JP2018204842A - 加湿器 - Google Patents
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Abstract
【課題】プラズマを効率良く発生させて液体を迅速に殺菌できて、加湿フィルタから送り出す水分の除菌が充分に行える加湿器を提供する。
【解決手段】導入された液体L1を旋回させることにより、液体L1の旋回流F1の旋回中心付近に気相Gを発生させる処理槽12と、処理槽内に少なくとも一部が配置されて処理槽内の液体に接触する第1電極30と、処理槽内の液体に接触するように配置された第2電極31と、第1電極と第2電極との間に電圧を印加して気相にプラズマを発生させる電源60とを備えて、気相にプラズマを発生させて、液体を殺菌するとともに改質成分を生成し、生成した改質成分が液体に溶解して液体中に分散して、処理液を生成し、生成した処理液を加湿フィルタ41に浸み込ませて加湿フィルタを通過する気体の加湿を行う。
【選択図】図6D
【解決手段】導入された液体L1を旋回させることにより、液体L1の旋回流F1の旋回中心付近に気相Gを発生させる処理槽12と、処理槽内に少なくとも一部が配置されて処理槽内の液体に接触する第1電極30と、処理槽内の液体に接触するように配置された第2電極31と、第1電極と第2電極との間に電圧を印加して気相にプラズマを発生させる電源60とを備えて、気相にプラズマを発生させて、液体を殺菌するとともに改質成分を生成し、生成した改質成分が液体に溶解して液体中に分散して、処理液を生成し、生成した処理液を加湿フィルタ41に浸み込ませて加湿フィルタを通過する気体の加湿を行う。
【選択図】図6D
Description
本発明は、液体を電気化学的に処理して生成した処理液に常時浸かる加湿フィルタを備え、加湿フィルタを通過した空気が処理液で加湿されて空気中に送り出される機構を持つ加湿器に関する。より詳細には、本発明は、液体の中でプラズマを発生させることにより液体を殺菌することで、殺菌作用及び脱臭作用がある処理液を生成し、生成した処理液を加湿フィルタにより加湿に利用する加湿器に関する。
図15に、従来の液体処理装置の例を示す。液体803(例えば、水)の中に、第1電極801および第2電極802を配置し、パルス電源804から両電極801,802間に高電圧パルスを印加して液体803を気化させ、プラズマ805を発生させ、液体803に対してプラズマ処理を行って、例えば、ヒドロキシルラジカル(OHラジカル)又は過酸化水素等の酸化力を持つ成分で殺菌する液体処理装置が知られている。特に、OHラジカルは高い酸化力を有することが知られており、これらの成分で、例えば、菌に対して、高い殺菌作用があるとされている。また、液体803の中でプラズマ805を発生させることで、プラズマ805が液体803で覆われており、液体由来の成分を発生させやすいことが知られている。例えば、水の中でプラズマ805を発生させることで、OHラジカル又は過酸化水素が生成されやすいことが知られている。
しかしながら、上記従来の液体処理装置の場合、液体803を気化させるために高い印加電圧が必要なだけでなく、プラズマ805の発生効率が低く、液体803を殺菌するのに長時間を要するという問題があった。
そこで、印加電圧を低くしつつプラズマの発生効率を向上させるために、両電極間に外部より導入した気体を介在させるようにした液体処理装置が知られている(特許文献1参照)。特許文献1に記載の液体処理装置(図16)では、アノード電極901とカソード電極902との間に被処理液903とともに気体904(例えば、酸素)を介在させた上で、両電極901,902間にパルス電圧を印加する。パルス電圧の印加により、気体904内にプラズマが発生し、液体803に対してプラズマ処理を行って殺菌する。特許文献1に記載の液体処理装置によれば、気体を介在させない場合よりも、印加電圧を低減させることができ、かつ、プラズマを効率良く発生させて被処理液903の殺菌を行うことができる。
このような液体処理装置で処理した処理液903に加湿フィルタを浸すことで、除菌された液体で空気を加湿して送り出す加湿器又は空気清浄装置への適用が考えられる。
このような液体処理装置で処理した処理液903に加湿フィルタを浸すことで、除菌された液体で空気を加湿して送り出す加湿器又は空気清浄装置への適用が考えられる。
しかしながら、特許文献1に記載の液体処理装置を使用する加湿器又は空気清浄装置によれば、プラズマの発生効率が低く、液体の処理に長い時間がかかり、加湿フィルタから送り出す水分の除菌が充分にできないという問題があった。
本発明は、このような点に鑑み、プラズマを効率良く発生させて液体を迅速に殺菌できて、加湿フィルタから送り出す水分の除菌が充分に行える加湿器を提供することを目的とする。
本発明の1つの態様にかかる加湿器は、
導入部から導入される液体を中心軸周りに旋回させることにより、前記液体の旋回流の旋回中心付近に気相を発生させるとともに、前記導入部から導入された前記液体を、前記導入部との間で旋回させて前記旋回流を発生させたのち処理液として排出する排出部を有する処理槽と、
前記処理槽内に少なくとも一部が配置されて前記処理槽内の前記液体に接触する第1電極と、
前記処理槽内の前記液体に接触するように配置された第2電極と、
前記第1電極と前記第2電極との間に電圧を印加して前記気相にプラズマを発生させて前記液体を殺菌して前記処理液とするとともに改質成分を前記処理液中に生成する電源と、
前記処理槽の前記排出部から排出される前記処理液を貯留する貯留槽と、
前記処理槽の前記排出部が接続されて前記貯留槽に前記処理液として排出されて保持される貯留水を前記処理槽の前記導入部から前記処理槽内に再び導入して、前記処理槽と前記貯留槽との間で前記貯留水が循環可能とするポンプと、
上部が空気中に露出するとともに、下部が前記貯留槽の前記処理液に常時浸かるように配置された加湿フィルタとを備えて、
