CN106794666B

CN106794666B - 透光性导电膜、其膜卷及具有它的触摸面板

Info

Publication number: CN106794666B
Application number: CN201680002153.7A
Authority: CN
Inventors: 村上淳之介; 林秀树; 福田崇志
Original assignee: Sekisui Chemical Co Ltd
Current assignee: Sekisui Chemical Co Ltd
Priority date: 2015-02-19
Filing date: 2016-02-16
Publication date: 2020-07-28
Anticipated expiration: 2036-02-16
Also published as: WO2016133081A1; JP2016155380A; JP2016155366A; JP5905983B1; JP6577886B2; CN106794666A

Abstract

本发明解决下述这种课题：(1)在透光性导电膜附贴OCA之后进行烘烤工序时，在OCA上产生气泡空隙，以及(2)在透光性导电膜附贴OCA之后进行辊输送时，OCA膜部分剥离，在和透光性导电膜的粘接面产生错位，由此从透光性导电膜的端部露出。本发明提供一种透光性导电膜，含有(A)透光性支撑层；及(B)透光性导电层，其特征在于，所述透光性导电层(B)直接或经由一层以上其它的层配置于所述透光性支撑层(A)的一面，且与所述透光性导电层(B)相反侧的表面的润湿张力为34dyn/cm以上。

Description

透光性导电膜、其膜卷及具有它的触摸面板

技术领域

本发明涉及透光性导电膜、其膜卷及具有它的触摸面板。

背景技术

作为搭载于触摸面板的透光性导电膜，大多使用在由聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)等形成的透光性支撑层上叠层由氧化铟锡(ITO)等形成的透光性导电层等得到的膜(专利文献1)。

就这些透光性导电膜而言，通常在透光性导电层的一面附贴丙烯酸类粘接剂等光学透明粘接剂(Optically Clear Adhesive；OCA)，并使至少一层透光性导电层为露出的状态，然后，进一步供后于处理工序或辊输送工序等。

例如，在一面贴附OCA后，在其相反侧的表面的透光性导电层上涂布银糊剂，进行使其在例如150℃左右，持续十数分钟的热固化来进行所谓烘烤工序(专利文献2)。

另外，还进行利用辊输送对在一个表面贴附有膜状的OCA(OCA膜)的透光性导电膜进行卷绕的工序。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2012-128634号公报

专利文献2:日本特开2006-56117号公报

发明内容

发明所要解决的技术问题

本发明的发明人在透光性导电膜上贴附OCA后进行烘烤工序时，发现在OCA上产生气泡空隙这样的问题。

另外，本发明的发明人还发现下述问题，在透光性导电膜上贴附OCA，然后进行辊输送时，由于OCA膜部分地剥离，并在和透光性导电膜的粘接面上产生错位，从而从透光性导电膜的端部露出。

本发明其目的在于解决这些问题。

用于解决技术问题的技术方案

本发明人们发现通过将透光性导电膜的、贴附OCA的表面的润湿张力设定为特定的范围内，可以解决上述技术问题。本发明进一步通过反复研究而完成，包括以下的形式。

项1：

一种透光性导电膜，其包含：

(A)透光性支持层；及

(B)透光性导电层，其中，

所述透光性导电层(B)直接或隔着一层以上的其它层配置于所述透光性支持层(A)的一面，并且，

所述透光性导电膜的与所述透光性导电层(B)相反一侧的表面的润湿张力为34dyn/cm以上。

项2：

一种透光性导电膜，其在项1所述的透光性导电膜的润湿张力为34dyn/cm以上的所述表面上进一步直接配置有(C)光学透明粘接层。

项3：

根据项1或项2所述的透光性导电膜，其中，所述润湿张力为34dyn/cm～50dyn/cm。

项4：

一种膜卷，其通过将项1～项3中任一项所述的透光性导电膜卷绕而成。

项5：

一种触摸面板，其包含项1～项3项中任一项所述的透光性导电膜。

项6：

一种透光性导电膜的制造方法，所述透光性导电膜包含：

(A)透光性支持层；及

(B)透光性导电层，

所述透光性导电层(B)直接或隔着一层以上的其它层配置于所述透光性支持层(A)的一面，并且，所述透光性导电膜的与所述透光性导电层(B)相反一侧的表面的润湿张力为34dyn/cm以上，

