CN109896580B - 液体处理装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种液体处理装置，使包含过氧化氢的处理液的回旋流与预先包含有铜离子或者铁离子的被处理液强制接触以提高处理效果。该液体处理装置具备：形状为棒状的第1电极(30)；形状为板状的、由含有铜或铁的金属构成的第2电极(31)；和通过使液体(L1)回旋来使液体(L1)的回旋流中产生气相(G)的第1处理槽(12)，通过向产生的气相(G)施加脉冲电压来产生等离子体。通过将第2电极作为阳极来配置为达到被处理液的提供部(80)内，来生成铜离子或铁离子并使其包含于被处理液之后，使其与通过等离子体而生成的过氧化氢强制接触，从而有效地产生芬顿反应，提高液体处理能力。

Description

液体处理装置

技术领域

本发明涉及对液体进行电气化学处理的液体处理装置。更详细地，本发明涉及如下的液体处理装置：在液体中产生等离子体，将生成的过氧化氢和通过阳极的电解而生成的铜离子或铁离子包含于被处理液，将其强制混合并产生芬顿(Fenton)反应，从而对液体中包含的悬浊物质或者细菌进行分解以及杀菌，来处理液体。

背景技术

图14中表示现有的液体处理装置的例子。在水中配置电极对401，若从高电压产生部400向电极对401施加电压，则在水中进行放电，生成过氧化氢。电极对401的至少一个由包含铜或者铁的金属构成，因此通过基于放电的电解，电极中的铜原子或者铁原子向水中溶出，生成铜离子或者铁离子。若在过氧化氢的存在下，生成铜离子或者铁离子，则产生芬顿反应，铜离子或者铁离子以催化剂的方式发挥作用，生成反应性高的活性种即OH自由基。通过这些活性种的氧化力，与液体中包含的污浊物质等进行反应，从而分解处理进展。进一步地，还附加向通过放电而产生的过氧化氢照射超声波的结构，从而过氧化氢被分解并生成OH自由基，提高液体的处理能力。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：JP专利第5834912号公报

在专利文献1所述的液体处理装置中，通过放电来生成过氧化氢和铜离子或者铁离子，产生芬顿反应并生成杀菌力高的OH自由基，但该OH自由基的寿命较短，OH自由基立刻变质为杀菌力比OH自由基低的过氧化氢。因此，在被处理水的流动性较高的情况下，存在OH自由基与被处理水内的悬浊物质未有效地接触、处理效率不能提高的课题。

发明内容

本发明鉴于这一点，其目的在于，提供一种即使在被处理液的流动性较高的情况下，也能够通过芬顿反应来高效地生成OH自由基并提高处理效率的液体处理装置。

为了解决上述课题，本发明的一个方式所涉及的液体处理装置具备：筒状的第1处理槽，沿着中心轴的一端封闭且与所述中心轴正交的剖面形状为圆形，并且在所述中心轴的一端侧具有液体导入口，所述液体导入口通过从所述圆形的剖面形状的切线方向导入液体来使所述液体围绕所述中心轴进行回旋，使所述液体的回旋流中产生气相；棒状的第1电极，被配置于所述第1处理槽的所述中心轴的所述一端侧；第2电极，被配置于所述第1处理槽的所述中心轴的另一端侧，并且由包含铜或者铁的金属形成；液体排出部，将所述液体作为处理液而从所述第1处理槽排出；第2处理槽，将从所述液体排出部排出的所述处理液与被处理液混合；电源，向所述第1电极与所述第2电极之间施加电压以使得所述第2电极被施加正的电压，使铜离子或者铁离子从所述第2电极向所述第2处理槽的所述被处理液中溶出；和提供部，在与从所述第1处理槽排出的所述处理液的喷流方向不同的方向，向所述第2处理槽提供所述被处理液。

根据本发明的所述方式所涉及的液体处理装置，在放电时分别同时进行铜离子或者铁离子的生成与过氧化氢的生成，并且对作为含有过氧化氢的喷流而排出的液体，从与处理液排出时的喷流不同的方向导入使铜离子或者铁离子混合的被处理液，将两者强制混合，从而能够高效地进行被处理液的处理。因此，即使在被处理液的流动性较高的情况下，也能够通过芬顿反应来高效地生成OH自由基并提高处理效率。

附图说明

图1是表示本发明的实施方式1所涉及的液体处理装置的结构的侧面剖视图。

图2是装置主体的侧面剖视图。

图3是图2的III-III线处的剖视图。

图4是图2的IV-IV线处的剖视图。

图5是图2的V-V线处的剖视图。

图6是表示在第1处理槽的内部产生回旋流并且未施加电压的状态的侧面剖视图。

图7是表示在第1处理槽的内部产生回旋流并且施加了电压的状态的侧面剖视图。

图8是表示装置主体的变形例的侧面剖视图。

图9是表示装置主体的变形例的侧面剖视图。

图10是表示装置主体的变形例的侧面剖视图。

图11A是表示装置主体的变形例的侧面剖视图。

图11B是表示装置主体的变形例的侧面剖视图。

图11C是表示装置主体的变形例的侧面剖视图。

图12是表示装置主体的变形例的侧面剖视图。

图13是表示装置主体的变形例的侧面剖视图。

图14是现有的液体处理装置的剖视图。

-符号说明-

10 放电处理部主体

12 第1处理槽

121 第1处理槽

122 第1处理槽

15 导入部

16 取水部

17 液体排出部

21 第1内壁

22 第2内壁

23 第3内壁

24 电极支承筒

30 第1电极

31 第2电极

311 第2电极

50 液体提供部

51 配管

53 绝缘体

60 脉冲电源

80 提供部

801 提供部

801a 下端壁面

801b 下端壁面

81 提供口

82 贮存水排出口

83 收纳空间

84 循环用配管

90 第2处理槽

901 第2处理槽

91 取入口

100 放电处理部

110 液体混合部

200 液体处理装置

400 高电压产生部

401 电极对

B 气泡

F1 回旋流

F2 排出液流

F3 提供液流

G 气相

L1 液体

L2 处理液

L3 被处理液

P 等离子体

X1 中心轴

具体实施方式

[实施方式]

以下，参照附图，对本发明的实施方式所涉及的液体处理装置200详细进行说明。对图中相同或者相当部分赋予相同符号并不重复其说明。另外，为了容易理解说明，在以下参照的附图中，结构被简单化或者示意化表示，一部分的结构部件被省略。此外，各附图中所示的结构部件间的尺寸比未必表示实际的尺寸比。

[整体结构]

首先，对液体处理装置200的整体结构进行说明。

图1是表示本发明的实施方式所涉及的液体处理装置200的结构的侧面剖视图。在以下的附图中，箭头F表示液体处理装置200的前方，箭头B表示后方。箭头U表示上方，箭头D表示下方。箭头R表示从后方观察的右方，箭头L表示从后方观察的左方。

图1所示的液体处理装置200包含放电处理部100和液体混合部110。放电处理部100通过在第1处理槽12的液体中进行放电来向液体附加活性种。在本实施方式中，对处理溶解有污浊物质的水溶液的情况进行说明。放电处理部100的第1处理槽12中处理的包含活性种的处理液L2成为喷流而被排出并贮存于液体混合部110的第2处理槽90。

放电处理部100至少具备放电处理部主体10和脉冲电源60。放电处理部100也可以还具备与下述的导入部15连结的液体提供部50。

放电处理部主体10具备：第1处理槽12、作为液体导入口的一个例子而发挥功能的导入部15、液体排出部17、第1电极30以及第2电极31。

第1处理槽12是对被导入到内部的液体(例如，水)L1进行处理的部分。第1处理槽12具有正面剖面形状为圆形的圆柱状的处理室。在第1处理槽12的一端配置导入部15，在第1处理槽12的另一端配置液体排出部17。第1处理槽12的材质可以是绝缘体，也可以是导体。在导体的情况下，需要在与各电极30、31之间存在绝缘体。

导入部15向第1处理槽12导入液体L1。导入部15经由配管51而与液体提供部50连通。

液体排出部17将第1处理槽12中处理的处理液L2从第1处理槽12排出。在本实施方式中，液体排出部17与第2处理槽90的取入口91连接。从液体排出部17排出的处理液L2随着回旋流的排出液流F2，经由取入口91而被排出并贮存于液体混合部110的第2处理槽90。

液体混合部110包含第2处理槽90和提供部80。

第2处理槽90与第1处理槽12相邻配置，通过第1处理槽12的液体排出部17与第2处理槽90的取入口91连接，从而从第1处理槽12的液体排出部17排出的处理液L2从取入口91向第2处理槽90内排出并贮存，通过处理液L2，第2处理槽90内的被处理液L3被处理。在第2处理槽90的第1处理槽12侧的端部，配置提供部80。第2处理槽90的材质可以是绝缘体，也可以是导体。在导体的情况下，与第2电极31之间存在绝缘体。