前記液体により前記導入部と前記排出部との間で形成された前記旋回流の前記気相に前記プラズマを発生させて、前記液体を殺菌するとともに前記改質成分を生成し、生成した改質成分が前記処理液に溶解して前記処理液中に分散し、この処理液を前記加湿フィルタに浸み込ませて前記加湿フィルタを通過する気体の加湿を行う。
導入部から導入される液体を中心軸周りに旋回させることにより、前記液体の旋回流の旋回中心付近に気相を発生させるとともに、前記導入部から導入された前記液体を、前記導入部との間で旋回させて前記旋回流を発生させたのち処理液として排出する排出部を有する処理槽と、
前記処理槽内に少なくとも一部が配置されて前記処理槽内の前記液体に接触する第1電極と、
前記処理槽内の前記液体に接触するように配置された第2電極と、
前記第1電極と前記第2電極との間に電圧を印加して前記気相にプラズマを発生させて前記液体を殺菌して前記処理液とするとともに改質成分を前記処理液中に生成する電源と、
前記処理槽の前記排出部から排出される前記処理液を貯留する貯留槽と、
前記処理槽の前記排出部が接続されて前記貯留槽に前記処理液として排出されて保持される貯留水を前記処理槽の前記導入部から前記処理槽内に再び導入して、前記処理槽と前記貯留槽との間で前記貯留水が循環可能とするポンプと、
上部が空気中に露出するとともに、下部が前記貯留槽の前記処理液に常時浸かるように配置された加湿フィルタとを備えて、
前記液体により前記導入部と前記排出部との間で形成された前記旋回流の前記気相に前記プラズマを発生させて、前記液体を殺菌するとともに前記改質成分を生成し、生成した改質成分が前記処理液に溶解して前記処理液中に分散し、この処理液を前記加湿フィルタに浸み込ませて前記加湿フィルタを通過する気体の加湿を行う。
本発明の前記態様にかかる加湿器によれば、旋回流中で液体を気化させ、生成された気相にパルス電圧を印加してプラズマを発生させる。電圧印加により液体を気化させる必要がないため、少ない電力でプラズマを発生させることができ、液体の殺菌を効率良く、迅速に行うことができて、加湿フィルタから送り出す水分の除菌が充分に行える。
[実施形態1]
以下、図面を参照し、本発明の実施形態に係る液体処理装置100を有する加湿器101を詳しく説明する。図中同一または相当部分には同一符号を付してその説明は繰り返さない。なお、説明を分かりやすくするために、以下で参照する図面においては、構成が簡略化または模式化して示されたり、一部の構成部材が省略されたりしている。また、各図に示された構成部材間の寸法比は、必ずしも実際の寸法比を示すものではない。
以下、図面を参照し、本発明の実施形態に係る液体処理装置100を有する加湿器101を詳しく説明する。図中同一または相当部分には同一符号を付してその説明は繰り返さない。なお、説明を分かりやすくするために、以下で参照する図面においては、構成が簡略化または模式化して示されたり、一部の構成部材が省略されたりしている。また、各図に示された構成部材間の寸法比は、必ずしも実際の寸法比を示すものではない。
[全体構成]
加湿器101は、少なくとも、液体処理装置100と、加湿フィルタ41とを備えている(図6D参照)。液体処理装置100は、殺菌処理で使用する処理液L2を生成する装置として機能する。
まず、実施形態1にかかる加湿器101の液体処理装置100の全体構成について説明する。図1は、本発明の実施形態1にかかる液体処理装置100の構成を示す側面断面図である。以下の図では、矢印Fは液体処理装置100の前方向を示し、矢印Bは後方向を示す。矢印Uは上方向を示し、矢印Dは下方向を示す。矢印Rは後方向から見て右方向、矢印Lは後方向から見て左方向を示す。
加湿器101は、少なくとも、液体処理装置100と、加湿フィルタ41とを備えている(図6D参照)。液体処理装置100は、殺菌処理で使用する処理液L2を生成する装置として機能する。
まず、実施形態1にかかる加湿器101の液体処理装置100の全体構成について説明する。図1は、本発明の実施形態1にかかる液体処理装置100の構成を示す側面断面図である。以下の図では、矢印Fは液体処理装置100の前方向を示し、矢印Bは後方向を示す。矢印Uは上方向を示し、矢印Dは下方向を示す。矢印Rは後方向から見て右方向、矢印Lは後方向から見て左方向を示す。
液体処理装置100は、液体の中で放電することによって、液体を殺菌するとともに改質成分を生成し、生成した改質成分を液体の中に分散させることで処理液L2を生成する。本実施形態1では、液体の例として循環水L1を殺菌するとともにOHラジカル又は過酸化水素等の改質成分を含んだ処理液L2を生成する場合について説明する。ここで、循環水L1とは、後述する貯留槽90に保持されて貯留している貯留水92を、循環用配管81及び配管51を通してポンプ50で処理槽12に供給される液体を意味する。貯留水92は、液体処理装置100から貯留槽90に供給された処理液L2、及び、その処理液L2で、貯留槽90内の液体を除菌して除菌作用が低下した処理液も含んでいる。
液体処理装置100は、少なくとも、処理槽12と、第1電極30と、第2電極31と、電源60とを備えている。より具体的には、液体処理装置100は、装置本体10、液体供給部50、貯留槽90、および電源60を備えている。装置本体10は、処理槽12、導入部15、排出部17、第1電極30、および第2電極31を備えている。
処理槽12は、内部に導入された循環水L1をプラズマにより、循環水L1を殺菌するとともに改質成分(例えば、OHラジカル又は過酸化水素等)を生成して処理液L2を生成させる部分である。処理槽12の材質は絶縁体でもよいし、導体でもよい。導体の場合には、各電極30,31との間に絶縁体を介在する必要がある。前記改質成分が貯留槽90に排出される際に、改質成分が循環水L1に分散され、処理液L2が生成される。
