CN107608018B

CN107608018B - 用于制造偏光膜的方法和系统

Info

Publication number: CN107608018B
Application number: CN201710947289.1A
Authority: CN
Inventors: 徐维廷; 郭建生
Original assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date: 2017-08-16
Filing date: 2017-10-12
Publication date: 2022-03-11
Anticipated expiration: 2037-10-12
Also published as: JP7217599B2; KR20200068009A; TW201910396A; KR102536034B1; TWI640555B; JP2019035956A; CN107608018A

Abstract

一种用于制造偏光膜的系统，包括多个处理设备。该些处理设备用于对一偏光膜前驱物进行处理，以形成一偏光膜。该些处理设备包含一处理槽，处理槽中具有一槽液，该槽液中含有碘离子。该槽液位于一照光环境和一气氛环境至少一者中，使得偏光膜前驱物在通过该处理槽时，槽液所处的照光环境系在波长不小于等于430nm的光之中，且/或槽液所处的气氛环境为非氧化性气氛。以控制槽液中碘离子含量。

Description

用于制造偏光膜的方法和系统

技术领域

本发明是关于制造方法和系统。本发明特别是关于用于制造偏光膜的方法和系统。

背景技术

偏光板为一种广泛应用于液晶显示器的光学组件。随着液晶显示器的发展，对于液晶显示器连带着其中的组件的质量要求越来越高。偏光板通常是藉由在偏光膜上贴合保护膜而形成。其中，偏光膜可借由使可挠性的偏光膜前驱物通过多个处理设备而得。处理设备例如是处理槽，其中的槽液条件会对偏光膜的质量产生影响，因此，须以适当的方式将槽液的变化控制在一定范围内。举例来说，一般会针对需要的处理槽投入各种平衡用的药剂，并且定时更换槽液。

现有的技术主要使用投入剂来控制槽液，然而会造成投入剂成本及更换槽液之人力及成本问题，尽管可使用投入剂并配合槽液更换来控制槽液的变化，但仍希望可以减少投入剂的使用以免其在过量的情况下也可能对槽液产生影响，另外也希望延长更换槽液的时间以减少人力消耗和降低成本增加。

发明内容

本发明的目的在于提出一种用于制造偏光膜的方法和系统，以减少现有技术相关投入剂的使用、和/或延长槽液更换的时间。

根据一些实施方案，本发明提供一种用于制造偏光膜的系统。该系统包括多个处理设备。该些处理设备用于对一偏光膜前驱物进行处理，以形成一偏光膜。该些处理设备包含一处理槽，处理槽中具有一槽液，该槽液中含有碘离子。该槽液位于一照光环境和一气氛环境至少一者中，使得偏光膜前驱物在通过该处理槽时，槽液所处的照光环境系在波长不小于等于430nm的光之中，且/或槽液所处的气氛环境为非氧化性气氛。

根据一些实施方案，本发明提供一种用于制造偏光膜的系统。该系统包括多个处理设备。处理设备用于对一偏光膜前驱物进行处理，以形成一偏光膜。该些处理设备包括一处理槽。该系统更包括一外部桶槽，与处理槽连通。外部桶槽中具有一槽液，该槽液中含有碘离子。该槽液位于一照光环境和一气氛环境至少一者中，使得槽液所处的照光环境在波长不小于等于430nm的光之中，且/或槽液所处的气氛环境为非氧化性气氛。

根据一些实施方案，本发明提供一种用于制造偏光膜的方法。该方法包括使一偏光膜前驱物通过多个处理设备，以形成一偏光膜。该些处理设备包括一处理槽，处理槽中具有一槽液，该槽液中含有碘离子。该方法更包括控制该槽液位于一照光环境和一气氛环境至少一者中，使得偏光膜前驱物在通过处理槽时，槽液所处的照光环境系在波长不小于等于430nm的光之中，且/或使槽液所处的气氛环境为非氧化性气氛。

为了对本发明的上述及其他方面有更佳的了解，下文特举实施例方案和实施例，并配合所附图式详细说明如下：

附图说明

图1为根据实施方案的一用于制造偏光膜的系统的一部分的示意图。

图2为根据实施方案的一用于制造偏光膜的系统的一部分的示意图。

图3为一用于实施例和比较例的实验配置的示意图。

图4为另一用于实施例和比较例的实验配置的示意图。

其中，附图标记：

10：偏光膜前驱物

10’：偏光膜

21：膨润槽

22：染色槽

23：交联槽

24：补色槽

25：洗净槽

26：干燥炉

30：处理空间

31：辊

32：光源

33：气氛控制设备

34：气体通入口

35：气体排出口

40：外部桶槽

43：气氛控制设备

44：气体通入口

45：气体排出口

132：光源

141：容器

142：样品

232：光源

233：塞子

234：管子

235：管子

241：容器

242：样品

d1：距离

d2：距离

d3：距离

P1：控制气压

P2：环境气压

V1：第一体积

V2：第二体积

具体实施方式

以下将配合所附图式对于根据实施方案的系统和方法进行详细说明，以提供对于根据实施方案的系统和方法更进清楚的理解。可以明白的是，所附图式与其相关的说明只是作为列举解释用途，并非用于限制本发明。此外可以预期的是，一实施方案或实施例中的组件、条件和特征，能够被有利地纳入于另一实施方案或实施例中，然而并未对此作进一步的列举。

根据实施方案的一种用于制造偏光膜的系统，包括多个处理设备。该些处理设备用于对一偏光膜前驱物进行处理，以形成一偏光膜。该些处理设备中包含至少一处理槽，处理槽中具有一槽液，该槽液中含有的某些离子在槽液中易发生自发性氧化还原反应，而产生会对所形成的偏光膜的质量造成负面影响的产物。举例来说，某些处理槽中的碘离子(I^-)，例如交联槽和/或补色槽中的碘离子，即会自发性地氧化成碘分子(I₂)，其会对于制造出来的偏光膜的质量造成负面影响，例如是对偏光膜的光学性质造成影响。根据实施方案，这样的至少一处理槽的槽液位于一照光环境和一气氛环境的至少一者中，使得偏光膜前驱物在通过处理槽时，槽液所处的照光环境系在波长不小于等于430nm的光之中，且/或槽液所处的气氛环境为非氧化性气氛。举例来说，这样的环境控制甚至可以只在例如停止系统(比如为了维护或更换槽液)时停止。在一些实施方案中，除了必须对处理槽进行监控或人工处理等需要光源的情况下，该处理槽可不被光照射，处于黑暗中。在一些实施方案中，照光环境系在波长550nm～780nm的光之中。在一些实施方案中，非氧化性气氛为氮气气氛和/或惰性气体气氛。根据一些实施方案，非氧化气氛通入处理槽的通气量可为5L/min～100L/min，较佳地为5L/min～10L/min。气氛环境的一控制气压可大于系统在该处理槽以外的部份的一环境气压。举例来说，该控制气压和该环境气压的压差可为1Pa(帕)～30Pa。在一些实施方案中，处理槽中的气氛环境具有一第一体积，处理槽中的槽液具有一第二体积，第一体积除以第二体积的比例可介于0.01和0.5之间，较佳地介于0.01和0.05之间。在一些实施方案中，可在该处理槽中配合使用一还原剂。还原剂可为重量百分比为10％的水溶液。还原剂通入槽液的流量可为0.1L/min～1L/min。

与其对应，根据实施方案的一种用于制造偏光膜的方法，包括使一偏光膜前驱物通过多个处理设备，以形成一偏光膜。该些处理设备中包含至少一处理槽，处理槽中具有一槽液，该槽液中含有前述自发性反应的离子，例如碘离子。根据实施方案，该方法更包括控制该槽液位于一照光环境和一气氛环境至少一者中，使得偏光膜前驱物在通过处理槽时，槽液所处的照光环境系在波长不小于等于430nm的光之中，且/或使槽液所处的气氛环境为非氧化性气氛。举例来说，这样的环境控制甚至可以只在例如停止系统(比如为了维护或更换槽液)时停止。在一些实施方案中，除了必须对该处理槽进行监控或人工处理等需要光源的情况下，可尽可能地减少该处理槽被光照射的时间，甚至令其在使用时处于黑暗中。在一些实施方案中，在偏光膜前驱物通过该处理槽时，使该槽液接受波长为550nm～780nm的光照射。在一些实施方案中，在偏光膜前驱物通过该处理槽时，使槽液处于氮气气氛和/或惰性气体气氛下。可使非氧化性气氛的一控制气压大于系统在该处理槽以外的部份的一环境气压。举例来说，该控制气压和该环境气压的压差可为1Pa～30Pa。在一些实施方案中，可定时监控该处理槽的槽液中的碘离子含量，在碘离子含量等于大于0.5mM时，将一还原剂投入槽液中或更换槽液。

请参照图1，其为根据实施方案的一用于制造偏光膜的系统的示意图。除了前述提及的染色槽和交联槽外，图1还示出其他用于制造偏光膜的处理设备。具体来说，在图1中，系统的处理设备被绘示成包括一膨润槽21、一染色槽22、一交联槽23、一补色槽24、一洗净槽25、以及一干燥炉26。系统中的所有处理设备皆可选择性地增加、减少、重复配置、或进行其他调整。举例来说，在一种系统中，可包括多个染色槽22。在一种系统中，可包括多个交联槽23。在一种系统中，可省略补色槽24。如图1所示，系统的处理设备可设置在一处理空间30中，处理空间30例如但不限于为一处理室或一处理房间。一偏光膜前驱物10，借由系统的多个辊31的传送，依序通过各个处理设备(21～26)，而形成偏光膜10’。偏光膜10’可将光线由非偏极光转换为偏极光，其例如是由吸附配向的二色性色素的聚乙烯醇(polyvinylalcohol,PVA)薄膜或由液晶材料掺附具吸收染料分子所形成。

用于形成偏光膜10’的偏光膜前驱物10，可包括聚乙烯醇(polyvinyl alcohol,PVA)或其他适合的材料。举例来说，偏光膜前驱物10可为PVA的薄膜。聚乙烯醇可借由皂化聚乙酸乙烯酯而形成。根据一些实施方案，聚乙烯醇的皂化度可为85摩尔％～100摩尔％。根据一些实施方案，聚乙酸乙烯酯可为乙酸乙烯酯的单聚物、或者乙酸乙烯酯以及乙酸乙烯的共聚合物和其他能与乙酸乙烯进行共聚合的其它单体的共聚物。在一些实施方案中，聚乙烯醇经过改质，例如是经醛类改质的聚乙烯甲醛(polyvinylformal)、聚乙烯醇缩乙酸、聚乙烯乙醛、或聚乙烯丁醛(polyvinylbutyral)等等。在一些实施方案中，偏光膜前驱物10的厚度约为1μm(微米)～200μm。

偏光膜前驱物10可先经由辊31引导至膨润槽21，以对于偏光膜前驱物10进行一膨润处理。膨润处理可去除偏光膜前驱物10表面的异物以及偏光膜前驱物10中的可塑剂，并且有助于后续的染色处理和交联处理的进行。膨润槽21中的槽液主要为纯水，其与偏光膜前驱物10反应。在一些实施方案中，膨润处理的温度为10℃～50℃，膨润处理的时间则为5秒～300秒。

根据一些实施方案，可使用经过延伸的偏光膜前驱物10。根据另一些实施方案，可在用于制造偏光膜的系统中对于偏光膜前驱物10进行一延伸处理。延伸处理可在通过膨润槽21、和/或后续染色槽22、交联槽23时进行。举例来说，可使得设置在膨润槽21入口的辊31与设置在膨润槽21出口的辊31存在周速差，进行单轴延伸处理。

偏光膜前驱物10接着经由辊31引导至染色槽22，以对于偏光膜前驱物10进行一染色处理。染色槽22中的槽液含有一染色剂。染色剂可使用二色性色素、或其它适合的水溶性二色素染料。在一些实施方案中，染色剂包含碘和碘化钾。举例来说，染色剂可为包含0.003重量份～0.2重量份的碘及3重量份～30重量份的碘化钾的水溶液。在一些实施方案中，染色处理的温度为10℃～50℃，染色处理的时间则为10秒～600秒。为了使染色处理的效果更好，槽液中可包括其它添加物。举例来说，在一些实施方案中，额外添加硼酸。

偏光膜前驱物10接着经由辊31引导至交联槽23，以对于偏光膜前驱物10进行一交联处理。交联槽23中的槽液含有一交联剂。交联剂可使用硼酸。交联槽23中的槽液可更含有一光学调整剂。改变光学调整剂的浓度可调整偏光膜色相。光学调整剂可使用碘化钾、碘化锌、或其组合。在一些实施方案中，槽液为水溶液，其中包含1重量份～10重量份的硼酸、及1重量份～30重量份的碘化钾。在一些实施方案中，交联处理的温度可为10℃～70℃，交联处理的时间则为1秒～600秒。在一些实施方案中，交联处理在酸性环境下进行，pH值例如是2～5。因此，交联槽的槽液可更含有一酸碱值调整剂。酸碱值调整剂可使用过氯酸、氢碘酸、氢溴酸、盐酸、硫酸、硝酸、磷酸、氢氟酸、甲酸、抗坏血酸、和/或乙酸。在一些实施方案中，由于使用前述的碘系光学调整剂，其在槽液中形成的碘离子(I^-)，在交联处理所使用的酸性环境下会自发性地氧化成碘分子(I₂)，为了维持和控制碘离子、碘分子的浓度，交联槽的槽液可更含有一还原剂。还原剂可使用硫酸盐、硫代硫酸盐、二硫亚磺酸盐、亚硫酸盐、亚硫酸、亚硝酸盐、铁盐、和/或锡盐。

选择性地，在一些实施方案中，偏光膜前驱物10接着经由辊31引导至补色槽24，以对于偏光膜前驱物10进行一补色处理。补色处理进一步地调整偏光膜前驱物10，以达成偏光膜10’所需的色相。补色槽24中的槽液可与交联槽23中的槽液有类似甚至相同的构成。在一些实施方案中，补色处理的温度为10℃～70℃，补色处理的时间则为1秒～15分钟。

偏光膜前驱物10接着经由辊31引导至洗净槽25，以对于偏光膜前驱物10进行一洗净处理。洗净处理可借由浸泡于水中、以水喷流进行喷雾、或前述方式的组合来进行。在一些实施方案中，洗净处理的温度为2℃～45℃，洗净处理的时间则为2秒～120秒。

经过洗净处理的偏光膜前驱物10可接着经由辊31引导至干燥炉26，以对于偏光膜前驱物10进行一干燥处理，干燥处理后即为偏光膜10’。在一些实施方案中，干燥处理的温度为35℃～105℃，干燥处理的时间则为10秒～300秒。

在这样的系统中，所述照光和气氛受到控制的至少一处理槽，可包括交联槽23及/或补色槽24。另外，虽然图1未绘示，在一些实施方案中，也可包括染色槽22。举例来说，可对于一染色槽22、一交联槽23、一补色槽24、或多个交联槽23(例如三个交联槽23)、或所有染色槽22、交联槽23和补色槽24进行控制。这可依照需求进行调整。亦即，槽液位于一照光环境和一气氛环境至少一者中的至少一处理槽，可选自于由一染色槽、一交联槽及一补色槽所组成的群组。就照光的控制方面来说，根据一些实施方案，如图1所示，系统可包括一或更多个光源32，光源32照射所有的处理设备。光源32存在的目的在于，即使是自动化工艺，但为了进行系统的监控、或者人工协助操作处理等目的，仍需要能够提供可见光的光源32。然而，为了配合槽液中含有自发性反应的离子的至少一处理槽(23、24)所进行的照光的控制，根据实施方案的光源32所发出波长不小于等于430nm且更佳地为550nm～780nm的光，以制造所述照光环境。举例来说，可选择诸如发出500nm(青光)、550nm(绿光)、和610nm(红光)之类的单一波长的光源32。又举例来说，也可选择发出一个频段的波长的光源32，只要其发出的光不包括波长小于等于430nm的频段。在一些实施方案中，光源32的照度可为150～1000流明，例如是400～700流明。在一些实施方案中，光源32的数量可为20～60个，例如是30～40个。在一些实施方案中，光源32距离槽液的垂直高度d3可为2～10米(m)。根据另一些实施方案，也可以将要控制的至少一处理槽(23、24)与其它处理设备(21、22、25、26)进行光学上的隔离，单独地控制该处理槽，使得至少在偏光膜前驱物通过该处理槽时，处理槽中的槽液不被波长小于等于430nm的光照射。举例来说，在偏光膜前驱物通过该处理槽时，可使处理槽处于黑暗中。或者，为了进行系统的监控、或者人工协助操作处理等目的，特别提供该处理槽一光源，该光源发出的光的波长不小于等于430nm，更佳地为550nm～780nm。

就气氛的控制方面来说，根据一些实施方案，如图1所示，系统可包括一气氛控制设备33，气氛控制设备33使得该至少一处理槽(23、24)中的槽液处于所述气氛环境下。如图1所示，气氛控制设备33例如是一桶槽盖。桶槽盖包括气体通入口34。桶槽盖并提供一气体排出口。举例来说，该桶槽盖和该至少一处理槽(23、24)在偏光膜前驱物10进出处理槽的位置形成气体排出口35。根据一些实施方案，气氛控制设备33使得处理槽中的槽液处于氮气气氛和/或惰性气体气氛下，其中，惰性气体气氛例如是氦气气氛、氖气气氛、氩气气氛、氪气气氛、氙气气氛、和/或氡气气氛。在一些实施方案中，气体气氛较佳地选用氮气气氛或氩气气氛。在一些实施方案中，该氮气气氛和/或惰性气体气氛的一控制气压P1可大于系统在该至少一处理槽以外的部份的一环境气压P2。如此一来，由于控制气压P1和环境气压P2的压差，在偏光膜前驱物10进出该至少一处理槽的位置，即使未进行密封，也会自然地形成气体排出口35，使得该至少一处理槽(23、24)中的槽液处于非氧化性气氛下，而不会受到包括氧化性气体的环境气氛(例如空气)所影响。根据一些实施方案，控制气压P1和环境气压P2的压差可为1Pa～30Pa。亦即，P1-P2＝1～30Pa。在一些实施方案中，非氧化气氛通入处理槽的通气量为5L/min～100L/min，例如是5L/min～10L/min。在一些实施方案中，处理槽中的气氛环境具有一第一体积V1，处理槽中的槽液具有一第二体积V2，第一体积V1除以第二体积V2的比例介于0.01和0.5之间，例如介于0.01和0.05之间。在一些实施方案中，一个桶槽盖对应一个处理槽。在另一些实施方案中，一个桶槽盖可对应多个处理槽，例如只使用一个桶槽盖即覆盖所有需要控制气氛的处理槽。

借由照光和气氛的控制，可大幅抑制前述自发性反应的离子的反应，例如是使其反应速度趋缓，从而可减少相关投入剂的使用、和/或延长槽液更换的时间。举例来说，在一些实施方案中，对于交联槽23(和补色槽24)的槽液中的碘离子含量进行定时监控，在碘离子含量等于大于设定值(例如0.5mM)时，将一还原剂投入槽液中或更换槽液(例如槽液本身已含有还原剂但仍有超标情况发生)。在一些实施方案中，当交联槽23(和补色槽24)的槽液中的碘离子含量等于大于0.5mM时，即可发现偏光膜10’的质量受到明显影响，因此将其作为前述设定值。如果交联槽23(和补色槽24)受到照光和气氛的控制，在一方面来说，可减少还原剂的用量，减轻还原剂的阴离子在槽液中累积而对于偏光膜10’的质量造成影响的情况。此外，也可以省略或减少活性碳的使用。另一方面来说，可能延长槽液更换的时间，减少系统需停止的时间，可提高产量或加快制造速度。

在一些实施方案中，系统可更包括一或更多个外部桶槽，其分别对应地与一或更多个如前所述的包含槽液的处理设备(包括但不限于膨润槽21、染色槽22、交联槽23、补色槽24、洗净槽25)连通。如此一来，可进行槽液的提供和回收。在一些实施方案中，还可在槽液交换的过程进行过滤等处理。其中，与前述希望受到控制的至少一处理槽(染色槽22、交联槽23、补色槽24)所连通的外部桶槽，由于具有相同的槽液，也可采用类似的方式加以控制。如图2所示，一外部桶槽40系设置在处理空间30之外，其与染色槽22、交联槽23、补色槽24的任一者连通。外部桶槽40中具有一槽液，槽液中含有碘离子。该槽液位于一照光环境和一气氛环境至少一者中，使得槽液所处的照光环境系在波长不小于等于430nm的光之中，且/或槽液所处的气氛环境为非氧化性气氛。根据一些实施方案，可采用前述任一实施方案所述的对于处理槽的控制方式，来控制外部桶槽40。举例来说，如图2所示，可使用例如是一桶槽盖的气氛控制设备43，借由桶槽盖的气体通入口44通入氮气气氛和/或惰性气体气氛，并借由在桶槽盖与外部桶槽40之间保留间隙提供气体排出口45。并且，可使得氮气气氛和/或惰性气体气氛的一控制气压大于外部桶槽40外的一环境气压，例如具有类似于前述的控制气压P1和环境气压P2之间的关系。

以下提供具体实施例和比较例，以协助对于照光和气氛的控制能提供的好处能有更清楚的理解。

[样品准备]

将60克纯水、2.5克硼酸、7.2克碘化钾和0.1克硫酸均匀混合，搅拌至无沉淀物，作为模拟交联槽/补色槽中的槽液的样品。

[照光控制实验]

[实验配置]

照光控制实验的实验配置如图3所示，在容器141中置入如前述方式制备的样品142，整体暴露在空气中。以光源132进行照射，光源132和样品142的距离d1为25公分。对于实施例1～3和比较例1～3，分别使用波长为610nm的红光光源、波长为550nm的绿光光源、波长为500nm的青光光源、波长为430nm的蓝光光源、波长为340nm的紫外光光源和波长为280nm的紫外光光源，照度均为700流明。在进行照射前和照射一小时后分别取出样品142，使用紫外光/可见光光谱仪(UV-2450，Shimadzu)，量测设定在吸收波长350nm的碘的最大吸收峰，藉此测定样品142的碘分子浓度(mM)。

[结果讨论]

照光控制实验的实验结果如表1所列。从表1的比较例1～3可以看出，当照射的光的波长为430nm或更低时，在一个小时以内即需要进行还原剂的投入或槽液的更换。相对于此，如实施例1～3使用波长不小于等于430nm的光进行照射时，至少在以一个小时为间隔进行监控的情况下，槽液中的碘离子含量不会在未注意到时即超过设定值(例如0.5mM)而影响所形成的偏光膜的质量。从表1的实施例1～2更可以看出，使用波长为550nm～780nm的范围内的光源时，可将交联槽/补色槽的调整/替换时间延长至二倍以上。

表1

[气氛控制实验]

[实验配置]

气氛控制实验的实验配置如图4所示，在容器241中置入如前述方式制备的样品242，容器241借由塞子233进行密封，并插入延伸至样品242的管子234作为气体通入口，插入不碰到样品242的管子235作为气体排出口。对于实施例4～5和比较例4～5，在置入样品242之后，使用塞子233并构成密闭空间，对其进行抽真空，再借由管子234分别通入氩气、氮气、氧气、空气，气体流量为300cc/min。以光源232进行照射，其中光源232和样品242的距离d2为30公分。使用白光光源，照度为700流明。在进行照射前和照射一天后分别取出样品242，使用紫外光/可见光光谱仪(UV-2450，Shimadzu)，量测设定在吸收波长350nm的碘的最大吸收峰，藉此测定样品242的碘分子浓度(mM)。

[结果讨论]

照光控制实验的实验结果如表2所列。比较表2的实施例4～5和比较例4～5可以看出，使用非氧化性气体和包括氧化性气体的氧气和空气，碘分子的增加浓度可相差至一个数量级。因此，将交联槽/补色槽的槽液控制在非氧化性气体下，可大幅延长调整/替换时间。

表2

当然，本发明还可有其它多种实施例，在不背离本发明精神及其实质的情况下，熟悉本领域的技术人员可根据本发明作出各种相应的改变和变形，但这些相应的改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。

Claims

1.一种用于制造偏光膜的系统，其特征在于，包括：

多个处理设备，用于对一偏光膜前驱物进行处理，以形成一偏光膜；

其中，该些处理设备包含一处理槽，该处理槽中具有一槽液，该槽液中含有碘离子，该槽液被设置成，使得该偏光膜前驱物在通过该处理槽时，该槽液所处的一照光环境系在波长500nm～780nm的光之中，

所述处理槽选自于由一染色槽、一交联槽及一补色槽所组成的群组。

2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，该槽液被设置成，使得该偏光膜前驱物在通过该处理槽时，该槽液所处的一气氛环境为非氧化性气氛。

3.一种用于制造偏光膜的系统，其特征在于，包括：

多个处理设备，用于对一偏光膜前驱物进行处理，以形成一偏光膜，该些处理设备包括一处理槽；以及

一外部桶槽，与该处理槽连通，该外部桶槽中具有一槽液，该槽液中含有碘离子，该槽液被设置成，使得该槽液所处的一照光环境在波长500nm～780nm的光之中。

4.根据权利要求3所述的系统，其特征在于，该槽液被设置成，使得该槽液所处的一气氛环境为非氧化性气氛。

5.根据权利要求1或3所述的系统，其特征在于，该照光环境系在波长550nm～780nm的光之中。

6.根据权利要求2或4所述的系统，其特征在于，该非氧化性气氛为氮气气氛和/或惰性气体气氛，且/或该非氧化性气氛的通气量为5L/min～100L/min。

7.根据权利要求2或4所述的系统，其特征在于，该气氛环境的一控制气压大于一环境气压。

8.根据权利要求7所述的系统，其特征在于，该控制气压和该环境气压的压差为1Pa～30Pa。

9.根据权利要求1或3所述的系统，其特征在于，包括一或更多个光源，该光源发出波长为550nm～780nm的光以制造该照光环境，且/或该光源的照度为150～1000流明，且/或该一或更多个光源的数量为20～60个，且/或该光源距离该槽液的垂直高度为2～10米。

10.根据权利要求2或4所述的系统，其特征在于，该气氛环境具有一第一体积，该槽液具有一第二体积，该第一体积除以该第二体积的比例介于0.01和0.5之间。

11.根据权利要求1或3所述的系统，其特征在于，包括一桶槽盖，该桶槽盖包括气体通入口，该桶槽盖并提供气体排出口。

12.根据权利要求1或3所述的系统，其特征在于，该槽液更含有一还原剂，该还原剂为重量百分比为10％的水溶液，且该还原剂通入该槽液的流量为0.1L/min～1L/min。

13.一种用于制造偏光膜的方法，其特征在于，包括：

使一偏光膜前驱物通过多个处理设备，以形成一偏光膜，其中，该些处理设备包含一处理槽，该处理槽中具有一槽液，该槽液中含有碘离子；以及

控制该槽液，使得该偏光膜前驱物在通过该处理槽时，该槽液所处的一照光环境系在波长500nm～780nm的光之中，

14.根据权利要求13所述的方法，其特征在于，该方法还包括控制该槽液，使得该偏光膜前驱物在通过该处理槽时，使该槽液所处的一气氛环境为非氧化性气氛。

15.根据权利要求13所述的方法，其特征在于，在该偏光膜前驱物通过该处理槽时，使该槽液接受波长为550nm～780nm的光照射。

16.根据权利要求13所述的方法，其特征在于，在该偏光膜前驱物通过该处理槽时，使该槽液处于氮气气氛和/或惰性气体气氛下。

17.根据权利要求14所述的方法，其特征在于，使该非氧化性气氛的一控制气压大于该些处理设备在该处理槽以外的部份的一环境气压。

18.根据权利要求17所述的方法，其特征在于，该控制气压和该环境气压的压差为1Pa～30Pa。

19.根据权利要求13所述的方法，其特征在于，更包括：

定时监控该一处理槽的该槽液中的碘离子含量，在该碘离子含量等于大于0.5mM时，将一还原剂投入该槽液中或更换该槽液。