提供部80包含被配置为沿着第2处理槽90的与第1处理槽12相邻的端部的端壁的提供管。从提供部80，通过提供管的一端的提供口81，向例如液体排出部17附近的第2处理槽90内导入被处理液L3。从提供部80向第2处理槽90内的被处理液L3的导入方向为与经由液体排出部17以及取入口91而从第1处理槽12向第2处理槽90内排出的处理液L2的排出方向不同的方向，具体而言为交叉的方向，设为被处理液L3与处理液L2高效地混合的结构。提供部80的材质可以是绝缘体，也可以是导体。在导体的情况下，在与第2电极31之间存在绝缘体。

第1电极30是棒状，被配置于第1处理槽12的内部。第1电极30在第1处理槽12的与形成有液体排出部17的壁面对置的壁面侧，例如隔着绝缘部而被配置。

第2电极31由包含铜或铁的金属所形成的板状的部件构成。在图1中，作为一个例子，第2电极31中一个端部被配置于第1处理槽12的形成有液体排出部17的壁面的外侧、具体而言被配置于第2处理槽90的与第1处理槽12相邻的壁面即第1处理槽12与第2处理槽90的连接部。第2电极31的另一个端部被配置为贯通取入口91并绕到提供部80的内壁面。这种第2电极31的配置是一个例子。第2电极31至少被配置于第1处理槽12的中心轴X1的另一端侧即可。这里，所谓中心轴X1的另一端侧，并不局限于第1处理槽12内的另一端的壁面，也可以是第1处理槽12的外部的第1处理槽12与第2处理槽90的连接部附近、或者接近于连接部的第2处理槽90的内部。对此，后面对多个变形例进行记述。

在第1电极30以及第2电极31连接脉冲电源60，将第2电极31设为阳极，即，施加高电压的脉冲电压，以使得向第2电极31施加正的电压。

作为一个例子，液体提供部50是向第1处理槽12内提供液体(例如，水)L1的泵。液体提供部50与配管51连接。配管51的一端与导入部15连接，配管51的另一端与未图示的液体提供源(例如，水箱或者水管)连接。或者，配管51的另一端与第2处理槽90连接，被连接为能够循环第2处理槽90的包含来自第1处理槽12的处理液L2的贮存水即被处理液L3的形态。

脉冲电源60将第2电极31设为阳极，向第1电极30与第2电极31之间施加几kV的双极的高电压的脉冲电压。

[装置主体]

接下来，对放电处理部主体10详细进行说明。图2是放电处理部主体10的侧面剖视图。

第1处理槽12具有第1内壁21、第2内壁22以及第3内壁23。第1内壁21是筒状的壁部。第2内壁22被设置于第1内壁21的第1端部例如图2的左端部。第3内壁23被设置于第1内壁21的第2端部例如图2的右端部。第2内壁22以及第3内壁23在侧视的情况下大致为圆形。通过第1内壁21、第2内壁22以及第3内壁23，在第1处理槽12的内部，构成大致圆柱状的收纳空间83。将第1内壁21的中心轴、换句话说在第1处理槽12的内部构成的大致圆柱状的收纳空间83的假想的中心轴设为中心轴X1。

在第2内壁22，在中央设置向内突出的电极支承筒24。电极支承筒24是筒状，向第3内壁23侧即图2的右方延伸。电极支承筒24被配置为其中心轴与中心轴X1一致。在电极支承筒24的内侧，隔着绝缘体53来支承第1电极30。第1电极30是棒状，绝缘体53在第1电极30的周围被配置为筒状。因此，第1电极30被配置为长边方向的轴与中心轴X1一致。第1电极30的内侧端部比绝缘体53更向第3内壁23侧即图2的右方突出，与电极支承筒24大致相同地突出。

导入部15贯通放电处理部主体10，一个开口端151形成于第1内壁21。在侧视的情况下，导入部15被配置于与第2内壁22相邻的位置。此外，图3是图2的III-III线处的剖视图。导入部15被配置于第1内壁21的壁面。

液体排出部17贯通第3内壁23的例如中央部。液体排出部17形成为其中心轴与中心轴X1一致。液体排出部17与第2处理槽90的取入口91连接。

第2电极31是包含铜或者铁的板状的金属部件。如图2的IV-IV线处的剖视图即图4所示，第2电极31被配置为从第1处理槽12的液体排出部17附近经由提供口81而达到提供部80的内部。

[动作]

接下来，对液体处理装置200的动作进行说明。

以下，为了方便说明，将在第1处理槽12的内部产生气相G的状态(图6)、和从脉冲电源60向气相G施加脉冲电压来产生等离子体P的状态(图7)分开说明。图6是表示在第1处理槽12的内部产生回旋流F1并且未施加脉冲电压的状态的侧面剖视图。

首先，如图6所示，若从导入部15向第1处理槽12，液体(例如，水)L1以规定的压力、即泵的提供压力或者没有泵而是自来水等的情况下以自来水的提供压力而被导入，则液体L1沿着第1内壁21产生回旋流F1并且从导入部15向图6的右方移动。回旋并且向图6的右方移动的回旋流F1向液体排出部17移动。

通过回旋流F1，中心轴X1附近的压力降低到饱和水蒸气压以下，液体L1的一部分气化并且在中心轴X1附近生成气相G。气相G在回旋中心附近、具体而言与中心轴X1一致并从图6的第1电极30的右端部301沿着中心轴X1直到取入口91附近产生。气相G通过相接的回旋流F1，在与回旋流F1相同的方向回旋。回旋的气相G受到第2处理槽90内的处理液L2的阻碍，从而在液体排出部17以及取入口91附近被剪切为微米气泡或者纳米气泡，从液体排出部17，经由与液体排出部17连接的取入口91而成为含有大量的气泡的处理液L2，向第2处理槽90排出，同时气泡在第2处理槽90内扩散。

图7是表示接着图6的状态而在第1处理槽12的内部产生回旋流F1并且从脉冲电源60向第1电极30与第2电极31之间施加脉冲电压的状态的侧面剖视图。如图7所示，在液体L1气化的气相G从第1电极30到取入口91的附近产生的状态下，通过脉冲电源60，向第1电极30与第2电极31之间施加高电压的脉冲电压。若第1电极30和第2电极31被施加高电压的脉冲电压，则在气相G内产生等离子体P，生成自由基(OH自由基等)或者离子。该自由基或者离子从气相G向回旋流F1侧溶解，从而对溶解于液体L1中的污浊物质进行分解处理。进一步地，液体排出部17附近的气相G内的等离子体P受到第2处理槽90内的处理液L2的阻碍从而产生含有OH自由基或者离子等活性种的大量的气泡B。并且，包含气泡B或者活性种而排出的处理液L2被从液体排出部17向第2处理槽90排出。换句话说，由等离子体P生成的OH自由基等直接或从气泡B内溶解于在第2处理槽90内贮存的处理液L2。并且，若经过一定时间，则第2处理槽90内的处理液L2变质为比较稳定的过氧化氢。另外，若停止电压的施加，则通过高电压的脉冲电压的施加而生成的等离子体P消失。

另外，在产生等离子体放电时，同时产生紫外线。若产生的紫外线被照射到污浊物质或者细菌，则能够发挥分解以及杀菌作用。此外，通过向处理液中产生的双氧水照射紫外线，可如所述那样产生OH自由基，由此也可发挥分解以及杀菌作用。

此外，在通过脉冲电源60来施加电压的情况下，由于第2电极31由包含铜或者铁的金属构成，因此在正的电压被施加于第2电极31的情况下产生电解，金属离子从提供部80内的第2电极31向通过提供部80的被处理液L3内溶出。包含金属离子的被处理液L3通过提供口81之后，作为具有图4中的提供液流F3那样的方向性的液流(例如图4中为顺时针)，被导入到第2处理槽90。被处理液L3的提供液流F3被导入到第2处理槽90，以使得成为与包含活性种的处理液L2从液体排出部17排出时，伴随着在液体排出部17的附近产生的回旋的排出液流F2的回旋方向不同的方向(例如图4中为逆时针)的液流。

通过这样构成，在第2处理槽90中，从第1处理槽12排出的包含活性种的处理液L2的排出液流F2与包含铜或铁的金属离子的被处理液L3的提供液流F3对置。即，排出液流F2与提供液流F3在相互不同的方向、例如相反的回旋方向碰撞，处理液L2与被处理液L3强制地混合，能够高效地进行被处理液L3的处理。进一步地，加上包含活性种的处理液L2中含有的微米气泡或者纳米气泡的悬浮以及扩散效果，在第2处理槽90的内部，成为包含活性种的处理液L2与包含铜或铁的金属离子的被处理液L3的混合进一步高效地进行的状态，芬顿(Fenton)反应高效地产生。因此，芬顿反应中生成的OH自由基与被处理液L3中包含的有机物等进行反应，能够有效地进行分解处理。为了在液体排出部17的附近的、提供液流F3与液体排出部17的附近产生的排出液流F2交汇所导致的混合的效果变少的、图2的V-V线的附近(图5中表示剖视图)，通过基于微米气泡或者纳米气泡的被处理液L3内的悬浮以及分散，处理液L2与被处理液L3的混合继续进行，将第2处理槽90的内部形成得较大，例如将上部设置为比第1处理槽12高。

以上，通过说明的本实施方式，在放电时，分别同时进行来自第2电极31的铜离子或者铁离子的生成、第1处理槽12内的过氧化氢的生成，对作为含有过氧化氢的喷流而排出的处理液L2，接触混合有铜离子或者铁离子的被处理液L3。此时，在与作为处理液L2被排出时的喷流的回旋流即排出液流F2的回旋方向不同的方向，导入被处理液L3，使处理液L2与被处理液L3强制地混合，从而能够高效地进行被处理液L3的处理。因此，即使在被处理液L3的流动性较高的情况下，也能够在芬顿反应中高效地生成OH自由基从而提高处理效率。进一步地，在回旋流F1中使液体L1气化，从脉冲电源60向生成的气相G施加脉冲电压来产生等离子体P，因此能够高效地产生等离子体P，迅速地进行被处理液L3的处理。

[变形例]

另外，在以上的说明中，第1处理槽12是单纯的圆筒形状，但只要是单个端部的封闭的剖面形状为圆形的筒状的处理槽，就能够取各种形状。例如，如图8所示，即使是将半径不同的圆筒组合而成的第1处理槽121或者图9所示的圆锥形状的第1处理槽122也可得到相同的效果。

此外，第2电极31的一个端部被配置于第1处理槽12与第2处理槽90的连接部，另一个端部被配置为经由取入口91而延伸到提供部80的内壁面，但也可以例如被配置于第1处理槽12的液体排出部17以及取入口91的附近，如图10所示，作为第1处理槽12的中心轴X1的另一端侧的一个例子，即使是被配置于第2处理槽90侧的第2电极311，也可得到相同的效果。

此外，在所述实施方式以及所述变形例中，说明了提供部80将包含活性种而排出的处理液L2的排出液流F2的回旋流与被处理液L3的提供液流F3在液体排出部17以及取入口91附近在相互相反方向混合的情况，但本发明并不局限于此。

例如，作为变形例所涉及的第2处理槽90中的提供部80的另一个例子，如图11A所示的第2处理槽901中的提供部801那样，作为第1处理槽12的中心轴X1的另一端侧的另一个例子，在从第2处理槽901的相邻于第1处理槽12的壁面分开的位置配置提供部801，即便对来自第1处理槽12的排出液流F2成为向图11A的右方移动的喷流的位置，从上方导入被处理液L3，以使得相对于喷流的排出液流F2的回旋方向成为直角方向，也可以得到与所述实施方式相同的效果。

更具体而言，提供部801的第1处理槽12的液体排出部17侧的下端壁面801a被较大切掉，并且与第1处理槽12的液体排出部17侧相反的一侧的下端壁面801b延伸为遮住液体排出部17的假想延长线。

通过设为这种结构，从提供部801向第2处理槽901提供的被处理液L3不是在提供部801的轴向直接从上向下流动到第2处理槽901的底部，而是在下端壁面801b的附近，相对于从液体排出部17向第2处理槽901内的下端壁面801b排出的处理液L2的排出液流F2的回旋方向，从上向下正交地碰撞混合。

此外，第2电极31并不局限于如之前的实施方式以及图11A所示那样被配置在提供部801的内部。如图11B所示，与第2电极31对应的第2电极311也可以被配置于提供部801的外部。例如，第2电极311也可以在第2处理槽901的相邻于第1处理槽12的壁面，与提供部801独立地配置。在图11B中，第2电极311不是被配置于提供部801内，而是被配置于提供部801外，并且，提供部801被配置于第2处理槽901的相邻于第1处理槽12的壁面的附近。

在这种变形例中，在金属离子从第2电极311向第2处理槽901内的被处理液L3中溶出的状态下，处理液L2从液体排出部17进入到第2处理槽901内并与被处理液L3混合从而产生芬顿反应。