処理槽12の内壁の正面断面形状は円形である(図3参照)。言い換えれば、処理槽12は、処理槽12の循環水L1の旋回軸X1沿いの一端側が閉口した断面形状が円形である円柱状の処理室を有している。導入部15は、処理槽12の一端に配置されて、処理槽12に循環水L1を処理槽12の中心軸X1と直交する円形の断面形状の接線方向から導入する。導入部15は、配管51を介して液体供給部50に連通している。排出部17は、処理槽12の他端に配置されて、処理槽12に導入された循環水L1と処理槽12で生成された改質成分を処理槽12から貯留槽90に排出させる。本実施形態1では、排出部17は、貯留槽90の処理液供給部91に接続されている。
処理槽12の内壁の正面断面形状は円形である(図3参照)。言い換えれば、処理槽12は、処理槽12の循環水L1の旋回軸X1沿いの一端側が閉口した断面形状が円形である円柱状の処理室を有している。導入部15は、処理槽12の一端に配置されて、処理槽12に循環水L1を処理槽12の中心軸X1と直交する円形の断面形状の接線方向から導入する。導入部15は、配管51を介して液体供給部50に連通している。排出部17は、処理槽12の他端に配置されて、処理槽12に導入された循環水L1と処理槽12で生成された改質成分を処理槽12から貯留槽90に排出させる。本実施形態1では、排出部17は、貯留槽90の処理液供給部91に接続されている。
第1電極30は、処理槽12の一端の内部に配置されている。第1電極30は、処理槽12の一端の内壁の中央から処理槽12内に、長手方向沿いに突出配置されている。
第2電極31は、処理槽12の他端の壁の外側に配置されて、排出部17の近傍に配置されている。
第1電極30は電源60が接続されており、第2電極31は接地されている。第1電極30および第2電極31には、電源60により高電圧のパルス電圧が印加される。第1電極30の材質は、一例としてタングステンを使用している。
第2電極31は、処理槽12の他端の壁の外側に配置されて、排出部17の近傍に配置されている。
第1電極30は電源60が接続されており、第2電極31は接地されている。第1電極30および第2電極31には、電源60により高電圧のパルス電圧が印加される。第1電極30の材質は、一例としてタングステンを使用している。
液体供給部50は、一例として、処理槽12内に循環水L1を供給するポンプである。液体供給部50は、配管51に接続されている。配管51の一端は、処理槽12の一端の内壁近傍に配置された内側開口としての導入部15に接続されており、配管51の他端は図示しない液体供給源(例えば、水タンク80)又は貯留槽90の処理液L2を含んだ貯留水を処理槽12と貯留槽90との間で循環できる形に接続されている(図1の一点鎖線の循環用配管81を参照)。
電源60は、第1電極30と第2電極31との間に高電圧のパルス電圧を印加する。電源60は、正のパルス電圧と負のパルス電圧とを交互に印加する、いわゆるバイポーラーパルス電圧を印加することができる。
貯留槽90は、液体処理装置100から排出される改質成分をせん断し、改質成分を内包したマイクロバブル又はナノバブルを生成し、水の中に拡散させる槽である。具体的には、貯留槽90は、処理槽12の排出部17の開口断面積より大きい断面積を内部に有して、排出部17から貯留槽90内に排出された改質成分を貯留槽90でせん断し、改質成分を内包したマイクロバブル、又は、マイクロバブル及びナノバブルを貯留槽90内で生成して、水の中に拡散させる。よって、貯留槽90はマイクロバブル生成槽として機能する。貯留槽90としては、少なくとも、処理槽12の排出部17の開口の内径寸法の倍以上の内径又は一辺を確保することにより、マイクロバブル又はナノバブルを含有して殺菌を確実に行える処理液L2を貯留槽90で生成することができる。
貯留槽90は、図6Dに示すように、下部に配置されて処理槽12の排出部17に接続される処理液供給部91と、処理液供給部91よりも上部に配置された貯留水排出部90bとを有している。後述するように液体の円滑な循環動作を行うため、貯留槽90内の処理液L2を含む貯留水92の液面は、貯留水排出部90bよりも上方に維持されるようにする。以下の実施形態2でも同様な構成となっている。
貯留槽90では、一例として、処理槽12側に処理液供給部91と貯留水排出部90bとを配置し、後述する給水タンク42は、処理液供給部91と貯留水排出部90bとは離れた側、例えば対向する壁面側に配置されている。
このような貯留槽90では、処理槽12中の気相GにプラズマPを発生させて、循環水L1を殺菌するとともに改質成分を生成する。生成した改質成分が、液体に溶解して液体中に分散して処理液L2を生成し、生成した処理液L2が、処理槽12の排出部17から貯留槽90の処理液供給部91を経て貯留槽90内に排出されたのち、貯留槽90に貯留する。
図6Dでは、配管51は、貯留槽90の貯留水排出部90bに連結されて、循環用配管81を構成している。貯留槽90内の貯留水92が循環用配管81及びポンプ50を介して導入部15から処理槽12内に循環水L1として供給され、処理槽12から排出部17を介して排出される処理液L2が貯留槽90内に処理液供給部91から導入されることにより、液体が処理槽12と貯留槽90との間で循環するように構成されている。
このような液体処理装置100の他に、加湿器101としては、加湿器本体40と、加湿フィルタ41と、回転装置49とをさらに備えている。
加湿器本体40は、その中に、液体処理装置100を下部に収納している。液体処理装置100の貯留槽90は、上部開口に、加湿フィルタ41と、給水タンク42とが下向きに抜き差し可能に差し込まれて起立保持されている。
