JP5989338B2 - 処理液生成装置、処理液生成方法、基板処理装置及び基板処理方法 - Google Patents
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Description
所定の溶解圧力下で液体に、大気圧での飽和溶解量未満のガス量の二酸化炭素ガスを溶解させる第1の溶解部と、
所定の溶解圧力下で前記液体に、大気圧での飽和溶解量以上のガス量の気泡生成ガスを溶解させる第2の溶解部と、
前記第1の溶解部、前記第2の溶解部の下流側に設けられ、前記二酸化炭素ガスと前記気泡生成ガスが溶解している前記液体の圧力開放により、前記液体に複数の微小気泡を発生させる気泡発生部と、
を有することを特徴とする。
所定の溶解圧力下で液体に、大気圧での飽和溶解量未満のガス量の二酸化炭素ガスを溶解させる工程と、
所定の溶解圧力下で前記液体に、大気圧での飽和溶解量以上のガス量の気泡生成ガスを溶解させる工程と、
前記二酸化炭素ガスと前記気泡生成ガスが溶解している前記液体の圧力開放により、前記液体に複数の微小気泡を発生させる工程と、
を有することを特徴とする。
所定の溶解圧力下で液体に、大気圧での飽和溶解量未満のガス量の二酸化炭素ガスを溶解させる第1の溶解部と、
所定の溶解圧力下で前記液体に、大気圧での飽和溶解量以上のガス量の気泡生成ガスを溶解させる第2の溶解部と、
前記第1の溶解部、前記第2の溶解部の下流側に設けられ、前記二酸化炭素ガスと前記気泡生成ガスが溶解している前記液体の圧力開放により、前記液体に複数の微小気泡を発生させる気泡発生部と、
前記二酸化炭素ガスが溶解して前記複数の微小気泡を含む液体により基板を処理する処理部と、
を有することを特徴とする。
所定の溶解圧力下で液体に、大気圧での飽和溶解量未満のガス量の二酸化炭素ガスを溶解させる工程と、
所定の溶解圧力下で前記液体に、大気圧での飽和溶解量以上のガス量の気泡生成ガスを溶解させる工程と、
前記二酸化炭素ガスと前記気泡生成ガスが溶解している前記液体の圧力開放により、前記液体に複数の微小気泡を発生させる工程と、
前記二酸化炭素ガスが溶解して前記複数の微小気泡を含む液体により基板を処理する工程と、
を有することを特徴とする。
第1の実施形態について図1を参照して説明する。なお、第1の実施形態に係る基板処理装置は、処理液を生成する処理液生成装置を適用した適用例である。
本発明の第2の実施形態について図2を参照して説明する。
2 配管
3A 溶解部
3B 溶解部
5A 気泡発生部
5B 気泡発生部
6 処理部
Claims (4)
- 所定の溶解圧力下で液体に、大気圧での飽和溶解量未満のガス量の二酸化炭素ガスを溶解させる第1の溶解部と、
所定の溶解圧力下で前記液体に、大気圧での飽和溶解量以上のガス量の気泡生成ガスを溶解させる第2の溶解部と、
前記第1の溶解部、前記第2の溶解部の下流側に設けられ、前記二酸化炭素ガスと前記気泡生成ガスが溶解している前記液体の圧力開放により、前記液体に複数の微小気泡を発生させる気泡発生部と、
を有することを特徴とする処理液生成装置。 - 所定の溶解圧力下で液体に、大気圧での飽和溶解量未満のガス量の二酸化炭素ガスを溶解させる工程と、
所定の溶解圧力下で前記液体に、大気圧での飽和溶解量以上のガス量の気泡生成ガスを溶解させる工程と、
前記二酸化炭素ガスと前記気泡生成ガスが溶解している前記液体の圧力開放により、前記液体に複数の微小気泡を発生させる工程と、
を有することを特徴とする処理液生成方法。 - 所定の溶解圧力下で液体に、大気圧での飽和溶解量未満のガス量の二酸化炭素ガスを溶解させる第1の溶解部と、
所定の溶解圧力下で前記液体に、大気圧での飽和溶解量以上のガス量の気泡生成ガスを溶解させる第2の溶解部と、
前記第1の溶解部、前記第2の溶解部の下流側に設けられ、前記二酸化炭素ガスと前記気泡生成ガスが溶解している前記液体の圧力開放により、前記液体に複数の微小気泡を発生させる気泡発生部と、
前記二酸化炭素ガスが溶解して前記複数の微小気泡を含む液体により基板を処理する処理部と、
を有することを特徴とする基板処理装置。 - 所定の溶解圧力下で液体に、大気圧での飽和溶解量未満のガス量の二酸化炭素ガスを溶解させる工程と、
所定の溶解圧力下で前記液体に、大気圧での飽和溶解量以上のガス量の気泡生成ガスを溶解させる工程と、
前記二酸化炭素ガスと前記気泡生成ガスが溶解している前記液体の圧力開放により、前記液体に複数の微小気泡を発生させる工程と、
前記二酸化炭素ガスが溶解して前記複数の微小気泡を含む液体により基板を処理する工程と、
を有することを特徴とする基板処理方法。
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