JP7187199B2 - 部材の転写方法及び液体吐出ヘッドの製造方法 - Google Patents
部材の転写方法及び液体吐出ヘッドの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7187199B2 JP7187199B2 JP2018135903A JP2018135903A JP7187199B2 JP 7187199 B2 JP7187199 B2 JP 7187199B2 JP 2018135903 A JP2018135903 A JP 2018135903A JP 2018135903 A JP2018135903 A JP 2018135903A JP 7187199 B2 JP7187199 B2 JP 7187199B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- support
- dry film
- flow path
- substrate
- resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 43
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 38
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 12
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 82
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 75
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 63
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 63
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 21
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 20
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 17
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 16
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 claims description 14
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 claims description 13
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 9
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 9
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 claims description 9
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 23
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 21
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 21
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 14
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 13
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 13
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 11
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 3
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 2
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009623 Bosch process Methods 0.000 description 1
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 229910004200 TaSiN Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 239000005003 food packaging material Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920000306 polymethylpentene Polymers 0.000 description 1
- 239000011116 polymethylpentene Substances 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1601—Production of bubble jet print heads
- B41J2/1603—Production of bubble jet print heads of the front shooter type
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2/14016—Structure of bubble jet print heads
- B41J2/14024—Assembling head parts
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2/14016—Structure of bubble jet print heads
- B41J2/14032—Structure of the pressure chamber
- B41J2/14048—Movable member in the chamber
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1623—Manufacturing processes bonding and adhesion