加湿フィルタ41は、円形ドラム形状を持ち、加湿器本体40に対して回転軸48により回転可能に支持されて、回転するドラム形状として構成されている。回転軸48は、モータなどの回転装置49により少なくとも一方向に回転可能としている。加湿フィルタ41は、回転軸48よりも下方の一部が貯留槽90の上部開口内に入り込み、貯留水92に常時浸されているとともに、回転装置49が回転軸48とともに加湿フィルタ41が回転すると、加湿フィルタ41のうちの貯留水92に浸されている部分が回転方向に移動し、加湿フィルタ41の外周部分が常に貯留水92で湿っている状態を維持することができる。よって、加湿フィルタ41は、上部が空気中に常に露出するとともに、下部が貯留槽90の処理液L2を含む貯留水92に常時浸かるように配置されている。このような加湿フィルタ41に対して、上部に空気を通過させれば、通過した空気に加湿を行うことができる。
給水タンク42には水をユーザが入れて、その開口部を貯留槽90の貯留水92内に配置している。このように構成することにより、空気の通過に伴い加湿フィルタ41から水分を蒸発させたて貯留水92が減ったときの水の補充を行うことができる。補充された水は、液体処理装置100で処理液として生成されて除菌機能が付加されたのち、貯留槽90内に貯留水92として保持される。
[装置本体]
次に、装置本体10について詳細に説明する。図2は、装置本体10の側面断面図である。
処理槽12は、第1内壁21、第2内壁22、および第3内壁23を有している。第1内壁21は、筒状の壁部である。第2内壁22は、第1内壁21の図2の左端部に設けられている。第3内壁23は、第1内壁21の図2の右端部に設けられている。第2内壁22および第3内壁23は、側面視では略円形である。第1内壁21、第2内壁22、および第3内壁23により、処理槽12の内部には、略円柱状の収容空間83が構成されている。第1内壁21の中心軸、つまり、処理槽12の内部に構成される略円柱状の収容空間83の仮想の中心軸を軸X1とする。
次に、装置本体10について詳細に説明する。図2は、装置本体10の側面断面図である。
処理槽12は、第1内壁21、第2内壁22、および第3内壁23を有している。第1内壁21は、筒状の壁部である。第2内壁22は、第1内壁21の図2の左端部に設けられている。第3内壁23は、第1内壁21の図2の右端部に設けられている。第2内壁22および第3内壁23は、側面視では略円形である。第1内壁21、第2内壁22、および第3内壁23により、処理槽12の内部には、略円柱状の収容空間83が構成されている。第1内壁21の中心軸、つまり、処理槽12の内部に構成される略円柱状の収容空間83の仮想の中心軸を軸X1とする。
第2内壁22には、収容空間83内に突出した円筒状の電極支持筒24が中央に設けられている。電極支持筒24は、筒状であり右方に延びている。電極支持筒24は、その中心軸が第1内壁21の中心軸X1と一致するように配置されている。電極支持筒24の内側には、絶縁体53を介して第1電極30が支持されている。第1電極30は棒状であり、絶縁体53は第1電極30の周囲に配置されている。このため、第1電極30は、長手方向の軸が第1内壁21の中心軸X1と一致するように配置されている。第1電極30の右端部301の内側端面と、絶縁体53の内側端面と、電極支持筒24の内側端面241とは、ほぼ同じ面内に配置されるように構成されている。
導入部15は、装置本体10を貫通しており、一方の開口端151が第1内壁21に形成されている。導入部15は、側面視では、第2内壁22に隣接した位置に配置されている。また、図3は、図2の3―3線における断面図である。導入部15は、第1内壁21の壁面に配置されている。
排出部17は、第3内壁23の中央部を貫通している。排出部17は、その中心軸が第1内壁21の中心軸X1と一致するように形成されている。
第2電極31は、板状の金属部材であり、中央部に開口部311が形成されている。開口部311は円形であり、その中心が第1内壁21の中心軸X1と一致するように形成されている。
[動作]
次に、液体処理装置100の動作について説明する。以下では、説明の便宜上、処理槽12の内部に気相を発生させる状態(図4および図5)と、発生させた気相Gにパルス電圧を印加してプラズマPを発生させる状態(図6A及び図6B)とを別図に分けて説明する。図4は、処理槽12の内部に旋回流F1が発生しており、パルス電圧を印加していない状態を示す側面断面図である。
次に、液体処理装置100の動作について説明する。以下では、説明の便宜上、処理槽12の内部に気相を発生させる状態(図4および図5)と、発生させた気相Gにパルス電圧を印加してプラズマPを発生させる状態(図6A及び図6B)とを別図に分けて説明する。図4は、処理槽12の内部に旋回流F1が発生しており、パルス電圧を印加していない状態を示す側面断面図である。
まず、図4に示すように、ポンプ50で貯留槽90の貯留水92を吸い込んで導入部15から処理槽12に循環水L1として所定の圧力で導入される。すると、循環水L1は、第1内壁21に沿って、旋回流F1を発生させながら導入部15から図4の右方に向けて移動する。旋回しながら図4の右方に移動した旋回流F1は、排出部17に向けて移動する。
旋回流F1により、第1内壁21の中心軸X1付近の圧力が飽和水蒸気圧以下に低下し、循環水L1の一部が気化した水蒸気が発生することで、気相Gが第1内壁21の中心軸X1付近に生成される。気相Gは、旋回中心付近、具体的には、第1電極30の右端部301から第1内壁21の中心軸X1に沿って、第2電極31の開口部311の付近まで発生する。また、気相Gは、接している旋回流F1により、旋回流F1と同方向に旋回している。旋回している気相Gは、排出部17の近傍で貯留槽90内の水の抵抗を受ける事で、マイクロバブル又はナノバブルにせん断され、排出部17から、排出部17に接続された貯留槽90の処理液供給部91を介して貯留槽90に拡散される。
図5は、図4の5−5線における断面図である。図4で説明したように、導入部15から処理槽12に循環水L1が所定の圧力で導入されると、循環水L1は、第1内壁21に沿った図5の右回りの旋回流F1を発生させる。循環水L1が処理槽12の内部で旋回することで、旋回流F1の中心付近、つまり第1内壁21の中心軸X1付近の圧力が飽和水蒸気圧以下に低下し、第1内壁21の中心軸X1付近において循環水L1の一部が気化した水蒸気が発生することで、気相Gが生成される。
図6A及び図6Bは、処理槽12の内部に旋回流F1が発生しており、パルス電圧を印加した状態を示す側面断面図である。図6Aに示すように、循環水L1が気化した気相Gが、第1電極30の近傍から第2電極31の付近まで発生されている状態で、電源60により、第1電極30と第2電極31との間に高電圧のパルス電圧を印加する。図6Bは、気相G中にプラズマPが発生している状態を示す拡大図である。第1電極30と第2電極31とは、高電圧のパルス電圧が印加されると、気相G内にプラズマPが発生し、循環水L1が殺菌されるとともに、改質成分として水由来のラジカル(OHラジカル等)又は化合物(過酸化水素等)又はイオンを生成する。前記改質成分を含んだ気相Gは、周辺にある旋回流F1により、旋回流F1と同方向に旋回する。前記改質成分を含んだ気相Gが旋回することにより、前記改質成分の一部が、旋回流F1側へ溶解することで、循環水L1の中に改質成分が分散する。加えて、排出部17付近の前記改質成分を含んだ気相Gは、貯留槽90内の処理液L2の抵抗を受ける事でせん断され、改質成分を含有した気泡BAを生じる。また、貯留槽90内に処理液L2を留めることで、負圧である気相Gに空気が混入することを防いでいる。この様に、プラズマPにより生成した改質成分が気泡状態もしくは処理液L2の中に溶け込んで分散された状態で、処理液L2が貯留槽90に貯留水92として貯められる。
この状態で、加湿器101として、(1)加湿空気を送り出す場合と、(2)空気加湿時に空気中に含有された臭気成分を加湿フィルタ41に吸着させて脱臭する場合とに動作させることができる。
まず、(1)加湿空気を送り出す場合について説明する。
貯留水92に加湿フィルタ41が浸されたのち、加湿フィルタ41が回転して、貯留水92に浸された部分が上方に位置する。その貯留水92に浸された部分を空気が通過すると、通過した空気が加湿されるとともに、処理液L2で除菌される。この除菌された空気が加湿フィルタ41から、従って加湿器101から外部に送り出されて、加湿器101が設置された空間が加湿されることになる。
貯留水92に加湿フィルタ41が浸されたのち、加湿フィルタ41が回転して、貯留水92に浸された部分が上方に位置する。その貯留水92に浸された部分を空気が通過すると、通過した空気が加湿されるとともに、処理液L2で除菌される。この除菌された空気が加湿フィルタ41から、従って加湿器101から外部に送り出されて、加湿器101が設置された空間が加湿されることになる。
次に、(2)空気加湿時に空気中に含有された臭気成分を加湿フィルタ41に吸着させて脱臭する場合について説明する。
貯留水92に加湿フィルタ41が浸されたのち、加湿フィルタ41が回転して、貯留水92に浸された部分が上方に位置する。その貯留水92に浸された部分を空気が通過すると、通過した空気中の臭気成分が加湿フィルタ41に捕捉される。加湿フィルタ41において臭気成分が捕捉された部分が、加湿フィルタ41の回転により貯留水92に浸かる。すると、加湿フィルタ41で捕捉された臭気成分が気泡BA及び処理液L2と接触して分解される。
貯留水92に加湿フィルタ41が浸されたのち、加湿フィルタ41が回転して、貯留水92に浸された部分が上方に位置する。その貯留水92に浸された部分を空気が通過すると、通過した空気中の臭気成分が加湿フィルタ41に捕捉される。加湿フィルタ41において臭気成分が捕捉された部分が、加湿フィルタ41の回転により貯留水92に浸かる。すると、加湿フィルタ41で捕捉された臭気成分が気泡BA及び処理液L2と接触して分解される。
以上説明した本実施形態1によれば、旋回流F1中で循環水L1を気化させ、生成された気相Gにパルス電圧を印加してプラズマPを発生させて液体である循環水L1を殺菌するとともに液体から改質成分(液体由来のラジカル又は化合物等)を含む処理液L2を生成する。そのため、気相Gは、ジュール熱によって気化させた気体、もしくは外部から導入した気体によって形成される気相よりも負圧となっており、小さな電圧(すなわち、少ない電力)でプラズマPを発生できるので、処理槽12内での液体の殺菌処理が効率良くできて、加湿フィルタから送り出す水分の除菌が充分に行える。さらに、ジュール熱によって水を気化させないので、投入するエネルギーが小さくなる。また、外部から気体を導入しないので、気体供給装置が不要となり、液体処理装置100の小型化がしやすくなる。すなわち、液体処理装置100を有する加湿器101の全体として、構成がコンパクトなものとなり、かつ効率良くOHラジカル又は過酸化水素等を生成して除菌することができるとともに、臭気物質を分解することもできる。加湿器101としては、貯留槽90で除菌された貯留水92を加湿フィルタ41に付加して加湿できるとともに、加湿フィルタ41で捕捉した空気中の臭気物質等を貯留槽90で気泡BAと処理液L2とで分解することができる。この結果、加湿フィルタ41に付加される水を予め除菌することで、加湿フィルタ41などからの異臭の発生を抑制することができることになる。また、加湿フィルタ41に捕捉又は吸収された空気中に含まれる臭気成分をも分解して除去できるので、加湿器101を設置した空間及び加湿フィルタ41の両方の異臭発生を抑制することができる。よって、家庭用又は事務所などの加湿機能付き空気清浄機、加湿器、又は、脱臭機等として、加湿器101を適用することができる。
また、ジュール熱によって気化させた気体、もしくは外部から導入した気体によって形成される気相Gは、浮力により一定の形状又は一定の位置で保持することが困難である。しかし、本実施形態1の気相Gは、周りの旋回流F1により、旋回流F1の中心軸X1に集まる方向へ力が加わるので、第1電極30の右端部301の近傍に一定の気相Gを生成することができる。そのため、第1電極30と第2電極31との間に生成される気体の量の時間変化が少なく、プラズマPに必要な電力が変化しにくいので、プラズマPを安定して発生でき、循環水L1を含む処理槽12内での液体の殺菌処理が効率良く迅速にできる。