进一步地，在图11C中，提供部801的提供口81也可以被配置于第2处理槽901，以使得对置于液体排出部17以及取入口91。在这种结构中，在金属离子从第2电极311向第2处理槽901内的被处理液L3中溶出的状态下，处理液L2从液体排出部17进入到第2处理槽90内并与被处理液L3混合从而产生芬顿反应。在该结构中，从提供部801向第2处理槽901提供被处理液L3的方向为与从第1处理槽12排出的处理液L2的喷流方向即排出液流F2的回旋方向交叉、即正交的方向。

此外，如图12所示，即使配管51的另一端是通过循环用配管84来连接为能够将第2处理槽90的包含处理液L2的被处理液L3从贮存水排出口82附近经由取水部16而循环的形态的结构，也可得到相同的效果。或者，如图13所示，即使是将配管51的另一端与提供部80分支地连接并将被处理液L3分别提供给第1处理槽12和提供部80的结构，也可得到相同的效果。

以上，对本发明的实施方式以及变形例进行了说明，但上述的实施方式以及变形例仅仅是用于实施本发明的示例。因此，本发明并不限定于上述的实施方式以及变形例，在不脱离其主旨的范围内能够对上述的实施方式以及变形例适当地进行变形并实施。例如，通过将所述实施方式或者变形例之中的任意的实施方式或者变形例适当地组合，能够起到各自具有的效果。此外，能够进行实施方式彼此的组合或者实施例彼此的组合或者实施方式与实施例的组合，并且也能够进行不同实施方式或者实施例之中的特征彼此的组合。

产业上的可利用性

本发明的所述方式所涉及的液体处理装置在被处理液中包含通过在液体中产生等离子体而生成的过氧化氢、和通过阳极的电解而生成的铜离子或铁离子，将其强制混合来有效地产生芬顿反应，从而能够对液体中包含的悬浊物质或者细菌进行分解以及杀菌并处理液体。进一步地，通过设为将未被处理的污浊物质或者细菌残存的液体作为产生等离子体的液体进行导入的结构，使其与等离子体直接接触、或者通过产生等离子体的附近，通过基于利用等离子体放电而产生的紫外线以及自由基等的分解以及杀菌作用，也能够处理液体。因此，能够利用于杀菌、除臭以及各种环境改善等。

Claims (5)

1.一种液体处理装置，具备：

筒状的第1处理槽，沿着中心轴的一端封闭且与所述中心轴正交的剖面形状为圆形，并且在所述中心轴的一端侧具有液体导入口，所述液体导入口通过从所述圆形的剖面形状的切线方向导入液体来使所述液体围绕所述中心轴进行回旋，使所述液体的回旋流中产生气相；

棒状的第1电极，被配置于所述第1处理槽的所述中心轴的所述一端侧；

第2电极，被配置于所述第1处理槽的所述中心轴的另一端侧，并且由包含铜或者铁的金属形成；

液体排出部，将所述液体作为处理液而从所述第1处理槽排出；

第2处理槽，将从所述液体排出部排出的所述处理液与被处理液混合；

电源，向所述第1电极与所述第2电极之间施加脉冲电压以使得所述第2电极被施加正的电压，使铜离子或者铁离子从所述第2电极向所述第2处理槽的所述被处理液中溶出，并且在所述气相内产生等离子体使得生成自由基或者离子；和

提供部，在与从所述第1处理槽排出的所述处理液的喷流方向不同的方向，向所述第2处理槽提供所述被处理液。

2.根据权利要求1所述的液体处理装置，其中，

作为所述第1处理槽的所述中心轴的另一端侧，所述第2电极被配置于所述提供部的内壁面。

3.根据权利要求1所述的液体处理装置，其中，

作为所述第1处理槽的所述中心轴的另一端侧，所述第2电极被配置于所述第2处理槽的接近于所述第1处理槽的一侧的壁面。

4.根据权利要求1所述的液体处理装置，其中，

作为所述第1处理槽的所述中心轴的另一端侧，所述第2电极的一端部被配置于所述第1处理槽内的所述中心轴的另一端的壁面，从该一端部贯通所述液体排出部而连接的所述第2电极的另一端部被配置于所述提供部的内壁面。

5.根据权利要求1～4的任意一项所述的液体处理装置，其中，

从所述第1处理槽排出的所述处理液的排出液流的回旋方向与从所述提供部向所述第2处理槽提供的所述被处理液的提供液流的回旋方向相反。

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