JP6406968B2 - 光透過性導電性フィルムの製造方法 - Google Patents
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Description
(A−1)光透過性支持層;及び
(B−1)光透過性接着層
を有する接着性基材フィルムの前記光透過性支持層(A−1)側の表面に光透過性導電層(A−2)を形成する工程
を含むことを特徴とする、光透過性導電性フィルムの製造方法。
前記接着性基材フィルムが更に保護層(B−2)を有し、且つ
前記保護層(B−2)が、前記光透過性接着層(B−1)の前記光透過性支持層(A−1)とは反対側の面に直接配置されている、
項1に記載の光透過性導電性フィルムの製造方法。
前記光透過性導電層(A−2)の形成方法がスパッタリング法である、項1又は2に記載の光透過性導電性フィルムの製造方法。
前記光透過性導電層(A−2)が酸化インジウムスズを含有する、項1〜3のいずれかに記載の光透過性導電性フィルムの製造方法。
前記接着性基材フィルムが更に光透過性下地層(A−3)及び/又はハードコート層(A−4)を有する、項1〜4のいずれかに記載の光透過性導電性フィルムの製造方法。
前記接着性基材フィルムが光透過性下地層(A−3)及びハードコート層(A−4)を有し、
前記ハードコート層(A−4)が、前記光透過性支持層(A−1)の前記光透過性接着層(B−1)とは反対側の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置され、且つ
前記光透過性下地層(A−3)が、前記ハードコート層(A−4)の前記光透過性接着層(B−1)とは反対側の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されている、
項5に記載の光透過性導電性フィルムの製造方法。
本発明の光透過性導電性フィルムの製造方法は、
(A−1)光透過性支持層;及び
(B−1)光透過性接着層
を有する接着性基材フィルムの前記光透過性支持層(A−1)側の表面に光透過性導電層(A−2)を形成する工程
を含むことを特徴とする、光透過性導電性フィルム製造方法である。
二つの層の相対的な位置関係について言及する場合、光透過性支持層(A−1)を基準に
して、光透過性支持層(A−1)からの距離が大きい一方の層を「上の」層等ということ
がある。
本発明において、接着性基材フィルムとは、光透過性支持層(A−1)及び光透過性接着層(B−1)を有するフィルムである。接着性基材フィルムにおいては、光透過性支持層(A−1)の一方の面に、光透過性接着層(B−1)が直接又は一以上の他の層を介して配置されている。また、光透過性支持層(A−1)の光透過性接着層(B−1)とは反対側の面、及び光透過性接着層(B−1)の光透過性支持層(A−1)とは反対側の面には、一以上の他の層が配置されていてもよい。
本発明において光透過性支持層とは、本発明の製造方法で得られる光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性導電層を含む層を支持する役割を果たすものをいう。光透過性支持層(A−1)としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用導電性フィルムにおいて、光透過性支持層として通常用いられるものを用いることができる。
本発明において光透過性接着層は、保護層(B−2)を接着させる目的や、本発明の製造方法で得られる光透過性導電性フィルムを、タッチパネルやこれを利用する製品の製造過程において他の材料(別の光透過性導電性フィルム、ガラス、偏光板等)に接着させる目的に使用される。このため、本発明の製造方法で得られる光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性接着層(B−1)は、最外層に位置しているか、或いはその上の層を剥離することにより容易に最外層に露出させることができることが好ましい。
(2)前記接着性基材フィルムの光透過性支持層(A−1)側の表面に光透過性導電層(A−2)を形成する工程
を含むことを特徴とする、光透過性導電性フィルムの製造方法。
接着性基材フィルムは、さらに、光透過性下地層(A−3)を有していてもよい。この場合、光透過性下地層(A−3)は、光透過性支持層(A−1)の光透過性接着層(B−1)とは反対側の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されている。
接着性基材フィルムは、光透過性下地層(A−3)の代わりに、あるいは光透過性下地層(A−3)に加えてさらに、ハードコート層(A−4)を有していてもよい。この場合、ハードコート層(A−4)は、好ましくは光透過性支持層(A−1)の一方又は両方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、より好ましくは光透過性支持層(A−1)の光透過性接着層(B−1)とは反対側の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されている。
接着性基材フィルムは、さらに、保護層(B−2)を有していてもよい。この場合、保護層(B−2)は、光透過性接着層(B−1)の光透過性支持層(A−1)とは反対側の面に直接配置されている
本発明において、保護層(B−2)とは、主に運搬や加工等の間に傷つき易い光透過性支持層を保護する目的で配置される層である。
その他の層(A−6)としては、特に限定されないが、例えば、接着層等が挙げられる。
本発明の製造方法においては、接着性基材フィルムの光透過性支持層(A−1)側の表面に光透過性導電層(A−2)を形成する。
限定されるものではない。
実施例1
一方の面にハードコート層を有する透明なポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ25μm)を用意した。一方で、ロールコータを用いてシリコーン離型剤で剥離処理されたポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さが125μm)の剥離処理された面に厚さ20μmの粘着性を有するアクリル接着剤層を形成し、得られたフィルムを、このアクリル接着剤層を介して、上記ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ25μm)のハードコート層が形成されていない面の上に貼りつけた。次いで、ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ25μm)のハードコート面に、シリコンターゲットを用いてスパッタリングを行い、付着量2μg/cm2のSiOx(x=0.1〜2.0)層を形成した。次いで、SiOx層の上に、酸素分圧6×10−3Paの不活性ガス雰囲気下で酸化インジウムスズターゲットを用いてスパッタリングを行い、25nmの厚さのITO膜を形成した。これにより、保護層と光透過性接着層を有する光透過性導電性積層フィルムを作製した。
一方の面にハードコート層を有する透明なポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ25μm)を用意した。このポリエチレンテレフタレートフィルムのハードコート面に、シリコンターゲットを用いてスパッタリングを行い、付着量2μg/cm2のSiOx(x=0.1〜2.0)層を形成した。次いで、SiOx層の上に、酸素分圧6×10−3Paの不活性ガス雰囲気下で酸化インジウムスズターゲットを用いてスパッタリングを行い25nmの厚さのITO膜を形成した。次いで、ロールコータを用いて上記ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ25μm)のITO膜が形成されていない面に厚さ20μmの粘着性を有するアクリル接着剤層を形成し、得られたフィルムを、このアクリル接着剤層を介して、シリコーン離型剤で剥離処理されたポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さが125μm)の剥離処理された面の上に貼りつけた。これにより、保護層と光透過性接着層を有する光透過性導電性積層フィルムを作製した。
図1のように、光透過性導電層が上向きとなるように、フィルムを直径5mmのステンレス製の棒に巻きつけ、500gの荷重で両端を鉛直下方に引っ張りフィルムを摺動させ、1往復ごとに四探針法で表面抵抗値を測定した。該測定値を初期表面抵抗値で除したものを表面抵抗変化率とした。フィルムの屈曲回数(往復回数)と表面抵抗変化率との関係を図2に示した。
Claims (6)
- (A−1)光透過性支持層;及び
(B−1)光透過性接着層
を有する接着性基材フィルムの前記光透過性支持層(A−1)側の表面に光透過性導電層(A−2)を形成する工程
を含むことを特徴とする、光透過性導電性フィルムの製造方法。 - 前記接着性基材フィルムが更に保護層(B−2)を有し、且つ
前記保護層(B−2)が、前記光透過性接着層(B−1)の前記光透過性支持層(A−1)とは反対側の面に直接配置されている、
請求項1に記載の光透過性導電性フィルムの製造方法。 - 前記光透過性導電層(A−2)の形成方法がスパッタリング法である、請求項1又は2に記載の光透過性導電性フィルムの製造方法。
- 前記光透過性導電層(A−2)が酸化インジウムスズを含有する、請求項1〜3のいずれかに記載の光透過性導電性フィルムの製造方法。
- 前記接着性基材フィルムが更に光透過性下地層(A−3)及び/又はハードコート層(A−4)を有する、請求項1〜4のいずれかに記載の光透過性導電性フィルムの製造方法。
- 前記接着性基材フィルムが光透過性下地層(A−3)及びハードコート層(A−4)を有し、
前記ハードコート層(A−4)が、前記光透過性支持層(A−1)の前記光透過性接着層(B−1)とは反対側の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置され、且つ
前記光透過性下地層(A−3)が、前記ハードコート層(A−4)の前記光透過性接着層(B−1)とは反対側の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されている、
請求項5に記載の光透過性導電性フィルムの製造方法。
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JP2014210469A JP6406968B2 (ja) | 2014-10-15 | 2014-10-15 | 光透過性導電性フィルムの製造方法 |
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JP2014210469A JP6406968B2 (ja) | 2014-10-15 | 2014-10-15 | 光透過性導電性フィルムの製造方法 |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2016081663A JP2016081663A (ja) | 2016-05-16 |
JP6406968B2 true JP6406968B2 (ja) | 2018-10-17 |
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JP2014210469A Active JP6406968B2 (ja) | 2014-10-15 | 2014-10-15 | 光透過性導電性フィルムの製造方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP5552271B2 (ja) * | 2009-07-08 | 2014-07-16 | 日東電工株式会社 | 粘着剤層付き透明導電性フィルム、透明導電性積層体及びタッチパネル |
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JP2016081663A (ja) | 2016-05-16 |
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