また、プラズマPの体積はカソード電極の近傍にある気相の体積以下になるが、ジュール熱により気化させた気体、もしくは外部から導入した気体によって形成される気相Gの形状は、バブル形状なので体積が一定以上になると分裂するため、一定の体積以上のプラズマPを発生させることが困難である。しかし、本実施形態1の気相Gは、旋回流F1の旋回速度を確保できれば、中心軸X1の方向に体積を大きくすることが容易であるため、プラズマPの体積を大きくしやすい。そのため、液体の殺菌処理量及び改質成分の生成量を増加させやすく、液体を迅速に殺菌できる。
また、液体が気化する際に体積が膨張するため、衝撃波が発生し、周辺の物体を破壊するキャビテーションが知られている。本実施形態1では、キャビテーションによる破壊が最も強くなるのは、処理槽12の内径が最も小さく、旋回流F1の旋回速度が最も早くなる排出部17である。そのため、気相Gの中でも第1電極30の右端部301は、キャビテーションの破壊が最も強くなる箇所から離れているため、キャビテーションによる第1電極30への影響を小さくなりプラズマPを安定的に発生できる。
また、外部から空気を導入することなく循環水L1の処理を行うため、空気等の窒素成分を含んだ気体を導入した気相を活用したプラズマで発生する有害な亜硝酸の生成を抑制することができる。さらに、OHラジカル又は過酸化水素等を内包した気泡BAを含んだ処理液L2を生成することができる。
[実施形態2]
図6Eに示すように、実施形態2の加湿器102として、加湿器本体40Bの処理液L2に浸かる加湿フィルタ41Bが、ドラム形状ではなく、平板形状である場合を示している。
加湿フィルタ41Bは、その下部が貯留槽90の上部開口内に入り込み、貯留水92に常時浸されており、毛細管現象などを利用して加湿フィルタ41Bの上部まで吸い上げ、上部を空気が通過することにより、その空気を加湿している。
この実施形態2でも実施形態1と同様な作用効果を奏することができる。実施形態2では、実施形態1と比較して回転装置が不要な分だけ、加湿器102の構成が簡単なものとなる。
図6Eに示すように、実施形態2の加湿器102として、加湿器本体40Bの処理液L2に浸かる加湿フィルタ41Bが、ドラム形状ではなく、平板形状である場合を示している。
加湿フィルタ41Bは、その下部が貯留槽90の上部開口内に入り込み、貯留水92に常時浸されており、毛細管現象などを利用して加湿フィルタ41Bの上部まで吸い上げ、上部を空気が通過することにより、その空気を加湿している。
この実施形態2でも実施形態1と同様な作用効果を奏することができる。実施形態2では、実施形態1と比較して回転装置が不要な分だけ、加湿器102の構成が簡単なものとなる。
[変形例]
本実施形態1〜2で説明した液体処理装置100の構成は一例であり、種々の変更が可能である。例えば、処理槽12の内部構造又は第1電極30又は第2電極31の位置等については、本実施形態1〜2の構造に限定されない。
本実施形態1〜2で説明した液体処理装置100の構成は一例であり、種々の変更が可能である。例えば、処理槽12の内部構造又は第1電極30又は第2電極31の位置等については、本実施形態1〜2の構造に限定されない。
本実施形態1〜2では、処理槽12は単純な円筒形状であったが、断面形状が円形である筒状の処理槽であり、処理槽の片方の端部に処理槽の中心軸上もしくは中心軸の近傍に窄まった穴形状の排出部を有していれば、様々な形状をとることが可能である。例えば、図7に示すように、半径が異なる円筒を組み合わせた処理槽121であっても同様の効果が得られる。図7では、導入部側の半径が排出部側の半径よりも大きくなるように構成している。又は、図8に示す円錐形状の処理槽122であっても同様の効果が得られる。好ましくは、旋回流F1が前方向Fにすべるのを防ぐために、図8に示すように、断面の内径が連続的に小さくなる円錐形状が好ましい。
また、本実施形態1〜2では、第1電極30の形状は、棒電極であったが、第1電極30の右端部301に電解が集中させる形状であれば、この限りではない。例えば、図9Aで示すように、排出部側に向けて尖った円錐形状が付いた板形状の第1電極32でもよい。また、図9Bで示すように、円錐形状の代わりに、排出部側に向けて湾曲するように突出した山形状の凸部32Bが中央部に有する板形状の第1電極32Aでもよい。第1電極32Aでは、発生するプラズマPに最も近い中央部が摩耗しやすいので、単なる平板の電極よりも、当該中央部を処理槽12内に突出させる山形状の凸部32Bを有する電極の方が寿命が長くて好ましい。さらに好ましくは、板形状の第1電極32の代わりに、電極が磨耗した際に、処理槽12内に電極の送り出しが容易な棒電極でもよい。
また、図10で示すように、第1電極30の電極支持筒24を用いず、第2内壁22に第1電極30と絶縁体53とを取り付ける構造にしても同様の効果が得られる。好ましくは、水の電気分解又はジュール熱の発生を抑えるために、プラズマ発生に必要な第1電極30の右端部301と、電源60との接続部以外は絶縁体で覆われているほうがよい。
また、本実施形態1〜2では、第1電極30の材質は、一例としてタングステンであったが、特に導電性のある材料であれば限定はされない。好ましくは、水中で過酸化水素と接触するとフェントン反応を起こして高い殺菌効果を発現できる金属材料が好ましい。例えば、SUS(ステンレス鋼)又は銅又は銅タングステンがよい。
本実施形態1〜2では、第2電極31は、排出部17に配置されているが、処理槽12内に接地された第2電極の少なくとも一部が配置されていればこの限りではない。例えば、配置場所に関しては、図11に示すように、棒状の第2電極33として、第1内壁21の中心軸X1の側方に配置するようにしても、同様の効果が得られる。また、図12に示すように、処理槽12外の貯留槽90内でかつ貯留槽90の処理液供給部91近傍に棒状の第2電極33として配置してもよい。また、図13に示すように、筒状の第2電極34として第1内壁21の内側に配置してもよい。また、開口部311は円形としたが、多角形でもよく、さらには、第2電極は、分割された複数の金属部材を組み合わせて構成してもよい。好ましくは、旋回流F1を乱さないために、丸穴を有した板状もしくは円筒形状がよい。また、気相Gと第2電極の間が短いほうが水の抵抗が小さくなりジュール熱を抑制できるため、気相Gと第2電極の間が短くなる排出部17もしくは排出部17近傍に第2電極を配置するほうがよい。
処理槽12に導入される循環水L1の流量は、処理槽12の形状等に応じて、旋回流F1中に気相Gが発生する流量に設定される。また、第1電極30と第2電極31とに印加されるパルス電圧については、バイポーラではなくモノポーラで印加する場合、又は、電圧、パルス幅、又は周波数等は旋回流F1中に発生した気相GにプラズマPを発生させることができる値に適宜設定することが可能である。
さらに、本発明の効果が得られる限り、電源60はパルス電源以外の高周波電源等であってもよい。好ましくは、水の電気分解により電極間のpHが偏るので、カソードとアノードとを交互に交換できるバイポーラ印加がよい。
貯留槽90は槽としているが、旋回流F1をせん断するために、貯留槽90内に水を保持できる形状であれば、これに限定されない。例えば、処理液を輸送する配管としてもよい。好ましくは、排出部17を循環水L1で満たし処理槽12への空気の混入を防ぐために、図14Aに示すように装置本体10は処理液を上向きに排出し、貯留槽90は装置本体10の上側にあるほうがよい。
また、貯留槽90を構成する材料の材質としては、水が透過しなければよい。また、例えば、図14Bに代表例として加湿器101において示すように、改質成分の1つである過酸化水素水とフェントン反応を起こして高い殺菌効果を発現できる銅若しくは鉄を含有した板部材93を、加湿フィルタ41,41Bとは別に、貯留槽90の一部(例えば内壁の一部)もしくはすべて(例えば内壁の全て)に使用することができる。また、板部材93を、貯留槽90とは別部材として貯留槽90内に配置してもよい。加湿フィルタ41,41Bとして、銅又は鉄を含む材料のフィルタで構成することもできる。要するに、板部材93が貯留槽90内の処理液と接触すれば、改質成分の1つである過酸化水素水とフェントン反応を起こして高い殺菌効果を発現することができる。
以上、本発明の実施形態1〜2を説明したが、上述した実施形態1〜2は本発明を実施するための例示に過ぎない。よって、本発明は上述した実施形態1〜2に限定されることなく、その趣旨を逸脱しない範囲内で上述した実施形態1〜2を適宜変形して実施することが可能である。
すなわち、前記実施形態又は前記様々な変形例のうちの任意の実施形態又は変形例を適宜組み合わせることにより、それぞれの有する効果を奏するようにすることができる。また、実施形態同士の組み合わせ又は実施例同士の組み合わせ又は実施形態と実施例との組み合わせが可能であると共に、異なる実施形態又は実施例の中の特徴同士の組み合わせも可能である。
すなわち、前記実施形態又は前記様々な変形例のうちの任意の実施形態又は変形例を適宜組み合わせることにより、それぞれの有する効果を奏するようにすることができる。また、実施形態同士の組み合わせ又は実施例同士の組み合わせ又は実施形態と実施例との組み合わせが可能であると共に、異なる実施形態又は実施例の中の特徴同士の組み合わせも可能である。
本発明の前記態様にかかる加湿器は、液体の中でプラズマを発生させて液体を殺菌するとともに液体から改質成分(液体由来のラジカル又は化合物等)を含む処理液を生成し、処理すべき空間に対して、処理液で加湿した空気を供給することができる。このため、本発明の前記態様にかかる加湿器は、殺菌、脱臭、又は、各種の環境改善等に利用することが可能である。
10 装置本体
12 処理槽
15 導入部
17 排出部
21 第1内壁
22 第2内壁
23 第3内壁
24 電極支持筒
30 第1電極
31 第2電極
32 板形状の第1電極
32A 山形状の凸部を有する板形状の第1電極
32B 山形状の凸部
33 棒状の第2電極
34 筒状の第2電極
40,40B 加湿器本体
41 ドラム状の加湿フィルタ
41B 矩形板状加湿フィルタ
42 給水タンク
48 回転軸
49 回転装置
50 液体供給部
53 絶縁体
60 電源
80 水タンク
81 一点鎖線(循環用配管)
83 収容空間
92 貯留水
93 板部材
100 液体処理装置
101,102 加湿器
121,122 処理槽
151 開口端
241 内側端面
301 右端部
311 開口部
801 第1電極
802 第2電極
803 液体
804 パルス電源
805 プラズマ
901 アノード電極
902 カソード電極
903 被処理液
904 気体
B 後方向
BA 気泡
D 下方向
F 前方向
F1 旋回流
G 気相
L 後方向から見て左方向
L1 循環水
L2 処理液
P プラズマ
R 後方向から見て右方向
U 上方向
X1 略円柱状の収容空間の仮想の中心軸
12 処理槽
15 導入部
17 排出部
21 第1内壁
22 第2内壁
23 第3内壁
24 電極支持筒
30 第1電極
31 第2電極
32 板形状の第1電極
32A 山形状の凸部を有する板形状の第1電極
32B 山形状の凸部
33 棒状の第2電極
34 筒状の第2電極
40,40B 加湿器本体
41 ドラム状の加湿フィルタ
41B 矩形板状加湿フィルタ
42 給水タンク
48 回転軸
49 回転装置
50 液体供給部
53 絶縁体
60 電源
80 水タンク
81 一点鎖線(循環用配管)
83 収容空間
92 貯留水
93 板部材
100 液体処理装置
101,102 加湿器
121,122 処理槽
151 開口端
241 内側端面
301 右端部
311 開口部
801 第1電極
802 第2電極
803 液体
804 パルス電源
805 プラズマ
901 アノード電極
902 カソード電極
903 被処理液
904 気体
B 後方向
BA 気泡
D 下方向
F 前方向
F1 旋回流
G 気相
L 後方向から見て左方向
L1 循環水
L2 処理液
P プラズマ
R 後方向から見て右方向
U 上方向
X1 略円柱状の収容空間の仮想の中心軸
Claims (11)
- 導入部から導入される液体を中心軸周りに旋回させることにより、前記液体の旋回流の旋回中心付近に気相を発生させるとともに、前記導入部から導入された前記液体を、前記導入部との間で旋回させて前記旋回流を発生させたのち処理液として排出する排出部を有する処理槽と、
前記処理槽内に少なくとも一部が配置されて前記処理槽内の前記液体に接触する第1電極と、
前記処理槽内の前記液体に接触するように配置された第2電極と、
前記第1電極と前記第2電極との間に電圧を印加して前記気相にプラズマを発生させて前記液体を殺菌して前記処理液とするとともに改質成分を前記処理液中に生成する電源と、
前記処理槽の前記排出部から排出される前記処理液を貯留する貯留槽と、
前記処理槽の前記排出部が接続されて前記貯留槽に前記処理液として排出されて保持される貯留水を前記処理槽の前記導入部から前記処理槽内に再び導入して、前記処理槽と前記貯留槽との間で前記貯留水が循環可能とするポンプと、
上部が空気中に露出するとともに、下部が前記貯留槽の前記処理液に常時浸かるように配置された加湿フィルタとを備えて、
前記液体により前記導入部と前記排出部との間で形成された前記旋回流の前記気相に前記プラズマを発生させて、前記液体を殺菌するとともに前記改質成分を生成し、生成した改質成分が前記処理液に溶解して前記処理液中に分散し、この処理液を前記加湿フィルタに浸み込ませて前記加湿フィルタを通過する気体の加湿を行う、
加湿器。 - 前記加湿フィルタは、ドラム形状であり、
前記加湿フィルタを回転する回転装置をさらに備える、
請求項1に記載の加湿器。 - 前記加湿フィルタは、平板形状である、
請求項1に記載の加湿器。 - 前記加湿フィルタは、銅又は鉄を含む材料のフィルタで構成されている、
請求項1〜3のいずれか1つに記載の加湿器。 - 前記加湿フィルタとは異なり、かつ、銅又は鉄を含む部材を前記貯留槽の前記処理液と接触可能に配置している、
請求項1〜3のいずれか1つに記載の加湿器。 - 前記第1電極は、前記液体の前記旋回流の前記の旋回中心付近に発生させた前記気相に接触するように、もしくは前記気相の近傍に位置するように配置される、
請求項1〜5のいずれか1つに記載の加湿器。 - 前記処理槽は、前記導入部から供給された前記液体を旋回させて前記旋回流を発生させる円筒状もしくは円錐台形状の第1内壁を有し、
前記第1電極は、前記第1内壁の中心軸上もしくは中心軸近傍に配置される、
請求項1〜6のいずれか1つに記載の加湿器。 - 前記第1電極は、前記中心軸もしくは前記中心軸近傍の一方の端部側に配置され、
前記第2電極は、前記中心軸もしくは前記中心軸近傍の他方の端部側に配置され、
前記導入部は、前記中心軸の前記一方の端部側に配置され、
前記排出部は、前記中心軸の前記他方の端部側に配置される、
請求項7に記載の加湿器。 - 前記第2電極は、前記第1内壁の前記他方の端部側の前記第1内壁の前記中心軸の周りの一部にもしくは前記中心軸の全周を取り囲む様に配置される板状の電極である、
請求項8に記載の加湿器。 - 前記第2電極は、前記第1内壁の前記他方の端部側の前記第1内壁の前記中心軸の側方に配置される、
請求項8に記載の加湿器。 - 前記第2電極は、前記第1内壁の前記他方の端部側の前記第1内壁の前記中心軸の一部もしくは全周を取り囲むように配置される筒状の電極である、
請求項8に記載の加湿器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017109367A JP2018204842A (ja) | 2017-06-01 | 2017-06-01 | 加湿器 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018204842A true JP2018204842A (ja) | 2018-12-27 |
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ID=64956823
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JP2017109367A Pending JP2018204842A (ja) | 2017-06-01 | 2017-06-01 | 加湿器 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP2018204842A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102015884B1 (ko) * | 2018-03-16 | 2019-08-30 | 주식회사 플라리트 | 플라즈마 발생기를 포함하는 가습기 |
JP2020069074A (ja) * | 2018-10-31 | 2020-05-07 | 株式会社大一商会 | 遊技機 |
-
2017
- 2017-06-01 JP JP2017109367A patent/JP2018204842A/ja active Pending
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KR102015884B1 (ko) * | 2018-03-16 | 2019-08-30 | 주식회사 플라리트 | 플라즈마 발생기를 포함하는 가습기 |
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