所述制造方法包括：

通过选自大气压等离子体处理、低压等离子体处理及电晕处理中的至少一种处理，将所述表面加工成润湿张力为34dyn/cm以上的工序。

发明的效果

通过利用本发明的透光性导电膜，可以抑制贴附OCA后进行烘烤工序时在OCA上产生的气泡空隙。

另外，在附贴OCA膜后对透光性导电膜进行辊输送时可以抑制OCA膜的剥离。

附图说明

图1是表示在透光性支撑层(A)的单面相互邻接配置有透光性导电层(B)的本发明的透光性导电膜的剖视图；

图2是表示在透光性支撑层(A)的单面相互邻接配置有透光性导电层(B)，又在与透光性导电层(B)相反侧的表面上配置有OCA层的本发明的透光性导电膜的剖视图。

标记说明

1 透光性导电膜

11 透光性支撑层(A)

12 透光性导电层(B)

13 光学透明粘接层(C)

具体实施方式

1.透光性导电膜

本发明的透光性导电膜含有：

(A)透光性支撑层；及

(B)透光性导电层，其中，

上述透光性导电层(B)直接或隔着一层以上的其它层配置于上述透光性支撑层(A)的一个表面上，且上述透光性导电膜的与上述透光性导电层(B)相反侧的表面的润湿张力为34dyn/cm以上。

本发明中所谓“透光性”是指具有使光透过的性质(translucent)。“透光性”包括透明(transparent)。所谓“透光性”是说例如总光线透过率为80％以上的性质，优选85％以上，更优选88％以上。本发明中，总光线透过率使用雾度计(日本电色株式会社制造，商品名：NDH-2000，或其相同产品)，基于JIS-K-7105进行测定。

本发明中，各层的厚度使用市售的反射光谱测厚计(大塚电子株式会社，FE-3000(商品名)或其相同产品)求得。或通过代替性地使用市售的透过型电子显微镜观察也可以求得。具体而言，使用切片机(Microtome)或聚焦离子束(Focused Ion Beam)等沿与膜面垂直方向将透光性导电膜较薄地切断，观察其剖面。

本说明书中，说到透光性支撑层(A)的一个表面上配置的多层中的两层的相对位置关系时，有时以透光性支撑层(A)为基准，将距透光性支撑层(A)的距离远的一层称为“上层”等。

图1表示本发明的透光性导电膜的一实施方式。该实施方式中，在透光性支撑层(A)的一个表面上直接配置有透光性导电层(B)。

1.1透光性支撑层(A)

本发明中，透光性支撑层是指在含有透光性导电层的透光性导电膜中，起到对包含透光性导电层的层进行支持的作用的层。作为透光性支撑层(A)，没有特别限定，例如，可以使用在触摸面板用透光性导电膜中通常作为透光性支撑层所使用的层。

透光性支撑层(A)的原料没有特别限定，例如，可以举出各种有机高分子等。作为有机高分子没有特别限定，例如，可举出聚酯类树脂、乙酸酯类树脂、聚醚类树脂、聚碳酸酯类树脂、聚丙烯酸类树脂、聚甲基丙烯酸类树脂、聚苯乙烯类树脂、聚烯烃类树脂、聚酰亚胺类树脂、聚酰胺类树脂、聚氯乙烯类树脂、聚缩醛类树脂、聚偏二氯乙烯类树脂及聚苯硫醚类树脂等。

作为聚酯类树脂没有特别限定，例如，可举出聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)及聚萘二甲酸丁二醇酯(PEN)等。

作为聚烯烃类树脂没有特别限定，例如，可举出环烯烃聚合物(COP)等。

这些之中，在本发明的效果方面，最优选PET。

透光性支撑层(A)即可以是由这些原料中任一种单独形成的层，也可以是由多种形成的层。

透光性支撑层(A)的厚度没有特别限定，例如，列举2～300μm的范围。

1.2透光性导电层(B)

透光性导电层(B)直接或隔着一层以上的其它层配置在透光性支撑层(A)的至少一面上。

本发明中的透光性导电层指含有导电性物质从而导电且起到透射可见光的作用的层。作为透光性导电层(B)没有特别限定，例如，可以使用在触摸面板用透光性导电膜中通常作为透光性导电层所使用的层。

透光性导电层(B)的原料没有特别限定，例如，可举出氧化铟、氧化锌、氧化锡及二氧化钛等。作为透光性导电层(B)，根据兼具透明性和导电性的点，优选使用包含氧化铟中掺加有掺杂剂而成的混合物的透光性导电层。透光性导电层(B)可以是由在氧化铟中掺杂掺杂剂而成的混合物形成的透光性导电层。作为掺杂剂没有特别限定，可列举例如，氧化锡及氧化锌、以及它们的混合物等。

作为透光性导电层(B)的原料，使用在氧化铟中掺杂氧化锡而成的混合物时，优选在氧化铟(III)(In₂O₃)中掺杂氧化锡(IV)(SnO₂)而成的混合物(tin-doped indium oxide；ITO)。该情况下，作为SnO₂的添加量没有特别限定，可列举例如1～15重量％，优选2～10重量％，更优选3～8重量％等。另外，掺杂剂的总量在不超过上记的数值范围的范围，可以将在氧化铟锡中进一步加入其它的掺杂剂而成的混合物用作透光性导电层(B)的原料。上记中作为其它的掺杂剂没有特别限定，可列举例如硒等。

透光性导电层(B)可以是由上述各种原料中的任一种单独构成的层，也可以是由多种构成的层。

透光性导电层(B)没有特别限定，可以为晶体或非晶体、或者其混合体。

作为形成透光性导电层(B)的方法，优选包含对导电性物质进行烧成的工序的方法。作为烧成方法，没有特别限定，作为实例可以举出例如，在溅射等进行时的滚筒加热、热风式烧成炉、远红外线烧成炉等。烧成温度没有特别限定，通常为30～250℃，优选为50～200℃，更优选为80～180℃，进一步优选为100～160℃。烧成时间优选3分～180分，更优选5分～120分，进一步优选10分～90分。作为进行烧成的气氛，可举出真空下、大气、氮或氩等非活性气体、氧、或氢化氮等、或它们中的两种以上的组合。通过对导电性物质进行烧成，促进导电性物质的结晶化。

透光性导电层(B)的厚度没有特别限定，通常是15～30nm。透光性导电层(B)的厚度小于20nm时，得到改善的透过率及图案化的透光性导电层的可见图案的减轻等优点，故而优选。

配置透光性导电层(B)的方法可以是湿式及干式的任一种，没有特别限定。作为配置透光性导电层(B)的方法的具体例，例如列举溅射法、真空蒸镀法、离子镀法、CVD法及脉冲激光沉积法等。

1.3润湿张力

就本发明的透光性导电膜而言，在上述透光性支撑层(A)的一个表面上直接或隔着一层以上的其它层配置有上述透光性导电层(B)，且与上述透光性导电层(B)相反侧的表面的润湿张力为34dyn/cm以上。

所谓“与透光性导电层(B)相反侧的表面”即指透光性导电膜的与透光性导电层(B)相反侧的表面。例如，透光性导电膜中，在透光性支撑层(A)的与设有透光性导电层(B)侧的相反侧，没有另外的层时(即，透光性导电膜的一个面的表面为透光性支撑层(A)的表面的情况)，所谓“与透光性导电层(B)相反侧的表面”是指透光性支撑层(A)的与透光性导电层(B)的相反侧的表面。作为另外的例子，透光性导电膜中，在透光性支撑层(A)的与设有透光性导电层(B)侧相反侧，设有另外的层的情况(即，透光性导电膜的一面的表面为该“另外的层”的表面的情况)，所谓“与透光性导电层(B)相反侧的表面”是指该“另外的层”的与透光性导电层(B)相反侧的表面。

即，本发明的透光性导电膜一个表面的润湿张力为34dyn/cm以上。在该面上可以附贴OCA或OCA膜，此时，在比另一面的表面或配置于另一面的表面上的层更靠下(但是，在透光性支撑层之上)配置有透光性导电层(B)。

由于为如上所述的构成，因此本发明的透光性导电膜在该表面贴附OCA或OCA膜时，在透光性导电层(或其上层)涂布银糊剂后，即使进行烘烤工序，也不易在OCA产生气泡空隙。另外，通过辊输送对贴附有OCA膜的透光性导电膜进行卷取时，OCA膜不易剥离，与透光性导电膜的粘接面上不易产生错位。

在该效果的点上，只要上述润湿张力为34dyn/cm以上，则优选，只要是36dyn/cm以上，则更优选。此外，上述润湿张力的上限没有特别限定，通常为50dyn/cm以下，由于不易产生白化，因此优选48dyn/cm以下，更优选46dyn/cm以下。上述润湿张力的范围优选34dyn/cm～50dyn/cm，更优选34dyn/cm～48dyn/cm，进一步优选34dyn/cm～46dyn/cm，更进一步优选36dyn/cm～46dyn/cm。

本发明中，润湿张力在常温23℃测定。润湿张力的测定是下述方法：在水平的试验片表面，依据JISK6768“塑料-膜及薄片-润湿张力试验方法”，自3cm的高度用玻璃吸管按照具有的湿润张力大的顺序滴下润湿张力试验用液各1ml，立即将试验片倾斜90度，在将滴下面调整为垂直方向的情况下，将具有液滴不被排斥而在试验片表面润湿并且流动时的润湿张力最大的润湿张力试验用液的润湿张力(dyne/cm)作为试验片的润湿张力。作为润湿张力试验用液，使用(润湿张力试验用混合液，和光纯药株式会社制造)或其同等品进行。

调整为上述润湿张力的范围内的手段根据构成作为对象的表面的层的种类可以适当选择。例如，构成作为对象的表面的层为透光性支撑层(A)的情况下，作为调整润湿张力的方法，例如列举在对象表面实施选自电晕放电处理、紫外线照射处理、臭氧处理及等离子体处理中的至少一种处理的方法，以及对用于易粘接层涂层等的润湿张力调整用涂敷剂进行涂布的方法等。构成作为对象的表面的层是透光性支撑层(A)以外其它的层的情况下，适当选择这些方法，可以调整润湿张力。

臭氧处理通过将被处理物暴露在臭氧而进行。暴露方法通过在臭氧存在的气氛中，保持指定的时间的方法，以及在臭氧气流中暴露指定的时间的方法等进行。

等离子体处理是在包含选自低压或常压的氩、氖、氦、氮、二氧化氮、氧及空气等中的至少一种的气体中，通过将被处理物暴露在通过辉光放电产生的等离子体中，然后，暴露在空气等包含氧的气体中，在材料的表面导入氧气的方法。

电晕放电处理是在接地的金属导辊、以及与其设置一定间隔的刀状、锯齿状或线状等电极之间，施加交流的高电压，在使电晕放电发生的状态下，使被处理物通过其间的方法。

上述电晕放电处理、紫外线照射处理、臭氧处理及等离子体处理的诸条件根据其输出功率和通过时间等决定，没有特别限制。另外，具体而言，优选在以下的条件进行。

在电晕放电处理的情况下，优选每1分钟的处理面积(放电电极的长度(m)乘以作为对象的膜的处理速度(m/分钟)得到的值)的放电电功率为15W以上。

1.4光学透明粘接层(C)

本发明的透光性导电膜可以根据需要，在润湿张力调整为上述范围内的表面上可以进一步配置有光学透明粘接层(C)。

本发明中，所谓光学透明粘接层指具有光学透明性，具备粘接性的层。没有特别限定，通常是通过在表面上涂布光学透明粘接剂(OCA)而形成的层，或通过在表面贴附光学透明粘着膜(OCA膜)而形成。

作为构成光学透明粘接层的成分没有特别限定，列举丙烯酸类粘接剂、聚氨酯粘接剂及硅粘接剂等。光学透明粘接层可以单独含有它们，也可以含有多种。

这些之中，在本发明的效果这一点上，特别优选丙烯酸类粘接剂。特别是作为配置于含有PET的透光性支撑层(A)的表面上的光学透明粘接层(C)，优选含有丙烯酸类粘接剂。

作为丙烯酸类粘接剂没有特别限定，例如可举出高透明双面胶带SEKISUI#5400系列(积水化学工业株式会社制造)等。

光学透明粘接层(C)的厚度没有特别限定，通常可以设为10～200μm。此外，厚度的下限优选15μm，更优选20μm。厚度的上限优选90μm，更优选80μm，进一步优选60μm。另外，根据需要，光学透明粘接层(C)的厚度可以是50μm以下、40μm以下、或30μm以下。

1.5硬涂层(D)

本发明的透光性导电膜根据需要，可以进一步含有硬涂层(D)。

本发明中，所谓硬涂层为起到防止塑料表面的损伤的作用的层。

硬涂层(D)直接或隔着一层以上的其它的层配置在上述透光性支撑层(A)的一个表面上。

硬涂层(D)可以配置有一层。或也可以两层以上相互邻接的配置，或隔着其它的层相互分开配置。

硬涂层(D)可以配置于透光性支撑层(A)的两面。

硬涂层(D)的原料没有特别限定，例如可举出丙烯酸类树脂、硅类树脂、聚氨酯类树脂、三聚氰胺类树脂及醇酸类树脂等。作为硬涂层(D)的原料，还列举使二氧化硅、氧化锆、二氧化钛及氧化铝等胶质粒子等分散于上述树脂中。硬涂层(D)可以是由这些物质中的任一种单独构成的层，也可以是由多种构成的层。

硬涂层(D)的每一层的厚度没有特别限定，例如可举出0.1～10μm、1～7μm、及2～6μm等。两层以上相互邻接配置的情况下，相互邻接的全部的硬涂层(D)的总计厚度只要是上述范围内即可。上记例示列举中后面列出的厚度比前面列出的厚度好。

硬涂层(D)的折射率只要透光性导电膜(A)没有特别限定为可以用作触摸面板用途，例如列举1.4～1.7等。

作为配置硬涂层(D)的方法没有特别限定，例如可举出涂布于膜上，通过热进行固化的方法，以及通过紫外线或电子线等活性能量线进行固化的方法等。根据生产性的点，优选通过紫外线进行固化。

1.6底涂层(E)

本发明的透光性导电膜可以进一步含有至少一层的底涂层(E)。

透光性导电层(B)可以邻接地配置于底涂层(E)上。

底涂层(E)的原料没有特别限定，例如可以是具有介电性的原料。作为底涂层(E)的原料没有特别限定，例如可举出氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、碳化硅、烷氧基硅、烷基硅氧烷及其缩合物、聚硅氧烷、倍半硅氧烷、聚硅氮烷及丙烯酸二氧化硅杂化物等。底涂层(E)可以是由它们中的任一种单独构成的层，也可以是由多种构成的层。作为底涂层(E)，优选包含选自聚硅氮烷、丙烯酸二氧化硅杂化物及SiO_x(x＝1.0～2.0)中的一种的透光性基底层。

底涂层(E)可以配置一层。或也可以两层以上相互邻接地配置，或者隔着其它的层相互隔开地配置。优选底涂层(E)两层以上相互邻接配置。作为这样的方式的例子，例如可举出由邻接的SiO₂层及SiO_x层形成的叠层(stacking)，以及由邻接的SiO₂层及SiO_xN_y层形成的叠层。例如两层相互邻接配置的情况下，SiO₂层及SiO_x层的顺序为任意顺序，但优选在透光性支撑层(A)侧配置由SiO₂形成的透光性基底层(E-1)，在透光性导电层(B)侧配置由SiO_x(x＝1.0～2.0)形成的透光性基底层(E-2)。

作为底涂层(E)的每一层的厚度没有特别限定，例如可举出15～25nm等。两层以上相互邻接配置的情况，只要相互邻接的全部的底涂层(E)的总厚度为上述范围内即可。

就底涂层(E)的折射率而言，只要本发明的透光性导电膜可以用作触摸面板用透光性导电膜即可，没有特别限定，例如优选1.4～1.5。

作为用于配置底涂层(E)的方法，可以是湿式及干式的任一种，没有特别限定，但作为湿式，例如可举出溶胶-凝胶法或对微粒子分散液、或胶体溶液进行涂布的方法等。

作为配置底涂层(E)的方法，就干式而言，例如可举出通过溅射法、离子镀法、真空蒸镀法及脉冲激光沉积法而叠层于邻接的层上的方法等。

1.7其它的层

本发明的透光性导电膜在透光性支撑层(A)的至少一个表面上，除透光性导电层(B)外，还可以进一步配置有选自硬涂层(D)、底涂层(E)及与这些层不同的至少一种其它的层(F)中的至少一种层。

作为其它的层没有特别限定，例如列举粘接层等。

所谓粘接层为在两层之间与该两层相互邻接地配置，并用于将该两层间相互粘接而配置的层。作为粘接层没有特别限定，例如，可以使用在触摸面板用透光性导电膜中通常作为粘接层所使用的层。粘接层可以是由这些层中任一种单独形成的层，也可以由多种形成的层。

1.8本发明的透光性导电膜的用途

本发明的透光性导电膜优选用于触摸面板的制造。

用于电阻膜方式触摸面板的制造的透光性导电膜通常需要表面电阻率(表面电阻)为250～1,000Ω/sq左右。对此，用于静电容量型触摸面板的制造的透光性导电膜一般表面电阻率越低越有利。本发明的透光性导电膜电阻率降低，由此优选用于静电容量型触摸面板的制造。对于静电容量型触摸面板详细如2中说明。

2.本发明的静电容量型触摸面板

本发明的静电容量型触摸面板含有本发明的透光性导电膜，根据需要可以进一步包含有其它部件。

作为本发明的静电容量型触摸面板的具体的构成例，列举如下构成。此外，将保护层(1)侧作为操作画面侧，并使玻璃(5)侧作为与操作画面的相反侧对置而使用。

(1)保护层

(2)本发明的透光性导电膜(Y轴方向)

(3)绝缘层

(4)本发明的透光性导电膜(X轴方向)

(5)玻璃

本发明的静电容量型触摸面板没有特别限定，但例如可以通过将上述(1)～(5)、以及根据需要按照通常的方法对其它部件进行组合而制造。

3.本发明的透光性导电膜的制造方法

在本发明的透光性导电膜的制造方法中，配置各层的工序如对各层进行的说明。

本发明的透光性导电膜的制造方法也可以分别包括下述工序：在透光性支撑层(A)的至少一个表面上，除透光性导电层(B)外，还分别配置选自硬涂层(D)、底涂层(E)及与这些不同的至少一种其它的层(F)中的至少一种层。

例如，可以在透光性支撑层(A)的至少一个表面上，从透光性支撑层(A)侧依次进行配置，配置的顺序没有特别限定。例如，可以首先在不是透光性支撑层(A)的层的一个表面上配置其它的层。或者，通过在一个表面配置两种以上的层并使它们相互邻接，从而得到一种复合层，在其后或与其同时地，在另一个表面同样地配置两种以上的层使它们相互邻接，从而得到一种复合层，进一步对该两种复合层进行配置，使它们相互邻接。

实施例

以下，列举实施例进一步详细地说明本发明，本发明不只限定于这些实施例。

[实施例1]

通过DC溅射法，在PET膜(厚度50μm)上将ITO层(Sn含量7wt％)作为透光性导电层堆积19nm后，在150℃进行30分钟退火，由此得到透光性导电膜。接着，作为润湿张力的调整，在大气压等离子体装置(积水化学工业株式会社制造，“AP/TO2”、直电极型)中导入N₂气体作为处理气体，以接通电功率900W(140V-6.4A)产生等离子体气体，以20m/分钟的速度输送上述膜，进行叠层有ITO的相反面的等离子体处理。此外，进行等离子体处理的微缝面积为200mm²(透光性导电膜的宽度方向为200mm，且长度方向为1mm)。使用润湿张力试验用液(和光纯药株式会社制造，润湿张力试验用混合液)依据JISK6768“塑料-膜及薄片-润湿张力试验方法”，测定没有叠层得到的透光性导电膜的透光性导电层的表面的润湿张力。表1表示测定润湿张力的结果。

(耐久性评价)

隔着50μm的光学透明粘接层(积水化学株式会社制造，#5400系列)，将没有叠层透光性导电膜的透光性导电层的表面与板玻璃(Corning株式会社制造、Gorilla Glass)进行贴合，然后，静置24小时得到试样。将所得的试样在恒温恒湿器(ESPEC株式会社、Hi-Power恒温恒湿器AR系列)中，在85℃、85％的条件下静置1000小时，通过光学显微镜以及目视，以表2所示的基准对气泡和白化进行了评价。评价结果在表1表示。

[表1]

评价基准如表2。

[表2]

[实施例2～5]

除将等离子体处理速度变为如表1记载的以外，与实施例1同样地得到本发明的透光性导电膜。

[实施例6]

除将光学透明粘接层的厚度变为100μm的以外，与实施例1同样地得到本发明的透光性导电膜。

[实施例7～10]

除将等离子体处理速度变为如表1记载的以外，与实施例6同样地得到本发明的透光性导电膜。

[实施例11]

除将光学透明粘接层的厚度变更为22μm以外，与实施例2同样地得到本发明的透光性导电膜。

[实施例12]

除将光学透明粘接层的厚度变更为22μm以外，与实施例3同样地得到本发明的透光性导电膜。

[实施例13]

在厚度50μm的PET膜上，作为润湿张力的调整，在大气压等离子体装置(积水化学工业株式会社制造，“AP/TO2”、直电极型)中导入N₂:O₂＝96:4的混合气体作为处理气体，以连通电功率900W(140V-6.4A)产生等离子体气体，以8m/分钟的速度输送上述膜，对叠层有ITO的相反面进行等离子体处理。此外，进行等离子体处理的微缝面积为200mm²(透光性导电膜的宽度方向为200mm，且长度方向为1mm)。接着，通过DC溅射法，将ITO层(Sn含量7wt％)作为透光性导电层在上述等离子体处理后的PET膜上堆积19nm后，在150℃下进行30分钟退火处理，由此得到本发明的透光性导电膜。

[实施例14及15]

将光学透明粘接层的厚度变成如表1记载的以外，与实施例13同样到得到本发明的透光性导电膜。

[比较例1]

除不进行等离子体处理以外，与实施例1同样到得到本发明的透光性导电膜。

[比较例2]

除将光学透明粘接层的厚度变为100μm以外，与比较例1同样到得到本发明的透光性导电膜。

如表1所示，通过将没有叠层透光性导电膜的透光性导电层的表面的润湿张力设为34dyn/cm以上，透光性导电膜与光学透明粘接层的粘接的耐久性提高，可以抑制气泡的产生。另外，通过将润湿张力设为48dyn/cm以下，可以降低透光性导电膜的亲水性，由于可以抑制水向透光性导电膜和光学透明粘接层之间的浸入，因此可以抑制端部的白化。

Claims

1.一种透光性导电膜，其包含：

(A)透光性支持层；及

(B)透光性导电层，其中，

所述透光性导电层(B)直接或隔着一层以上的其它层配置于所述透光性支持层(A)的一面，

所述透光性导电膜的与所述透光性导电层(B)相反一侧的表面的润湿张力为34dyn/cm～46dyn/cm，并且，

所述透光性导电膜被用于：该透光性导电膜的与所述透光性导电层(B)相反一侧的表面与(C)光学透明粘接层直接贴合。

2.一种透光性导电膜，其在权利要求1所述的透光性导电膜的润湿张力为34dyn/cm～46dyn/cm的所述表面上进一步直接配置有

(C)光学透明粘接层。

3.如权利要求1或2所述的透光性导电膜，其中，

所述润湿张力为36dyn/cm～46dyn/cm。

4.一种膜卷，其是将权利要求1～3中任一项所述的透光性导电膜卷绕而成。

5.一种触摸面板，其包含权利要求1～3中任一项所述的透光性导电膜。

6.一种透光性导电膜的制造方法，所述透光性导电膜包含：

(A)透光性支持层；及

(B)透光性导电层，

所述透光性导电层(B)直接或隔着一层以上的其它层配置于所述透光性支持层(A)的一面，所述透光性导电膜的与所述透光性导电层(B)相反一侧的表面的润湿张力为34dyn/cm～46dyn/cm，并且，所述透光性导电膜被用于：该透光性导电膜的与所述透光性导电层(B)相反一侧的表面与(C)光学透明粘接层直接贴合，

所述制造方法包括：

通过选自大气压等离子体处理、低压等离子体处理及电晕处理中的至少一种处理，将所述表面加工成润湿张力为34dyn/cm～46dyn/cm的工序。