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1626—Manufacturing processes etching
- B41J2/1628—Manufacturing processes etching dry etching
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1626—Manufacturing processes etching
- B41J2/1629—Manufacturing processes etching wet etching
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1631—Manufacturing processes photolithography
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1632—Manufacturing processes machining
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1632—Manufacturing processes machining
- B41J2/1634—Manufacturing processes machining laser machining
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1637—Manufacturing processes molding
- B41J2/1639—Manufacturing processes molding sacrificial molding
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/164—Manufacturing processes thin film formation
- B41J2/1645—Manufacturing processes thin film formation thin film formation by spincoating
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/092—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers characterised by backside coating or layers, by lubricating-slip layers or means, by oxygen barrier layers or by stripping-release layers or means
Description
そこで、本発明の目的は、被対象物に転写した部材の変形や破損を抑えることができる、部材の転写方法及び液体吐出ヘッドの製造方法を提供することにある。
<液体吐出ヘッドの構造>
まず、本発明に係る方法によって製造される液体吐出ヘッドの構成の一例について説明する。図1に示す液体吐出ヘッドは、基板1と、基板1に積層された流路形成部材12を有する。基板1は、例えばシリコンで形成されており、第一の面(図1の上面)21と、その裏面である第二の面(図1の下面)22と、第一面21から第二面22まで貫通する供給路3と、を有している。基板1の第一の面21側には、エネルギー発生素子2と、エネルギー発生素子2に接続されている端子13と、が形成されている。エネルギー発生素子2は、発熱抵抗体や圧電素子等であり、基板1の第一の面21と接するように形成されていても、第一の面21に対して間隔を置いて配置されていてもよい。流路形成部材12は、基板1の供給路3に接続されている流路14と、流路14と連通する吐出口11と、を有している。基板1の供給路3から流路形成部材12の流路14に液体が供給され、基板1の外部から端子13を介して供給された電力によってエネルギー発生素子2が駆動されると、エネルギー発生素子2から吐出エネルギーを付与された液体が吐出口11から吐出される。
次に、本発明の第1の実施形態に基づいて図1に示す液体吐出ヘッドを製造する方法について、図1のA-A線に対応する位置における断面図である図2を参照して説明する。図2(a)に示すように、第一の面21側にエネルギー発生素子2を有する基板(被対象物)1を用意する。エネルギー発生素子2は、SiNやSiO2等で形成された保護膜(不図示)で覆われていてもよい。基板1には、供給路3が形成されており、供給路3は基板1の第一の面21に開口している。基板1への供給路3の形成方法としては、レーザー加工、反応性イオンエッチング、サンドブラスト、ウェットエッチング等が挙げられる。
その一方、図2(b)に示すように、支持体4に支持されたドライフィルム(部材)5を用意する。本実施形態の支持体4としては、フィルム、ガラス、シリコン等が挙げられる。後で支持体4をドライフィルム5から剥離することを考えると、フィルムであることが好ましい。支持体4を構成するフィルムの材料としてはPET(ポリエチレンテレフタラート)、ポリイミド、ポリアミド、ポリアラミド、テフロン(登録商標)、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリメチルペンテン、シクロオレフィンポリマー等が挙げられる。支持体4はこれらの材料のうちの1つの材料からなる単層構造であってもよく、これらの材料のうちの1つまたは複数の材料からなる多層構造であってもよい。支持体4をドライフィルム5から剥離しやすくするために、支持体4の、ドライフィルム5に接する面に離型処理を施してもよい。ドライフィルム5は、感光性樹脂、例えばエポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂等で形成されている。エポキシ樹脂の例としては、ビスフェノールA型やクレゾールノボラック型や脂環式のエポキシ樹脂が挙げられる。アクリル樹脂の例としてはポリメチルメタクリレートが挙げられる。ウレタン樹脂の例としてはポリウレタン等が挙げられる。これらの樹脂を溶解する溶媒の例としては、PGMEA(プロピレングリコールメチルエーテルアセテート)、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、キシレン等が挙げられる。中でも感光性樹脂、特にはネガ型感光性樹脂であることが好ましい。これらの樹脂の組成物を支持体4上にスピンコート法やスリット付きヘッドを用いたダイレクトコート法(スリットコート法)やスプレー塗布法等で塗布して乾燥することで、支持体4上にドライフィルム5を形成する。
