JP6270363B2 - 液体吐出ヘッドの製造方法 - Google Patents
液体吐出ヘッドの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6270363B2 JP6270363B2 JP2013149492A JP2013149492A JP6270363B2 JP 6270363 B2 JP6270363 B2 JP 6270363B2 JP 2013149492 A JP2013149492 A JP 2013149492A JP 2013149492 A JP2013149492 A JP 2013149492A JP 6270363 B2 JP6270363 B2 JP 6270363B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- manufacturing
- liquid
- photosensitive resin
- discharge port
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 72
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 47
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 46
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 112
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 112
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 46
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 18
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 14
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 13
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 8
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 claims description 7
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 claims description 6
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 claims description 6
- 239000008096 xylene Substances 0.000 claims description 6
- -1 perfluoroalkyl ester Chemical class 0.000 claims description 5
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 4
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 claims description 3
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 claims description 3
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 claims description 2
- YFSUTJLHUFNCNZ-UHFFFAOYSA-N perfluorooctane-1-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F YFSUTJLHUFNCNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- SNGREZUHAYWORS-UHFFFAOYSA-N perfluorooctanoic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F SNGREZUHAYWORS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 claims description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 2
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 claims 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 16
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 9
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- FFBHFFJDDLITSX-UHFFFAOYSA-N benzyl N-[2-hydroxy-4-(3-oxomorpholin-4-yl)phenyl]carbamate Chemical compound OC1=C(NC(=O)OCC2=CC=CC=C2)C=CC(=C1)N1CCOCC1=O FFBHFFJDDLITSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009429 electrical wiring Methods 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000018 DNA microarray Methods 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 230000000116 mitigating effect Effects 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 230000002040 relaxant effect Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1631—Manufacturing processes photolithography
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1601—Production of bubble jet print heads
- B41J2/1603—Production of bubble jet print heads of the front shooter type
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1626—Manufacturing processes etching
- B41J2/1629—Manufacturing processes etching wet etching
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1637—Manufacturing processes molding
- B41J2/1639—Manufacturing processes molding sacrificial molding
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/164—Manufacturing processes thin film formation
- B41J2/1645—Manufacturing processes thin film formation thin film formation by spincoating
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49401—Fluid pattern dispersing device making, e.g., ink jet
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Description
本発明は、液体を吐出する液体吐出ヘッドの製造方法に関する。
インクを被記録媒体に吐出して記録を行う方法として、インクジェット記録方式が挙げられる。インクジェット記録ヘッドを作製する方法としては、例えば、流路壁を形成してからオリフィスプレートを貼り合わせる手法が挙げられ、特許文献１や特許文献２にその方法が記載されている。
特許文献１に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法では、まず、液体を吐出するためのエネルギーを発生するエネルギー発生素子としての電気熱変換素子を含む基板上に、ネガ型の第１感光性樹脂層を形成し、インク流路となるパターン露光を行う。次いで、オリフィスプレートとなる第２感光性樹脂層を第１感光性樹脂層上に形成する。第１感光性樹脂層と異なる感度を持つ第２感光性樹脂層にインク吐出口となるパターン露光を行う。その後、第１と第２の感光性樹脂層の潜像部を除去することでインクジェット記録ヘッドを作製する。
また、特許文献２に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法では、まず、液体を吐出するためのエネルギーを発生するエネルギー発生素子としての電気熱変換素子を含む基板上に、インク流路を形成する。次いで、オリフィスプレートとなるネガ型の感光性樹脂をインク流路上に転写する。その後、インク吐出口となるパターン露光を行い、除去することでインクジェット記録ヘッドを作製する。
特許文献１や特許文献２に記載の方法では、オリフィスプレートとなる、フィルムの支持体上に形成された感光性樹脂を基板上に転写する場合に、基板の表面とフィルムの支持体が直接触れ合うことになる。そのため、フィルムの支持体に形成されていた微小な凹凸が、転写時に転写跡としてフェイス面に残ったり、フィルムの支持体を剥離する際にフェイス面に傷をつけてしまったりする場合がある。近年、ノズルの高密度化と高精度化に伴って、微少な転写跡に溜まるインクにより吐出精度が落ちてしまう懸念があった。そのため、フィルムの支持体の微小な凹凸がない、平坦性の優れた高価なフィルムを選択する必要性があった。
そこで、本発明の目的は、フィルムを用いて吐出口形成部材を形成する液体吐出ヘッドの製造方法であって、フィルムの支持体に存在する微小な凹凸の影響を低減又は緩和できる液体吐出ヘッドの製造方法を提供することである。
即ち、本発明は、
液体を吐出する吐出口が形成された吐出口形成部材と、該吐出口から液体を吐出するためのエネルギーを発生する吐出エネルギー発生素子を第一の面側に有する基板と、を有する液体吐出ヘッドの製造方法であって、
（１）支持体と、樹脂を含む第一の層と、第二の層と、をこの順に有するフィルムを用意する工程と、
（２）前記フィルムを、前記第二の層が前記第一の面と対向するように配置し、該フィルムから前記支持体を剥離する工程と、
（３）前記第二の層に前記吐出口を形成する工程と、
（４）前記樹脂を溶解して前記第一の層の少なくとも一部を前記第二の層上から除去する工程と、
を有することを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法である。
また、本発明は、
液体を吐出する吐出口が形成された吐出口形成部材と、該吐出口から液体を吐出するためのエネルギーを発生する吐出エネルギー発生素子を第一の面側に有する基板と、を有する液体吐出ヘッドの製造方法であって、
（１）支持体と、第一の層と、第二の層と、をこの順に有するフィルムを用意する工程と、
（２）前記フィルムを、前記第二の層が前記第一の面と対向するように配置し、該フィルムから前記支持体を剥離する工程と、
（３）前記第二の層に前記吐出口もしくは吐出口パターンを形成する工程と、
（４）前記第一の層の少なくとも一部を前記第二の層上から除去する工程と、
をこの順で有することを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法である。
液体を吐出する吐出口が形成された吐出口形成部材と、該吐出口から液体を吐出するためのエネルギーを発生する吐出エネルギー発生素子を第一の面側に有する基板と、を有する液体吐出ヘッドの製造方法であって、
（１）支持体と、樹脂を含む第一の層と、第二の層と、をこの順に有するフィルムを用意する工程と、
（２）前記フィルムを、前記第二の層が前記第一の面と対向するように配置し、該フィルムから前記支持体を剥離する工程と、
（３）前記第二の層に前記吐出口を形成する工程と、
（４）前記樹脂を溶解して前記第一の層の少なくとも一部を前記第二の層上から除去する工程と、
を有することを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法である。
また、本発明は、
液体を吐出する吐出口が形成された吐出口形成部材と、該吐出口から液体を吐出するためのエネルギーを発生する吐出エネルギー発生素子を第一の面側に有する基板と、を有する液体吐出ヘッドの製造方法であって、
（１）支持体と、第一の層と、第二の層と、をこの順に有するフィルムを用意する工程と、
（２）前記フィルムを、前記第二の層が前記第一の面と対向するように配置し、該フィルムから前記支持体を剥離する工程と、
（３）前記第二の層に前記吐出口もしくは吐出口パターンを形成する工程と、
（４）前記第一の層の少なくとも一部を前記第二の層上から除去する工程と、
をこの順で有することを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法である。
本発明によれば、フィルムを用いて吐出口形成部材を形成する液体吐出ヘッドの製造方法であって、フィルムの支持体に存在する微小な凹凸の影響を低減又は緩和できる液体吐出ヘッドの製造方法を提供することができる。
より好ましくは、本発明よれば、フィルムの支持体上に形成された溶解可能な樹脂層が支持体に存在する微小な凹凸を低減又は緩和することができる。そのため、感光性樹脂層を基板上に転写する場合にフェイス面にダメージを与えずに液体吐出ヘッドを製造できる。
以下に、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。
なお、以下の説明では、同一の機能を有する構成には図面中同一の番号を付与し、その説明を省略する場合がある。また、本明細書では、本発明の適用例としてインクジェット記録ヘッドを例に挙げて説明するが、本発明の適用範囲はこれに限定されるものではなく、バイオチップ作製や電子回路印刷用途の液体吐出ヘッドにも適用できる。液体吐出ヘッドとしては、インクジェット記録ヘッドの他にも、例えばカラーフィルター製造用ヘッド等も挙げられる。
図４は、液体吐出ヘッドの構成例を示す模式的斜視図である。図４に示すように、液体吐出ヘッドは、インク等の液体を吐出するために利用されるエネルギーを発生する吐出エネルギー発生素子５を第一の面側（表面側）に有する基板１５と、インク等の液体を吐出する吐出口１３が形成されている。基板１５には、基板の第一の面（表面）及び該第一の面と反対側の面である第二の面（裏面）に貫通する液体供給口１４が設けられている。
また、基板１５の上には、吐出口１３と該吐出口に連通する液体流路１０を構成する流路形成部材１６が配置されている。流路形成部材は、液体流路１０の側壁を構成する流路壁構成部材と、吐出口１３を構成する吐出口形成部材と、から形成されている。
吐出エネルギー発生素子５及び液体供給口を有する基板１５としては、例えば、結晶軸（１００）のＳｉウエハを用いることができる。
また、図２、図３は、図４のＡ−Ａ’断面図における本発明の実施形態の液体吐出ヘッドの製造工程を説明するための断面工程図である。
以下、工程に用いるフィルムについて図１を参照にして説明し、本実施形態の製法ついては図２及び図３を参照して詳細に説明する。本発明のフィルムは、支持体と、第一の層と、第二の層と、をこの順に有する。
（実施形態１）
まず、フィルムを用意する。図１（Ａ）に示すように、支持体上に第一の層２を形成する。第一の層は、溶解可能な樹脂を含有していることが好ましい。以下、第一の層が溶解可能な樹脂層を含有した例を説明する。
まず、フィルムを用意する。図１（Ａ）に示すように、支持体上に第一の層２を形成する。第一の層は、溶解可能な樹脂を含有していることが好ましい。以下、第一の層が溶解可能な樹脂層を含有した例を説明する。
溶解可能な樹脂を支持体１上に堆積して第一の層２を形成する方法としては、例えば、スピンコート法などで被膜を形成する方法がある。また、第一の層２の厚さとしては、支持体の凹凸を吸収又は緩和する観点から、０．５〜１０μｍの厚さであることが好ましい。また、溶解可能な樹脂を溶剤に溶かして調製された溶液の粘度は、５〜１５０ＣＰであることが好ましい。溶剤としては、例えば、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、テトラハイドロフラン（ＴＨＦ）、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、又はキシレン等が挙げられる。溶剤は、１種を単独で用いてもよく、または２種以上を混合して用いてもよい。
また、溶解可能な樹脂としては、吐出口形成部材を形成する第二の層３の現像に用いる現像液で溶ける樹脂を用いることが好ましい。溶解可能な樹脂としては、有機溶媒に溶解するエポキシ樹脂、アクリル樹脂又はウレタン樹脂等が好ましく用いられる。また、吐出口を形成するための露光時に第一の層２を通して第二の層３を露光するため、溶解可能な樹脂は透過性（透光性とも称す）に優れていることが望ましい。したがって、透過性の観点から、エポキシ樹脂としてはビズフェノールＡ型やクレゾールノボラック型が好ましい。また、循環式のエポキシ樹脂も好ましい。また、アクリル樹脂としてはポリメチルメタクリレートが好ましい。また、ウレタン樹脂としてはポリウレタンが好ましい。
さらに、第一の層２は、第二の層３をフォトリソグラフィーによりパターン形成する場合においてレジスト層内の光多重干渉を低減する反射防止膜としての機能を有することが好ましい。反射防止膜としては第二の層３の感度低下を招くことなく、低屈折率、透明性、塗布膜厚均一性が求められる。このような観点から、溶解可能な樹脂層は、フッ素系含有化合物を含むことが好ましい。フッ素系含有化合物としては、例えば有機フッ素系界面活性剤が挙げられる。該有機フッ素系界面活性剤としては、パーフルオロアルキルエステル、パーフルオロアルキルエーテル、パーフルオロオクタンスルホン酸、パーフルオロオクタン酸等が好ましく挙げられる。
また、溶解可能な樹脂は後工程の露光によって不溶化されない。例えば、第二の層３に感光剤を含有しないものが、現像時に一括で除去できるため望ましい。
支持体１としては、例えば、ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）フィルムやポリイミドフィルム、ポリアミド（アラミド）フィルムなどが挙げられる。後工程でフィルムのみを剥離し易くするために支持体に離型処理を施してもよいが、第一の層を形成する際にレジスト弾きが起こる場合があるため、離型処理を施さない方が望ましい。
次いで、図１（Ｂ）に示すように、第一の層２の上に第二の層３を形成する。第二の層３を第一の層２の上に形成する方法としては、例えばスピンコート法やスリットコート法（カーテンコート法）などが挙げられる。また、第二の層３と第一の層２が混ざりにくいという観点から、スリットコート法（カーテンコート法）を用いることが望ましい。
第二の層３は感光性樹脂（第一の感光性樹脂）を含有した第一の感光性樹脂層であることが好ましい。以下、第二の層が第一の感光性樹脂を含有した第一の感光性樹脂層である場合を例に説明する。第一の感光性樹脂は、オリフィスプレートを構成する材料として高い機械的強度や耐インク性が要求される。また、インク吐出口を形成する材料として、５〜６０μｍの厚さでコーティングできることが好ましい。第一の感光性樹脂としては、例えばネガ型の感光性樹脂を用いることができる。また、第二の層３の厚さは、インク吐出口と吐出エネルギー発生素子との距離を決定する重要な因子であるため、精度良く形成可能である材料であることが望ましい。このような観点から、第一の感光性樹脂としてはエポキシ樹脂のカチオン重合硬化物が好ましく用いられる。エポキシ樹脂のカチオン重合硬化物からなる感光性樹脂層は、優れた強度、密着性、耐溶剤性を有し、かつ優れたパターニング特性を有する。
次いで、図２（Ａ）に示すように、吐出エネルギー発生素子５を有するシリコン基板等の基板４の上に、第二の感光性樹脂層７を形成する。第二の感光性樹脂層７としては、例えばネガ型の感光性樹脂を用いることができる。
吐出エネルギー発生素子５としては、例えば電気熱変換素子や圧電素子等を用いることができる。電気熱変換素子が用いられる場合には、この素子が近傍の液体を加熱して液体に状態変化を起こさせることにより吐出エネルギーを発生する。また、符号６は、吐出エネルギー発生素子を保護する膜としてのパッシベーション膜である。
第二の感光性樹脂層７を基板４上に形成する方法としては、例えば、適当な溶剤にレジスト材料（例えばネガ型）を溶解し、スピンコート法などで被膜を形成する方法が挙げられる。
第二の感光性樹脂層７の厚さは、インク流路高さを規定するものであり、例えば、５〜２５μｍである。
次いで、図２（Ｂ）に示すように、マスク８を用いて、第二の感光性樹脂層７を露光処理し、インク流路の非露光部９を有する潜像パターンを形成する。
インク流路の潜像パターンの形成には、インク吐出口と吐出エネルギー発生素子５との位置関係を精度よく形成するために、フォトリソグラフィー法を用いる。
次いで、図２（Ｃ）に示すように、現像液を用いて露光処理後の第二の感光性樹脂層７の潜像パターンを現像処理することにより、露光部分を除去し、インク流路壁（流路壁形成部材）７’及びインク流路１０を形成する。
次いで、図２（Ｄ）に示すように、インク流路壁７’の上に、図１（Ｂ）のフィルム（積層膜とも称す）を載せ、支持体１上に形成した第一の層２と第二の層３を転写する。フィルムは、基板の第一の面（表面）と第二の層３とが対向するように基板上に配置する。即ち、フィルムを、第二の層が基板の第一の面と対向するように配置する。その後又は同時に、基板上に配置されたフィルムから支持体１が剥離される。
フィルムをインク流路壁７’の上に配置する方法としては、ラミネート法などが挙げられる。
また、インク流路１０は空間となっており、該フィルムの転写は中空構造への転写となるため、転写時に中空構造への垂れ込みがないように形成しなければならない。例えば、第二の層３とインク流路１０（インク流路壁７’）とを接合するためには、第二の層３の軟化点を超える温度で転写する必要がある。第二の層３に樹脂バインダーを添加し皮膜性を良くすることが好ましい。
また、支持体１を剥離する際に、第一の層２が層分離しないように剥離することが望ましい。しかし、仮に支持体を剥離する際に第一の層２が層分離してしまっても、基板上に残った第一の層の溶解可能な樹脂は後に除去されることになるので、液体吐出ヘッドのフェイス面は保護されることになる。
次いで、図２（Ｅ）に示すように、マスク１１を用いて、第二の層３を露光処理し、非露光部１２を有する吐出口の潜像パターンを形成する。
潜像パターンは、例えば非露光部１２がインク吐出口パターンとなるように形成することができる。
次いで、図２（Ｆ）のように、現像液を用いて現像処理を行うことにより、第二の層３の潜像パターンを現像し、インク吐出口１３を形成する。また、その際、第一の層２は現像液に溶解除去される。即ち、現像液を用いて、潜像パターンを現像処理することにより吐出口を形成するとともに、現像液により第一の層の少なくとも一部を第二の層上から除去する。
現像液に含まれる現像溶媒には、例えば、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、テトラハイドロフラン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、又はキシレン等を用いることができる。現像溶媒は、１種を単独で又は２種以上を併用して用いることができる。
次いで、図２（Ｇ）に示すように、基板の裏面側からエッチングを行うことにより、インクなどの液体を供給するための貫通孔であるインク供給口１４を基板４に形成する。エッチングは例えば異方性エッチングである。
エッチング液としては、例えば、ＴＭＡＨ、ＫＯＨ等を用いることができる。また、エッチング時にオリフィスプレートへのダメージを防ぐため、基板の表面側に保護膜を設けてもよい。
以上のようにして作製されたインクジェット記録ヘッドに対して、インク供給のためのインク供給部材の取り付けや、電気熱変換素子を駆動するための電気配線部材の電気的接合を行うことができる（不図示）。
本実施形態の液体吐出ヘッドの製造方法により、オリフィスプレートをフィルムを用いて形成する際に、フィルムの転写および支持体の剥離時にフェイス面へのダメージを抑制して製造することができる。また、本実施形態の液体吐出ヘッドの製造方法では、離型処理を施さないですむため、支持体の種類を選ばない製造方法でもある。
（実施形態２）
以下、本実施形態２の製法について説明する。尚、実施形態１と同様、第一の層が溶解可能な樹脂層を含有し、第二の層が第一の感光性樹脂を含有した第一の感光性樹脂層である場合を例に説明する。
以下、本実施形態２の製法について説明する。尚、実施形態１と同様、第一の層が溶解可能な樹脂層を含有し、第二の層が第一の感光性樹脂を含有した第一の感光性樹脂層である場合を例に説明する。
まず、図３（Ａ）に示すように、吐出エネルギー発生素子５を有するシリコン基板等の基板４上に、第二の感光性樹脂層７を形成する。第二の感光性樹脂層の材料としては、例えばネガ型感光性樹脂を用いることができる。
第二の感光性樹脂層７の材料である第二の感光性樹脂には、インク流路壁を構成する材料として高い機械的強度や、耐インク性が要求される。また、インク流路の高さは５〜２５μｍの範囲が望ましいが、第二の感光性樹脂層７の厚さは、インク吐出口とエネルギー発生素子との距離を決定する重要な因子であるため、第二の感光性樹脂は精度良く形成可能である材料であることが望ましい。このような観点から、第二の感光性樹脂としてはエポキシ樹脂のカチオン重合硬化物が好ましい。エポキシ樹脂のカチオン重合硬化物からなる感光性樹脂層は、優れた強度、密着性、耐溶剤性を有し、かつ優れたパターニング特性を有する。
次いで、図３（Ｂ）に示すように、マスク８を用いて、第二の感光性樹脂層７を露光し、非露光部９を有するインク流路の潜像パターンを形成する。インク流路の潜像パターンは、非露光部の領域がインク流路となるように形成する。
次いで、図３（Ｃ）に示すように、基板の第一の面と第二の層３とが対向するように上述のフィルムを基板上に配置する。より具体的には、フィルムの第二の層３が潜像パターンを形成した後の第二の感光性樹脂層と接するようにフィルムを基板上に配置する。その後又は同時に、フィルムから支持体１が剥離される。
第二の層３を第二の感光性樹脂層７の上に配置する方法としては、ラミネート法などが挙げられる。また、転写する際、気泡の排出性を考慮して、ロール方式の転写や真空下での転写を行うことが望ましい。また、第一の層２が層分離しないように支持体を剥離することが望ましいが、仮に溶解可能な樹脂層が層分離しても、基板上に残った溶解可能な樹脂は後工程で除去されるため、液体吐出ヘッドのフェイス面は保護されることになる。
次いで、図３（Ｄ）に示すように、マスク１１を用いて第二の層３を露光し、非露光部１２からなるインク吐出口の潜像パターンを形成する。
この露光時に第二の感光性樹脂層が感光しないように第一の感光性樹脂層と第二の感光性樹脂層との間に感度差を設けておくことが望ましい。光の感度は、第一の感光性樹脂層に対して、第二の感光性樹脂層を低い感度にしておくことが望ましく、第二の感光性樹脂層の光感度を１とした場合、第一の感光性樹脂層の光感度が３以上であることが好ましい。
次いで、図３（Ｅ）のように、露光後の第二の層及び第二の感光性樹脂層を現像液を用いて現像処理することにより、吐出口を形成して吐出口形成部材を形成する。また、この際、第一の層２を現像液により溶解除去する。
また、具体的には、第一の層２を現像液に浸すことにより溶解除去すると同時に、第二の層の非露光部と第二の感光性樹脂層の非露光部を除去し、インク吐出口１３とインク流路１０を形成する。即ち、現像液を用いて、潜像パターンを現像処理することにより吐出口を形成するとともに、現像液により第一の層の少なくとも一部を第二の層上から除去する。
現像液の溶媒には、例えば、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、テトラハイドロフラン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、又はキシレン等を挙げることができる。溶媒は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
次いで、図３（Ｆ）に示すように、基板の裏面側からエッチングを行うことにより、インクなどの液体を供給するための貫通孔であるインク供給口１４を基板４に形成する。エッチングは例えば異方性エッチングである。
以上のようにして作製されたインクジェット記録ヘッドに対して、インク供給のためのインク供給部材の取り付けや、電気熱変換素子を駆動するための電気配線部材の電気的接合を行うことができる（不図示）。
「実施例」
（実施例１）
まず、図１に従って、フィルムを作製した。
（実施例１）
まず、図１に従って、フィルムを作製した。
まず、支持体１となるＰＥＴフィルム上に溶解可能な樹脂であるエポキシ樹脂（ダイセル化学工業社製「ＥＨＰＥ−３１５０」）を溶剤（キシレン）に溶解させた溶液をスピンコート法で塗布し、第一の層２として溶解可能な樹脂層を形成した。なお、溶解可能な樹脂の厚みを５μｍとした。この溶解可能な樹脂層２上に、エポキシ樹脂（ジャパンエポキシレジン社製「１５７Ｓ７０」）と後工程で吐出口を形成する際の露光波長３６５ｎｍに感度を持つ光開始剤（サンアプロ社製「ＣＰＩ−２１０Ｓ」）を溶剤（ＰＧＭＥＡ）に溶解させた溶液をスリットコート法で塗布し、第二の層３として第一の感光性樹脂層を形成した。なお、第一の感光性樹脂層の厚みを１５μｍとした（工程１）。
次に、エポキシ樹脂（ジャパンエポキシレジン社製「１５７Ｓ７０」）と露光波長３６５ｎｍに感度をもつ光開始剤（サンアプロ社製「ＣＰＩ−２１０Ｓ」）を溶剤（ＰＧＭＥＡ）に溶解させた溶液を吐出エネルギー発生素子５としての発熱抵抗体が設けられたシリコン製の基板４上にスピンコート法で塗布し、第二の感光性樹脂層７を形成した。そして、この第二の感光性樹脂層７をパターニングして、図２（Ｃ）に示すようにインク流路壁７’を形成した（工程２）。
次いで、図２（Ｄ）に示すように、工程１で作製したフィルムの第一の感光性樹脂層と工程２で作製したインク流路壁７’とが接するように、ロール式ラミネーターにて接着させた。その後、フィルムを剥がした。
次いで、図２（Ｅ）のように、露光機（キヤノン社製ＦＰＡ−３０００ｉ５＋）を使用して、露光波長３６５ｎｍにて５０００Ｊ／ｍ2の露光量でマスク１１を介してパターン露光を行うことにより、第一の感光性樹脂層に非露光部１２がインク吐出口１３となるように潜像パターンを形成した。
次いで、溶解可能な樹脂層を現像液（ＰＧＭＥＡ）に浸すことで、図２（Ｆ）に示すように、溶解可能な樹脂層と同時に第一の感光性樹脂層の非露光部１２も取り除くことにより、インク吐出口１３を形成した。
さらに、図２（Ｇ）に示すように、エッチング液としてＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムヒドロキシド）を２２％に薄めた水溶液を８３℃に温調し、基板を２０時間浸すことで、基板４にインク供給口１４を形成した。以上により、図４に示すオリフィスプレート（吐出口形成部材）１６と基板１５からなる液体吐出ヘッドを得た。
（実施例２）
図１に従って、フィルムを作製した。
図１に従って、フィルムを作製した。
まず、支持体１となるＰＥＴフィルム上に溶解可能な樹脂であるエポキシ樹脂（ダイセル化学工業社製「ＥＨＰＥ−３１５０」）を溶剤（キシレン）に溶解させた溶液をスピンコート法で塗布し、第一の層２として溶解可能な樹脂層を形成した。なお、溶解可能な樹脂の厚みを５μｍとした。この溶解可能な樹脂層２上に、エポキシ樹脂（ジャパンエポキシレジン社製「１５７Ｓ７０」）と後工程で吐出口を形成する際の露光波長３６５ｎｍに感度を持つ光開始剤（チバジャパン社製「Ｉｒｇａｃｕｒｅ２９０」）を溶剤（ＰＧＭＥＡ）に溶解させた溶液をスリットコート法で塗布し、第二の層３として第一の感光性樹脂層を形成した。なお、第一の感光性樹脂層の厚みを１５μｍとした（工程１）。
次に、エポキシ樹脂（ジャパンエポキシレジン社製「１５７Ｓ７０」）と露光波長３６５ｎｍに感度をもつ光開始剤（サンアプロ社製「ＣＰＩ−２１０Ｓ」）を溶剤（ＰＧＭＥＡ）に溶解させた溶液を吐出エネルギー発生素子５としての発熱抵抗体が設けられたシリコン製の基板４上にスピンコート法で塗布し、第二の感光性樹脂層７を形成した。そして、この第二の感光性樹脂層７を、図３（Ｂ）に示すように、露光機（キヤノン社製「ＦＰＡ−３０００ｉ５＋」）を用いて、露光波長３６５ｎｍにて５０００Ｊ／ｍ2の露光量でマスク８を介してパターン露光を行うことにより、第二の感光性樹脂層７の非露光部９の領域がインク流路１０となるよう潜像パターンを形成した（工程２）。
次いで、図３（Ｃ）に示すように、工程１で作製したフィルムの第一の感光性樹脂層と工程２で作製した露光後の第二の感光性樹脂層７とが接するように、ロール式ラミネーターにてこれらを接着させた。
次いで、図３（Ｄ）に示すように、露光機（キヤノン社製ＦＰＡ−３０００ｉ５＋）を使用して、露光波長３６５ｎｍにて５００Ｊ／ｍ2の露光量でマスク１１を介してパターン露光を行うことにより、第一の感光性樹脂層の非露光部１２がインク吐出口１３となるよう潜像パターンを形成した。
次いで、溶解可能な樹脂層２を現像液（ＰＧＭＥＡ）に浸すことで、図３（Ｅ）に示すように、溶解可能な樹脂層と同時に第一の感光性樹脂層の非露光部１２と第二の感光性樹脂層７の非露光部９を取り除き、インク吐出口１３とインク流路１０を形成した。
さらに、図３（Ｆ）に示すように、エッチング液としてＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムヒドロキシド）を２２％に薄めた水溶液を８３℃に温調し、基板を２０時間浸すことで、基板４にインク供給口１４を形成した。以上により、図４に示す吐出口形成部材を構成する流路形成部材１６と基板１５からなる液体吐出ヘッドを得た。
１ 支持体
２ 第一の層
３ 第二の層
４ 基板
５ 吐出エネルギー発生素子
６ パッシベーション膜（保護膜）
７ 第二の感光性樹脂層
７ インク流路壁（流路壁形成部材）
８ マスク
９ 非露光部
１０ インク流路
１１ マスク
１２ 非露光部
１３ インク吐出口
１４ インク供給口
１５ 基板
１６ 吐出口形成部材
２ 第一の層
３ 第二の層
４ 基板
５ 吐出エネルギー発生素子
６ パッシベーション膜（保護膜）
７ 第二の感光性樹脂層
７ インク流路壁（流路壁形成部材）
８ マスク
９ 非露光部
１０ インク流路
１１ マスク
１２ 非露光部
１３ インク吐出口
１４ インク供給口
１５ 基板
１６ 吐出口形成部材
Claims (21)
- 液体を吐出する吐出口が形成された吐出口形成部材と、該吐出口から液体を吐出するためのエネルギーを発生する吐出エネルギー発生素子を第一の面側に有する基板と、を有する液体吐出ヘッドの製造方法であって、
（１）支持体と、樹脂を含む第一の層と、第二の層と、をこの順に有するフィルムを用意する工程と、
（２）前記フィルムを、前記第二の層が前記第一の面と対向するように配置し、該フィルムから前記支持体を剥離する工程と、
（３）前記第二の層に前記吐出口を形成する工程と、
（４）前記樹脂を溶解して前記第一の層の少なくとも一部を前記第二の層上から除去する工程と、
を有することを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。 - 液体を吐出する吐出口が形成された吐出口形成部材と、該吐出口から液体を吐出するためのエネルギーを発生する吐出エネルギー発生素子を第一の面側に有する基板と、を有する液体吐出ヘッドの製造方法であって、
（１）支持体と、第一の層と、第二の層と、をこの順に有するフィルムを用意する工程と、
（２）前記フィルムを、前記第二の層が前記第一の面と対向するように配置し、該フィルムから前記支持体を剥離する工程と、
（３）前記第二の層に前記吐出口もしくは吐出口パターンを形成する工程と、
（４）前記第一の層の少なくとも一部を前記第二の層上から除去する工程と、
をこの順で有することを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。 - 前記第二の層が感光性樹脂を含有した第一の感光性樹脂層であることを請求項１に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記第二の層を露光処理することにより前記吐出口の潜像パターンを形成し、現像液を用いて前記潜像パターンを現像処理することにより前記吐出口を形成するとともに、前記現像液により前記第一の層の少なくとも一部を前記第二の層上から除去する請求項３に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記潜像パターンを形成する前記露光処理は、前記第一の層を介して実施され、該第一の層は該露光処理によって不溶化されない請求項４に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記工程（２）の前に、前記基板の前記第一の面の上に第二の感光性樹脂層を配置してパターニングすることにより、前記吐出口に連通する液体流路の側壁を構成する流路壁形成部材を形成する工程を有し、
前記工程（２）において、前記第一の感光性樹脂層が前記流路壁形成部材に接するように前記フィルムを配置する請求項３乃至５のいずれかに記載の液体吐出ヘッドの製造方法。 - 前記工程（２）の前に、前記基板の前記第一の面の上に第二の感光性樹脂層を配置し、該第二の感光性樹脂層を露光処理して前記吐出口に連通する液体流路の潜像パターンを形成する工程を有し、
前記工程（２）において、前記第一の感光性樹脂層が前記露光処理後の前記第二の感光性樹脂層に接するように前記フィルムを配置し、
前記工程（４）において、現像液によって前記吐出口の潜像パターンと前記液体流路の潜像パターンを現像して前記吐出口と前記液体流路を形成する請求項４に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。 - 前記第一の感光性樹脂層の光感度は前記第二の感光性樹脂層の光感度よりも高い請求項７に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記第二の感光性樹脂層の光感度を１とした場合、前記第一の感光性樹脂層の光感度が３以上である請求項８に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記第一の層は、５〜１５０ＣＰの粘度の溶液が前記支持体上にスピンコート法によって塗布されて形成される請求項１乃至９のいずれかに記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記第一の層は、０．５〜１０μｍの厚さで前記支持体上に形成される請求項１乃至１０のいずれかに記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記第一の層は、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、又はウレタン樹脂を含む請求項１乃至１１のいずれかに記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記第一の層は、フッ素系含有化合物を含む請求項１乃至１２のいずれかに記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記フッ素系含有化合物が有機フッ素系界面活性剤である請求項１３に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記有機フッ素系界面活性剤が、パーフルオロアルキルエステル、パーフルオロアルキルエーテル、パーフルオロオクタンスルホン酸、又はパーフルオロオクタン酸である請求項１４に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記第一の層は、樹脂を、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、テトラハイドロフラン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、又はキシレンに溶解した溶液を用いて形成される請求項１乃至１５のいずれかに記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記支持体は、ポリエチレンテレフタラート、ポリイミド、又はポリアミドである請求項１乃至１６のいずれかに記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記第二の層は、前記第一の層の上にカーテンコート法によって形成される請求項１乃至１７のいずれかに記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記工程（４）では、前記第一の層のうち、少なくとも前記第二の層の前記吐出口を形成する領域とは異なる領域の上にある第一の層を除去する、請求項１乃至１８のいずれかに記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記工程（４）では、前記第二の層の上にある全ての前記第一の層を除去する、請求項１乃至１９のいずれかに記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記工程（２）の前に、
前記基板の第一の面上に、インク流路壁を形成する工程（ａ）と、
前記フィルムを、前記第二の層が前記第一の面と対向するように配置し、前記第二の層の軟化点を越える温度で前記インク流路壁に前記第二の層を接合する工程（ｂ）と、
を有する、請求項１乃至２０のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013149492A JP6270363B2 (ja) | 2012-09-11 | 2013-07-18 | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012199388 | 2012-09-11 | ||
| JP2012199388 | 2012-09-11 | ||
| JP2013149492A JP6270363B2 (ja) | 2012-09-11 | 2013-07-18 | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2014073679A JP2014073679A (ja) | 2014-04-24 |
| JP2014073679A5 JP2014073679A5 (ja) | 2016-08-25 |
| JP6270363B2 true JP6270363B2 (ja) | 2018-01-31 |
Family
ID=50231731
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013149492A Active JP6270363B2 (ja) | 2012-09-11 | 2013-07-18 | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9421773B2 (ja) |
| JP (1) | JP6270363B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016038468A (ja) * | 2014-08-07 | 2016-03-22 | キヤノン株式会社 | 感光性樹脂層のパターニング方法 |
| JP6395518B2 (ja) * | 2014-09-01 | 2018-09-26 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
| JP2016221866A (ja) | 2015-06-01 | 2016-12-28 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
| JP6719911B2 (ja) * | 2016-01-19 | 2020-07-08 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
| US9855566B1 (en) * | 2016-10-17 | 2018-01-02 | Funai Electric Co., Ltd. | Fluid ejection head and process for making a fluid ejection head structure |
| JP6873836B2 (ja) | 2017-06-19 | 2021-05-19 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
| JP7187199B2 (ja) * | 2018-07-19 | 2022-12-12 | キヤノン株式会社 | 部材の転写方法及び液体吐出ヘッドの製造方法 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2694054B2 (ja) | 1990-12-19 | 1997-12-24 | キヤノン株式会社 | 液体噴射記録ヘッド、その製造方法、及び液体噴射記録ヘッドを備えた記録装置 |
| DE69127801T2 (de) | 1990-12-19 | 1998-02-05 | Canon Kk | Herstellungsverfahren für flüssigkeitsausströmenden Aufzeichnungskopf |
| JP2001347671A (ja) * | 2000-06-07 | 2001-12-18 | Casio Comput Co Ltd | インクジェットプリンタヘッドの製造方法 |
| JP4183236B2 (ja) * | 2001-09-04 | 2008-11-19 | キヤノン株式会社 | 画像記録方法 |
| JP2004342988A (ja) * | 2003-05-19 | 2004-12-02 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 半導体パッケージの製造方法、及び半導体装置の製造方法 |
| JP2007230234A (ja) | 2006-02-02 | 2007-09-13 | Canon Inc | インクジェット記録ヘッドの製造方法 |
| US7523553B2 (en) * | 2006-02-02 | 2009-04-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing ink jet recording head |
| JP2011235533A (ja) * | 2010-05-10 | 2011-11-24 | Seiko Epson Corp | 液滴吐出ヘッドおよび液滴吐出装置 |
-
2013
- 2013-07-18 JP JP2013149492A patent/JP6270363B2/ja active Active
- 2013-08-01 US US13/956,607 patent/US9421773B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20140068940A1 (en) | 2014-03-13 |
| JP2014073679A (ja) | 2014-04-24 |
| US9421773B2 (en) | 2016-08-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6270363B2 (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法 | |
| US10625506B2 (en) | Method for manufacturing liquid discharge head | |
| US8273524B2 (en) | Liquid discharging head, producing method thereof, structure, and producing method thereof | |
| US10894409B2 (en) | Method of manufacturing a liquid ejection head | |
| JP5279686B2 (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法 | |
| JP6308761B2 (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法 | |
| US8753800B2 (en) | Process for producing ejection orifice forming member and liquid ejection head | |
| WO2007063690A1 (en) | Liquid discharge head producing method | |
| US10201974B2 (en) | Process for producing liquid discharge head | |
| US9789690B2 (en) | Method for manufacturing liquid ejection head | |
| US9809027B2 (en) | Method of manufacturing structure and method of manufacturing liquid ejection head | |
| JP2009029043A (ja) | インクジェット記録ヘッドの製造方法 | |
| US11465418B2 (en) | Manufacturing method for structure and manufacturing method for liquid ejection head | |
| US10894410B2 (en) | Method of manufacturing liquid ejection head and method of forming resist | |
| JP6305035B2 (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法 | |
| JP2012096512A (ja) | 保護層付き基板の製造方法および基板加工方法 | |
| JP6545077B2 (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法 | |
| KR20130004343A (ko) | 액체 토출 헤드의 제조 방법 | |
| JP2009172871A (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法 | |
| JP2019043106A (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法、および構造体の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20140430 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160706 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160706 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170414 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170425 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170626 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20171128 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20171226 |
|
| R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6270363 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |