CN107390302A

CN107390302A - 光学层叠体及使用该光学层叠体的光学薄膜片的制造方法

Info

Publication number: CN107390302A
Application number: CN201710341961.2A
Authority: CN
Inventors: 樋口直孝; 仲井宏太; 杉本笃彦; 李信兴; 陈莛翔; 高志维; 何幸容
Original assignee: Nitto Denko Corp
Current assignee: Nitto Denko Corp
Priority date: 2016-05-17
Filing date: 2017-05-16
Publication date: 2017-11-24
Also published as: CN117555052A; JP2017207585A; KR20240046469A; JP6887759B2; TW201801921A; KR20170129613A; TWI753911B

Abstract

本发明提供一种光学层叠体及使用该光学层叠体的光学薄膜片的制造方法。提供一种即使被提供给利用激光照射的切割工序也能够防止作为制品的光学薄膜的污染的光学层叠体，以及提供一种在包括利用激光照射的切割工序的光学薄膜片的制造方法中、能够防止作为制品的光学薄膜片的表面污染的制造方法。本发明的光学层叠体具备光学薄膜、和可剥离地配置在该光学薄膜的至少单侧的保护薄片；该光学薄膜是具备偏振板和配置在该偏振板的至少单侧的表面保护薄膜或隔膜的光学薄膜。

Description

光学层叠体及使用该光学层叠体的光学薄膜片的制造方法

技术领域

本发明涉及光学层叠体及使用该光学层叠体的光学薄膜片的制造方法。

背景技术

以往，在液晶显示装置等的图像显示装置中，使用偏振薄膜及相位差薄膜等的各种各样的光学薄膜，通过具备这些光学薄膜，该图像显示装置发挥希望的图像显示特性。光学薄膜通常通过从大面积的母薄片切割为具有规定的制品形状的光学薄膜片来制造(例如，专利文献1)。

作为将光学薄膜片切割的手段，较多采用利用激光照射的切割。但是，在使用激光切割光学薄膜的情况下，发生从激光的照射部分产生烟、粉尘等的问题。产生的烟、粉尘等附着到光学薄膜片的表面上，成为污染的原因。被污染的光学薄膜片的使用在得到光学薄膜片后的工序中成为制造装置被污染的原因，成为制品成品率下降的原因。为了应对这样的问题，以往进行在吸引下进行激光照射、在切割后清洗薄膜片等的作业，但通过这些作业也难以确保充分的洁净性。此外，上述作业成为使工序变复杂的原因。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平11－231129号公报

发明内容

发明所要解决的课题

本发明是为了解决上述以往的问题而做出的，其主要的目的是提供一种即使被提供给利用激光照射的切割工序也能够防止作为制品的光学薄膜的污染的光学层叠体，以及提供一种在包括利用激光照射的切割工序的光学薄膜片的制造方法中，能够防止作为制品的光学薄膜片的表面污染的制造方法。

解决课题的手段

本发明的光学层叠体具备光学薄膜、和可剥离地配置在该光学薄膜的至少单侧的保护薄片；该光学薄膜是具备偏振板和配置在该偏振板的至少单侧的表面保护薄膜或隔膜的光学薄膜。

根据本发明的另一方面，提供一种光学薄膜片的制造方法。该制造方法是从上述光学层叠体制造光学薄膜片的方法，包括：向该光学层叠体照射激光而切割出光学层叠体片的工序；以及从该光学层叠体片将该保护薄片剥离的工序。

发明的效果

根据本发明，通过在光学薄膜上配置保护薄片，能够提供一种即使被提供给利用激光照射的切割工序也能防止光学薄膜自身的污染的光学层叠体。此外，本发明的光学薄膜片的制造方法是使用上述光学层叠体片的光学薄膜片的制造方法，根据该制造方法，能够防止光学薄膜自身的污染。

附图说明

图1是本发明的1个实施方式的光学层叠体的概略剖视图。

图2是说明本发明的1个实施方式的光学薄膜片的制造方法的一例的概略图。

标号说明：

100 光学层叠体

110 光学薄膜

120 保护薄片。

具体实施方式

A.光学层叠体

图1是本发明的1个实施方式的光学层叠体的概略剖视图。该光学层叠体100具备光学薄膜110和配置在光学薄膜110上的保护薄片120a、120b。保护薄片120a、120b可剥离地配置。保护薄片既可以配置在光学薄膜的单侧，也可以配置在两侧。优选的是，如图示例那样，保护薄片120a、120b配置在光学薄膜110的两侧。

在本发明的光学层叠体中，通过在光学薄膜上配置保护薄片，来防止光学薄膜的污染。上述光学层叠体能够在具备保护薄片的原状下被提供给任意的适当的工序。在1个实施方式中，上述光学层叠体被提供给利用激光照射的切割工序。代表性地，该工序是向光学层叠体照射激光、将包括光学薄膜的光学层叠体切割为具有希望的制品形状的光学层叠体片的工序。如果作为被加工物而使用具备保护薄片的光学层叠体，则能够防止因激光照射产生的烟、粉尘等(以下也单称作烟等)向光学薄膜(光学薄膜片)的附着。上述保护薄片由于可剥离地配置，所以能够在任意的适当的时机被剥离、废弃。将保护薄片剥离后的光学薄膜片能够在保持洁净性的状态下被作为制品或半制品使用。

在1个实施方式中，作为光学薄膜而使用具备偏振板和配置在该偏振板的至少单侧的表面保护薄膜或隔膜的光学薄膜。在图1中，使用具备偏振板111和配置在偏振板的两侧的表面保护薄膜112的光学薄膜110。表面保护薄膜112是用来保护偏振板的薄膜，优选的是可剥离地配置。即，本实施方式的光学层叠体的特征在于将用来保护偏振板的表面保护薄膜、和保护包括偏振板和表面保护薄膜的光学薄膜的保护薄片并用。如果使用这样的光学层叠体，则能够防止由激光照射带来的上述表面保护薄膜的污染。偏振板有在被表面保护薄膜保护的状态下被向制造图像显示装置的工序提供的情况，此时，如果使用被维持了洁净性的表面保护薄膜保护的上述光学薄膜(偏振板/表面保护薄膜)，则能够防止制造装置的污染及因该污染造成的成品率下降。另外，虽然没有图示，但代表性地，偏振板具备起偏器和保护层。如上述那样，在本说明书中所谓“表面保护薄膜”，是将偏振板暂时保护的薄膜，与偏振板具备的保护层(保护起偏器的层)不同。

在1个实施方式中，上述光学层叠体是长条状。

(保护薄片)

作为上述保护薄片的形成材料，例如可以举出二乙酰纤维素、三乙酰纤维素等纤维素类树脂、(甲基)丙烯酸类树脂、环烯烃类树脂、聚丙烯等烯烃类树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯类树脂等酯类树脂、聚酰胺类树脂、聚碳酸酯类树脂、它们的共聚物树脂等。此外，作为保护薄片，也可以使用由甲基丙烯酸酯、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚芳酯、聚苯乙烯(PS)、聚醚醚酮、聚砜、聚醚砜、聚酰亚胺、聚醚酰亚胺等的树脂构成的薄膜。在上述光学层叠体在光学薄膜的两侧具备保护薄片的情况下，两片保护薄片既可以分别由相同的材料形成，也可以由不同的材料形成。

上述保护薄片的厚度优选的是10μm～350μm，更优选的是12μm～50μm。厚度为这样的范围的保护薄片能够作为支承体有效地发挥功能，具备该保护薄片的光学层叠体输送性良好。在上述光学层叠体在光学薄膜的两侧具备保护薄片的情况下，两片保护薄片既可以分别是相同的厚度，也可以是不同的厚度。

在1个实施方式中，上述保护薄片和上述光学薄膜被经由任意的适当的粘接剂贴合。在另一实施方式中，上述保护薄片通过摩擦力而保持在上述光学薄膜上。上述保护薄片相对于上述光学薄膜的剥离力优选的是超过0N/20mm且为2N/20mm以下，更优选的是0.005N/20mm～2N/20mm。如果是这样的范围，则在利用激光照射的切割工序中，能够防止保护薄片的剥离、偏移。在1个实施方式中，在向光学薄膜的两侧配置保护薄片的情况下，一方的保护薄片相对于上述光学薄膜的剥离力与另一方保护薄片相对于上述光学薄膜的剥离力不同，并且在该切割工序后将保护薄片剥离时的作业性更好。另外，剥离力用依据JISZ0237：2000的方法测量(拉伸速度300mm/min，剥离角度180°，测量温度：23℃)。

(光学薄膜)

作为上述光学薄膜，可以使用任意的适当的光学薄膜。在1个实施方式中，如上述那样，作为光学薄膜而使用偏振板和表面保护薄膜及/或隔膜的层叠体。表面保护薄膜或隔膜经由任意的适当的粘接剂可剥离地层叠在偏振板上。

偏振板代表性地具备起偏器和配置在该起偏器的至少单侧的保护层。

起偏器代表性的是由包含二色性物质的树脂薄膜构成。作为二色性物质，例如可以举出碘、有机染料等。它们可以单独或将两种以上组合而使用。优选的是使用碘。

作为形成上述树脂薄膜的树脂，可以使用任意的适当的树脂。优选的是使用聚乙烯醇类树脂。作为聚乙烯醇类树脂，例如可以举出聚乙烯醇、乙烯－乙烯醇共聚物。聚乙烯醇通过将聚醋酸乙烯酯皂化而得到。乙烯－乙烯醇共聚物通过将乙烯－醋酸乙烯酯共聚物皂化而得到。

起偏器优选的是在波长380nm～780nm的某个波长下呈现吸收二色性。起偏器的单体透射率(Ts)优选的是39％以上，更优选的是39.5％以上，更加优选的是40％以上，特别优选的是40.5％以上。另外，单体透射率的理论上的上限是50％，实用性的上限是46％。此外，单体透射率(Ts)是通过JISZ8701的2度视野(C光源)测量并进行能见度修正后的Y值，例如可以使用显微分光系统(Lambda Vision制，LVmicro)测量。起偏器的偏振度优选的是99.9％以上，更优选的是99.93％以上，更加优选的是99.95％以上。

起偏器的厚度可以设定为任意的适当的值。厚度优选的是30μm以下，更优选的是25μm以下，更加优选的是20μm以下，特别优选的是10μm以下。另一方面，厚度优选的是0.5μm以上，更优选的是1μm以上。

起偏器代表性地通过对上述树脂薄膜实施溶胀处理、拉伸处理、用上述二色性物质进行的染色处理、交联处理、清洗处理、干燥处理等的各种处理而得到。在实施各种处理时，树脂薄膜也可以是形成在基材上的树脂层。

作为上述保护层的形成材料，例如可以举出二乙酰纤维素、三乙酰纤维素等纤维素类树脂、(甲基)丙烯酸类树脂、环烯烃类树脂、聚丙烯等烯烃类树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯类树脂等酯类树脂、聚酰胺类树脂、聚碳酸酯类树脂、它们的共聚物树脂等。保护层的厚度优选的是10μm～100μm。

也可以在在上述保护层的没有层叠起偏器的面上，作为表面处理层而实施硬涂层或反射防止处理、以扩散或防眩光为目的的处理。表面保护薄膜代表性的是经由粘接剂层贴合在起偏器上。

作为保护上述偏振板的表面保护薄膜的形成材料，例如可以举出聚对苯二甲酸乙二醇酯类树脂等酯类树脂、降冰片烯类树脂等环烯烃类树脂、聚丙烯等烯烃类树脂、聚酰胺类树脂、聚碳酸酯类树脂、它们的共聚物树脂等。优选的是酯类树脂(特别是聚对苯二甲酸乙二醇酯类树脂)。

上述表面保护薄膜的厚度代表性的是20μm～250μm，优选的是30μm～150μm。

上述表面保护薄膜相对于上述偏振板的剥离力优选的是超过0N/20mm且为2N/20mm以下，更优选的是0.005N/20mm～2N/20mm。在将上述保护薄片配置在表面保护薄膜的与偏振板相反侧的情况下，该保护薄片相对于表面保护薄膜的剥离力优选的是比表面保护薄膜相对于偏振板的剥离力小。

作为上述隔膜的形成材料，例如可以举出聚对苯二甲酸乙二醇酯类树脂等酯类树脂、降冰片烯类树脂等环烯烃类树脂、聚丙烯等烯烃类树脂、聚酰胺类树脂、聚碳酸酯类树脂、它们的共聚物树脂等。优选的是酯类树脂(特别是聚对苯二甲酸乙二醇酯类树脂)。

上述隔膜的厚度代表性的是20μm～250μm，优选的是30μm～150μm。

上述隔膜相对于上述偏振板的剥离力优选的是超过0N/20mm且2N/20mm以下，更优选的是0.005N/20mm～2N/20mm。在1个实施方式中，隔膜相对于上述偏振板的剥离力比表面保护薄膜相对于上述偏振板的剥离力小。此外，在将上述保护薄片配置在隔膜的与偏振板相反侧的情况下，该保护薄片相对于隔膜的剥离力优选的是比隔膜相对于偏振板的剥离力小。

B.光学薄膜片的制造方法

本发明的光学薄膜片的制造方法包括向上述光学层叠体进行激光照射而切割出光学层叠体片的工序、和将该保护薄片从该光学层叠体片剥离的工序。根据本发明的制造方法，通过将具备保护薄片的光学层叠体向利用激光照射的切割工序提供，能够防止由激光照射产生的烟等向光学薄膜(光学薄膜片)附着。

上述光学层叠体可以在上述光学薄膜上层叠上述保护薄片来得到。作为层叠方法，可以采用任意的适当的方法。如上述那样，光学薄膜和保护薄片既可以经由粘接剂层叠，也可以利用摩擦力使保护薄片保持在光学薄膜上。

利用激光照射的切割工序是从光学层叠体得到多个光学层叠体片的工序。光学层叠体片的形状可以根据光学薄膜片的用途而设定为任意的适当的形状。在1个实施方式中，能够将光学层叠体切断而得到多个光学层叠体片。在另一实施方式中，能够将光学层叠体裁切而得到多个光学层叠体片。另外，在上述光学层叠体仅在光学薄膜的单侧具备保护薄片的情况下，照射激光的面优选的是该光学层叠体的保护薄片侧的面。

上述激光优选的是包含200nm～11000nm的波长的光。

作为在利用激光照射的切割工序中使用的激光器，可以采用任意的适当的激光器。例如可以采用任意的适当的激光器。作为具体例，可以举出CO₂激光器、准分子激光器等的气体激光器；YAG激光器等的固体激光器；半导体激光器等。

激光的照射条件(输出条件、移动速度、次数)可以根据切断对象、切断深度等而采用任意的适当的条件。

作为将保护薄片剥离的方法，可以采用任意的适当的方法。例如，在激光照射后的保护薄片是长条状的情况下，可以采用将该保护薄片一边卷取一边从光学薄膜剥离的方法。此外，在激光照射后的保护薄片不是长条状而不能卷取的情况下，可以采用使保护薄片转印到剥离用带上的方法。

图2是说明本发明的1个实施方式的光学薄膜片的制造方法的一例的概略图。在1个实施方式中，如图2所示，使用长条状的光学薄膜110，对该光学薄膜110进行输送且连续地进行上述工序。以下，对于本实施方式，从光学薄膜的送出工序起依次具体地说明。

首先，将长条状的光学薄膜110送出，一边输送光学薄膜110一边在光学薄膜110上层叠长条状的保护薄片120a、120b，形成长条状的光学层叠体100(工序a)。在本实施方式中，在光学薄膜110的上侧层叠着上侧保护薄片120a，在光学薄膜110的下侧层叠着下侧保护薄片120b。上侧保护薄片120a和下侧保护薄片120b既可以以相同的定时层叠，也可以以不同的定时层叠。在这样以不同的定时将保护薄片剥离的情况下，优选的是，先被剥离的保护薄片(在图示例中是上侧保护薄片)相对于光学薄膜的剥离力比后被剥离的保护薄片(在图示例中是下侧保护薄片)相对于光学薄膜的剥离力小。另外，下侧保护薄片120b可以作为在后工序中被切割的光学层叠体片100’及光学薄膜片110’的输送基材发挥功能。

接着，将在工序a中形成的光学层叠体100向切割光学层叠体片100’的工序(工序b)提供。这里，通过上述激光照射，从光学层叠体100切割出多片光学层叠体片100’。另外，在图2中，表示将光学层叠体裁切而得到多个光学层叠体片的形态。此外，所谓光学层叠体片100’，是指在实施本发明的制造方法后包含成为制品或半制品的光学薄膜片的层叠体片，请留意与如后述那样在下个工序中被废弃的裁切切屑100”进行区别。

在工序b中，优选的是，至少在上侧保护薄片120a及光学薄膜110中分离为光学层叠体片100’部分和其以外的裁切切屑100”。此外，下侧保护薄片120b优选的是没有被完全分离而维持长条形状。因而，裁切切屑100”优选的是上侧保护薄片120a与光学薄膜110的层叠体、且不包含下侧保护薄片120b的形态。只要下侧保护薄片120b维持长条形状，该下侧表面保护薄膜120b就能够作为被切割出的光学层叠体片100’及光学薄膜片110’的输送基材发挥功能。另外，所谓下侧保护薄片120b没有被完全分离的状态，也包括下侧保护薄片120b被半切割(half cut)的状态。

接着，将保护薄片120a、120b剥离(工序c)。优选的是，从上侧保护薄片120a起先剥离。当将上侧保护薄片120a剥离时，光学层叠体片100’具备的上侧保护薄片120a和位于光学层叠体片100’以外的部分(裁切切屑100”)的上侧保护薄片120a既可以在相同的定时被剥离，也可以在不同的定时被剥离。优选的是，如图示例那样在不同的定时被剥离。在图示例中，将光学层叠体片100’具备的上侧保护薄片120a的剥离(剥离c1)和位于光学层叠体片100’以外的部分(裁切切屑100”)的上侧保护薄片120a的剥离(剥离c2)在不同的定时进行。剥离c1和剥离c2既可以如图示例那样以剥离c1、剥离c2的顺序进行，或者也可以以剥离c2、剥离c1的顺序进行。优选的是如图示例那样以剥离c1、剥离c2的顺序进行。

光学层叠体片100’具备的上侧保护薄片120a的剥离(剥离c1)例如使用剥离用带200，将上侧保护薄片120a转印到该剥离用带200上来进行。作为剥离用带，可以使用具有规定的粘着力的带。剥离用带优选的是长条状。在图2所示的实施方式中，使被连续送出的长条状剥离用带200与在载置于下侧保护薄片120b的状态下被输送的光学层叠体片100’接触，从光学层叠体片100’依次剥离上侧保护薄片120a。

上述保护薄片相对于光学薄膜的剥离力优选的是在利用剥离用带剥离的保护薄片(在图示例中是上侧保护薄片)相对于该剥离用带的剥离力以下。保护薄片相对于光学薄膜的剥离力与利用剥离用带剥离的保护薄片相对于该剥离用带的剥离力的差优选的是超过0N/20mm且3N/20mm以下，更优选的是0.005N/20mm～2N/20mm，更加优选的是0.001N/20mm～0.4N/20mm。如果是这样的范围，则能够良好地将保护薄片剥离。被剥离用带剥离的保护薄片相对于该剥离用带的剥离力优选的是0.005N/20mm～4N/20mm，更优选的是0.005N/20mm～3N/20mm。

位于光学层叠体片100’以外的部分的上侧保护薄片120a的剥离(剥离c2)可以一边将位于光学层叠体片100’以外的部分的上侧保护薄片120a卷取一边进行。在剥离c2时，优选的是将与裁切切屑100”对应的上侧保护薄片120a和光学薄膜110在层叠的状态下同时剥离。在剥离c2后，可以将光学薄膜片110’以载置在下侧保护薄片120b上的状态输送。

在将上侧保护薄片120a剥离后，将下侧保护薄片120b剥离。下侧保护薄片120b的剥离例如一边将下侧保护薄片120b卷取一边进行。

如上述那样，从长条状的光学薄膜110制造被切割为规定的形状的光学薄膜片110’。得到的光学薄膜片110’可以在防止由激光照射引起的污染而保持了洁净性的状态下作为制品或半制品使用。

产业上的可利用性

本发明的制造方法可以在制造偏振板等的光学薄膜时适当地使用。

Claims

1.一种光学层叠体，其特征在于，

具备光学薄膜、以及可剥离地配置在该光学薄膜的至少单侧的保护薄片；

光学薄膜是具备偏振板、以及配置在该偏振板的至少单侧的表面保护薄膜或隔膜的光学薄膜。

2.一种光学薄膜片的制造方法，该方法从权利要求1所述的光学层叠体制造光学薄膜片，其特征在于，包括：

向该光学层叠体照射激光而切割出光学层叠体片的工序；以及

从该光学层叠体片将该保护薄片剥离的工序。