JP6854427B2 - 液体処理装置 - Google Patents
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Description
一端側が閉口し他端側が開口した断面形状が円形である筒状の処理槽と、
前記処理槽の前記円形筒状の接線方向から液体を前記処理槽内に導入することにより前記処理槽内で前記液体を前記処理槽の前記一端側から前記他端側に向けて前記処理槽の中心軸周りに旋回させ、前記液体の旋回流中に気相を発生させる液体導入口と、
前記処理槽の前記他端側に配置され、前記液体導入口から導入された前記液体を排出する排出部と、
前記処理槽の前記中心軸上の前記一端側に配置された棒状の第1電極と、
前記処理槽の前記他端側に、前記排出部内に部分的に露出するように配置された第2電極と、
前記第1電極と前記第2電極との間に電圧を印加して、前記第1電極と前記第2電極との間の前記気相内にプラズマを発生させる電源と、
を備え、
前記第2電極は、前記排出部が配置された前記処理槽の壁面と接するとともに、前記第2電極の第2電極本体部が前記排出部の開口をまたぐことにより、前記排出部を前記処理槽の前記中心軸を中心とした回転対称に配置される複数の開口部に分割し、前記気相は、前記第1電極から前記第2電極の前記第2電極本体部に接触して形成可能とし、
前記開口部は、前記開口部を構成する前記複数の開口の外接円に対する開口率が、50%〜87%である。
以下、図面を参照し、本発明の実施形態に係る液体処理装置1を詳しく説明する。図中同一または相当部分には同一符号を付してその説明は繰り返さない。なお、説明を分かりやすくするために、以下で参照する図面においては、構成が簡略化または模式化して示されたり、一部の構成部材が省略されたりしている。また、各図に示された構成部材間の寸法比は、必ずしも実際の寸法比を示すものではない。
まず、液体処理装置1の全体構成について説明する。
次に、装置本体10について詳細に説明する。図2は、装置本体10の側面断面図を示し、図3は、第2電極31の正面図である。
次に、液体処理装置1の動作について説明する。以下では、説明の便宜上、処理槽12の内部に気相Gを発生させる状態(図5)と、電源60から気相Gにパルス電圧を印加してプラズマPを発生させる状態(図6)を別図に分けて説明する。図5は、処理槽12の内部に旋回流F1が発生しており、パルス電圧を印加していない状態を示す側面断面図である。
同様に、図7Bの(a)は、先に説明した従来の液体処理装置の放電時の電流経路を示している。ここでも、第1電極130から、気相Gを通って第2電極131の近傍まで流れる経路r11と、経路r11の終わりの気相G中の第2電極131の近傍から、第2電極131の近傍の液体を通って第2電極131まで流れる経路r21と、第1電極130から、液体を通って気相Gを通ることなく第2電極131に流れる経路r31とが存在する。その等価回路は、図7Bの(b)のようになる。この時の合成抵抗値は、以下の式(2)のように表せる。
従来の液体処理装置よりも本発明の実施形態1にかかる液体処理装置の方が、式(2)と式(1)との差である式(3)の分だけ、合成抵抗が小さくなることが分かる。つまり、電源60から投入されたエネルギーの損失が少なくなり、液体の温度上昇を抑制することができる。
さらに、従来の液体処理装置では、経路r11と経路r21とでは、気相Gの抵抗R1と、気相Gから第2電極131までの間の液体の抵抗R2とが直列になるために、電源60から第1電極30と第2電極131の間に印加した電圧のR1/(R1+R2)しか、気相Gには印加されない。
本実施形態1では、第2電極31は、板状の金属部材で構成されており、全体が液体L1に直接接触する構成を取っていたために、第1電極30から、液体L1を通って気相Gを通ることなく第2電極31に流れる電流経路が存在していた。しかし、第2電極31で気相Gに接する箇所のみ電極を露出させ、他の部分を絶縁皮膜で覆うことで、液体L1を通って気相Gを通ることなく第2電極31に流れる電流を抑制することができ、より効率的に液体処理をしながら、水温上昇も抑えることができ、プラズマを長時間安定して発生させることが可能となる。
10 装置本体
12 処理槽
13 処理槽
14 処理槽
15 導入部
16 開口端
17 排出部
21 第1内壁
22 第2内壁
23 第3内壁
24 電極支持筒
30 第1電極
31 第2電極
31a 第2電極本体部
50 液体供給部
51 配管
53 絶縁体
60 電源
90 貯留槽
91 取り入れ口
311 開口部
311a,311b 開口
312 金属露出部
313 絶縁皮膜
80 水タンク
81 循環用配管
83 収容空間
L1 液体
L2 処理液
B 気泡
G 気相
P プラズマ
R1 気相の抵抗
R2 気相から第2電極までの間の液体の抵抗
R3 第1電極から第2電極までの間の液体の抵抗
r1,r2,r3,r11,r15,r21,r31 電流経路
100 液体処理装置
110 装置本体
112 処理槽
115 導入部
117 排出部
130 第1電極
131 第2電極
150 液体供給部
151 配管
160 電源
190 貯留槽
Claims (4)
- 一端側が閉口し他端側が開口した断面形状が円形である筒状の処理槽と、
前記処理槽の前記円形筒状の接線方向から液体を前記処理槽内に導入することにより前記処理槽内で前記液体を前記処理槽の前記一端側から前記他端側に向けて前記処理槽の中心軸周りに旋回させ、前記液体の旋回流中に気相を発生させる液体導入口と、
前記処理槽の前記他端側に配置され、前記液体導入口から導入された前記液体を排出する排出部と、
前記処理槽の前記中心軸上の前記一端側に配置された棒状の第1電極と、
前記処理槽の前記他端側に、前記排出部内に部分的に露出するように配置された第2電極と、
前記第1電極と前記第2電極との間に電圧を印加して、前記第1電極と前記第2電極との間の前記気相内にプラズマを発生させる電源と、
を備え、
前記第2電極は、前記排出部が配置された前記処理槽の壁面と接するとともに、前記第2電極の第2電極本体部が前記排出部の開口をまたぐことにより、前記排出部を前記処理槽の前記中心軸を中心とした回転対称に配置される複数の開口部に分割し、前記気相は、前記第1電極から前記第2電極の前記第2電極本体部に接触して形成可能とし、
前記開口部は、前記開口部を構成する前記複数の開口の外接円に対する開口率が、50%〜87%である液体処理装置。 - 前記第2電極は、前記排出部の前記開口をまたぐように配置された線状の電極である、
請求項1に記載の液体処理装置。 - 前記第2電極は、前記処理槽の前記他端側に配置された板状の電極であり、
前記開口部は、前記処理槽の前記中心軸を中心として、前記第2電極に回転対称に配置された複数の開口にて構成される開口部である、
請求項1に記載の液体処理装置。 - 前記第2電極は、前記開口部を除いて第1電極側の表面が絶縁皮膜で覆われており、前記第1電極に対向する面の中心部にのみ電気的に導通可能な電極露出部が設けられている、
請求項1から3のいずれか一項に記載の液体処理装置。
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