JP6296480B2 - 液体処理装置及び液体処理方法 - Google Patents
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 189
- 238000003672 processing method Methods 0.000 title claims description 6
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 13
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 40
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 37
- 239000002101 nanobubble Substances 0.000 description 36
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 16
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 15
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 15
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 3
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 3
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- -1 for example Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 230000000638 stimulation Effects 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- 239000003570 air Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000005339 levitation Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
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Description
第1の実施形態について図1及び図2を参照して説明する。
第2の実施形態について図3を参照して説明する。
10 液体処理装置
11a 流路
12 電極
13 電極
16 乱流発生部
16a 突起部
Claims (11)
- 気体を含む液体が流れる流路と、
前記流路内に設けられ、前記液体中で放電を生じさせる一対の電極と、
前記一対の電極間の前記液体中に微小気泡を生じさせるための乱流を発生させる乱流発生部と、
を備え、
前記一対の電極は、それぞれの先端部が前記流路内に突出して前記液体が前記流路を流れる流れ方向に沿って離間して並ぶように設けられており、
前記一対の電極のうち前記流れ方向の上流側に位置する電極は、前記流路外から前記流路内に気体を供給するための貫通孔を有しており、
前記乱流発生部は、前記流路内に突出するように設けられた、絶縁性を有する突起部であり、
前記突起部は、前記一対の電極のうち前記流れ方向の下流側に位置する電極よりも前記流れ方向の上流側であって、前記流れ方向において前記一対の電極と重ならない位置に設けられていることを特徴とする液体処理装置。 - 前記突起部は、複数設けられていることを特徴とする請求項1に記載の液体処理装置。
- 前記貫通孔を介して前記流路内に気体を供給する気体供給部をさらに備えることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の液体処理装置。
- 前記一対の電極のうち前記流れ方向の上流側に位置する電極は、前記貫通孔から前記流路内に供給される気体が前記流路の内壁に沿って流れるように設けられていることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の液体処理装置。
- 前記一対の電極は、前記流れ方向に沿う同一直線上に並ぶように前記流路の内壁に設けられており、
前記突起部は、前記流路における前記一対の電極が設けられた内壁と反対側の内壁に設けられていることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の液体処理装置。 - 前記流路は、その途中から前記流れ方向に沿って徐々に広がるように形成されており、
前記一対の電極のうち前記流れ方向の上流側に位置する電極は、前記流路が広がり始める箇所より前記流れ方向の上流側に設けられており、前記一対の電極のうち前記流れ方向の下流側に位置する電極は、前記流路が広がり始める箇所より前記流れ方向の下流側に設けられており、
前記突起部は、前記流路が広がり始める箇所に設けられていることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の液体処理装置。 - 前記流れ方向は、下方向であり、
前記一対の電極は、前記下方向に前記放電を生じさせることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の液体処理装置。 - 前記流路に接続され、前記一対の電極による放電によって生じ、前記乱流発生部による乱流によって分断されて微小気泡となったガスを加圧部による加圧によって前記液体に溶解する溶解部をさらに備えることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか一項に記載の液体処理装置。
- 気体を含んで流路を流れる液体中に微小気泡を生じさせるための乱流を乱流発生部により発生させる工程と、
前記流路を流れる前記液体中に気体を気体供給部により供給する工程と、
前記乱流が生じて前記流路を流れる前記液体中で一対の電極により放電を生じさせる工程と、
を有し、
前記一対の電極は、それぞれの先端部が前記流路内に突出して前記液体が前記流路を流れる流れ方向に沿って離間して並ぶように設けられており、
前記乱流発生部は、前記流路内に突出するように設けられた、絶縁性を有する突起部であり、
前記突起部は、前記一対の電極のうち前記流れ方向の下流側に位置する電極よりも前記流れ方向の上流側であって、前記流れ方向において前記一対の電極と重ならない位置に設けられており、
前記一対の電極のうち前記流れ方向の上流側に位置する電極は、前記流路外から前記流路内に気体を供給するための貫通孔を具備しており、
前記気体を供給する工程では、前記貫通孔を介して前記液体中に前記気体を供給することを特徴とする液体処理方法。 - 前記流れ方向は、下方向であり、
前記放電を生じさせる工程では、前記下方向に前記放電を生じさせることを特徴とする請求項9に記載の液体処理方法。 - 前記放電によって生じ、前記乱流によって分断されて微小気泡となったガスを加圧部による加圧によって前記液体に溶解する工程をさらに有することを特徴とする請求項9又は請求項10に記載の液体処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013053010A JP6296480B2 (ja) | 2012-09-26 | 2013-03-15 | 液体処理装置及び液体処理方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012212057 | 2012-09-26 | ||
JP2012212057 | 2012-09-26 | ||
JP2013053010A JP6296480B2 (ja) | 2012-09-26 | 2013-03-15 | 液体処理装置及び液体処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014079743A JP2014079743A (ja) | 2014-05-08 |
JP6296480B2 true JP6296480B2 (ja) | 2018-03-20 |
Family
ID=50784460
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013053010A Active JP6296480B2 (ja) | 2012-09-26 | 2013-03-15 | 液体処理装置及び液体処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6296480B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019171234A1 (en) | 2018-03-09 | 2019-09-12 | Pi Industries Ltd. | Heterocyclic compounds as fungicides |
WO2020070611A1 (en) | 2018-10-01 | 2020-04-09 | Pi Industries Ltd | Oxadiazoles as fungicides |
WO2020070610A1 (en) | 2018-10-01 | 2020-04-09 | Pi Industries Ltd. | Novel oxadiazoles |
WO2020208511A1 (en) | 2019-04-08 | 2020-10-15 | Pi Industries Limited | Novel oxadiazole compounds for controlling or preventing phytopathogenic fungi |
WO2020208510A1 (en) | 2019-04-08 | 2020-10-15 | Pi Industries Limited | Novel oxadiazole compounds for controlling or preventing phytopathogenic fungi |
WO2020208509A1 (en) | 2019-04-08 | 2020-10-15 | Pi Industries Limited | Novel oxadiazole compounds for controlling or preventing phytopathogenic fungi |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9856144B2 (en) | 2014-08-08 | 2018-01-02 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Nitrous acid generator |
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JP2016107165A (ja) * | 2014-12-02 | 2016-06-20 | 富士機械製造株式会社 | 洗浄方法、および洗浄装置 |
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JP2016215092A (ja) * | 2015-05-15 | 2016-12-22 | 三菱日立パワーシステムズ株式会社 | 海水脱硫排水の水質改質装置及び海水排煙脱硫システム |
JP2017176963A (ja) * | 2016-03-29 | 2017-10-05 | 洋右 内藤 | 励起気液混合装置 |
JP6744618B2 (ja) | 2016-04-19 | 2020-08-19 | 不二越機械工業株式会社 | ノズルおよびワーク研磨装置 |
JP6667166B2 (ja) * | 2016-06-15 | 2020-03-18 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 改質液生成装置および改質液生成方法 |
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CZ2019772A3 (cs) * | 2019-12-13 | 2020-10-29 | Vysoké Učení Technické V Brně | Zařízení pro čištění kapalin a způsob čištění kapalin s využitím tohoto zařízení |
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WO2020208509A1 (en) | 2019-04-08 | 2020-10-15 | Pi Industries Limited | Novel oxadiazole compounds for controlling or preventing phytopathogenic fungi |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014079743A (ja) | 2014-05-08 |
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Date | Code | Title | Description |
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RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
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|
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