次に、前述したように十分な剛性を持っている支持体4を、図2(d)に示すように薄化する。具体的には、支持体4の厚さを半分以下まで薄くすることが好ましい。その場合、薄化の前後で支持体4の剛性の差が大きく、後述するようにドライフィルム5の転写時にも支持体4の剥離時にもドライフィルム5の変形が抑えられて良好な形状の維持に寄与する。支持体4の薄化は、研磨、溶剤による溶解、剥離などによって行われる。支持体4が単層構造である場合には、研磨によって薄化することが好ましい。支持体4が多層構造である場合には、支持体を構成する層のうちの少なくとも1層(少なくとも最外層)を研磨したり、溶剤で溶解したり、剥離したりして除去する方法が好ましい。多層構造の支持体4を溶剤による溶解で薄化する場合には、例えば、ポリビニルアルコールを原料とした水溶性のフィルムを用いて支持体4の少なくとも一部の層を構成し、水を用いて該当する層(ポリビニルアルコール層)を除去する方法が考えられる。多層構造の支持体4を剥離による除去で薄化する場合には、除去する層と除去せずに残す層との間の離型性が、ドライフィルム5と接する面の離型性よりも高くなるように処理を施しておくことが好ましい。それにより、支持体4とドライフィルム5との間で剥離が起きるのを防ぎつつ、所望の層間で剥離することが可能である。このように多層構造の支持体4の層間で剥離することを「層間剥離」と称する。
このように支持体4を薄化してドライフィルム5から剥離した後に、図2(f)に示すように、ドライフィルム5を部分的に露光して、図2(h)に示す流路14になるパターンを形成する。ここではドライフィルム5としてネガ型感光性樹脂を用いた例を示し、流路14の側壁となる部分(流路形成部材12の一部となる部分)を露光し、非露光部分を流路14となるパターンとしている。このようにドライフィルム5の一部を露光し硬化させることで、流路14の側壁となる部分を形成しており、その部分を図2(f),2(g)において符号5aで示している。そして、図2(g)に示すように、流路形成部材12の別の一部となる樹脂層7をドライフィルム5の上に形成し、樹脂層7を露光して、図2(h)に示す吐出口11になるパターンを形成する。ここでは、樹脂層7としてネガ型感光性樹脂を用いた例を示し、流路形成部材12の一部となる部分(吐出口を形成する部材)を露光し、非露光部分を吐出口11となるパターンとしている。このように樹脂層7の一部を露光し硬化させることで、吐出口を形成する部材を形成しており、その部分を図2(g)において符号7aで示している。樹脂層7の主な材料はドライフィルム5と同様の樹脂であり、それに光酸発生剤などを加えることでドライフィルム5と感度を変えたり感光波長領域を変えたりするように調整したものである。それから、ドライフィルム5と樹脂層7を現像して部分的に除去することによって、図2(h)に示すように流路14及び吐出口11を形成する。こうして、図1に示す液体吐出ヘッドを製造する。
それに対し、本実施形態では、十分に高い剛性を有する支持体4で支持されたドライフィルム5を基板1に転写した後に、支持体4を薄化して剛性を低減する。このように薄化して剛性が低くなった支持体4をドライフィルム5から剥離する。本実施形態では、ドライフィルム5を転写する工程と支持体4を剥離して除去する工程との間に、支持体4を薄化する処理を行うため、ドライフィルム5の転写時には支持体4の剛性が高く、支持体4のドライフィルム5からの剥離時には支持体4の剛性が低い。従って、ドライフィルム5の転写時にドライフィルム5が基板1の表面(一方の面21)の凹凸形状に追従することを抑制できるとともに、支持体4の剥離時にドライフィルム5が支持体4側に引っ張られて変形または破損することが抑制できる。こうして、本実施形態によると、ドライフィルムの変形や破損が抑えられて、所望の形状の流路形成部材12を良好に形成することが容易にできる。ドライフィルム5を基板1に転写する時の支持体4の剛性と、支持体4をドライフィルム5から剥離する時の支持体4の剛性との差が大きいほど、本実施形態の効果が顕著である。
次に、本発明の第2の実施形態の液体吐出ヘッドの製造方法について、図2,3を参照して説明する。本実施形態においても第1の実施形態と同様に、図2(a)に示すような基板1と、図2(b)に示すような支持体4に支持されたドライフィルム5とを用意する。そして、図2(c)に示すように、基板1の第一の面21に、支持体4に支持されたドライフィルム5を貼り合わせる。その後に、図2(d)に示すように、研磨や溶解や剥離などによって支持体4を、好ましくは半分以下の厚さになるまで薄化する。
次に、図3(a)に示すように、薄化された支持体4が接合された状態のドライフィルム5を露光して、図2(h)に示す流路14になるパターンを形成する。具体的には、例えばネガ型感光性樹脂からなるドライフィルム5の一部を露光し硬化させることで、流路14の側壁となる部分(流路形成部材12の一部となる部分)5aを形成し、非露光部分を流路14となるパターンとしている。支持体4上にドライフィルム5を形成する際(図2(b)参照)や、ドライフィルム5を基板1に貼り合わせる際(図2(c)参照)に、支持体4の、ドライフィルム5が形成される面と反対側の面(非形成面)に傷が付いたり塵埃が付着したりするおそれがある。本実施形態では、支持体4を介してドライフィルム5に露光を行う前に、研磨や溶解や剥離などによって支持体4の厚さが低減されている。この研磨や溶解や剥離などによる支持体4の薄化によって、支持体4の非形成面の傷や塵埃等を除去することができる。従って、パターン不良に繋がるような傷や塵埃等を除去した清浄な支持体4を通して、ドライフィルム5を露光することができる。その後に、支持体4をドライフィルム5から剥離(界面剥離)する。図3(b)は、支持体4の剥離後の状態を示している。そして、第1の実施形態と同様に、図2(g)に示すように流路形成部材12(図1参照)の一部となる樹脂層7をドライフィルム5の上に形成して露光して、図2(h)に示す吐出口11になるパターンを形成する。具体的には、例えばネガ型感光性樹脂からなる樹脂層7の一部を露光し硬化させることで、吐出口11を形成する部材になる部分(流路形成部材12の別の一部となる部分)7aを形成し、非露光部分を吐出口11となるパターンとしている。それから、ドライフィルム5と樹脂層7を現像することによって、図2(h)に示すように流路14及び吐出口11を形成する。
次に、本発明の第3の実施形態の液体吐出ヘッドの製造方法について、図4を参照して説明する。本実施形態では、図4(a)に示すような基板1と、図4(b)に示すような支持体4に支持されたドライフィルム5とを用意する。基板1及びドライフィルム5は、第1,2の実施形態と同様なものであってよい。ただし、本実施形態の支持体4は、溶解除去可能な材料からなる。特に、支持体4は、ドライフィルム5の材料(エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂等)を溶解させない溶解液によって溶解できる材料からなることが好ましい。一例として、水や温水で容易に溶解するPVA(ポリビニルアルコール)フィルムによって支持体4を構成することが好ましい。前述した樹脂材料からなるドライフィルム5は有機溶剤によって溶解するが、水や温水によって溶けることはない。
この支持体4に支持されたドライフィルム5を、図4(c)に示すように基板1の第一の面21に貼り合わせる。ただし、本実施形態では、第1,2の実施形態とは異なり、支持体4に支持されたドライフィルム5を基板1に転写した後に、支持体4の薄化は行わない。そして、支持体4を例えば温水に浸けることによって溶解させて除去する。図4(d)は、支持体4の除去後の状態を示している。この時、ドライフィルム5は非溶解状態に維持する。次に、図4(e)に示すように、基板1上に残ったドライフィルム5を露光して、図4(h)に示す流路14になるパターンを形成する。具体的には、例えばネガ型感光性樹脂からなるドライフィルム5の一部を露光し硬化させることで、流路14の側壁となる部分(流路形成部材12(図1参照)の一部となる部分)5aを形成し、非露光部分を流路14となるパターンとしている。
それから、図4(f)に示すように、支持体8に支持されたもう1つのドライフィルム6を用意し、流路14になるパターンが形成されたドライフィルム5に、支持体8に支持されたもう1つのドライフィルム6を貼り合わせる。本実施形態では、もう1つのドライフィルム6を支持している支持体8も、前述した支持体4と同様な材料からなる。そして、支持体8を例えば温水に浸けることによって溶解させて除去する。図4(g)は、支持体8の除去後の状態を示している。それから、ドライフィルム5上に残ったドライフィルム6を露光して、図4(h)に示す吐出口11となるパターンを形成する。具体的には、例えばネガ型感光性樹脂からなるドライフィルム6の一部を露光し硬化させることで、吐出口11を形成する部材になる部分(流路形成部材12の別の一部となる部分)6aを形成し、非露光部分を吐出口11となるパターンとしている。一例としては、ドライフィルム6は、ドライフィルム5と同様の樹脂材料に光酸発生剤などを加えることでドライフィルム5と感度を変えたり感光波長領域を変えたりした材料からなる。それから、ドライフィルム5,6を現像することによって、図4(h)に示すように流路14及び吐出口11を形成する。
本実施形態では、支持体4,8をドライフィルム5,6から機械的に剥離する場合のようにドライフィルム5,6が凝集破壊を起こすことはなく、ドライフィルム5,6から分離したパーティクルが基板1の上に落下し付着して品質問題を引き起こすことはない。支持体4をドライフィルム5から機械的に剥離する場合には、支持体4と基板1とドライフィルム5において、支持体4の強度、ドライフィルム5と支持体4との密着力、ドライフィルム5と基板1の密着力、基板1の強度はいずれも高い。それに対して、硬化前のドライフィルム5の強度は比較的低い。従って、支持体4をドライフィルム5から機械的に剥離しようとすると、ドライフィルム5、特に基板1の外周付近で基板1上に残る部分とそれ以外の部分との間の境目の部分が、凝集破壊を起こして破片(パーティクル)が分離して空気中に舞い上がり易い。これに対し、本実施形態では、支持体4をドライフィルム5から機械的に剥離するのではなく、化学的に溶解させて除去するため、ドライフィルム5が凝集破壊を生じて破片が分離することがない。従って、ドライフィルム5の破片が基板1に付着して品質低下を招くことはない。なお、支持体8及びドライフィルム6も、支持体4及びドライフィルム5と同様に、支持体8をドライフィルム6から機械的に剥離するのではなく化学的に溶解させて除去する。従って、凝集破壊は生じずパーティクルは発生しないので、パーティクルによる品質上の問題を起こすことはない。さらに、本実施形態では機械的な剥離(引き剥がし)工程が無いので、支持体4,8とドライフィルム5,6及び基板1との密着力のバランスを考慮して支持体4,8とドライフィルム5,6の離型性を良くする処理(離型層の形成)を行う必要がない。
<実施例1>
実施例1は、前述した本発明の第1の実施形態に基づく実施例である。まず、図2(a)に示すように、第一の面21側にTaSiNからなるエネルギー発生素子2を有する基板1を用意した。本実施例の基板1は、シリコンの(100)基板の表面にSiNからなる保護膜(不図示)が形成されたものであってもよい。基板1には、例えばRIE(リアクティブイオンエッチング)方式のボッシュプロセスで、第一の面21に開口する供給路3が形成されている。その一方、図2(b)に示すように、支持体4に支持されたドライフィルム5を用意した。本実施例の支持体4は厚さ100μmのPETからなる単層構造であり、ドライフィルム5と接する面には離型処理を施した。本実施例のドライフィルム5は、支持体4の離型処理が施された面に、エポキシ樹脂(DIC株式会社製N-695(商品名))及び光酸発生剤(サンアプロ株式会社製CPI-210S(商品名))をPGMEAに溶解させた溶液を塗布して形成した。
次に、本発明の第1の実施形態に基づく変形例である実施例2について説明する。実施例1と同様の部分については説明を省略または簡略化する。また、一部の部材の材料が異なるが類似した形態を示す図2,5を参照して説明を行う。本実施例では、図5(a)に示すように、支持体4として、厚さ50μmのPET層4aと厚さ50μmのポリイミド層4bとからなる多層構造の膜を用い、PET層4aの上にドライフィルム5を積層した。ドライフィルム5は、実施例1と同様にエポキシ樹脂(DIC株式会社製N-695(商品名))及び光酸発生剤(サンアプロ株式会社製CPI-210S(商品名))をPGMEAに溶解させた溶液を塗布することによって形成した。図5(b)に示すように、この支持体4に支持されたドライフィルム5を、実施例1と同様な基板1(図2(a)参照)に転写する。そして、アルミナ懸濁液を用いた研磨によって、支持体4の厚さ50μmのポリイミド層4bを除去し、厚さ50μmのPET層4aのみを残した。図5(c)は、ポリイミド層4bの除去後の状態を示している。それから、実施例1と同様に、ドライフィルム5から支持体4(残存しているPET層4a)を界面剥離した。図2(e)は支持体4の剥離後の状態を示している。そして、ネガ型感光性樹脂からなるドライフィルム5の一部を露光して硬化させ、図2(h)に示す流路14の側壁となる部分(流路形成部材12(図1参照)の一部となる部分)5aを形成し、非露光部分を流路14になるパターンとした(図2(f)参照)。次に、ネガ型感光性樹脂からなる樹脂層7をドライフィルム5の上に形成した(図2(g)参照)。そして、樹脂層7の一部を露光して硬化させ、図2(h)に示す吐出口11を形成する部材になる部分(流路形成部材12の別の一部となる部分)7aを形成し、非露光部分を吐出口11になるパターンとした。それからドライフィルム5及び樹脂層7を現像して流路14及び吐出口11を形成した(図2(h)参照)。最後に、図示しない配線基板との電気的接続等を行い、液体吐出ヘッドを製造した。この液体吐出ヘッドを観察して、実施例1と同様に不良がないことを確認した。さらに、本実施例によると、支持体4の界面剥離の前の研磨工程(図5(c))において、支持体4の半分の厚さだけ除去することが容易にでき、研磨工程と界面剥離工程の精度が良好である。
次に、本発明の第1の実施形態に基づく他の変形例である実施例3について説明する。実施例1,2と同様の部分については説明を省略または簡略化する。また、一部の部材の材料が異なるが類似した形態を示す図2,5を参照して説明を行う。本実施例では、支持体4として、厚さ50μmのPET層4aと厚さ50μmのPVA(ポリビニルアルコール)層4bとからなる、図5(a)に類似した多層構造の膜を用い、PET層4aの上にドライフィルム5を積層した。ドライフィルム5は、実施例1と同様にエポキシ樹脂(DIC株式会社製N-695(商品名))及び光酸発生剤(サンアプロ株式会社製CPI-210S(商品名))をPGMEAに溶解させた溶液を塗布することによって形成した。この支持体4に支持されたドライフィルム5を、実施例1と同様な基板1(図2(a)参照)に転写する(図5(b)参照)。そして、水を用いて支持体4の厚さ50μmのPVC層4bを溶解させて除去し、厚さ50μmのPET層4aのみを残した。図5(c)はPVC層4bの除去後の状態を示している。それから、実施例1と同様に、ドライフィルム5から支持体4(残存しているPET層4a)を界面剥離した。図2(e)は支持体4の剥離後の状態を示している。そして、ネガ型感光性樹脂からなるドライフィルム5の一部を露光して硬化させ、図2(h)に示す流路14の側壁となる部分(流路形成部材12(図1参照)の一部となる部分)5aを形成し、非露光部分を流路14になるパターンとした(図2(f)参照)。次に、ネガ型感光性樹脂からなる樹脂層7をドライフィルム5の上に形成した(図2(g)参照)。そして、樹脂層7の一部を露光して硬化させ、図2(h)に示す吐出口11を形成する部材になる部分(流路形成部材12の別の一部となる部分)7aを形成し、非露光部分を吐出口11になるパターンとした。それからドライフィルム5及び樹脂層7を現像して流路14及び吐出口11を形成した(図2(h)参照)。最後に、図示しない配線基板との電気的接続等を行い、液体吐出ヘッドを製造した。この液体吐出ヘッドを観察して、実施例1,2と同様に不良がないことを確認した。そして、本実施例によると、実施例2と同様に支持体4の半分の厚さだけ除去することが容易にでき、研磨工程と界面剥離工程の精度が良好であるとともに、PVC層4bの除去を、水を用いて容易かつ低コストで行うことができる。
次に、本発明の第1の実施形態に基づく他の変形例である実施例4について説明する。実施例1~3と同様の部分については説明を省略または簡略化する。また、一部の部材の材料が異なるが類似した形態を示す図2,5を参照して説明を行う。本実施例では、支持体4として、厚さ50μmのPET層4aと厚さ50μmのポリイミド層4bとからなる多層構造の膜(図5(a)参照)を用いる。この支持体4の、PET層4aの表面(ドライフィルム5が形成される面)と、PET層4aとポリイミド層4bとの間にそれぞれ離型処理を施しておく。PET層4aとポリイミド層4bとの間においては、PET層4aのみに離型処理を施してもよく、ポリイミド層4baのみに離型処理を施してもよく、PET層4aとポリイミド層4bの両方に離型処理を施してもよい。いずれにしても、PET層4aの表面(ドライフィルム5が形成される面)よりも、PET層4aとポリイミド層4bとの間の方が高い離型性を呈するようにした。そして、PET層4aの上にドライフィルム5を積層した。ドライフィルム5は、実施例1と同様にエポキシ樹脂(DIC株式会社製N-695(商品名))及び光酸発生剤(サンアプロ株式会社製CPI-210S(商品名))をPGMEAに溶解させた溶液を塗布することによって形成した。
次に、本発明の第2の実施形態に基づく実施例5について説明する。実施例1~4と同様の部分については説明を省略または簡略化する。また、一部の部材の材料が異なるが類似した形態を示す図2,3を参照して説明を行う。本実施例では、実施例1と同様な基板1(図2(a)参照)と、実施例1と同様な支持体4及びドライフィルム5(図2(b)参照)を用意し、ドライフィルム5を基板1上に転写する(図2(c)参照)。そして、研磨によって、支持体4の厚さを50μmまで低減した(図2(d)参照)。本実施形態では、残りの支持体4をドライフィルム5から剥離することなく積層状態のままで、図3(a)に示すように、露光装置(キヤノン株式会社製FPA-3000i5+(商品名))を用いて、波長365nmの光を5000J/m2の露光量で照射する。それにより、支持体4を介して、ネガ型感光性樹脂からなるドライフィルム5の一部を露光し、50℃で5分間のベークを行って硬化させた。こうして、図2(h)に示す流路14の側壁となる部分(流路形成部材12(図1参照)の一部となる部分)5aを形成し、非露光部分を流路14になるパターンとした。そして、ドライフィルム5から支持体4を界面剥離した。図3(b)は支持体4の剥離後の状態を示している。その後に、実施例1と同様に、ネガ型感光性樹脂からなる樹脂層7をドライフィルム5の上に形成した(図2(g)参照)。そして、樹脂層7の一部を露光して硬化させ、図2(h)に示す吐出口11を形成する部材になる部分(流路形成部材12の別の一部となる部分)7aを形成し、非露光部分を吐出口11になるパターンとした。それからドライフィルム5及び樹脂層7を現像して流路14及び吐出口11を形成した(図2(h)参照)。最後に、図示しない配線基板との電気的接続等を行い、液体吐出ヘッドを製造した。この液体吐出ヘッドを観察して、実施例1~4と同様に不良がないことを確認した。このように、界面剥離の前にパターン露光を行っても、精度が良好な流路の形成が可能である。
次に、本発明の第3の実施形態に基づく実施例6について説明する。実施例1~5と同様の部分については説明を省略または簡略化する。また、一部の部材の材料が異なるが類似した形態を示す図4と、図6とを参照して説明を行う。本実施例では、図4(b)に示すように、支持体4として、厚さ80μmのPVA(ポリビニルアルコール)シート(株式会社クラレ製ポバールフィルム)からなる単層構造の膜を用いた。このPVAシートからなる支持体4の上に、エポキシ樹脂(DIC株式会社製N-695(商品名))及び光酸発生剤(サンアプロ株式会社製CPI-210S(商品名))をPGMEAに溶解させた溶液をスピンコート塗布して、ドライフィルム5を形成した。この時、ドライフィルム5の平面形状は、後で転写する基板1の平面形状より小さくする。本実施例では直径200mmの基板1(図4(a)参照)を用いる。そこで図6(a)~(b)に示すように支持体4上に前述した溶液をスピンコート装置9を用いて塗布した後に、ドライフィルム5の中心から95mm以内の領域のみを残し、それよりも外側の部分はPGMEAを用いたサイドリンス装置10を用いて取り除いた。こうして、図6(c)に示すように、平面形状が直径190mmの円形であるドライフィルム5を形成した。そして、基板1の第一の面21に、平面的に見て基板1の外側にドライフィルム5がはみ出さないように、ドライフィルム5を転写した(図4(c)参照)。ドライフィルム5の転写は、ロール式ラミネーター(株式会社タカトリ製VTM-200(商品名))を用いて行い、転写後のドライフィルム5の厚さは15μmであった。支持体4は平面的に見て基板1の外側にはみ出していてよく、例えば、ドライフィルム5の転写の後にカッターによって支持体4を切断して、基板1よりも大きな直径210mmの円形の平面形状にした。
次に、本発明の第3の実施形態に基づく変形例である実施例7について説明する。実施例6と同様の部分については説明を省略または簡略化する。また、一部の部材の材料が異なるが類似した形態を示す図4を参照して説明を行う。本実施例では、厚さ80μmのアクリルフィルム(三菱ケミカル株式会社製アクリプレン(登録商標))からなる単層構造の支持体4の第一の面21に、実施例6と同様の材料からなり平面形状が直径190mmの円形であるドライフィルム5を形成した。この支持体4に支持されたドライフィルム5(図4(b)参照)を、実施例1~6と同様な基板1(図4(a)参照)の上に転写した(図4(c)参照)。そして、常温のハイドロフルオロエーテル(旭硝子株式会社製AE-3000(商品名))の薬液槽に支持体4を20分間浸漬して、支持体4を溶解させて除去した。図4(d)は支持体4の除去後の状態を示している。それから、実施例6と同様に、図4(e)に示すように、ネガ型感光性樹脂からなるドライフィルム5の一部を露光して硬化させた。それにより、図4(h)に示す流路14の側壁となる部分(流路形成部材12(図1参照)の一部となる部分)5aを形成し、非露光部分を流路14となるパターンとした。図4(f)に示すように、支持体8に支持されたネガ型感光性樹脂からなるもう1つのドライフィルム6を用意し、流路14となるパターンが形成されたドライフィルム5にもう1つのドライフィルム6を転写した。支持体8は支持体4と同じ材料及び同じ寸法である。もう1つのドライフィルム6は、エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン株式会社製157S70(商品名))及び光酸発生剤(サンアプロ株式会社製LW-S1(商品名))をPGMEAに溶解させ、ドライフィルム5に対して感度の差を有する溶液からなる。この支持体8に支持されたもう1つのドライフィルム6をドライフィルム5上に転写した。そして、支持体8をハイドロフルオロエーテルに浸けることによって溶解させて除去した。そして、図4(g)に示すように、ドライフィルム5上に残ったドライフィルム6の一部を露光して硬化させた。それにより、図4(h)に示す吐出口11を形成する部材になる部分(流路形成部材12の別の一部となる部分)6aを形成し、非露光部分を吐出口11となるパターンとした。それからドライフィルム5及びもう1つのドライフィルム6を現像して流路14及び吐出口11を形成した(図4(h)参照)。最後に、図示しない配線基板との電気的接続等を行い、液体吐出ヘッドを製造した。この液体吐出ヘッドを観察して、実施例1~6と同様に不良がないことを確認した。本実施例によると、支持体4,8を薄くするための研磨や溶解等の処理が不要である。本実施例で用いられたハイドロフルオロエーテルは、アクリル系樹脂を溶解することが知られている一方、エポキシ系樹脂を溶かさないので、マイクロマシニング加工でエポキシ樹脂からなる構造体として使用する場合の洗浄剤として一般的に用いられている。従って、本実施例のように、支持体4,8がアクリルフィルムであってドライフィルム5,6がエポキシ樹脂からなる場合には、ドライフィルム5,6に影響を与えることなく非常に良好に支持体4,8を除去することができる。
4 支持体
5 ドライフィルム(部材)
Claims (13)
- 支持体に支持された部材を、被対象物に貼り合わせる工程と、
前記部材を前記被対象物に貼り合わせる工程の後に、前記支持体の厚さを溶解により薄くする工程と、
前記支持体の厚さを溶解により薄くする工程の後に、前記支持体を前記部材から剥離により除去する工程と、
を有し、
前記支持体は樹脂を含むことを特徴とする部材の転写方法。 - 前記支持体が単層構造である、請求項1に記載の部材の転写方法。
- 前記樹脂はポリビニルアルコールであり、
前記支持体の厚さを溶解により薄くする工程では、水または温水によって前記ポリビニルアルコールを含む層を溶解させる、請求項1または2に記載の部材の転写方法。 - 前記樹脂はアクリル樹脂であり、
前記部材はエポキシ樹脂を含み、
前記支持体の厚さを溶解により薄くする工程では、ハイドロフルオロエーテル系溶剤によって前記アクリル樹脂を含む層を溶解させる、請求項1または2に記載の部材の転写方法。 - 前記支持体が多層構造である、請求項1に記載の部材の転写方法。
- 前記支持体の最外層は前記樹脂を含む層である、請求項5に記載の部材の転写方法。
- 前記樹脂はポリビニルアルコールであり、
前記支持体の厚さを溶解により薄くする工程では、水または温水によって前記ポリビニルアルコールを含む層を溶解させる、請求項6に記載の部材の転写方法。 - 前記樹脂はアクリル樹脂であり、
前記部材はエポキシ樹脂を含み、
前記支持体の厚さを溶解により薄くさせる工程では、ハイドロフルオロエーテル系溶剤によって前記アクリル樹脂を含む層を溶解させる、請求項6に記載の部材の転写方法。 - 前記部材はドライフィルムである、請求項1から8のいずれか1項に記載の部材の転写方法。
- 液体を吐出する吐出口と前記吐出口に連通する流路とを有する流路形成部材と、前記流路形成部材が積層され前記流路に連通する供給路を有する基板と、液体を吐出するためのエネルギーを発生するエネルギー発生素子と、を有する液体吐出ヘッドの製造方法であって、
前記流路形成部材となる前記部材を、前記被対象物である前記基板に、請求項1から9のいずれか1項に記載の部材の転写方法によって転写する、液体吐出ヘッドの製造方法。 - 前記流路形成部材を露光して前記流路になるパターンを形成する工程と、前記流路形成部材を現像して部分的に除去して前記流路を形成する工程と、をさらに含む請求項10に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記流路形成部材を露光して前記流路になるパターンを形成する工程は、前記支持体の厚さを溶解により薄くする工程の後であって前記支持体を剥離により除去する工程の前に、前記支持体を介して前記流路形成部材に露光することによって行う、請求項11に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記流路形成部材の平面形状は前記基板の平面形状よりも小さく、平面的に見て前記流路形成部材は前記基板の外側にはみ出さない、請求項10から12のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018135903A JP7187199B2 (ja) | 2018-07-19 | 2018-07-19 | 部材の転写方法及び液体吐出ヘッドの製造方法 |
US16/512,197 US11155083B2 (en) | 2018-07-19 | 2019-07-15 | Member transfer method and manufacturing method for liquid ejection head |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018135903A JP7187199B2 (ja) | 2018-07-19 | 2018-07-19 | 部材の転写方法及び液体吐出ヘッドの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020011468A JP2020011468A (ja) | 2020-01-23 |
JP7187199B2 true JP7187199B2 (ja) | 2022-12-12 |
Family
ID=69162336
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018135903A Active JP7187199B2 (ja) | 2018-07-19 | 2018-07-19 | 部材の転写方法及び液体吐出ヘッドの製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11155083B2 (ja) |
JP (1) | JP7187199B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7179554B2 (ja) * | 2018-09-26 | 2022-11-29 | キヤノン株式会社 | 樹脂層付き基板の製造方法及び液体吐出ヘッドの製造方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002160373A (ja) | 2000-11-28 | 2002-06-04 | Casio Comput Co Ltd | インクジェットプリンタヘッドの形成方法 |
JP2002166557A (ja) | 2000-12-01 | 2002-06-11 | Casio Comput Co Ltd | インクジェットヘッドの製造方法 |
JP2005530065A (ja) | 2002-05-13 | 2005-10-06 | ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニー | 表面に色彩を施すための物品及び方法 |
US20080138925A1 (en) | 2006-12-07 | 2008-06-12 | Xerox Corporation | Drop generator |
JP2014073679A (ja) | 2012-09-11 | 2014-04-24 | Canon Inc | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
JP2016049673A (ja) | 2014-08-29 | 2016-04-11 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
JP2017155200A (ja) | 2016-03-04 | 2017-09-07 | 住鉱潤滑剤株式会社 | 乾性潤滑被膜形成用エアゾール組成物 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4530896A (en) * | 1970-03-03 | 1985-07-23 | Shipley Company Inc. | Photosensitive laminate |
US4889790A (en) * | 1988-02-26 | 1989-12-26 | Morton Thiokol, Inc. | Method of forming a conformable mask on a printed circuit board |
JPH068448A (ja) * | 1992-06-26 | 1994-01-18 | Seiko Epson Corp | インクジェット記録ヘッドの表面処理方法 |
JPH106510A (ja) * | 1996-06-25 | 1998-01-13 | Canon Inc | インクジェット記録ヘッドの製造方法 |
JP2006137065A (ja) | 2004-11-11 | 2006-06-01 | Sony Corp | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
US9919526B2 (en) * | 2013-11-29 | 2018-03-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing liquid discharge head |
JP7179554B2 (ja) * | 2018-09-26 | 2022-11-29 | キヤノン株式会社 | 樹脂層付き基板の製造方法及び液体吐出ヘッドの製造方法 |
-
2018
- 2018-07-19 JP JP2018135903A patent/JP7187199B2/ja active Active
-
2019
- 2019-07-15 US US16/512,197 patent/US11155083B2/en active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002160373A (ja) | 2000-11-28 | 2002-06-04 | Casio Comput Co Ltd | インクジェットプリンタヘッドの形成方法 |
JP2002166557A (ja) | 2000-12-01 | 2002-06-11 | Casio Comput Co Ltd | インクジェットヘッドの製造方法 |
JP2005530065A (ja) | 2002-05-13 | 2005-10-06 | ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニー | 表面に色彩を施すための物品及び方法 |
US20080138925A1 (en) | 2006-12-07 | 2008-06-12 | Xerox Corporation | Drop generator |
JP2014073679A (ja) | 2012-09-11 | 2014-04-24 | Canon Inc | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
JP2016049673A (ja) | 2014-08-29 | 2016-04-11 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
JP2017155200A (ja) | 2016-03-04 | 2017-09-07 | 住鉱潤滑剤株式会社 | 乾性潤滑被膜形成用エアゾール組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2020011468A (ja) | 2020-01-23 |
US11155083B2 (en) | 2021-10-26 |
US20200023640A1 (en) | 2020-01-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9873255B2 (en) | Liquid ejection head and method of manufacturing the same | |
JP6031059B2 (ja) | 半導体装置、積層型半導体装置、封止後積層型半導体装置、及びこれらの製造方法 | |
US10625506B2 (en) | Method for manufacturing liquid discharge head | |
JP6031060B2 (ja) | 半導体装置、積層型半導体装置、封止後積層型半導体装置、及びこれらの製造方法 | |
US20190077156A1 (en) | Method of manufacturing a liquid ejection head | |
JP7187199B2 (ja) | 部材の転写方法及び液体吐出ヘッドの製造方法 | |
JP2016043516A (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法 | |
JP2016175312A (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法 | |
US11413871B2 (en) | Method of manufacturing substrate with resin layer and method of manufacturing liquid ejection head | |
US20190255852A1 (en) | Manufacturing method of liquid ejection head | |
JP7009225B2 (ja) | 構造体の製造方法、液体吐出ヘッドの製造方法、保護部材、保護基板及び保護基板の製造方法 | |
US10365563B2 (en) | Film formation method, dry film manufacturing method and liquid ejection head manufacturing method | |
US10894410B2 (en) | Method of manufacturing liquid ejection head and method of forming resist | |
JP2019155804A (ja) | 樹脂層の形成方法及び液体吐出ヘッドの製造方法 | |
JP6977089B2 (ja) | 構造体の製造方法及び液体吐出ヘッドの製造方法 | |
JP7182975B2 (ja) | 液体吐出ヘッド用基板の製造方法 | |
JP2020049756A (ja) | 樹脂層付き基板の製造方法及び液体吐出ヘッド用の素子基板の製造方法 | |
US11424157B2 (en) | Method of manufacturing structure | |
JP2021079625A (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法 | |
JP2015104875A (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法 | |
JP2020049755A (ja) | 基板および液体吐出ヘッド用基板の製造方法 | |
JP2019043106A (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法、および構造体の製造方法 | |
JP6373013B2 (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法及び液体吐出ヘッド | |
JP2020049754A (ja) | 基板の製造方法 | |
JP2017030266A (ja) | マイクロデバイスの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210709 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20220425 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220510 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220708 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220802 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220929 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20221101 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20221130 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 7187199 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |