JP2015173109A - 光透過性導電性フィルムの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
項1.酸化インジウムスズを含有する光透過性導電層を含有する光透過性導電性フィルムを製造する方法であって、前記光透過性導電層を得るための工程として、
(a)酸化インジウムスズを含有する層に対して還元剤を用いて表面処理を行う工程、及び
(b)工程(b)の表面処理がなされた層に対してアニール処理を行う工程
を含むことを特徴とする、方法。
項2.さらに、
(c)光透過性導電層に対して表面プラズマ処理を行う工程
を含み、かつ工程(c)が工程(b)の前に行われる、項1に記載の方法。
本発明の、酸化インジウムスズを含有する光透過性導電層を含有する光透過性導電性フィルムの製造方法は、前記光透過性導電層を得るための工程として、
(a)酸化インジウムスズを含有する層に対して還元剤を用いて表面処理を行う工程、及び
(b)工程(b)の表面処理がなされた層に対してアニール処理を行う工程
を含む。
(A)光透過性導電層;及び
(B)光透過性支持層
を含有し、
前記光透過性導電層(A)が、前記光透過性支持層(B)の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されているのが通常である。光透過性支持層とは、光透過性導電層を含む層を支持する役割を果たすものをいう。
本発明において光透過性導電層とは、電気を導通しかつ可視光を透過する役割を果たすものをいう。光透過性導電層(A)としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて光透過性導電層として通常用いられるものを用いることができる。
本発明において光透過性支持層とは、光透過性導電層を含有する光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性導電層を含む層を支持する役割を果たすものをいう。光透過性支持層(B)としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性支持層として通常用いられるものを用いることができる。
表面処理工程(a)は、酸化インジウムスズを含有する層に対して、還元剤を用いて表面処理を行う工程である。酸化インジウムスズを含有する層を得る方法については、既に説明した通りである。
本発明の製造方法においては、前記表面処理を行った後、さらにアニール処理を行う。
特に必須ではないが、任意に、アニール処理工程(b)の前に表面プラズマ処理工程(c)を行ってもよい。
本発明の光透過性導電性フィルムの製造方法は、光透過性導電層(A)及び光透過性支持層(B)に加えて、以下に説明する、下地層(C)、ハードコート層(D)及びそれらと異なる少なくとも1種のその他の層(E)からなる群より選択される少なくとも1種の層をそれぞれ配置する工程をそれぞれ含んでいてもよい。それぞれの層を配置する工程は、それぞれの層について以下に説明する通りである。
本発明の光透過性導電性フィルムは、上記した製造方法により得られるものである。
本発明の光透過性導電性フィルムは、好ましくは、
(A)光透過性導電層;及び
(B)光透過性支持層
を含有し、
前記光透過性導電層(A)が、前記光透過性支持層(B)の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されている、光透過性導電性フィルムである。
本発明の光透過性導電性フィルムは、さらに、下地層(C)を含有し、かつ少なくとも一方の光透過性導電層(A)が少なくとも下地層(C)を介して光透過性支持層(B)の面に配置されていてもよい。
本発明の光透過性導電性フィルムは、さらに、ハードコート層(D)を含有し、かつ少なくとも一方の光透過性導電層(A)が、少なくともハードコート層(D)を介して光透過性支持層(B)の面に配置されていてもよい。
隣接する前記光透過性支持層(B)側の面」とは、下地層(C)の面のうち、光透過性導電層(A)に隣接する面のことを指す。
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層(B)の少なくとも一方の面に、光透過性導電層(A)に加えて、下地層(C)、ハードコート層(D)及びそれらと異なる少なくとも1種のその他の層(E)からなる群より選択される少なくとも1種の層がさらに配置されていてもよい。
本発明の光透過性導電性フィルムは、静電容量型タッチパネルの製造のために好ましく用いられる。抵抗膜方式タッチパネルの製造のために用いられる光透過性導電性フィルムは一般に表面抵抗率(シート抵抗)が250〜1,000Ω/sq程度は必要であるとされる。これに対して静電容量型タッチパネルの製造のために用いられる光透過性導電性フィルムは一般に表面抵抗率が低いほうが有利である。本発明の光透過性導電性フィルムは、抵抗率が低減されており、これにより、静電容量型タッチパネルの製造のために好ましく用いられる。静電容量型タッチパネルについて詳細は、3.1で説明する通りである。
静電容量型タッチパネルは、光透過性導電性フィルムを含み、さらに必要に応じてその他の部材を含んでなる。
(1)保護層
(2)光透過性導電性フィルム(Y軸方向)
(3)絶縁層
(4)光透過性導電性フィルム(X軸方向)
(5)ガラス
DCスパッタ法により、PETフィルム上にITO層を20nm堆積させて光透過性導電性フィルムを得た。還元剤による表面処理として30%過酸化水素水に得られた光透過性導電性フィルムを3分間浸漬した後、光透過性導電性フィルムを純水で洗った。次いで、得られた光透過性導電性フィルムに対して、140℃で30分間オーブンにて熱処理を行って本発明の光透過性導電性フィルムを得た。
光透過性導電性フィルムを30%過酸化水素水に浸漬した時間を3分間から10分間に変更したこと以外は、実施例1と同様にして本発明の光透過性導電性フィルムを得た。
光透過性導電性フィルムを30%過酸化水素水に浸漬した時間を3分間から20分間に変更したこと以外は、実施例1と同様にして本発明の光透過性導電性フィルムを得た。
還元剤として過酸化水素水にかえて80%ヒドラジン水溶液を用いたこと以外は実施例1と同様にして本発明の光透過性導電性フィルムを得た。
還元剤として過酸化水素水にかえて3%蟻酸水溶液を用いたこと以外は実施例1と同様にして本発明の光透過性導電性フィルムを得た。
DCスパッタ法により、PETフィルム上にITO層を20nm堆積させて光透過性導電性フィルムを得た。還元剤による表面処理として30%過酸化水素水に得られた光透過性導電性フィルムを3分間浸漬した後、光透過性導電性フィルムを純水で洗った。次いで、大気圧プラズマ装置(積水化学工業株式会社製、「AP/TO2」、ダイレクト電極タイプ)にH2ガスを4vol%含有するN2ガスを処理ガスとして導入し、投入電力900W(140V−6.4A)でプラズマガスを発生させ、前記フィルムを3m/分の速度で搬送し、プラズマ処理を行った。なお、処理面積は200mm2(光透過性導電性フィルムの幅方向に200mmかつ長さ方向に1mm)とした。
その後、得られた光透過性導電性フィルムに対して、140℃で30分間オーブンにて熱処理を行って本発明の光透過性導電性フィルムを得た。
プラズマガス中でのフィルムの搬送速度を6m/分とした他は実施例1と同様にして本発明の光透過性導電性フィルムを得た。
プラズマガス中でのフィルムの搬送速度を10m/分とした他は実施例2と同様にして本発明の光透過性導電性フィルムを得た。
プラズマガス中でのフィルムの搬送速度を6m/分とした他は実施例1と同様にして本発明の光透過性導電性フィルムを得た。
得られた光透過性導電性フィルムに対するオーブンによる熱処理条件を140℃で30分間から130℃30分間に変えた他は実施例9と同様にして本発明の光透過性導電性フィルムを得た。
得られた光透過性導電性フィルムに対するオーブンによる熱処理条件を140℃で30分間から130℃30分間に変えた他は実施例6と同様にして本発明の光透過性導電性フィルムを得た。
還元剤による表面処理もプラズマ処理も行わない他は実施例1と同様にして光透過性導電性フィルムを得た。
プラズマ処理を行わない他は実施例1と同様にして光透過性導電性フィルムを得た。
11 光透過性支持層(B)
12 光透過性導電層(A)
13 下地層(C)
14 ハードコート層(D)
Claims (2)
- 酸化インジウムスズを含有する光透過性導電層を含有する光透過性導電性フィルムを製造する方法であって、前記光透過性導電層を得るための工程として、
(a)酸化インジウムスズを含有する層に対して還元剤を用いて表面処理を行う工程、及び
(b)工程(b)の表面処理がなされた層に対してアニール処理を行う工程
を含むことを特徴とする、方法。 - さらに、
(c)光透過性導電層に対して表面プラズマ処理を行う工程
を含み、かつ工程(c)が工程(b)の前に行われる、請求項1に記載の方法。
Priority Applications (1)
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JP2015034451A JP2015173109A (ja) | 2014-02-24 | 2015-02-24 | 光透過性導電性フィルムの製造方法 |
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JP2015034451A JP2015173109A (ja) | 2014-02-24 | 2015-02-24 | 光透過性導電性フィルムの製造方法 |
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JP2015034451A Pending JP2015173109A (ja) | 2014-02-24 | 2015-02-24 | 光透過性導電性フィルムの製造方法 |
Country Status (1)
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003151362A (ja) * | 2001-08-31 | 2003-05-23 | Toppan Printing Co Ltd | 導電膜および導電膜の製造方法 |
JP2008108541A (ja) * | 2006-10-25 | 2008-05-08 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 透明導電膜の形成方法及び透明導電膜 |
JP2013062185A (ja) * | 2011-09-14 | 2013-04-04 | Ulvac Japan Ltd | 透明導電膜形成方法 |
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2015
- 2015-02-24 JP JP2015034451A patent/JP2015173109A/ja active Pending
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JP2008108541A (ja) * | 2006-10-25 | 2008-05-08 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 透明導電膜の形成方法及び透明導電膜 |
JP2013062185A (ja) * | 2011-09-14 | 2013-04-04 | Ulvac Japan Ltd | 透明導電膜形成方法 |
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