JP2015165493A - 光透過性導電性フィルムの製造方法及びその光透過性導電性フィルム、並びにその光透過性導電性フィルムを含有するタッチパネル - Google Patents
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Abstract
【解決手段】金属酸化物を含有する光透過性導電層を含有する光透過性導電性フィルムを製造する方法であって、
(1)還元性ガスを含有する処理ガスを大気圧近傍の圧力下でプラズマ化して発生させたプラズマガスに、金属酸化物を含有する層を曝すことにより光透過性導電層を得る工程
を含有する方法。
【選択図】なし
Description
項1.
金属酸化物を含有する光透過性導電層を含有する光透過性導電性フィルムを製造する方法であって、
(1)還元性ガスを含有する処理ガスを大気圧近傍の圧力下でプラズマ化して発生させたプラズマガスに、金属酸化物を含有する層を曝すことにより光透過性導電層を得る工程
を含有する方法。
項2.
さらに、
(2)前記工程(1)により得られた光透過性導電層を、100〜140℃で加熱する工程
を含有する、項1に記載の方法。
項3.
金属酸化物を含有する光透過性導電層を含有する光透過性導電性フィルムであって、
前記光透過性導電層が、
(1)還元性ガスを含有する処理ガスを大気圧近傍の圧力下でプラズマ化して発生させたプラズマガスに、金属酸化物を含有する層を曝す工程
を含有する方法により得られうるものであることを特徴とする、
光透過性導電性フィルム。
項4.
前記光透過性導電層が、さらに、
(2)前記工程(1)により得られた光透過性導電層を、100〜140℃で加熱する工程
を含有する方法により得られうるものである、項3に記載の光透過性導電性フィルム。
項5.
項3又は4に記載の光透過性導電性フィルムを含有する、タッチパネル。
本発明の、金属酸化物を含有する光透過性導電層を含有する光透過性導電性フィルムの製造方法は、
(1)還元性ガスを含有する処理ガスを大気圧近傍の圧力下でプラズマ化して発生させたプラズマガスに、金属酸化物を含有する層を曝すことにより光透過性導電層を得る工程
を含有する方法
である。
(A)光透過性導電層:及び
(B)光透過性支持層
を含有し、
前記光透過性導電層(A)が、前記光透過性支持層(B)の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されているのが通常である。光透過性支持層とは、光透過性導電層を含む層を支持する役割を果たすものをいう。
本発明において光透過性導電層とは、電気を導通しかつ可視光を透過する役割を果たすものをいう。光透過性導電層(A)としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて光透過性導電層として通常用いられるものを用いることができる。
たものを金属酸化物として用いてもよい。左記において他のドーパントとしては、特に限定されないが、例えばセレン等が挙げられる。
工程(1)は、
還元性ガスを含有する処理ガスを大気圧近傍の圧力下でプラズマ化して発生させたプラズマガスに、金属酸化物を含有する層を曝す工程
である。
含有する層を含有するフィルムを置き、前記移動可能な電極を、所定の速度でフィルム上を通過させることによって、金属酸化物を含有する層を一定時間プラズマガスに曝すことができる。このとき、金属酸化物を含有する層が、プラズマガスに曝される時間(照射時間)が、10分間以下であることが好ましい。照射時間が10分間以下であることによって、長時間プラズマガスに曝されることによる悪影響(金属酸化物を含有する層の表面の粗化、及び/又は金属酸化物を含有する層の剥離等)を避けることができ好ましい。
本発明の上記製造方法は、好ましくは、さらに、
(2)前記工程(1)により得られた光透過性導電層を、100〜140℃で加熱する工程
を含有する。
本発明の光透過性導電性フィルムの製造方法は、光透過性導電層(A)に加えて、以下に説明する、光透過性支持層(B)、下地層(C)、ハードコート層(D)及びそれらと異なる少なくとも1種のその他の層(E)からなる群より選択される少なくとも1種の層をそれぞれ配置する工程をそれぞれ含んでいてもよい。それぞれの層を配置する工程は、それぞれの層について以下に説明する通りである。
本発明の光透過性導電性フィルムは、
光透過性導電層(A)を含有する光透過性導電性フィルムであって、
前記光透過性導電層(A)が、
(1)還元性ガスを含有する処理ガスを大気圧近傍の圧力下でプラズマ化して発生させたプラズマガスに、金属酸化物を含有する層を曝す工程
を含有する方法により得られうるものであることを特徴とする、
光透過性導電性フィルムである。
光透過性導電層(A)については、上記1.1で説明した通りである。
本発明の光透過性導電性フィルムは、好ましくは、
(A)光透過性導電層:及び
(B)光透過性支持層
を含有し、
前記光透過性導電層(A)が、前記光透過性支持層(B)の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されている、光透過性導電性フィルムである。
本発明の光透過性導電性フィルムは、さらに、下地層(C)を含有し、かつ少なくとも一方の光透過性導電層(A)が少なくとも下地層(C)を介して光透過性支持層(B)の面に配置されていてもよい。
本発明の光透過性導電性フィルムは、さらに、ハードコート層(D)を含有し、かつ少なくとも一方の光透過性導電層(A)が、少なくともハードコート層(D)を介して光透過性支持層(B)の面に配置されていてもよい。
リル樹脂が好ましい。
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層(B)の少なくとも一方の面に、光透過性導電層(A)に加えて、下地層(C)、ハードコート層(D)及びそれらと異なる少なくとも1種のその他の層(E)からなる群より選択される少なくとも1種の層がさらに配置されていてもよい。
本発明の光透過性導電性フィルムは、静電容量型タッチパネルの製造のために好ましく用いられる。抵抗膜方式タッチパネルの製造のために用いられる光透過性導電性フィルムは一般に表面抵抗率(シート抵抗)が250〜1,000Ω/sq程度は必要であるとされる。これに対して静電容量型タッチパネルの製造のために用いられる光透過性導電性フィルムは一般に表面抵抗率が低いほうが有利である。本発明の光透過性導電性フィルムは、抵抗率が低減されており、これにより、静電容量型タッチパネルの製造のために好ましく用いられる。静電容量型タッチパネルについて詳細は、2で説明する通りである。
