亚胺树脂。
与聚酰亚胺树脂反应的“多官能嵌段异氰酸酯化合物”的例子包括：六亚甲基二异氰酸酯等脂肪族二异氰酸酯；4,4'-二苯基甲烷二异氰酸酯、2,6'-甲苯二异氰酸酯等芳香族二异氰酸酯；异佛尔酮二异氰酸酯等脂环族二异氰酸酯；聚合MDI(polymeric MDI，东曹公司制造Millionate MR-200等)等超出二官能的异氰酸酯等。这些可仅使用一种，也可使用两种以上。
另一方面，“含阳离子性基团的化合物”的例子包括：多官能胺、含羟基的胺、酮亚胺化胺、含羟基的酮亚胺等。这些可仅使用一种，也可使用两种以上。
多官能胺只要是在一分子中具有两个以上的氨基的化合物即可，其例子包括：N,N-二甲基乙二胺、N,N-二甲基丙二胺、乙二胺、丙二胺、二乙三胺等。
含羟基的胺的例子包括：乙醇胺、丙醇胺、异丙醇胺、N-甲基乙醇胺、N-甲基二乙醇胺、N,N-二甲基乙醇胺等烷醇胺类。
酮亚胺化胺的例子包括：使上述多官能胺与丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮等酮类反应而获得的酮亚胺化胺等。
含羟基的酮亚胺的例子包括：使氨基乙基乙醇胺、氨基乙基丙醇胺、氨基乙基异丙醇胺、氨基丙基乙醇胺、氨基丙基丙醇胺等氨基烷基烷醇胺类与上述酮类反应而获得的含羟基的酮亚胺等。
优选在阳离子电沉积涂装用组合物中含有5质量％～70质量％的(A')阳离子改性聚酰亚胺树脂，更优选为10质量％～60质量％。若(A')阳离子改性聚酰亚胺树脂的量为上述范围，则电沉积涂装膜的耐热性等容易充分地提高，进而可高效地进行电沉积涂装膜的形成。
(C)中和剂
阳离子电沉积涂装用组合物含有用于提高上述(B)阳离子性聚合物、(A')阳离子改性聚酰亚胺树脂在水性介质中的分散性的中和剂。中和剂的例子包括：盐酸、硝酸、磷酸、甲酸、乙酸、乳酸、琥珀酸、丁酸之类的无机酸或有机酸等。优选以阳离子电沉积涂装用组合物的pH值成为3～5的范围的方式含有中和剂。
(D)水性介质
阳离子电沉积涂装用组合物所含的水性介质为离子交换水、纯水等。水性介质视需要也可含有少量的醇类等。阳离子电沉积涂装用组合物所含的(D)水性介质的量根据阳离子电沉积涂装用组合物的粘度等而适当选择。
(E)颜料
阳离子电沉积涂装用组合物也可含有碳黑等颜料。若防护膜组件框因阳离子电沉积涂装膜而黑色化，则如上所述变得容易对附着于防护膜组件框表面的尘埃加以确认。
颜料的含量一般为阳离子电沉积涂装用组合物的总固体成分的1质量％～35质量％，优选为10质量％～30质量％。
(F)其他
阳离子电沉积涂装用组合物视需要也可含有其他成分。其他成分的例子包括：水混合性有机溶剂、表面活性剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂等。
另外，阳离子电沉积涂装用组合物可为调制上述各成分而获得的组合物，也可为市售的电沉积涂装用组合物。市售的阳离子电沉积涂装用组合物的例子包括(株)清水制造的ELECOAT PI等。
(电沉积涂装方法)
电沉积涂装膜通过以下工序而形成：1)在框架表面形成上述阳离子电沉积涂装用组合物的膜的工序；2)将所得的膜加热固化及干燥而制成固化电沉积涂装膜的工序。
1)的工序中，使作为被涂布物的框架浸渍于投入有所述阳离子电沉积涂装用组合物的电沉积槽内。将框架设为阴极，在与阳极之间施加电压，使所述(A)聚酰亚胺树脂及(B)阳离子性聚合物、或者(A')阳离子改性聚酰亚胺树脂在框架表面析出。由此，在框架表面形成含有聚酰亚胺树脂的膜。电沉积涂装优选为以电压100V～220V、通电时间30秒～240秒来进行。
电沉积涂装后的膜(湿膜)的厚度优选为5μm以上且小于30μm，进一步优选为7μm以上且25μm以下。若电沉积涂装后的膜过薄，则将其固化所得的电沉积涂装膜的凝聚力并不充分，难以获得所期望的耐热性、膜强度。另一方面，若电沉积涂装后的膜的厚度过厚，则有时膜表面变粗糙而成为橘皮状的表面，不仅平滑性差，而且最终所得的电沉积涂装膜的厚度难以变得均匀。电沉积涂装后的膜的厚度是通过电沉积涂装时的电压、通电时间来进行调整。
对1)的工序中所得的膜进行水洗。其后，于2)的工序中，以120℃～260℃、优选为140℃～220℃对防护膜组件框进行10分钟～30分钟烘烤而使电沉积涂装膜加热固化，从而制成电沉积涂装膜。
电沉积涂装膜(固化膜)的厚度与所述膜的厚度大致相同，优选为5μm以上且小于30μm，更优选为7μm以上且25μm以下。
1-3.防护膜组件框的制造方法
如上所述，本发明的防护膜组件框可通过制作框架并于该框架上形成含有聚酰亚胺树脂的膜来制造。防护膜组件框的制造方法可根据框架的种类、具有聚酰亚胺树脂的膜的形成方法等来适当选择。
例如在框架由铝合金形成的情况下，可通过进行以下工序来制造防护膜组件框：对铝合金框架进行阳极氧化的工序；对该铝合金框架的表面进行黑色化处理的工序；以及对经黑色化处理的所述铝合金框架涂装(喷雾涂装或电沉积涂装)含有聚酰亚胺树脂的涂料，形成含有聚酰亚胺树脂的膜的工序。
2.防护膜组件
本发明的防护膜组件具有：防护膜、支撑所述防护膜的外周的所述防护膜组件框、使所述防护膜组件框与所述防护膜粘接的膜粘接剂、以及用以粘接所述防护膜组件框与所述掩模的掩模粘接剂。图1中示出本发明的防护膜组件的一例。防护膜组件10包括：防护膜12、及支撑防护膜12的外周的防护膜组件框14。防护膜12经由位于防护膜组件框14的一个端面上的膜粘接剂层13而伸展设置。另一方面，为了使防护膜组件框14粘接于掩模(未图示)，而于防护膜组件框14的另一个端面上设置有掩模粘接剂层15。
防护膜12由防护膜组件框14保持，并覆盖掩模(未图示)的曝光区域。因此，防护膜12为具有不会阻挡曝光的能量(光)的透光性的膜。防护膜12的材质的例子包括：石英玻璃、氟系树脂、乙酸纤维素等透明性的材质。
膜粘接剂层13将防护膜组件框14与防护膜12粘接。掩模粘接剂层15将防护膜组件框14与掩模(未图示)粘接。
膜粘接剂层13例如可为丙烯酸树脂粘接剂、环氧树脂粘接剂、硅酮树脂粘接剂、含氟硅酮系粘接剂、含氟醚系粘接剂等氟聚合物等。另一方面，掩模粘接剂层15例如可为双面胶带、硅酮树脂系粘接剂、丙烯酸系粘接剂、橡胶系粘接剂、乙烯基系粘接剂、环氧系粘接剂等。
防护薄膜防护膜组件10经由掩模粘接剂层15而安装于掩模(未图示)上，以防止异物附着于掩模(未图示)。若曝光光聚焦于附着在掩模上的异物，则会引起对晶圆的分辨率不良。因此，防护膜组件10以覆盖掩模(未图示)的曝光区域的方式安装。
所谓掩模(未图示)是配置有经图案化的遮光膜的玻璃基板等。所谓遮光膜是Cr、MoSi等金属的单层或多层结构的膜。含有经图案化的遮光膜的掩模成为曝光区域。
半导体元件中所描绘的电路图案的形成工序等的光刻中所使用的曝光光可为水银灯的i射线(波长365nm)、KrF准分子激光(波长248nm)、ArF准分子激光(波长193nm)等短波长的光。
本发明的防护膜组件框所具有的含有聚酰亚胺树脂的膜具有与金属(框架)的良好的密合性，并且具有优异的膜强度。另外，通过该含有聚酰亚胺树脂的膜，也可抑制离子自框架的溶出。因此，难以发生因含有聚酰亚胺树脂的膜的剥离而导致的灰尘产生，进而也难以发生自防护膜组件框的气体的产生、异物的产生等。进而，该含有聚酰亚胺树脂的膜即便通过准分子激光光(ArF光、KrF光等)的照射也难以分解。因此，具有该防护膜组件框的防护膜组件能够应用于多种图案化。
另外，所述防护膜组件可通过如下方式制作：在所述防护膜组件框上形成包含膜粘接剂的层，并于该膜粘接剂上贴附防护膜。
[实施例]
基于实施例对本发明进行详细说明，但本发明并不受这些实施例限定。
[实施例1]
准备JIS A7075-T6制的铝框架(尺寸：149mm×122mm×高度5.8mm，支撑框厚度为2mm)。于大气中、温度250℃下对该框架进行20分钟退火。其后，利用平均直径约100μm的不锈钢对框架表面进行喷丸处理。
继而，使用15质量％的硫酸的电解浴，以电解电压20V、电量10C/cm2对该框架进行阳极氧化。其后，使用溶解有硫酸镍六水合物160g/L、硼酸40g/L、酒石酸3g/L、及氧化镁1g/L的电解析出浴，通过30℃、交流电压15V的恒压电解来进行6分钟电解析出处理。由此，获得已着色的框架。
然后，利用纯水对框架进行清洗，放入装有阳离子系聚酰亚胺电沉积涂料((株)清水制造ELECOAT PI)的浴槽中，于25℃、电压100V下进行1分钟电沉积涂装。对电沉积涂装后的框架进行水洗，于100℃干燥15分钟后，以180℃实施30分钟烘烤，获得在框架上形成有厚度为10μm的电沉积涂装膜(含有聚酰亚胺树脂的膜)的防护膜组件框1。
[实施例2]
除了在以下条件下进行阳极氧化处理及电沉积涂装以外，与实施例1同样地制作防护膜组件框2。
(阳极氧化处理)
将溶解有酒石酸钠二水合物53g/L、及氢氧化钠4g/L的碱性水溶液设为电解液，于5℃、电解电压30V、电量10C/cm2的条件下进行阳极氧化处理。
(电沉积涂装)
利用纯水对电解析出处理后的框架进行清洗，放入装有阳离子系聚酰亚胺电沉积涂料((株)清水制造ELECOAT PI)的浴槽中。然后，于阳极使用碳板，于阴极使用框架，于25℃、电压100V下进行1分钟电沉积涂装。其后，与实施例1同样地实施水洗、干燥及烘烤，获得厚度为9μm的电沉积涂装膜(含有聚酰亚胺树脂的膜)。
[实施例3]
在以下的条件下，对呈框型形状的外形尺寸为148.95mm×114.95mm×厚度2.50mm的铝合金7075制框架材进行阳极氧化处理。其后，进行与实施例2同样的电沉积涂装，制作形成有厚度为5μm～20μm的电沉积涂装膜(含有聚酰亚胺树脂的膜)的防护膜组件框3。
(阳极氧化处理)
将溶解有无机酸水合物的碱性水溶液设为电解液，使用pH值12～14的溶液，在浴温0℃～20℃、电压0.5V以上且小于20V、处理时间2分钟～120分钟的条件下，进行阳极氧化。
[实施例4]
对呈框型形状的外形尺寸为148.95mm×114.95mm×厚度2.50mm的铝合金7075制框架材，与实施例3同样地实施阳极氧化处理。其后，电沉积涂装(株)PI技术研究所制造的阴离子系聚酰亚胺电沉积涂料，制作形成有厚度为5μm～20μm的电沉积涂装膜(含有聚酰亚胺树脂的膜)的防护膜组件框4。
通过目视来确认防护膜组件框4的外观，结果，防护膜组件框4的电沉积涂装膜(含有聚酰亚胺树脂的膜)较防护膜组件框3的电沉积涂装膜(含有聚酰亚胺树脂的膜)而言，涂膜的表面状态粗糙。
[实施例5]
与实施例3同样地，对框架材同样地实施阳极氧化处理。其后，利用稀释溶剂将(株)IST制造的聚酰亚胺涂料稀释。然后喷雾涂装该涂料，制作形成有厚度为0.5μm～20μm的喷雾涂装膜(含有聚酰亚胺树脂的膜)的防护膜组件框5。
[比较例1]
除了代替电沉积涂装而在以下的条件下进行封孔处理以外，与实施例1同样地制作防护膜组件框6。
(封孔处理)
将电解析出处理后的框架放入蒸气封孔装置中，一边产生相对湿度为100％、2.0kg/cm2G、130℃的水蒸气，一边进行30分钟封孔处理。
[比较例2]
除了代替电沉积涂装而在以下的条件下进行封孔处理以外，与实施例2同样地制作防护膜组件框7。
(封孔处理)
将电解析出处理后的框架放入蒸气封孔装置中，一边产生相对湿度为100％、2.0kg/cm2G、130℃的水蒸气，一边进行30分钟封孔处理。
[比较例3]
于电沉积涂装时，代替阳离子系聚酰亚胺电沉积涂料((株)清水制造ELECOAT PI)而使用丙烯酸系树脂电沉积涂料((株)清水制造ELECOAT NICELON)，于阴极使用碳板，于阳极使用框架，除此以外，与实施例1同样地制作防护膜组件框8。此时，电沉积涂装膜(含有丙烯酸系树脂的膜)的厚度为10μm。
[评价]
1)产生气体量的评价
将实施例1、实施例5和比较例3中制成的防护膜组件框分别切断为4cm左右，制作测定用样品。将各测定用样品分别放入两口的带有螺旋盖的凸弧面型石英池中，于其中一个螺旋盖上安装流通氮气的管道，以100mL/min流入氮气。进而于另一个螺旋盖上安装捕集管(GL科学(GL Sciences)公司制造的捕集管(TRAP TUBE)，TENAX GL)。若存在氧气，则氧气通过ArF激光而变化为臭氧，因臭氧而导致捕集管中的捕集材劣化，因此为了防止变得无法捕集自样品产生的气体而使用氮气。
在将螺旋盖内完全地氮气置换后，在1000Hz、0.4mJ/cm2的条件下对凸弧面型石英池内的测定用样品照射5分钟ArF激光。
通过ArF激光照射，将成为气体而从测定用样品表面脱离的物质采集至捕集管中，获得产生气体样品。
继而，使用热脱附气相色谱质谱仪(GC-MS)将捕集管中所采集的物质量设为产生气体量(十一烷换算)而进行测定。测定中使用株式会社岛津制作所制造的热脱附GC-MS(TDTS-2010)、气相色谱仪(GC-2010)、质谱仪(GCMS-QP2010)。将结果示于表1中。
[表1]
逸气量
实施例1 0.15μg
实施例5 0.13μg
比较例3 0.68μg
如所述表1所示，与比较例3的防护膜组件框的电沉积涂装膜(含有丙烯酸系树脂的膜)相比而言，实施例1的防护膜组件框的电沉积涂装膜(含有聚酰亚胺树脂的膜)及实施例5的防护膜组件框的喷雾涂装膜(含有聚酰亚胺树脂的膜)的逸气量少。可以推测其原因在于：实施例1及实施例5的含有聚酰亚胺树脂的膜难以通过ArF准分子激光光而分解。
此处，就光能量的吸收量越多则越不稳定的一般认知来看，关于ArF激光光(波长：193nm)的吸光系数，丙烯酸系树脂为约0.15μm-1，聚酰亚胺树脂为20μm-1。因此，只要以吸光度进行比较，则可以推测容易吸收ArF激光光的聚酰亚胺树脂容易分解。
然而，如所述表1所示，实际上照射ArF准分子激光光后，获得与推测相反的结果。因此，本发明者等人为了研究含有聚酰亚胺树脂的膜比含有丙烯酸系树脂的膜难以分解的理由，而利用计算科学方法进行了电子状态分析。
电子状态计算通过高斯(Gaussian)09Rev.D.01来进行。然后，利用作为密度泛函法的TD-CAM-B3LYP法，以cc-pVDZ作为基底函数，来评价聚酰亚胺树脂及丙烯酸树脂的激发单重态(S1)下的键能。
其结果，在聚酰亚胺树脂的分子骨架中，成为反应起点的N-C键及C-O键部分在S1状态下的键能分别为366kJ/mol与269kJ/mol。聚酰亚胺树脂在S1状态下的键能充分地高，因此可以认为难以通过ArF激光光而分解，从而难以引起气体产生。
另一方面，丙烯酸树脂中，O＝C-O-C中的O-C键在S1状态下的能量为63kJ/mol，是比较小的值，因此可以说容易发生通过ArF激光光的分解。另外，丙烯酸树脂中，侧链的O＝C-O因74kJ/mol的活化能而进一步进行β开裂，从而成为CO2而脱离。而且，由于在主链部分生成自由基，因此主链的开裂容易进行。根据这些情况，可以认为丙烯酸系树脂容易通过ArF激光光而产生气体。
2)离子溶出量的测定
在旭化成株式会社制造的带有拉链的耐热袋(Ziploc(注册商标))中，放入100ml的超纯水。针对实施例1～实施例5和比较例1、比较例2中制作的每种防护膜组件框，向所述耐热袋中各放入3块防护膜组件框，将空气抽出，并通过拉链密封。将该耐热袋于90℃的高温水槽中浸渍3小时，萃取防护膜组件框中所含的各种离子。利用离子色谱分析装置(戴安公司制造的ICS-1000(柱：AS9-HC))来测定萃取液中所含的各种离子量。此时，洗提液设为1mmol/L的K2CO3溶液。将从各防护膜组件框溶出的离子的种类及其量示于表2中。
[表2]
Figure GDA0001578915080000211
如表2所示，在阳极氧化处理后形成含有聚酰亚胺树脂的膜的情况下，与在阳极氧化处理后进行封孔处理的情况相比而言，各离子溶出量减少(实施例1与比较例1的比较、以及实施例2～实施例5与比较例2的比较)。根据该结果，可知通过含有聚酰亚胺树脂的膜，于阳极氧化处理时所附着的各种离子难以溶出。
本申请主张基于2015年8月17日提出申请的日本专利特愿2015-160519号的优先权。将这些申请说明书及附图中所记载的内容全部引用至本申请说明书中。
产业上的可利用性
本发明的防护膜组件框所具有的含有聚酰亚胺树脂的膜具有与金属的良好的密合性，并且具有优异的膜强度及耐蚀性。因此，可高度抑制因含有聚酰亚胺树脂的膜的剥离所导致的灰尘产生、从防护膜组件框的离子溶出、逸气的产生。进而，该含有聚酰亚胺树脂的膜即便通过准分子激光光(ArF光、KrF光等)的照射也难以分解。因此，具有该防护膜组件框的防护膜组件能够应用于多种图案化。
符号说明
10：防护膜组件
12：防护膜
13：膜粘接剂层
14：防护膜组件框
15：掩模粘接剂层。

Claims (8)

1.一种防护膜组件框，其为支撑防护膜的外周的防护膜组件框，包括：
框架、以及形成于所述框架的表面的含有聚酰亚胺树脂的膜，
所述含有聚酰亚胺树脂的膜为阳离子电沉积涂装膜。
2.根据权利要求1所述的防护膜组件框，所述框架为经阳极氧化处理的铝合金框架。
3.根据权利要求1所述的防护膜组件框，所述阳离子电沉积涂装膜为含有缩聚聚酰亚胺树脂、热交联酰亚胺树脂和阳离子性聚合物的组合物的固化膜。
4.根据权利要求1所述的防护膜组件框，所述含有聚酰亚胺树脂的膜的厚度为25μm以下。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的防护膜组件框，所述框架为黑色。
6.一种防护膜组件，包括：
防护膜、以及
支撑所述防护膜的外周的根据权利要求1～4中任一项所述的防护膜组件框。
7.一种防护膜组件框的制造方法，其为制造支撑防护膜的外周的防护膜组件框的方法，包括：
对铝合金框架进行阳极氧化的工序；
对所述铝合金框架的表面进行黑色化处理的工序；以及
将含有聚酰亚胺树脂的涂料阳离子电沉积涂装于经所述黑色化处理的所述铝合金框架，形成含有聚酰亚胺树脂的膜的工序。
8.一种防护膜组件的制造方法，其为制造具有防护膜、及支撑所述防护膜的外周的防护膜组件框的防护膜组件的方法，包括：
将防护膜贴附于通过权利要求7所述的防护膜组件框的制造方法而获得的防护膜组件框的工序。
CN201680047788.9A 2015-08-17 2016-08-15 防护膜组件框、含有其的防护膜组件、防护膜组件框的制造方法及防护膜组件的制造方法 Active CN107924117B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015160519A JP6551837B2 (ja) 2015-08-17 2015-08-17 ペリクルフレーム、及びこれを含むペリクル
JP2015-160519 2015-08-17
PCT/JP2016/073828 WO2017030109A1 (ja) 2015-08-17 2016-08-15 ペリクルフレーム、これを含むペリクル、ペリクルフレームの製造方法、およびペリクルの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN107924117A CN107924117A (zh) 2018-04-17
CN107924117B true CN107924117B (zh) 2021-05-18

Family

ID=58051147

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201680047788.9A Active CN107924117B (zh) 2015-08-17 2016-08-15 防护膜组件框、含有其的防护膜组件、防护膜组件框的制造方法及防护膜组件的制造方法

Country Status (7)

Country Link
US (1) US10606169B2 (zh)
EP (1) EP3339955B1 (zh)
JP (2) JP6551837B2 (zh)
KR (1) KR102079989B1 (zh)
CN (1) CN107924117B (zh)
TW (1) TWI726901B (zh)
WO (1) WO2017030109A1 (zh)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6729233B2 (ja) * 2016-09-20 2020-07-22 日本軽金属株式会社 ペリクル用支持枠及びペリクル並びにその製造方法
JP2019070745A (ja) * 2017-10-10 2019-05-09 信越化学工業株式会社 ペリクルフレーム及びペリクル
TWI649612B (zh) * 2018-01-11 2019-02-01 美商微相科技股份有限公司 Mask surface treatment method for photomask
JP7330245B2 (ja) * 2018-04-03 2023-08-21 信越化学工業株式会社 ペリクルフレーム、ペリクル、ペリクル付フォトマスク、露光方法、及び半導体デバイスの製造方法
JP7139133B2 (ja) 2018-04-03 2022-09-20 信越化学工業株式会社 ペリクルフレーム、ペリクル、及びペリクルフレームの製造方法
US11326256B2 (en) * 2018-12-10 2022-05-10 Applied Materials, Inc. Dome stress isolating layer
EP4102296A4 (en) * 2020-02-04 2024-03-20 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. PELLICLE FRAME, PELLICLE, EXPOSURE ORIGINAL PLATE WITH PELLICLE AND EXPOSURE METHOD AND METHOD FOR PRODUCING A SEMICONDUCTOR COMPONENT OR A LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL
JP2022088255A (ja) 2020-12-02 2022-06-14 日清紡ケミカル株式会社 露光装置用部材、露光装置用部材の製造方法、及び、複合型露光装置用部材

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004059997A (ja) * 2002-07-29 2004-02-26 Miyaki:Kk ポリイミド被膜を有する被覆アルマイト及びその製造方法
CN101089729A (zh) * 2006-06-14 2007-12-19 信越化学工业株式会社 防护薄膜组件
TW200952043A (en) * 2008-05-27 2009-12-16 Shinetsu Chemical Co Pellicle for lithography
TW201520685A (zh) * 2013-09-30 2015-06-01 Mitsui Chemicals Inc 防塵薄膜、使用其的防塵薄膜組件、曝光原版及曝光裝置以及半導體裝置的製造方法

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3027073B2 (ja) * 1993-07-28 2000-03-27 信越化学工業株式会社 ペリクル
JP3388162B2 (ja) * 1997-12-03 2003-03-17 信越化学工業株式会社 リソグラフィー用ペリクルの製造方法
JP2001126237A (ja) * 1999-10-21 2001-05-11 Mitsubishi Chemicals Corp 記録媒体用基板および記録媒体ならびに情報記録装置
WO2004040374A2 (en) * 2002-10-29 2004-05-13 Dupont Photomasks, Inc. Photomask assembly and method for protecting the same from contaminants generated during a lithography process
JP4941093B2 (ja) 2006-05-19 2012-05-30 宇部興産株式会社 ポリイミド膜の製造方法、及びポリアミック酸溶液組成物
TWI454839B (zh) * 2007-03-01 2014-10-01 尼康股份有限公司 A film frame apparatus, a mask, an exposure method, and an exposure apparatus, and a method of manufacturing the element
JP4886565B2 (ja) * 2007-03-26 2012-02-29 住友精密工業株式会社 基板処理装置
US20100207293A1 (en) 2007-09-20 2010-08-19 Ube Industries, Ltd. Process of producing polyimide film and polyamic acid solution composition
JP2009111249A (ja) * 2007-10-31 2009-05-21 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 電気回路用アルミニウムベース放熱基板の製造方法
JP5051840B2 (ja) * 2007-11-22 2012-10-17 信越化学工業株式会社 ペリクル収納容器内にペリクルを保管する方法
JP5233344B2 (ja) 2008-03-18 2013-07-10 宇部興産株式会社 ポリアミック酸溶液の製造方法
JP5134418B2 (ja) * 2008-04-01 2013-01-30 信越化学工業株式会社 リソグラフィ用ペリクル
JP5339768B2 (ja) 2008-04-17 2013-11-13 日本ペイント株式会社 カチオン性樹脂組成物、その製造方法、水性塗料組成物、およびカチオン電着塗料組成物
WO2011007523A1 (ja) 2009-07-16 2011-01-20 三井化学株式会社 ペリクルフレームおよびそれを含むペリクル
JP4974389B2 (ja) * 2009-10-30 2012-07-11 信越化学工業株式会社 リソグラフィ用ペリクルフレーム及びリソグラフィ用ペリクル
JP5767535B2 (ja) * 2010-09-01 2015-08-19 旭化成イーマテリアルズ株式会社 ペリクル枠体、ペリクル及びペリクル枠体の製造方法
JP6008784B2 (ja) * 2013-04-15 2016-10-19 信越化学工業株式会社 ペリクルフレーム及びその製作方法とペリクル
KR101694665B1 (ko) * 2013-10-23 2017-01-09 니폰게이긴조쿠가부시키가이샤 펠리클 프레임 및 그 제조 방법
JP6446177B2 (ja) * 2014-01-10 2018-12-26 旭化成株式会社 ペリクル枠体及びペリクル
JP6269944B2 (ja) * 2014-02-27 2018-01-31 三菱自動車工業株式会社 サイドエアバッグ装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004059997A (ja) * 2002-07-29 2004-02-26 Miyaki:Kk ポリイミド被膜を有する被覆アルマイト及びその製造方法
CN101089729A (zh) * 2006-06-14 2007-12-19 信越化学工业株式会社 防护薄膜组件
TW200952043A (en) * 2008-05-27 2009-12-16 Shinetsu Chemical Co Pellicle for lithography
TW201520685A (zh) * 2013-09-30 2015-06-01 Mitsui Chemicals Inc 防塵薄膜、使用其的防塵薄膜組件、曝光原版及曝光裝置以及半導體裝置的製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
TW201712428A (zh) 2017-04-01
JP2017040688A (ja) 2017-02-23
JP6548339B2 (ja) 2019-07-24
JP2018028659A (ja) 2018-02-22
EP3339955A4 (en) 2019-03-06
EP3339955A1 (en) 2018-06-27
KR20180030133A (ko) 2018-03-21
US10606169B2 (en) 2020-03-31
US20180239242A1 (en) 2018-08-23
CN107924117A (zh) 2018-04-17
EP3339955B1 (en) 2020-05-20
TWI726901B (zh) 2021-05-11
JP6551837B2 (ja) 2019-07-31
KR102079989B1 (ko) 2020-02-24
WO2017030109A1 (ja) 2017-02-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107924117B (zh) 防护膜组件框、含有其的防护膜组件、防护膜组件框的制造方法及防护膜组件的制造方法
JP5341997B2 (ja) ペリクルフレームおよびそれを含むペリクル
CN100552548C (zh) 光刻用防护胶膜组件及防护胶膜框架
EP1868033A2 (en) Pellicle
TWI807003B (zh) 防護薄膜框架、防護薄膜組件、防護薄膜框架之製造方法、附設防護薄膜組件之光罩、曝光方法、半導體元件之製造方法及液晶顯示器之製造方法
TW200832050A (en) Method for cleaning photo mask
US8192899B2 (en) Pellicle for photolithography
US10338465B2 (en) Pellicle frame and pellicle
KR20100117496A (ko) 펠리클
JP6313161B2 (ja) ペリクルフレーム及びペリクル
CN101581877A (zh) 防护薄膜组件的剥离方法以及用于该方法中的剥离装置
JP7488404B2 (ja) ペリクルフレーム、ペリクル、ペリクル付フォトマスク、露光方法、及び半導体デバイスの製造方法
JP5647189B2 (ja) ペリクル枠体及びペリクル

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant