CN107922223B - 重整液生成装置及重整液生成方法 - Google Patents

重整液生成装置及重整液生成方法 Download PDF

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Abstract

重整液处理装置具备:处理槽,通过使导入的液体回旋以在液体的涡流的回旋中心附近产生气相;第1电极,至少一部分配置在处理槽内以与处理槽内的液体接触;第2电极,配置为与处理槽内的液体接触;以及电源,在第1电极与第2电极之间施加电压以在气相中产生等离子体。在气相中产生等离子体以生成重整成分,生成的重整成分溶解在液体中并分散在液体中,从而生成重整液。

Description

重整液生成装置及重整液生成方法
技术领域
本公开涉及对液体进行电化学处理而生成重整液的重整液生成装置及重整液生成方法。更具体地,本公开涉及一种通过在液体中产生等离子体来重整液体,从而生成具有杀菌作用及脱臭作用的重整液的重整液生成装置及重整液生成方法。
背景技术
图15中示出了现有的重整液生成装置的例子。已知有如下的重整液生成装置:在液体803(例如,水)中,配置第1电极801及第2电极802,通过从脉冲电源804向第1电极801和第2电极802之间施加高电压脉冲使液体803气化,产生等离子体805,从而生成包括具有例如羟基自由基(OH自由基)或过氧化氢等氧化力的成分的重整液。尤其是已知OH自由基具有高氧化力,通过混合含有这些成分的重整液,从而例如对细菌具有较高的杀菌作用。另外,已知通过在液体803中产生等离子体805,从而等离子体805被液体803覆盖,容易产生源自液体的成分。例如,已知通过在水中产生等离子体805,从而容易生成OH自由基或过氧化氢。
然而,在上述现有的重整液生成装置的情况下,存在如下课题:为了使液体803气化,不仅需要较高的施加电压,而且等离子体805的产生效率较低,对液体803进行重整需要很长时间。
因此,已知为了降低施加电压并且提高等离子体的产生效率,使从外部导入的气体介入两电极之间的重整液生成装置(参照专利文献1)。在专利文献1记载的重整液生成装置(图16)中,使气体904(例如,氧气)和被处理液903一起介入阳极电极901和阴极电极902之间后,在阳极电极901和阴极电极902之间施加脉冲电压。通过脉冲电压的施加,在气体904内产生等离子体,在等离子体和被处理液903的接触面发生被处理液903的重整。根据专利文献1记载的重整液生成装置,与没有介入气体的情况相比,能够降低施加电压,并且,能够有效地产生等离子体从而进行被处理液903的重整。
在先技术文献
专利文献
专利文献1:JP特开2000-093967号公报
发明内容
本公开的1个技术方案所涉及的重整液生成装置具备:处理槽,通过使导入的液体回旋以在所述液体的涡流的回旋中心附近产生气相;第1电极,至少一部分配置在所述处理槽内以与所述处理槽内的所述液体接触;第2电极,配置为与所述处理槽内的所述液体接触;以及电源,在所述第1电极与所述第2电极之间施加电压以在所述气相中产生等离子体。在所述气相中产生所述等离子体以生成重整成分,生成的重整成分溶解在所述液体中并分散在所述液体中,从而生成重整液。
本公开的另一个技术方案所涉及的重整液生成方法包括:通过使导入到处理槽的液体回旋,以在所述处理槽内在所述液体的涡流的回旋中心附近产生气相的步骤;以及对产生的所述气相施加电压从而在所述气相中产生等离子体以生成重整成分,生成的重整成分溶解在所述液体中并分散在所述液体中,从而生成重整液的步骤。
根据本公开的所述技术方案所涉及的重整液生成装置及重整液生成方法,在涡流中使液体气化,向生成的气相施加脉冲电压以产生等离子体。由于不需要通过电压施加使液体气化,因此能够以较少的电力产生等离子体,并且能够有效且迅速地进行液体的重整。另外,由于在不从外部引入空气的情况下进行液体的重整,因此能够抑制有害物质即亚硝酸的生成。
附图说明
图1是示出实施方式1所涉及的重整液生成装置的结构的侧面截面图。
图2是实施方式1所涉及的装置主体的侧面截面图。
图3是图2的3-3线的截面图。
图4是示出在实施方式1所涉及的处理槽的内部产生涡流,没有施加电压的状态的侧面截面图。
图5是图4的5-5线的截面图。
图6A是示出在实施方式1所涉及的处理槽的内部产生涡流,施加了电压的状态的侧面截面图。
图6B是在图6A的气相中产生了等离子体的状态的部分放大图。
图7是示出装置主体的变形例的侧面截面图。
图8是示出装置主体的变形例的侧面截面图。
图9A是示出装置主体的变形例的侧面截面图。
图9B是示出与图9A不同的装置主体的变形例的侧面截面图。
图10是示出装置主体的变形例的侧面截面图。
图11是示出装置主体的变形例的侧面截面图。
图12是示出装置主体的变形例的侧面截面图。
图13是示出装置主体的变形例的侧面截面图。
图14A是示出装置主体的变形例的侧面截面图。
图14B是在装置主体的变形例中,将铜材料配置于贮留槽的一部分的侧面截面图。
图15是现有的重整液生成装置的概略结构图。
图16是具备气体导入装置的现有的重整液生成装置的概略结构图。
具体实施方式
在说明实施方式之前,简要说明现有技术中的问题点。
根据专利文献1记载的重整液生成装置,为了在阳极电极和阴极电极之间供给气体(例如,氧气),需要氧罐或泵等气体供给装置。因而,存在重整液生成装置大型化的问题。
在此,为了使气体供给装置小型化,也考虑在阳极电极和阴极电极之间供给空气。在这种情况下,不需要氧罐,抑制了重整液生成装置的大型化。然而,在阳极电极和阴极电极之间供给空气的情况下,空气中所含的氮由于等离子体变成对人体有害的亚硝酸(HNO2),从而重整液中含有亚硝酸。因而,根据重整液的用途,存在不能供给空气作为产生等离子体的气体的情况。
鉴于这一点,本公开的目的在于提供一种能够通过有效地产生等离子体以迅速地重整液体,并且能够抑制有害物质即亚硝酸的生成的重整液生成装置及重整液生成方法。
[实施方式1]
以下,参照附图对实施方式1所涉及的重整液生成装置100进行详细说明。图中,对图中相同或相应部分标注相同符号,不对其进行重复说明。此外,为了使说明容易理解,在以下参照的附图中,结构被简化或示意性地示出,并且省略了一部分的结构部件。另外,各图中所示的结构部件之间的尺寸比例并不一定示出实际的尺寸比例。
[整体结构]
首先,对实施方式1所涉及的重整液生成装置100的整体结构进行说明。图1是示出实施方式1所涉及的重整液生成装置100的结构的侧面截面图。在以下的附图中,标记了表示重整液生成装置100的前方向F的箭头和表示后方向B的箭头。标记了表示上方向U的箭头和表示下方向D的箭头。标记了表示从后方向B观察时的右方向R的箭头和表示从后方向B观察时的左方向L的箭头。
重整液生成装置100通过在液体中放电来生成重整成分,并使其在液体中分散来生成重整液。在实施方式1中,对将水L1作为液体(参照图4)进行重整,生成包括OH自由基或过氧化氢等重整成分的重整液L2(省略图示)的情况进行说明。
重整液生成装置100至少具备处理槽12、第1电极30、第2电极31和电源60。在此,处理槽12通过使导入的液体回旋,从而在水L1的涡流的回旋中心附近产生气相。第1电极30的至少一部分配置在处理槽12内以与处理槽12内的水L1接触。第2电极31配置为与处理槽12内的水L1接触。电源60在第1电极30和第2电极31之间施加电压以在气相中产生等离子体。然后,重整液生成装置100在气相中产生等离子体以生成重整成分,生成的重整成分溶解在水L1中并分散在水L1中,从而生成重整液L2。
更具体来说,重整液生成装置100具备装置主体10、液体供给部50、贮留槽90以及电源60。装置主体10具备处理槽12、导入部15、排出部17、第1电极30以及第2电极31。
处理槽12是通过等离子体在导入到内部的水L1中生成重整成分(例如,OH自由基或过氧化氢等)的部分。处理槽12的材质可以是绝缘体,也可以是导体。在导体的情况下,需要在第1电极30和第2电极31之间介入绝缘体。当所述重整成分排出到贮留槽90时,重整成分分散在水L1中,生成重整液L2。
处理槽12的内壁的正面截面形状为圆形(参照图3)。导入部15配置在处理槽12的一端,将水L1从与处理槽12的中心轴X1正交的圆形的截面形状的切线方向导入到处理槽12中。导入部15经由配管51与液体供给部50连通。排出部17配置在处理槽12的另一端,将导入到处理槽12中的水L1和在处理槽12中生成的重整成分从处理槽12排出到贮留槽90中。在实施方式1中,排出部17与贮留槽90的取入口91连接。
第1电极30配置在处理槽12的一端的内部。第1电极30从处理槽12的一端的内壁的中央沿着长度方向突出配置在处理槽12内。
第2电极31配置在处理槽12的另一端的壁的外侧,配置在排出部17的附近。
第1电极30连接有电源60,第2电极31接地。高电压的脉冲电压通过电源60施加到第1电极30及第2电极31。作为一个例子,第1电极30的材质使用钨。
作为一个例子,液体供给部50是向处理槽12内供给水L1的泵。液体供给部50与配管51连接。配管51的一端与处理槽12的一端的内壁附近配置的、作为内侧开口的导入部15连接,配管51的另一端与未图示的液体供给源(例如,水罐80)连接或以能够循环贮留槽90的包括重整液的贮留水的形式连接(参照图1的点划线的循环用配管81)。
电源60在第1电极30和第2电极31之间施加高电压的脉冲电压。电源60交替地施加正的脉冲电压和負的脉冲电压,即,能够施加所谓的双极型脉冲电压。
贮留槽90是剪断从重整液生成装置100排出的重整成分,生成内含重整成分的微泡或纳米气泡并将其扩散到水中的槽。具体而言,贮留槽90内部具有比处理槽12的排出部17的开口截面积大的截面积,在贮留槽90中剪断从排出部17排出到贮留槽90内的重整成分,在贮留槽90内生成内含重整成分的微泡或微泡和纳米气泡,并将其扩散到水中。因此,贮留槽90作为微泡生成槽而发挥功能。作为贮留槽90,至少通过确保处理槽12的排出部17的开口的内径尺寸的两倍以上的内径或一边,以能够在贮留槽90中生成能够可靠地进行杀菌的重整液。
[装置主体]
接着,对装置主体10进行详细说明。图2是装置主体10的侧面截面图。
处理槽12具有第1内壁21、第2内壁22以及第3内壁23。第1内壁21为筒状的壁部。第2内壁22设于第1内壁21的图2的左端部。第3内壁23设于第1内壁21的图2的右端部。第2内壁22及第3内壁23在侧视观察下为大致圆形。通过第1内壁21、第2内壁22及第3内壁23,在处理槽12的内部构成大致圆柱状的收容空间83。将第1内壁21的中心轴,即在处理槽12的内部构成的大致圆柱状的收容空间83的虚拟中心轴作为X1。
另外,在以下的说明中,将“中心轴X1的一个端部侧”或“第1内壁21的一个端部侧”作为配置有第2内壁22的、图2中的左侧。另外,将“中心轴X1的另一个端部侧”或“第1内壁21的另一个端部侧”作为配置有第3内壁23的、图2中的右侧。
在第2内壁22上,在中央处设有突出到收容空间83内的圆筒状的电极支撑筒24。电极支撑筒24为筒状且向右方延伸。电极支撑筒24配置为其中心轴与第1内壁21的中心轴X1一致。在电极支撑筒24的内侧,第1电极30经由绝缘体53被支撑。第1电极30为棒状,绝缘体53配置在第1电极30的周围。因而,第1电极30配置为长度方向的轴与第1内壁21的中心轴X1一致。第1电极30的右端部301的内侧端面、绝缘体53的内侧端面和电极支撑筒24的内侧端面241构成为配置在基本相同的平面内。
导入部15贯穿装置主体10,一个开口端151形成在第1内壁21上。导入部15配置在从侧视观察时与第2内壁22相邻的位置。另外,图3是图2的3-3线的截面图。导入部15配置在第1内壁21的壁面上。
排出部17贯穿第3内壁23的中央部。排出部17形成为其中心轴与第1内壁21的中心轴X1一致。
第2电极31为板状的金属部件,在中央部形成有开口部311。开口部311为圆形,其中心形成为与第1内壁21的中心轴X1一致。
在此,第2电极31是配置为包围第1内壁21的另一个端部侧(图2中的右侧)的中心轴X1的整周当中的至少一部分的板状的电极。
[动作]
接着,对重整液生成装置100的动作进行说明。以下,为了便于说明,对在处理槽12的内部产生气相的状态(图4及图5)和对产生的气相G施加脉冲电压以产生等离子体P的状态(图6A及图6B)以不同的附图进行说明。图4是示出在处理槽12的内部产生涡流F1,没有施加电压的状态的侧面截面图。
首先,如图4所示,当水L1以规定的压力从导入部15向处理槽12导入时,水L1沿着第1内壁21产生涡流F1,同时从导入部15向图4的右方移动。在回旋的同时移动到图4的右方的涡流F1朝向排出部17移动。
也就是说,处理槽12具有将水L1导入处理槽12的导入部15和将水L1从处理槽12排出的排出部17。然后,处理槽12使从导入部15导入的水L1在从导入部15到排出部17的之间回旋,产生涡流F1。
在此,如图4所示,第1电极30配置在中心轴X1或者中心轴X1附近的一个端部侧(在图4中为左侧),第2电极31配置在中心轴X1或者中心轴X1附近的另一个端部侧(在图4中为右侧)。然后,导入部15配置在中心轴X1的一个端部侧(在图4中为左侧),排出部17配置在中心轴X1的另一个端部侧(在图4中为右侧)。
通过涡流F1,第1内壁21的中心轴X1附近的压力降低到饱和水蒸气压以下,产生水L1的一部分气化了的水蒸气,由此在第1内壁21的中心轴X1附近生成气相G。在回旋中心附近,具体而言,从第1电极30的右端部301沿着第1内壁21的中心轴X1直到第2电极31的开口部311的附近产生气相G。另外,气相G通过接触的涡流F1以与涡流F1相同的方向回旋。回旋的气相G在排出部17的附近受到贮留槽90内的水的阻力,从而被剪断为微泡或纳米气泡,并扩散到贮留槽90中。在此,第1电极30配置为与在水L1的涡流F1的回旋中心附近产生的气相G接触,或者配置为位于气相G的附近。
图5是图4的5-5线的截面图。如图4所说明的那样,当水L1以规定的压力从导入部15向处理槽12导入时,水L1产生沿着第1内壁21的图5的右旋的涡流F1。通过水L1在处理槽12的内部回旋,涡流F1中心附近,即第1内壁21的中心轴X1附近的压力降低到饱和水蒸气压以下,通过在第1内壁21的中心轴X1附近产生水L1的一部分气化了的水蒸气,从而生成气相G。
图6A及图6B是示出在处理槽12的内部产生涡流F1,施加了脉冲电压的状态的侧面截面图。如图6A所示,在从第1电极30的附近直到第2电极31的附近产生水L1气化了的气相G的状态下,通过电源60在第1电极30和第2电极31之间施加高电压的脉冲电压。图6B是示出在气相G中产生等离子体P的状态的放大图。当第1电极30和第2电极31被施加高电压的脉冲电压时,在气相G内产生等离子体P,生成源自水的自由基(OH自由基等)或化合物(过氧化氢等)或离子作为重整成分。包含所述重整成分的气相G通过位于周围的涡流F1,以与涡流F1相同的方向回旋。通过包含所述重整成分的气相G回旋,所述重整成分的一部分向涡流F1侧溶解,从而重整成分分散在水L1中。除此之外,包含排出部17附近的所述重整成分的气相G受到贮留槽90内的水L1的阻力而被剪断,从而产生含有重整成分的气泡BA。另外,通过将重整液贮存在贮留槽90内,防止了空气混入到负压的气相G。这样,在通过等离子体P生成的重整成分为气泡状态或者溶入到水L1中的状态下,分散在水L1中的重整液L2贮存在贮留槽90内。
[效果等]
根据以上说明的实施方式1,重整液生成装置100具备处理槽12、第1电极30、第2电极31和电源60。处理槽12通过使导入的液体回旋,从而在水L1的涡流的回旋中心附近产生气相。第1电极30的至少一部分配置在处理槽12内以与处理槽12内的水L1接触。第2电极31配置为与处理槽12内的水L1接触。电源60在第1电极30和第2电极31之间施加电压以在气相G中产生等离子体。然后,重整液生成装置100在气相G中产生等离子体P以生成重整成分,生成的重整成分溶解在水L1中并分散在水L1中,从而生成重整液L2。
另外,根据以上说明的实施方式1,重整液生成方法包括:通过使导入到处理槽12的水L1回旋,以在处理槽12内在水L1的涡流F1的回旋中心附近产生气相G的步骤;以及,对产生的气相G施加电压从而在气相G中产生等离子体P以生成重整成分,生成的重整成分溶解在水L1中并分散在水L1中,从而生成重整液L2的步骤。
在此,在涡流F1中使水L1气化,向生成的气相G施加脉冲电压以产生等离子体P。因此,由于气相G相较于由焦耳热气化的气体或者从外部导入的气体形成的气相成为负压,并且能够以小的电压产生等离子体P,因此能够有效地进行水L1的重整。进一步,由于水不会因焦耳热而气化,因此所施加的能量减少。另外,由于不从外部导入气体,因此不需要气体供给装置,重整液生成装置的小型化变得容易。
另外,由焦耳热气化的气体或者从外部导入的气体形成的气相G由于浮力难以保持在规定的形状或规定的位置。但是,实施方式1的气相G通过周围的涡流F1朝向涡流F1中心轴X1上集聚的方向施加力,因此能够在第1电极30的右端部301的附近生成规定的气相G。因此,在第1电极30和第2电极31之间生成的气体量随时间变化很小,并且等离子体P所需的电力难以变化,因此能够稳定地产生等离子体P,并能够有效地进行水L1的重整。
另外,等离子体P的体积为位于阴极电极的附近的气相的体积以下,但是,由焦耳热气化的气体或者从外部导入的气体形成的气相G的形状由于是气泡形状,当体积变为规定以上时会分裂,因此难以产生规定体积以上的等离子体P。但是,对于实施方式1的气相G,只要能够确保涡流F1的回旋速度,就容易在中心轴X1的方向上增大体积,因此容易增大等离子体P的体积。因此,能够容易地增加重整成分的生成量,并且迅速地对水进行重整。
另外,已知由于液体气化时体积膨胀而产生冲击波并破坏周围的物体的气蚀。在实施方式1中,由气蚀导致的破坏最强的是处理槽12的内径最小且涡流F1的回旋速度最快的排出部17。因此,在气相G中,由于第1电极30的右端部301远离气蚀的破坏最强处,因此气蚀导致的对第1电极30的影响变小,能够稳定地产生等离子体P。
另外,由于在不从外部导入空气的情况下进行水L1的处理,因此能够使用对导入了含有空气等氮成分的气体的气相进行活用的等离子体P,来抑制所发生的有害亚硝酸的生成。进一步,能够生成内含OH自由基或过氧化氢等气泡BA的重整液L2。
[变形例]
实施方式1中说明的重整液生成装置100的结构是一个例子,能够进行各种变更。例如,处理槽12的内部结构或第1电极30或第2电极31的位置等不限于实施方式1的结构。
在实施方式1中,处理槽12虽然是简单的圆筒形状,但只要截面形状是圆形的筒状的处理槽,在处理槽的一个端部具有在处理槽中心轴上或者中心轴的附近变窄的孔形状的排出部,就能够采取各种形状。例如,如图7所示,即使由半径不同的圆筒组合得到的处理槽121也能得到相同的效果。在图7中,构成为导入部侧的半径比排出部侧的半径大。或者,即使如图8所示的圆锥台形状的处理槽122也能得到相同的效果。优选地,为了防止涡流F1向前方向F滑行,如图8所示,优选地,截面的内径连续变小的圆锥台形状。也就是说,本公开所涉及的处理槽优选具有使从导入部供给的水回旋以产生涡流的圆筒状或者圆锥台状的第1内壁。在此,第1电极配置在第1内壁的中心轴或中心轴附近。
另外,在实施方式1中,第1电极30的形状是棒状电极,但只要是使电解集中在第1电极30的右端部301的形状,则不受限制。例如,如图9A所示,也可以是具有带有朝向排出部侧变尖的圆锥形状的板形状的第1电极32。另外,如图9B所示,代替圆锥形状,也可以是在中央部具有按照朝向排出部侧弯曲方式而突出的山形状的凸部32B的板形状的第1电极32A。在中央部具有山形状的凸部32B的板形状的第1电极32A中,与产生的等离子体P最接近的中央部容易磨损,因此与简单的平板的电极相比,具有使该中央部向处理槽12内突出的山形状的凸部32B的电极寿命长而优选。更优选地,代替板形状的第1电极32,也可以是在电极磨损时,在处理槽12内电极的输送容易的棒状电极。
另外,如图10所示,不使用第1电极30的电极支撑筒24,形成为在第2内壁22上安装第1电极30和绝缘体53的结构也能获得相同的效果。优选地,为了抑制水的电解或焦耳热的产生,等离子体产生所需的第1电极30的右端部301和电源60之间的连接部以外的部分用绝缘体覆盖为宜。
另外,在实施方式1中,作为一个例子,第1电极30的材质是钨,但是没有特别限制,只要是具有导电性的材料即可。优选在水中与过氧化氢接触时发生芬顿反应而能够发挥高杀菌效果的金属材料。例如,SUS(不锈钢)或铜或铜钨为宜。
在实施方式1中,第2电极31配置在排出部17,但只要接地的第2电极的至少一部分配置在处理槽12内,则不受限制。例如,关于配置位置,如图11所示,作为棒状的第2电极33,即使设为配置在第1内壁21的中心轴X1的一侧(例如,如图11所示,配置在从装置主体10的外部贯穿第1内壁21的位置),也能获得相同的效果。另外,如图12所示,也可以在处理槽12外的贮留槽90内且在贮留槽90的取入口91附近配置为棒状的第2电极33。也就是说,第2电极也可以配置在第1内壁21的另一个端部侧(图11及图12中的右侧)的第1内壁21的中心轴X1的一侧。
另外,如图13所示,作为筒状的第2电极34,也可以配置在第1内壁21的内侧。也就是说,第2电极也可以是配置为包围第1内壁21的另一个端部侧(图13中的右侧)的第1内壁21的中心轴X1的整周当中的至少一部分的筒状的电极。
另外,开口部311虽然设为圆形,但也可以是多边形,进一步,第2电极也可以组合分割的多个金属部件而构成。优选地,为了不扰乱涡流F1,具有圆孔的板状或者圆筒形状为宜。另外,由于气相G和第2电极之间较短时水的阻力变小,从而能够抑制焦耳热,因此将第2电极配置在气相G和第2电极之间变短的排出部17或者排出部17附近较好。
导入到处理槽12中的水L1的流量根据理槽12的形状等被设定为在涡流F1中气相G产生的流量。另外,关于向第1电极30和第2电极31施加的脉冲电压,可以适当地设定为不施加双极型而施加单极型的情况,或者电压、脉冲宽度或频率等可以适当地设定为在涡流F1中产生的气相G中能够产生等离子体P的值。
进一步,只要能够获得实施方式1的效果,电源60也可以是除脉冲电源以外的高频电源等。由于电极之间的pH由于水的电解而偏倚,因此优选地,能够交替地交换阴极和阳极的双极型施加较好。
贮留槽90虽然设为槽,但为了剪断涡流F1,只要能够在贮留槽90内保持水的形状即可,不受限制。例如,也可以设为输送重整液的配管。优选地,为了用水L1充满排出部17,防止空气混入处理槽12,如图14A所示,装置主体10将重整液向上排出,贮留槽90位于装置主体10的上侧较好。
另外,作为构成贮留槽90的材料的材质,水不透过即可。另外,例如,如图14B所示,能够将含有与作为重整成分的之一的过氧化氢水发生芬顿反应而能够发挥高杀菌效果的铜或者铁的板部件92用于贮留槽90的一部分或者全部。另外,也可以将板部件92作为与贮留槽90不同的部件配置在贮留槽90内。总之,若板部件92与贮留槽90内的重整液接触,与作为重整成分的之一的过氧化氢水发生芬顿反应,能够发挥高的杀菌效果。
在实施方式1中,对水L1进行重整,但重整的液体不限于水。例如,也可以是乙醇。
以上,对实施方式1进行了说明,但上述实施方式1仅仅是用于实施本公开的示例。因此,本公开不限于上述实施方式1,在不脱离其精神的范围内能够适当地对上述实施方式1进行变形实施。
也就是说,通过适当组合所述实施方式或所述各种变形例中的任意实施方式或变形例,能够取得各自具有的效果。另外,能够进行实施方式彼此的组合或实施例彼此的组合或实施方式和实施例的组合,并且也能够进行不同的实施方式或实施例中的特征彼此的组合。
产业上的利用可能性
本公开的重整液生成装置及重整液生成方法能够通过在液体中产生等离子体而从液体中生成包括重整成分(源自液体的自由基或化合物等)的重整液。因而,本公开的重整液生成装置及重整液生成方法能够用于杀菌、脱臭或各种环境改善等。
符号说明
100 重整液生成装置
10 装置主体
12,121,122 处理槽
15 导入部
17 排出部
21 第1内壁
22 第2内壁
23 第3内壁
24 电极支撑筒
30 第1电极
31 第2电极
32 板形状的第1电极
32A 在中央部具有山形状的凸部的板形状的第1电极
32B 山形状的凸部
33 棒状的第2电极
34 筒状的第2电极
50 液体供给部
53 绝缘体
60 电源
80 水罐
81 点划线(循环用配管)
83 收容空间
92 板部件
121,122 处理槽
151 开口端
241 内侧端面
301 右端部
311 开口部
801 第1电极
802 第2电极
803 液体
804 脉冲电源
805 等离子体
901 阳极电极
902 阴极电极
903 被处理液
904 气体
B 后方向
BA 气泡
D 下方向
F 前方向
F1 涡流
G 气相
L 从后方向观察时的左方向
L1 水
L2 重整液
P 等离子体
R 从后方向观察时的右方向
U 上方向
X1 中心轴

Claims (8)

1.一种重整液生成装置,具备:
处理槽,通过使导入的液体回旋而得到的涡流而在所述液体的涡流的回旋中心附近产生气相,所述气相是通过所述液体的涡流的回旋中心附近降低到所述液体的饱和蒸气压以下使所述液体的一部分气化而形成的;
第1电极,配置在所述处理槽的一个端部侧并且配置在所述液体的涡流的回旋中心上或者回旋中心附近;
第2电极,配置在所述处理槽的另一个端部侧;以及
电源,在所述第1电极与所述第2电极之间施加电压以在所述气相中产生等离子体,
其中,
所述气相为圆柱状的,所述圆柱状的气相从所述处理槽的所述一个端部侧沿着所述液体的涡流的回旋中心直到所述处理槽的所述另一个端部侧而产生在所述第1电极和所述第2电极之间,
在所述第1电极和所述第2电极之间的所述圆柱状的气相中产生所述等离子体以生成重整成分,生成将生成的重整成分溶解在所述液体中而得到的重整液。
2.根据权利要求1所述的重整液生成装置,其中,
所述处理槽具备:
将所述液体导入到所述处理槽内的导入部;和
将所述液体从所述处理槽内排出的排出部,
所述排出部配置在所述液体的涡流的回旋中心的所述另一个端部侧,
使从所述导入部导入的所述液体在从所述导入部到所述排出部之间回旋,从而产生所述涡流,
所述气相延伸到所述处理槽的排出部附近为止。
3.根据权利要求2所述的重整液生成装置,其中,
所述第1电极配置为与在所述液体的所述涡流的所述回旋中心附近产生的所述气相接触,或者配置为位于所述气相的附近。
4.根据权利要求3所述的重整液生成装置,其中,
所述处理槽是圆筒状或者圆锥台形状的。
5.根据权利要求3所述的重整液生成装置,其中,
所述第2电极是配置为在所述处理槽的另一个端部侧包围所述涡流的所述回旋中心的周围的一部分或所述回旋中心的整周的板状的电极。
6.根据权利要求3所述的重整液生成装置,其中,
所述第2电极在所述处理槽的另一个端部侧配置在所述涡流的所述回旋中心的侧方。
7.根据权利要求3所述的重整液生成装置,其中,
所述第2电极是配置为在所述处理槽的另一个端部侧包围所述涡流的所述回旋中心的一部分或整周的筒状的电极。
8.一种重整液生成方法,包括:
通过使导入到处理槽的液体回旋而得到的涡流而在所述液体的涡流的回旋中心附近产生气相的步骤,所述气相是通过所述液体的涡流的回旋中心附近降低到所述液体的饱和蒸气压以下使所述液体的一部分气化而形成的,所述气相为圆柱状的,所述圆柱状的气相从所述处理槽的一个端部侧沿着所述液体的涡流的回旋中心直到所述处理槽的另一个端部侧而产生在第1电极和第2电极之间;以及,
在配置在所述处理槽的所述一个端部侧并且配置在所述液体的涡流的回旋中心上或者回旋中心附近的所述第1电极和配置在所述处理槽的所述另一个端部侧的所述第2电极之间施加电压从而在所述第1电极和所述第2电极之间的所述圆柱状的气相中产生等离子体以生成重整成分,并生成将生成的重整成分溶解在所述液体中而得到的重整液的步骤。
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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6678336B2 (ja) * 2017-05-11 2020-04-08 パナソニックIpマネジメント株式会社 洗濯機すすぎ水浄化装置及び洗濯装置
JP6653478B2 (ja) * 2017-05-30 2020-02-26 パナソニックIpマネジメント株式会社 脱臭装置
JP6722903B2 (ja) * 2017-06-01 2020-07-15 パナソニックIpマネジメント株式会社 空間改質装置
JP6587159B2 (ja) * 2017-06-26 2019-10-09 パナソニックIpマネジメント株式会社 液体処理装置
JP6854427B2 (ja) 2018-03-22 2021-04-07 パナソニックIpマネジメント株式会社 液体処理装置
JP7113349B2 (ja) * 2018-05-15 2022-08-05 パナソニックIpマネジメント株式会社 液体処理装置
JP6990866B2 (ja) * 2018-05-15 2022-01-12 パナソニックIpマネジメント株式会社 液体処理装置
JP6799824B2 (ja) * 2018-05-16 2020-12-16 パナソニックIpマネジメント株式会社 液体処理装置
JP7190696B2 (ja) * 2019-01-22 2022-12-16 パナソニックIpマネジメント株式会社 液体処理方法及び液体処理装置
NL2024131B1 (en) * 2019-10-31 2021-07-19 Joining Minds Solutions Waste water cleaning apparatus and system

Family Cites Families (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4772775A (en) 1987-03-23 1988-09-20 Leach Sam L Electric arc plasma steam generation
JPH01152635U (zh) 1988-04-12 1989-10-20
US5464513A (en) 1994-01-11 1995-11-07 Scientific Utilization, Inc. Method and apparatus for water decontamination using electrical discharge
US6558638B2 (en) * 1998-03-14 2003-05-06 Splits Technologies Limited Treatment of liquids
US6117401A (en) 1998-08-04 2000-09-12 Juvan; Christian Physico-chemical conversion reactor system with a fluid-flow-field constrictor
JP4041224B2 (ja) 1998-09-25 2008-01-30 正之 佐藤 液体処理方法及び液体処理装置
US7857972B2 (en) 2003-09-05 2010-12-28 Foret Plasma Labs, Llc Apparatus for treating liquids with wave energy from an electrical arc
JP4357316B2 (ja) * 2004-02-20 2009-11-04 株式会社 多自然テクノワークス 排水処理装置
JP2006130410A (ja) * 2004-11-05 2006-05-25 Kobe Steel Ltd 液体処理方法およびその装置
US8653404B2 (en) 2004-12-03 2014-02-18 Kabushiki Kaisha Toyota Jidoshokki In-liquid plasma electrode, in-liquid plasma generating apparatus and in-liquid plasma generating method
JP4572388B2 (ja) * 2005-09-27 2010-11-04 独立行政法人港湾空港技術研究所 攪拌式キャビテーション型化学物質無害化装置、及び攪拌式キャビテーション型化学物質無害化方法
JP5295485B2 (ja) 2006-02-01 2013-09-18 株式会社栗田製作所 液中プラズマ型被処理液浄化方法及び液中プラズマ型被処理液浄化装置
JP3890076B1 (ja) 2006-02-03 2007-03-07 修 松本 気泡発生装置
EP2007685B1 (en) * 2006-04-05 2020-06-03 Foret Plasma Labs, Llc System, method and apparatus for treating liquids with wave energy from an electrical arc
WO2007138773A1 (ja) * 2006-05-31 2007-12-06 Kabushiki Kaisha Yaskawa Denki 水処理装置
WO2008038763A1 (fr) * 2006-09-28 2008-04-03 Nakata Coating Co., Ltd. Appareil de production d'un écoulement tourbillonnaire, procédé de production d'un écoulement tourbillonnaire, appareil de génération de phase vapeur, appareil de génération de microbulles, mélangeur de fluides et buse d'injection de fluides
FR2922406A1 (fr) 2007-10-12 2009-04-17 Commissariat Energie Atomique Dispositif d'injection de charge liquide a melanger/convertir au sein d'un dard plasma ou d'un flux gazeux
JP4889124B2 (ja) * 2007-11-01 2012-03-07 光弘 渡邉 流体処理装置
JP5464692B2 (ja) * 2009-08-21 2014-04-09 株式会社安川電機 水処理装置
US9023214B2 (en) 2010-02-10 2015-05-05 Aic, Llc Method and apparatus for applying plasma particles to a liquid and use for disinfecting water
JP5799503B2 (ja) * 2010-12-28 2015-10-28 芝浦メカトロニクス株式会社 液中プラズマ発生装置、液中プラズマ処理装置、液中プラズマ発生方法、および液中プラズマ処理方法
JP5099612B2 (ja) 2011-04-26 2012-12-19 独立行政法人国立高等専門学校機構 液体処理装置
JP2013119043A (ja) * 2011-12-06 2013-06-17 Panasonic Corp マイクロバブル発生デバイスとこれを用いた水処理装置
JP6296480B2 (ja) * 2012-09-26 2018-03-20 国立大学法人佐賀大学 液体処理装置及び液体処理方法
US10793447B2 (en) * 2014-09-15 2020-10-06 Energy Onvector, LLC System and method for plasma discharge in liquid
JP2016083658A (ja) * 2014-10-24 2016-05-19 パナソニックIpマネジメント株式会社 プラズマ生成装置
JP6707779B2 (ja) * 2015-02-13 2020-06-10 日本スピンドル製造株式会社 被処理物質の分散方法並びに分散装置並びにそれによって生成される被処理物質及び分散媒が混合した液体の生成方法

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Publication number Publication date
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