本発明の静電容量型タッチパネルは、本発明の光透過性導電性フィルムを含み、さらに必要に応じてその他の部材を含んでなる。
(1)保護層
(2)本発明の光透過性導電性フィルム(Y軸方向)
(3)絶縁層
(4)本発明の光透過性導電性フィルム(X軸方向)
(5)ガラス
本発明の静電容量型タッチパネルは、特に限定されないが、例えば、上記(1)〜(5)、並びに必要に応じてその他の部材を通常の方法に従って組み合わせることにより製造することができる。
DCスパッタ法により、PETフィルム上にITO層を20nm堆積させた。大気圧プラズマ装置(積水化学工業株式会社製、「AP/TO2」、ダイレクト電極タイプ)にH2ガスを4vol%含有するN2ガスを処理ガスとして導入し、投入電力900W(140V−6.4A)でプラズマガスを発生させ、前記フィルムを3m/分の速度で搬送し、プラズマ処理を行って本発明の光透過性導電性フィルムを得た。なお、処理面積は200mm2(光透過性導電性フィルムの幅方向に200mmかつ長さ方向に1mm)とした。
oresta−EP)を用いて、4端子法により測定した。
実施例1で得られたフィルムに対して、140℃で30分間オーブンにて熱処理を行って本発明の光透過性導電性フィルムを得た。
熱処理を130℃で30分間行った他は実施例2と同様にして本発明の光透過性導電性フィルムを得た。
プラズマガス中でのフィルムの搬送速度を6m/分とした他は実施例1と同様にして本発明の光透過性導電性フィルムを得た。
プラズマガス中でのフィルムの搬送速度を6m/分とした他は実施例2と同様にして本発明の光透過性導電性フィルムを得た。
熱処理を130℃で30分間行った他は実施例5と同様にして本発明の光透過性導電性フィルムを得た。
プラズマガス中でのフィルムの搬送速度を10m/分とした他は実施例2と同様にして本発明の光透過性導電性フィルムを得た。
プラズマガス中でのフィルムの搬送速度を10m/分とした他は実施例1と同様にして本発明の光透過性導電性フィルムを得た。
プラズマガス中でのフィルムの搬送速度を15m/分とした他は実施例2と同様にして本発明の光透過性導電性フィルムを得た。
プラズマガス中でのフィルムの搬送速度を15m/分とした他は実施例1と同様にして本発明の光透過性導電性フィルムを得た。
プラズマ処理を行わない他は実施例1と同様にして光透過性導電性フィルムを得た。
11 光透過性支持層(B)
12 光透過性導電層(A)
13 下地層(C)
14 ハードコート層(D)
Claims (5)
- 金属酸化物を含有する光透過性導電層を含有する光透過性導電性フィルムを製造する方法であって、
(1)還元性ガスを含有する処理ガスを大気圧近傍の圧力下でプラズマ化して発生させたプラズマガスに、金属酸化物を含有する層を曝すことにより光透過性導電層を得る工程
を含有する方法。 - さらに、
(2)前記工程(1)により得られた光透過性導電層を、100〜140℃で加熱する工程
を含有する、請求項1に記載の方法。 - 金属酸化物を含有する光透過性導電層を含有する光透過性導電性フィルムであって、
前記光透過性導電層が、
(1)還元性ガスを含有する処理ガスを大気圧近傍の圧力下でプラズマ化して発生させたプラズマガスに、金属酸化物を含有する層を曝す工程
を含有する方法により得られうるものであることを特徴とする、
光透過性導電性フィルム。 - 前記光透過性導電層が、さらに、
(2)前記工程(1)により得られた光透過性導電層を、100〜140℃で加熱する工程
を含有する方法により得られうるものである、請求項3に記載の光透過性導電性フィルム。 - 請求項3又は4に記載の光透過性導電性フィルムを含有する、タッチパネル。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015021131A JP2015165493A (ja) | 2014-02-10 | 2015-02-05 | 光透過性導電性フィルムの製造方法及びその光透過性導電性フィルム、並びにその光透過性導電性フィルムを含有するタッチパネル |
Applications Claiming Priority (3)
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JP2014023461 | 2014-02-10 | ||
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JP2015021131A JP2015165493A (ja) | 2014-02-10 | 2015-02-05 | 光透過性導電性フィルムの製造方法及びその光透過性導電性フィルム、並びにその光透過性導電性フィルムを含有するタッチパネル |
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Country | Link |
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JP (1) | JP2015165493A (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008108541A (ja) * | 2006-10-25 | 2008-05-08 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 透明導電膜の形成方法及び透明導電膜 |
JP2013062185A (ja) * | 2011-09-14 | 2013-04-04 | Ulvac Japan Ltd | 透明導電膜形成方法 |
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2015
- 2015-02-05 JP JP2015021131A patent/JP2015165493A/ja active Pending
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