CN106976316B - 液体喷射头制造方法 - Google Patents

液体喷射头制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN106976316B
CN106976316B CN201710027199.0A CN201710027199A CN106976316B CN 106976316 B CN106976316 B CN 106976316B CN 201710027199 A CN201710027199 A CN 201710027199A CN 106976316 B CN106976316 B CN 106976316B
Authority
CN
China
Prior art keywords
liquid
jet port
forming member
liquid path
forming
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201710027199.0A
Other languages
English (en)
Other versions
CN106976316A (zh
Inventor
松本圭司
山室纯
浅井和宏
笹木弘司
鱼桥邦仁
柳沼诚一郎
村上辽太郎
渡部正久
中野智彦
枝松启治
中田春香
藤井谦儿
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kato Corp
Original Assignee
Kato Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kato Corp filed Critical Kato Corp
Publication of CN106976316A publication Critical patent/CN106976316A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN106976316B publication Critical patent/CN106976316B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • B41J2/135Nozzles
    • B41J2/16Production of nozzles
    • B41J2/1607Production of print heads with piezoelectric elements
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • B41J2/135Nozzles
    • B41J2/16Production of nozzles
    • B41J2/1621Manufacturing processes
    • B41J2/164Manufacturing processes thin film formation
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • B41J2/135Nozzles
    • B41J2/16Production of nozzles
    • B41J2/1601Production of bubble jet print heads
    • B41J2/1603Production of bubble jet print heads of the front shooter type
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • B41J2/135Nozzles
    • B41J2/16Production of nozzles
    • B41J2/1607Production of print heads with piezoelectric elements
    • B41J2/161Production of print heads with piezoelectric elements of film type, deformed by bending and disposed on a diaphragm
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • B41J2/135Nozzles
    • B41J2/16Production of nozzles
    • B41J2/162Manufacturing of the nozzle plates
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • B41J2/135Nozzles
    • B41J2/16Production of nozzles
    • B41J2/1621Manufacturing processes
    • B41J2/1626Manufacturing processes etching
    • B41J2/1628Manufacturing processes etching dry etching
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • B41J2/135Nozzles
    • B41J2/16Production of nozzles
    • B41J2/1621Manufacturing processes
    • B41J2/1626Manufacturing processes etching
    • B41J2/1629Manufacturing processes etching wet etching
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • B41J2/135Nozzles
    • B41J2/16Production of nozzles
    • B41J2/1621Manufacturing processes
    • B41J2/1631Manufacturing processes photolithography
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • B41J2/135Nozzles
    • B41J2/16Production of nozzles
    • B41J2/1621Manufacturing processes
    • B41J2/1632Manufacturing processes machining
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • B41J2/135Nozzles
    • B41J2/16Production of nozzles
    • B41J2/1621Manufacturing processes
    • B41J2/1635Manufacturing processes dividing the wafer into individual chips
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • B41J2/135Nozzles
    • B41J2/16Production of nozzles
    • B41J2/1621Manufacturing processes
    • B41J2/164Manufacturing processes thin film formation
    • B41J2/1642Manufacturing processes thin film formation thin film formation by CVD [chemical vapor deposition]
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002Electrical device making
    • Y10T29/49082Resistor making
    • Y10T29/49083Heater type
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49401Fluid pattern dispersing device making, e.g., ink jet

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)

Abstract

一种制造液体喷射头的方法,液体喷射头具有喷射口形成区域,喷射口形成区域包括:液体喷射能量生成元件,其连同用于驱动液体喷射能量生成元件的电配线一起设置在基板第一表面上;多个液体供给口,各自贯穿基板且具有在第一表面处的开口;形成在第一表面上的液体路径,作为容纳液体喷射能量生成元件和液体供给口的空间;和喷射口,用于通过驱动液体喷射能量生成元件从液体路径喷射液体,方法包括:用第一干膜光阻在基板第一表面形成液体路径形成部件;在液体路径形成部件上形成喷射口形成部件;在液体路径形成部件中形成液体路径;在喷射口形成部件中形成喷射口;基板具有在喷射口形成区域外的多个假孔,每个假孔具有在基板第一表面处的开口。

Description

液体喷射头制造方法
技术领域
本发明涉及液体喷射头制造方法,液体喷射头将用于用墨或其它液体来进行可视记录。
背景技术
已知一种制造液体喷射头的方法,借助于干膜光阻在具有贯穿基板的通孔(供墨口)的基板上形成喷嘴(喷射口)(参见美国专利No.8083324的说明书)。利用上述方法,通过在具有通孔的基板上形成液体路径层以便覆盖住基板的台阶部,然后在其上形成孔板层,孔板层随后进行光刻等工艺处理,可以形成具有喷嘴的结构。
发明内容
本发明提供了一种制造液体喷射头的方法,液体喷射头具有喷射口形成区域,喷射口形成区域包括:液体喷射能量生成元件,其连同用于驱动液体喷射能量生成元件的电配线一起设置在基板的第一表面上;多个液体供给口,各自贯穿基板并且具有在基板的第一表面处的开口;液体路径,形成在第一表面上,作为容纳液体喷射能量生成元件和所述多个液体供给口的空间;和喷射口,用于通过驱动液体喷射能量生成元件而从液体路径喷射出液体,该方法包括:使用第一干膜光阻在基板的第一表面上形成液体路径形成部件的步骤;在液体路径形成部件上形成喷射口形成部件的步骤;在液体路径形成部件中形成液体路径的步骤;和在喷射口形成部件中形成喷射口的步骤,其中,基板具有在喷射口形成区域外的多个假孔,每个假孔具有在基板的第一表面处的开口。
从以下参照附图对示例性实施例的说明中将清楚本发明的其它特征。
附图说明
图1是可由根据本发明的制造方法制造的示例性液体喷射头的示意性透视图。
图2是可由根据本发明的制造方法制造的示例性液体喷射头的示意性剖视图。
图3A、3B、3C、3D、3E、3F和3G是由根据本发明的制造方法制造的示例性液体喷射头在不同制造步骤中的示意性剖视图。
图4是将要用于由根据本发明的制造方法制造的液体喷射头的示例性基板的俯视图。
图5A、5B和5C是借助于现有技术制造方法制造的示例性液体喷射头的示意性俯视图和剖视图。
具体实施方式
现在将参照附图详细描述本发明的优选实施例。
当如美国专利No.8083324中那样把多个液体供给口设置在基板的表面上且贯穿基板并且把干膜光阻转印到其上以便覆盖住基板的台阶部时,会出现如图5B中所示不能确保液体路径层(液体路径形成部件)21的表面平坦度的情况。更具体地,出现这种情况的原因是:在如图5A中所示并排设置的多个液体供给口11之中,如果与内部部分中的液体供给口11a(在内部部分中,每个液体供给口在四个方向上都具有相邻的液体供给口)相比,流化的光阻不容易流入设置在沿着边缘的边界部分中的液体供给口11b(通孔)中,从而难以确保对于液体路径层顶面的表面平坦度。此外,如图5C中所示,当在不能确保表面平坦度的液体路径层上形成孔板层(喷射口形成部件)31时,难以控制喷嘴高度(从基板上表面到每个喷射口顶端的高度之和,或液体路径高度和每个喷射口长度之和)。
考虑到以上提出的问题,因此本发明的目的是提供一种制造液体喷射头的方法,可确保表面平坦度并且因此可确保喷射口形成区域(在喷射口形成区域中并排形成有贯穿基板的多个液体喷射口)的边界部分和内部部分中喷嘴高度相等,并且便于控制喷嘴高度以实现好的液体喷射性能。
一种由本发明的方法制造的液体喷射头,具有喷射口形成区域,喷射口形成区域包括:液体喷射能量生成元件,其连同用于驱动液体喷射能量生成元件的电配线一起设置在基板的第一表面上;多个液体供给口,各自贯穿基板并且具有在基板的第一表面处的开口;液体路径,形成在第一表面上,作为容纳液体喷射能量生成元件和所述多个液体供给口的空间;和喷射口,用于通过驱动液体喷射能量生成元件而从液体路径喷射液体。现在将参照图1和图2来描述由本发明的方法制造的液体喷射头。图1是可由根据本发明的制造方法制造的示例性液体喷射头的示意性透视图,并且图2是图1中所示液体喷射头的示意性剖视图。
在图1中所示的液体喷射头中,多个液体喷射能量生成元件2以在y方向上的给定间距设置,从而在基板1的第一表面1a上形成各排液体喷射能量生成元件。此外,液体路径(包括液体腔室)20形成在基板1上以便容纳液体喷射能量生成元件,并且喷射口(或喷嘴)30形成在位于各液体喷射能量生成元件2正上方的位置处以便从液体路径20的相应液体腔室喷射液体。此外,液体供给口11形成为从基板1的第一表面1a到作为基板1另一侧表面的第二表面1b地贯穿基板,使得每个液体喷射能量生成元件2位于向液体路径(即,液体腔室)20供给液体的一对液体供给口11之间。多个喷嘴排5沿图1中的x方向设置,但是它们中的大部分省略了并且在图1和图2中用一对波形线来表示省略,每个喷嘴排对应于一排液体喷射能量生成元件2和两排液体供给口11。在具有上述构造的液体喷射头的液体路径20的每个液体腔室中,随着由液体喷射能量生成元件2向通过液体供给口11向液体路径中所充的液体施加压力,从喷射口30喷射出液滴。随着所喷射出的液滴附着到记录介质上,进行记录操作。
在每个液体腔室的液体喷射能量生成元件2上形成绝缘保护膜(未示出),并且在绝缘保护膜上形成附着层4。在通过本发明的方法制造的液体喷射头中,如图2中所示,在基板1上的喷射口形成区域(也称为喷嘴区域)6中并排地设置多个液体供给口11。此外,在并排地设置有多个液体供给口11的喷射口形成区域6的外部,形成有至少在基板1的第一表面处开口的假孔12。假孔不同于液体供给口。此处所使用的“假孔”可以是通孔或非通孔。假孔不用作液体供给口。因此,根据本发明,当形成液体路径形成部件时,用于形成液体路径形成部件的未固化材料不但流入液体供给口而且流入假孔,以使得喷射口形成区域的边界部分和内部部分都可确保等同水平的表面平坦度。因此,就可获得能够容易控制喷嘴高度一致并且表现出极好液体喷射性能的液体喷射头。
如图2中所示,限定了液体路径20侧表面的液体路径壁是由液体路径形成部件21形成的,而作为液体路径顶板并且贯穿形成喷射口30的部分则由喷射口形成部件31形成。注意,随着通过光刻法或干蚀刻对绝缘保护膜和附着层4进行与液体供给口11的开口匹配的图案化操作,使液体供给口11与液体腔室20以及与其相关的喷射口30连通。
为了获得具有上述构造的液体喷射头,根据本发明的液体喷射头制造方法包括:使用第一干膜光阻在基板第一表面上形成液体路径形成部件的步骤;在液体路径形成部件上形成喷射口形成部件的步骤;在液体路径形成部件中形成液体路径的步骤;和在喷射口形成部件中形成喷射口的步骤。以下将参照图3A到3G描述根据本发明的液体喷射头制造方法的实施例。注意,图3A到3G是图1和图2中所示液体喷射头的示意性剖视图,示出了液体喷射头制造方法的各个不同步骤。
首先,如图3A中所示,在基板1的第一表面1a上设置多个液体喷射能量生成元件(未示出),并且在其上形成绝缘保护膜(未示出)。注意,仅在喷射口形成区域6内设置液体喷射能量生成元件,在喷射口形成区域6外不设置液体喷射能量生成元件。还要注意,每个液体喷射能量生成元件是当接收电信号等时产生能量的器件。随后,在绝缘保护膜上形成图案化附着层4。附着层4是由光敏树脂制成的,并且通过光刻法经曝光操作和显影操作而形成图案。替代地,可在附着层上形成单独的掩模图案,随后可通过掩模图案来对附着层进行干蚀刻。
虽然硅可以是用于基板1的合适材料,但是任何材料都可用于基板1,没有任何特殊限制,只要可用作半导体元件基板即可。基板1典型地可以是硅基板。采用单晶硅基板是特别优选的。液体喷射能量生成元件可由这样的材料制成,该材料是发热电阻并且可根据电信号而加热液体,以便给液体提供喷射能量。这种材料的典型例是TaSiN。当热能量生成元件用作液体喷射能量生成元件时,用热能量生成元件制成的液体喷射头将是气泡喷射式液体喷射头。然而,本发明不限于气泡喷射式液体喷射头,根据本发明的液体喷射头可以是通过使用压电元件所获得的压电喷射式液体喷射头。绝缘保护膜可以典型地由SiN、SiC或SiO制成,但是绝缘保护膜的材料不受任何特殊限制,只要可保护液体喷射头的电配线不受液体(例如墨)影响即可。类似地,附着层4的材料也不受任何特殊限制,只要可确保绝缘保护膜和液体路径形成部件的紧密附着并且不受当实际使用液体喷射头时将要填充到液体路径20中的液体影响而保持稳定即可。适用于附着层4的材料的典型例包括聚醚酰胺树脂和环氧树脂。
然后,如图3B中所示,在附着层4上使掩模光阻图案化后,形成从第一表面1a至第二表面1b贯穿基板1的液体供给口11和假孔12。如图4中所示,液体供给口11并排地设置在喷射口形成区域6中,而假孔12设置在并排设置液体供给口的区域之外,因此假孔12相对于边界部分中的液体供给口11b位于外部(因此在喷射口形成区域6外)。这里注意,尽管如图3B和图4中所示在边界部分中的液体供给口11b外部设置两排假孔12,但是仅需在边界部分中的液体供给口11b外部设置至少一排假孔12即可。换句话说,本发明不限于图3A到3G和图4中所示的实施例。
可预先图案化上述绝缘保护膜以便与液体供给口11的开口和假孔12的开口匹配;或替代地,使绝缘保护膜图案化可与液体供给口11和假孔12的形成操作同时地进行。可以在形成蚀刻掩模之后通过干蚀刻来形成液体供给口11和假孔12,或可以在由激光加工形成液体导入孔之后通过湿蚀刻来形成液体供给口11和假孔12。虽然在本实施例中在图案化附着层4之后形成液体供给口11和假孔12,但是这些步骤的执行顺序不是必须限于上述顺序。
对于本实施例,从要使在边界部分中液体供给口11b周围设置的光阻比以前更容易流化以便确保液体路径层表面平坦度的观点看,形成在喷射口形成区域6外的假孔12优选加工成提供类似于内部部分中液体供给口11a的环境。更具体地,液体供给口11和假孔12优选加工成使得第一表面上假孔12的开口边缘和第一表面上位于边界部分中的液体供给口11b的开口边缘之间的最小距离大体上等于喷嘴排5之间的距离,因此不小于0.2mm但不大于1.0mm。当位于边界部分中的液体供给口11b的开口边缘和假孔12的开口边缘之间的最小距离不小于0.2mm时,边界部分中的液体供给口和假孔之间的距离不会太小。这样,与内部部分中液体供给口周围区域的光阻流动量相比,边界部分中液体供给口周围区域的光阻流动量不会局部地过分增大,并且可抑制假孔一些周围区域变形出现凹入轮廓的情况。另一方面,当位于边界部分中的液体供给口11b的开口边缘和假孔12的开口边缘之间的最小距离小于1.0mm时,边界部分中的液体供给口和假孔之间的距离不会太大。于是,与内部部分中液体供给口周围区域的光阻流动量相比,边界部分中液体供给口周围区域的光阻流动量不会局部地过分减小,并且可抑制假孔一些周围区域变形出现突出轮廓的情况。
注意,本说明书中所用的“边界部分中的液体供给口11b”是指位于喷射口形成区域6的边界部分中的液体供给口。更具体地,上述术语是指在并排地设置在喷射口形成区域6内的多个液体供给口11之中设置在最外侧的液体供给口以及因此邻近假孔12设置成排的液体供给口。另一方面,“内部部分中的液体供给口11a”是指除上述边界部分中的液体供给口11b之外的液体供给口。此外,“液体供给口的开口边缘”是指基板1的第一表面1a上的液体供给口的开口的外周边缘。因此,位于边界部分的液体供给口11b的开口边缘和假孔12的开口边缘之间的最小距离是指将二者的开口分开的最小间隙。在图4中所示的基板情况中,最小距离是最靠近假孔12侧的边界部分中液体供给口11b的开口边缘和最靠近液体供给口11b侧的假孔12的开口边缘之间的距离,对应于图4中所示的d。如有必要,假孔12可沿着当沿图4中所示y轴方向观察时喷射口形成区域6的相反两侧边缘形成。
假孔12可以是或可以不是贯穿基板1的通孔,只要在基板1的第一表面1a具有相应的开口即可。当假孔12不是贯穿基板1的通孔时,假孔12的加工深度应该足以容纳光阻的流动量并且优选不小于100μm。当假孔形成为贯穿基板1时,在基板1的第二表面1b上形成具有较大宽度的液体供给口11的开口,并且使形成在第一表面1a上的具有较小宽度的液体供给口11的开口与形成在第二表面1b上的相应开口连通。这样,假孔12可与液体供给口11同时地形成。
然后,如图3C中所示,把固定至支承部件(未示出)上的第一干膜光阻转印到基板1上,以形成覆盖附着层4的液体路径形成部件21。液体路径形成部件21仅需覆盖附着层4的所有台阶部,并且可流入液体供给口11和假孔12内。由于附着层4的台阶部被覆盖,防止了以下情况:在曝光步骤和之后其它步骤中产生漫反射导致异常图案,以及在之后的加热步骤中存在于隔离空间中的空气膨胀以使一些喷嘴变形。
用于液体路径形成部件21的第一干膜光阻优选是负型光敏树脂。可用于液体路径形成部件21的负型光敏树脂例子包括:含有双叠氮化合物的环化聚异戊二烯、含有叠氮芘的邻甲酚醛树脂、和含有重氮盐和/或鎓盐的环氧树脂。支承部件的材料例如是聚对苯二甲酸乙二醇酯或聚酰亚胺,但不受任何特殊限制,只要是相对于液体路径形成部件的热历程能够保持稳定的材料即可。由于转印操作期间的加热和加压,在转印之后液体路径形成部件21的厚度比转印之前液体路径形成部件21的厚度减小;并且,液体路径形成部件21的树脂材料流入液体供给口11和假孔12中的量对应于液体路径形成部件21的减小高度。注意,用于转印操作的温度和压力应能使液体路径形成部件21软化并且使其变得能够覆盖住附着层4的台阶部但不劣化树脂。更具体地,例如温度可以不低于60℃且不高于140℃,并且压力可以不低于0.1MPa且不高于1.5MPa。在将第一干膜光阻转印到基板上之后,把支承部件从第一干膜光阻上剥离,以使得仅第一干膜光阻(液体路径形成部件21)残存在基板上。
然后,如图3D中所示,对将要作为永久膜残存并且保留的液体路径形成部件21的部分有选择地曝光,并且随后进行曝光后热处理(在下文中称为PEB)以便光学地确定固化部和未固化部。因为在本实施例中液体路径形成部件21采用负型光敏树脂,所以曝光部变为固化部。固化部对应于变成液体路径壁的部分。
这里注意,对于上述已知的制造方法,位于喷射口形成区域6外的不会变成液体路径壁的一些部分有时会不曝光。然而在本实施例中,至少位于假孔上方的液体路径形成部件的部分优选被固化。注意,“位于假孔上方的液体路径形成部件”是指形成在喷射口形成区域6外的液体路径形成部件的部分。在图3D中,位于假孔上方的液体路径形成部件的所有部分在不使用任何图案的情况下曝光并且固化。然而,也可形成与用于喷射口形成区域内的图案相似的图案或其它所需的图案,以便使位于假孔12上方的液体路径形成部件的至少一些部分固化并且使其曝光。根据本发明,由于设置了假孔12,因此减小了在转印操作期间在喷射口形成区域内的液体路径形成部件21的流动量和在喷射口形成区域外的液体路径形成部件21的流动量之间的差异,并且因此确保了至少喷射口形成区域的边界部分和喷射口形成区域的内部部分之间的表面平坦度。
之后,如图3E中所示,在液体路径形成部件21上形成喷射口形成部件31。虽然对于形成喷射口形成部件31的工艺没有特殊限制,但是从调整液体路径形成部件21和喷射口形成部件31的光敏度的观点出发,优选是通过如在形成液体路径形成部件的情况中那样将固定到支承部件上的干膜光阻进行转印的工艺来形成喷射口形成部件31。用于形成喷射口形成部件31的干膜光阻(第二干膜光阻)优选是负型光敏树脂。可用于喷射口形成部件31的负型光敏树脂例子包括:含有双叠氮化合物的环化聚异戊二烯、含有叠氮芘的邻甲酚醛树脂、和含有重氮盐和/或鎓盐的环氧树脂。任何类似于以上所列用于形成液体路径形成部件的材料也可用于支承部件。注意,用于转印操作的温度和压力应允许液体喷射口形成部件31转印,并且不会使已经形成的液体路径形成部件21变形。更具体地,例如,温度可以不低于30℃且不高于50℃,并且压力可以不低于0.1MPa且不高于0.5MPa。在转印第二干膜光阻之后,把支承部件从第二干膜光阻上剥离,以使得仅第二干膜光阻(喷射口形成部件31)残存在液体路径形成部件上。
随后,如图3F中所示,经由光掩模对需作为永久膜保留的喷射口形成部件31的部分选择性地曝光,然后通过进行PEB来光学地确定固化部和未固化部。因为在本实施例中喷射口形成部件31采用了负型光敏树脂,所以曝光部变为固化部。固化部对应于变为用于喷射口30的喷射口壁和液体路径顶板的那些部分。
因此,如果在本实施例中喷射口可形成在喷射口形成区域内并且液体路径顶板可形成于存在液体路径壁的部分,则喷射口形成区域外也可曝光。对于本实施例,优选固化至少位于假孔12上方的喷射口形成部件31的部分。“位于假孔12上方的喷射口形成部件”是指形成在喷射口形成区域6外的喷射口形成部件的部分。在图3F中,位于假孔12上方的喷射口形成部件31的所有部分曝光并固化,以便与液体路径形成部件21结合并与喷射口形成区域6成为一体。然而注意,可以形成与用于喷射口形成区域内的图案类似的图案或其它所需图案,以便使位于假孔12上方的喷射口形成部件的至少一些部分固化并且曝光。
当喷射口形成部件31采用光敏类型与液体路径形成部件21相同的光敏树脂时,喷射口形成部件31的材料优选具有比液体路径形成部件21更高的光敏度。更具体地,当这两个部件分别采用负型光敏树脂时,包含在喷射口形成部件31中的光致生酸剂(PAG)的含量比可以大于包含在液体路径形成部件21中的PAG的含量比。结果,在曝光步骤中在喷射口形成部件31内部产生酸,但是在液体路径形成部件21内部不产生酸,以使得仅喷射口形成部件31被选择性地图案化。注意,替代地,在该步骤之前,可在喷射口形成部件31的上表面上形成斥液膜,随后可使喷射口形成部件31曝光。在此情况中,当在该步骤中喷射口形成部件31曝光时,液体路径形成部件21的未曝光部未产生任何固化反应,因此仅喷射口形成部件被选择性地图案化。
然后,如图3G中所示,液体路径形成部件21的未曝光部(未固化部)和喷射口形成部件31的未曝光部借助于可使其溶解的液体而溶解除去,并且对这两个部件进行显影操作。优选地,液体路径形成部件21的未曝光部和喷射口形成部件31的未曝光部一起进行单次显影操作,以便可以同时地一起生产出两个部件。注意,如本文所用的“一起进行单次显影操作”是指所有层进行单次显影操作。随着在该步骤中除去了未曝光部,形成了液体路径20和喷射口30。
在上述各步骤之后,获得了具有喷射口形成区域的液体喷射头基板。然后,一般用划片机将液体喷射头基板切成切片。随后,将用于驱动每一切片的液体喷射能量生成元件的电配线接合至切片,然后还将用于供给液体的切片罐部件接合至切片。结果,形成了最终的液体喷射头。
以上对本实施例的描述说明了这样一种构成方式:对位于假孔12上方的液体路径形成部件21的部分和位于假孔12上方的喷射口形成部件31的部分也曝光,以便允许将要变成喷嘴部的液体路径形成部件的部分和喷射口形成部件的部分保留在假孔周围。然而注意,可以通过固化整个液体路径形成部件(该液体路径形成部件部分地填充在假孔内部)来改进喷嘴的附着性。此外,通过使用在多个并排地设置的液体供给口外(喷射口形成区域外)具有假孔的基板,本发明提供了确保喷射口形成区域中表面平坦度的优点。本发明也适用于把图3A到3G中所示的步骤重复多次的情况,只要也能提供本发明的上述优点即可。
实例1
该实例提供的一优点是:通过形成贯穿基板1的假孔12并且随后通过转印干膜光阻而在基板上形成液体路径形成部件21,能够容易控制液体喷射头的液体路径高度。该实例提供的另一优点是:通过使部分地填充了假孔内部的液体路径形成部件固化,可改进喷嘴的附着性。以下将参照图3A到3G来描述该实例的液体喷射头制造方法。
如图3A中所示,把多个液体喷射能量生成元件(未示出)设置在硅基板1上,并且采用SiO和SiN通过等离子CVD在其上形成绝缘保护膜(未示出)。采用TaSiN作为液体喷射能量生成元件的材料。仅在喷射口形成区域6内设置液体喷射能量生成元件,随后用聚醚酰胺树脂在绝缘保护膜上形成附着层4,并且对其用于形成液体供给口11和假孔12的部分进行图案化操作。在图案化操作中,使掩模光阻图案化,随后进行干蚀刻处理。之后,除去掩模光阻。所形成的附着层4的厚度为2μm。
然后,在附着层4上将掩模光阻图案化之后,利用图3B和图4中所示的博施法形成从基板1的第一表面1a到第二表面1b贯穿基板1的液体供给口11和假孔12。之后,除去掩模光阻。注意,液体供给口11形成在喷射口形成区域6内,而假孔12形成在喷射口形成区域6外。假孔12形成为等间距,以使得假孔的开口边缘和边界部分中液体供给口11b的开口边缘之间的最小距离等于0.5mm。
然后,如图3C中所示,借助于以干膜形式牢固固定在支承部件上的负型光敏树脂(第一干膜)和转印设备把液体路径形成部件21形成在绝缘保护膜(未示出)和附着层4上,以便使得液体路径形成部件21在液体喷射能量生成元件上为14μm的厚度。采用100份质量的环氧树脂EHPE3150(商品名,可从Daicel获得)、6份质量的光致阳离子聚合催化剂SP-172(商品名,可从ADEKA获得)和20份质量的粘合剂树脂jER1007(商品名,可从MitsubishiChemical获得)的混合物用于负型光敏树脂。支承部件采用进行了离型处理的PET膜。转印操作采用转印设备VTM-200(商品名,可从Takatori获得)。对于转印操作,选择70℃的温度和0.5MPa的压力。随后,以5mm/s的剥离速度从液体路径形成部件21剥离支承部件。
然后,如图3D中所示,经由光掩模并且借助于曝光装置FPA-3000i5+(商品名,可从CANON获得)对液体路径形成部件21中在后续阶段将要成为液体路径壁的部分和将要作为永久膜残存保留的位于假孔12上方的部分进行i线(波长365nm)曝光。对于曝光,选择8,000J/m2的比率。随后,作为PEB,在热板上将液体路径形成部件21加热到50℃、4分钟,以便加快固化反应。
然后,如图3E中所示,通过采用牢固地固定到支承部件上的干膜形式的负型光敏树脂(第二干膜)和转印设备,在液体路径形成部件21上形成10μm厚度的喷射口形成部件31。负型光敏树脂采用100份质量的环氧树脂EHPE3150(商品名,可从Daicel获得)和3份质量的光致阳离子聚合引发剂鎓盐的混合物。鎓盐的光敏度高于用于形成液体路径形成部件21的光致阳离子聚合催化剂SP-172的光敏度,并且可以低曝光量地产生阳离子。支承部件采用受过离型处理的PET膜。转印设备采用VTM-200(商品名,可从Takatori获得)。对于转印操作,选择40℃的温度和0.3MPa的压力。随后,以5mm/s的剥离速度从喷射口形成部件31剥离支承部件。
然后,如图3F中所示,借助于曝光装置FPA-3000i5+(商品名,可从CANON获得)对后续阶段将要成为液体路径顶板的喷射口形成部件31的部分进行i线(波长365nm)曝光,以光学地确定将要成为液体路径顶板的固化部和将要成为喷射口的未固化部。对于曝光,选择1,000J/m2的比率。这里注意,虽然液体路径形成部件21的未曝光部也受到i线曝光,但是已经如上所述地调整了相关材料的光敏度,因此在该步骤中在喷射口形成部件上实施曝光操作期间受到i线曝光时未曝光部未表现出固化反应。在曝光操作之后,作为PEB,在热板上将喷射口形成部件31加热到90℃、5分钟,以便加快固化反应。注意,在该实例中,位于假孔12上方的喷射口形成部件的所有部分在不使用任何图案的情况下进行i线曝光,以使得喷射口形成区域内和喷射口形成区域外联合产生较大的喷射口形成区域。
然后,如图3G中所示,液体路径形成部件21的未固化部和喷射口形成部件31的未固化部借助于可溶解它们的溶剂来溶解并除去,以便对液体路径形成部件21和喷射口形成部件31一起显影,并且形成了液体路径20和喷射口30。采用丙二醇甲醚醋酸酯作为溶剂,并且执行15分钟的显影处理。
作为如上所述各步骤的结果,获得了具有喷射口形成区域的液体喷射头基板。然后,用划片机将液体喷射头基板切成切片,并且对每个切片进行用于驱动液体喷射能量生成元件的布线操作。随后,把用于供给液体的切片罐部件接合至每个切片。结果,形成了最终的液体喷射头。用所制造的液体喷射头来用于打印的结果,证实了各喷嘴都已经一致地形成有预定喷嘴高度,并且液体喷射头表现出极好的喷射特性。此外,通过测量液体路径形成部件21流入假孔12中的深度并且确定深度和喷嘴精度之间的相互关系,能够便于液体喷射头制造工艺控制。
对比例
以下将参照图5A到5C描述对比例的液体喷射头制造方法。如图5A中所示,该对比例的液体喷射头是通过与实例1基本相同的方法制造的,区别是在喷射口形成区域6外未形成假孔的情况下形成液体路径形成部件21。
如图5B中所示,将与实例1相同的第一干膜转印到已经具有喷射口11以及对应于液体喷射口11图案化的附着层4的硅基板1上,以在基板1上形成液体路径形成部件21,随后对其将要变为液体路径壁的部分选择性地曝光。之后,如实例1那样执行PEB以加快固化反应。因为在边界部分中仅形成少量供给口11b,所以边界部分中液体供给口11b的光阻流动性低于内部部分中液体供给口11a的光阻流动性,从而液体路径形成部件21的表面变形。
之后,如图5C中所示,如实例1中那样,在液体路径形成部件21上形成喷射口形成部件31,并且对其将要作为永久膜残留的部分曝光。用于液体路径形成部件和支承部件的材料与实例1相同。类似地,曝光程度与实例1相同。在曝光操作之后,执行PEB以加快固化反应。随后,通过对液体路径形成部件21的未固化部和喷射口形成部件31的未固化部一起显影来形成液体路径20和喷射口30。发现喷射口形成部件31的表面如同液体路径形成部件的表面一样地变形。
随后,如实例1那样制备具有液体路径20和喷射口30的液体喷射头。使用所获得的液体喷射头来执行打印操作,结果在位于边界部分中液体供给口周围的喷射口处观察到了误印。当观察液体喷射头时,发现特别是喷射口直径和液体路径高度有不稳定和不一致的尺寸。
虽然已经参照示例性实施例描述了本发明,但是应理解本发明不限于所公开的示例性实施例。以下权利要求的范围应给予最宽泛的解释,以便涵盖所有变型以及等同的结构和功能。

Claims (9)

1.一种制造液体喷射头的方法,液体喷射头具有喷射口形成区域,喷射口形成区域包括:液体喷射能量生成元件,其连同用于驱动液体喷射能量生成元件的电配线一起设置在基板的第一表面上;多个液体供给口,各自贯穿基板并且具有在基板的第一表面处的开口;液体路径,形成在第一表面上,作为容纳液体喷射能量生成元件和所述多个液体供给口的空间;和喷射口,用于通过驱动液体喷射能量生成元件而从液体路径喷射液体,该方法包括:
使用第一干膜光阻在基板的第一表面上形成液体路径形成部件的步骤;
在液体路径形成部件上形成喷射口形成部件的步骤;
在液体路径形成部件中形成液体路径的步骤;和
在喷射口形成部件中形成喷射口的步骤,
其中,基板具有在喷射口形成区域外的多个假孔,每个假孔具有在基板的第一表面处的开口,
其中,形成液体路径的步骤包括固化位于假孔上方的液体路径形成部件的至少一部分的步骤。
2.根据权利要求1的方法,其中,
假孔的开口边缘和所述多个液体供给口的开口边缘之间的最小距离不小于0.2mm且不大于1.0mm。
3.根据权利要求1的方法,其中,
形成液体路径的步骤包括固化位于假孔上方的全部液体路径形成部件的步骤。
4.根据权利要求1的方法,其中,
形成喷射口形成部件的步骤是通过使用第二干膜光阻来形成喷射口形成部件的步骤,并且形成喷射口的步骤包括固化位于假孔上方的喷射口形成部件的至少一部分的步骤。
5.根据权利要求4的方法,其中,
形成喷射口的步骤包括固化位于假孔上方的全部喷射口形成部件的步骤。
6.根据权利要求2的方法,其中,
形成液体路径的步骤包括固化位于假孔上方的液体路径形成部件的至少一部分的步骤。
7.根据权利要求6的方法,其中,
形成液体路径的步骤包括固化位于假孔上方的全部液体路径形成部件的步骤。
8.根据权利要求2的方法,其中,
形成喷射口形成部件的步骤是通过使用第二干膜光阻来形成喷射口形成部件的步骤,并且形成喷射口的步骤包括固化位于假孔上方的喷射口形成部件的至少一部分的步骤。
9.根据权利要求8的方法,其中,
形成喷射口的步骤包括固化位于假孔上方的全部喷射口形成部件的步骤。
CN201710027199.0A 2016-01-19 2017-01-16 液体喷射头制造方法 Active CN106976316B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016007739A JP6719911B2 (ja) 2016-01-19 2016-01-19 液体吐出ヘッドの製造方法
JP2016-007739 2016-01-19

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN106976316A CN106976316A (zh) 2017-07-25
CN106976316B true CN106976316B (zh) 2019-11-22

Family

ID=59315237

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201710027199.0A Active CN106976316B (zh) 2016-01-19 2017-01-16 液体喷射头制造方法

Country Status (3)

Country Link
US (1) US10343406B2 (zh)
JP (1) JP6719911B2 (zh)
CN (1) CN106976316B (zh)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7076966B2 (ja) 2017-08-09 2022-05-30 キヤノン株式会社 基板および半導体デバイスの製造方法
JP6961453B2 (ja) * 2017-10-13 2021-11-05 キヤノン株式会社 貫通基板の加工方法および液体吐出ヘッドの製造方法
JP7149879B2 (ja) * 2019-03-13 2022-10-07 東芝テック株式会社 液体吐出ヘッド、液体吐出ヘッドの製造方法及び液体吐出装置
JP2022514522A (ja) 2019-04-29 2022-02-14 ヒューレット-パッカード デベロップメント カンパニー エル.ピー. 耐腐食性微小電子機械流体吐出デバイス
WO2020222739A1 (en) * 2019-04-29 2020-11-05 Hewlett-Packard Development Company L.P. Manufacturing a corrosion tolerant micro-electromechanical fluid ejection device

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57208251A (en) * 1981-06-19 1982-12-21 Canon Inc Ink jet head
JP2001088309A (ja) * 1999-09-24 2001-04-03 Brother Ind Ltd インクジェットヘッドの製造方法
CN1880080A (zh) * 2005-06-17 2006-12-20 佳能株式会社 用来制造排液头的方法、排液头、及排液记录设备
CN101607477A (zh) * 2008-06-06 2009-12-23 佳能株式会社 喷墨打印头和喷墨打印头的制造方法
CN1977218B (zh) * 2004-06-28 2010-12-01 佳能株式会社 光敏树脂组合物,使用光敏树脂组合物形成级差图形的方法,和生产喷墨头的方法
JP2015093445A (ja) * 2013-11-13 2015-05-18 キヤノン株式会社 液体吐出ヘッドの製造方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4394670A (en) 1981-01-09 1983-07-19 Canon Kabushiki Kaisha Ink jet head and method for fabrication thereof
US5322762A (en) * 1992-04-13 1994-06-21 Mitsubishi Rayon Co., Ltd. Photopolymerizable composition
JP3570447B2 (ja) * 1994-12-21 2004-09-29 セイコーエプソン株式会社 積層型インクジェット式記録ヘッド、及びその製造方法、及び記録装置
JP2001018400A (ja) * 1999-07-02 2001-01-23 Canon Inc 液体吐出ヘッドの製造方法、前記液体吐出ヘッド及び前記液体吐出ヘッドを用いた液体吐出記録装置
KR100641358B1 (ko) * 2004-09-23 2006-11-01 삼성전자주식회사 광경화성 수지 조성물을 사용한 잉크젯 프린트 헤드의제조방법
JP2009051081A (ja) * 2007-08-27 2009-03-12 Ricoh Co Ltd 液滴吐出ヘッド、一体型液滴吐出ヘッドユニット及び画像形成装置
JP5312202B2 (ja) * 2008-06-20 2013-10-09 キヤノン株式会社 液体吐出ヘッド及びその製造方法
KR101522552B1 (ko) * 2008-11-03 2015-05-26 삼성전자주식회사 잉크젯 프린트헤드 및 그 제조방법
JP6270363B2 (ja) * 2012-09-11 2018-01-31 キヤノン株式会社 液体吐出ヘッドの製造方法
JP2015212057A (ja) * 2014-05-07 2015-11-26 キヤノン株式会社 インクジェット記録ヘッド

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57208251A (en) * 1981-06-19 1982-12-21 Canon Inc Ink jet head
JP2001088309A (ja) * 1999-09-24 2001-04-03 Brother Ind Ltd インクジェットヘッドの製造方法
CN1977218B (zh) * 2004-06-28 2010-12-01 佳能株式会社 光敏树脂组合物,使用光敏树脂组合物形成级差图形的方法,和生产喷墨头的方法
CN1880080A (zh) * 2005-06-17 2006-12-20 佳能株式会社 用来制造排液头的方法、排液头、及排液记录设备
CN101607477A (zh) * 2008-06-06 2009-12-23 佳能株式会社 喷墨打印头和喷墨打印头的制造方法
JP2015093445A (ja) * 2013-11-13 2015-05-18 キヤノン株式会社 液体吐出ヘッドの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2017128006A (ja) 2017-07-27
CN106976316A (zh) 2017-07-25
US10343406B2 (en) 2019-07-09
JP6719911B2 (ja) 2020-07-08
US20170203569A1 (en) 2017-07-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN106976316B (zh) 液体喷射头制造方法
US7909428B2 (en) Fluid ejection devices and methods of fabrication
CN100496984C (zh) 排液头的制造方法和使用这一方法获得的排液头
JP5224771B2 (ja) 記録ヘッド基板の製造方法
JP4497633B2 (ja) 撥液体層の形成方法及び液体吐出ヘッドの製造方法
CN102398423B (zh) 液体喷射头的制造方法
KR100445004B1 (ko) 모노리틱 잉크 젯 프린트 헤드 및 이의 제조 방법
JP5693068B2 (ja) 液体吐出ヘッド及びその製造方法
JP6008598B2 (ja) 吐出口形成部材及び液体吐出ヘッドの製造方法
US9809027B2 (en) Method of manufacturing structure and method of manufacturing liquid ejection head
JP2003300323A (ja) インクジェットヘッド及びその製造方法
JP2012192729A (ja) 液体吐出ヘッドおよびその製造方法
JP2004209741A (ja) インクジェット記録ヘッド
JP2004042398A (ja) 液体吐出ヘッドの製造方法
JP5586978B2 (ja) 液体吐出ヘッドの製造方法
US8338195B2 (en) Method for manufacturing a liquid-ejection head
JP2007216415A (ja) 液体噴射記録ヘッド、およびその製造方法
JP2009119725A (ja) インクジェット記録ヘッド及びインクジェット記録ヘッドの製造方法
JP2017193166A (ja) 液体吐出ヘッドの製造方法
JP2010260233A (ja) 液体吐出ヘッドの製造方法
US10322584B2 (en) Method for manufacturing liquid ejection head
JP5911264B2 (ja) 液体吐出ヘッドの製造方法
JP5743637B2 (ja) 液体吐出ヘッドの製造方法
US10744771B2 (en) Method of manufacturing liquid ejection head and method of manufacturing structure
JP2014069354A (ja) インク吐出ヘッドの製造方法及びインク吐出ヘッド

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant