CN106687860A - 表皮用的支承框 - Google Patents

表皮用的支承框 Download PDF

Info

Publication number
CN106687860A
CN106687860A CN201580026872.8A CN201580026872A CN106687860A CN 106687860 A CN106687860 A CN 106687860A CN 201580026872 A CN201580026872 A CN 201580026872A CN 106687860 A CN106687860 A CN 106687860A
Authority
CN
China
Prior art keywords
framework
groove
hole
supporting frame
suction socket
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201580026872.8A
Other languages
English (en)
Other versions
CN106687860B (zh
Inventor
高村夫
高村一夫
小野阳介
種市大树
佐藤泰之
廣田俊明
古贺圣和
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Light Metal Co Ltd
Original Assignee
Nippon Light Metal Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Light Metal Co Ltd filed Critical Nippon Light Metal Co Ltd
Publication of CN106687860A publication Critical patent/CN106687860A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN106687860B publication Critical patent/CN106687860B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
    • G03F1/64—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/66—Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • G03F7/70825—Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
    • G03F7/70866—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70908—Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
    • G03F7/70916—Pollution mitigation, i.e. mitigating effect of contamination or debris, e.g. foil traps
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70975—Assembly, maintenance, transport or storage of apparatus
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70983—Optical system protection, e.g. pellicles or removable covers for protection of mask
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces

Landscapes

  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Atmospheric Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Packaging Frangible Articles (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

一种表皮用的支承框(1A)，具有铝合金制的框体(10)，在框体(10)的正面(10a)粘接有表皮覆膜，在框体(10)的背面粘接有玻璃基板。在框体(10)的表面(10a)形成有正面侧的凹槽(31～33)，所述正面侧的凹槽(31～33)沿着框体(10)的周向延伸，并且形成有正面侧的抽吸孔(50)，所述正面侧的抽吸孔(50)从框体(10)的外周面(10c)直至正面侧的凹槽(31～33)的内表面。在所述结构中，能够在不将其它部件按压到表皮覆膜的情况下，将表皮覆膜粘接于框体(10)。

Description

表皮用的支承框
技术领域
本发明涉及一种表皮用的支承框。
背景技术
在集成电路的制造工序中，包括光刻工序，在所述光刻工序中，将称作光掩膜和刻线的、绘制于玻璃基板的电路图案转印于涂覆在晶片上的保护层。
在所述光刻工序中，如果粉尘等异物附着在玻璃基板上，则转印于保护层的电路图案会变得不清晰，因此，在玻璃基板上覆盖有称作表皮的防尘盖(例如，专利文献1)。
表皮包括将绘制于玻璃基板的电路图案的整体包围的支承框和覆盖设置于所述支承框的正面的透光性的表皮覆膜。此外，支承框的背面粘接到玻璃基板。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本专利特许第4777381号公报
发明内容
发明所要解决的技术问题
当将表皮覆膜粘接到所述支承框时，在将粘接剂涂覆到支承框的正面之后，将表皮覆膜与支承框的正面重叠。接着，将表皮覆膜按压并粘接于支承框。在这种方法中，随着表皮覆膜变薄，表皮覆膜受到损伤的可能性会变高。
本发明的技术问题在于提供一种表皮用的支承框，所述表皮用的支承框能在不将其它部件按压到表皮覆膜的情况下，将表皮覆膜粘接到框体。
解决技术问题所采用的技术方案
为了解决上述技术问题，本发明是一种表皮用的支承框，该表皮用的支承框具有铝合金制的框体，在所述框体的正面粘接有表皮覆膜，在所述框体的背面粘接有玻璃基板。在所述框体的正面形成有正面侧的凹槽，所述正面侧的凹槽沿着所述框体的周向延伸，并且形成有正面侧的抽吸孔，所述正面侧的抽吸孔从所述框体的外周面直至所述正面侧的凹槽的内表面。
在本发明的支承框中，若在框体的正面涂覆粘接剂之后，将表皮覆膜与框体的正面重叠，则成为凹槽被表皮覆膜填塞的状态。在该状态下，当经由抽吸孔对凹槽内的空气进行抽吸时，由于凹槽内被减压，因此，表皮覆膜会被按压于框体的正面。这样，根据本发明的支承框，由于在将表皮覆膜粘接于框体时，无需将其它构件按压到表皮覆膜，因此，能防止表皮覆膜受到损伤。因而，即使在表皮覆膜较薄的情况下，也能将表皮覆膜粘接于框体。
在所述表皮用的支承框中，当将多个所述正面侧的凹槽沿所述框体的周向并排设置，并使所述正面侧的抽吸孔与各所述正面侧的凹槽连通的情况下，从凹槽的端部至抽吸孔的距离会变短。藉此，在对凹槽内的空气进行抽吸时，在凹槽内产生的压力损失会变小，以能高效地对凹槽内进行减压。
在所述表皮用的支承框中，也可以在所述框体的背面形成有背面侧的凹槽，所述背面侧的凹槽沿着所述框体的周向延伸，并且形成有背面侧的抽吸孔，所述背面侧的抽吸孔从所述框体的外周面直至所述背面侧的凹槽的内表面。
在上述结构中，当经由背面侧的抽吸孔对背面侧的凹槽内的空气进行抽吸时，由于背面侧的凹槽内被减压，因此，玻璃基板会被按压于框体的背面。藉此，在将玻璃基板粘接于框体时，由于无需将其它构件按压到玻璃基板，因此，能防止玻璃基板受到损伤。
在所述表皮用的支承框中，当将多个所述背面侧的凹槽沿着所述框体的周向并排设置于所述框体的背面，使所述背面侧的抽吸孔与各所述背面侧的凹槽连通的情况下，从背面侧的凹槽的端部至背面侧的抽吸孔的距离会变短。藉此，在对背面侧的凹槽内的空气进行抽吸时，在背面侧的凹槽内产生的压力损失会变小，从而能高效地对背面侧的凹槽内进行减压。
在所述表皮用的支承框中，也可以在所述框体的周向上并排设置沿着所述框体的周向延伸的多个背面侧的凹槽，并形成有背面侧的抽吸孔，所述背面侧的抽吸孔从所述框体的外周面直至各所述背面侧的凹槽的内表面。在这种情况下，较为理想的是，所述正面侧的抽吸孔形成在相邻的所述背面侧的凹槽彼此之间，所述背面侧的抽吸孔形成在相邻的所述正面侧的凹槽彼此之间。
在上述结构中，由于抽吸孔和凹槽在正、背面方向上不发生重叠，因此，能充分地确保框体的强度。
在所述表皮用的支承框中，由于在所述凹槽的底面形成有底的坑孔，并使所述抽吸孔开口于所述坑孔的内周面的情况下，能将抽吸孔的直径形成得比凹槽的深度大，因此，能提高抽吸效率。
在所述表皮用的支承框中，较为理想的是，使所述坑孔开口于所述框体的正面侧和背面侧的一方，并使所述坑孔的底面形成在比所述抽吸孔更靠所述框体的正面侧和背面侧的另一方。
在上述结构中，由于坑孔的底面配置在比抽吸孔更深的位置处，因此，能使抽吸孔的轴截面整体可靠地开口于坑孔的内周面。
在所述表皮用的支承框中，当所述抽吸孔形成在所述框体的高度方向的中央处的情况下，由于能均等地确保从抽吸孔的内周面至框体的正面的壁厚和从抽吸孔的内周面至框体的背面的壁厚，因此，能平衡性好地提高支承框相对于正面侧及背面侧的弯曲强度。
在所述表皮用的支承框中，也可以使所述凹槽的延长方向的中间部与所述抽吸孔连通。
在所述结构中，与使抽吸孔与凹槽的一方的端部连通的情况相比，从凹槽的两端部至抽吸孔的距离变短。藉此，在对凹槽内的空气进行抽吸时，在凹槽内产生的压力损失会变小，能够高效地对凹槽内进行减压。
当在所述表皮用的支承框中形成有通孔，所述通孔从所述框体的外周面直至内周面的情况下，较为理想的是，将所述通孔形成在所述框体的周向上相邻的所述凹槽彼此之间。
如上所述，在框体形成通孔的情况下，能防止在将表皮覆膜及玻璃基板粘接到支承框之后，在支承框的内部空间与外部空间之间产生压力差。此外，在所述结构中，由于通孔和凹槽在正、背面方向上不发生重叠，因此，能充分地确保框体的强度。
在所述表皮用支承框中，在所述框体的各边形成有多个所述正面侧的抽吸孔的情况下，由于抽吸力平衡性好地作用于框体的正面整体，因此，能平衡性好地将表皮覆膜按压于框体的正面整体。
在所述表皮用支承框中，所述框体包括前、后一对横框部和左、右一对纵框部，在所述框体的外周面形成多个夹具孔的情况下，较为理想的是，在两个所述横框部的两端部形成所述夹具孔。
另外，本发明的前、后、左、右是为了容易地明确支承框的结构而设定的，并非对支承框的结构及使用状态进行特定。
在所述结构中，当将夹具的销插入各夹具孔，来通过夹具对支承框进行保持时，能够抑制因来自夹具的按压力导致的横框部的挠曲。
特别地，在从框体的左、右的侧缘部至夹具孔的中心位置的距离设定在框体的左右方向的长度的15％以内的情况下，能有效地抑制横框部的挠曲。
在所述表皮用的支承框中，在所述框体的外周面形成有多个夹具孔的情况下，较为理想的是，所述夹具孔是沿所述框体的周向延伸的长圆形的长孔。
在将所述支承框从玻璃基板剥离时，将夹具的销插入支承框的夹具孔，并通过夹具将支承框从玻璃基板上拉开。
由于所述支承框的夹具孔是沿框体的周向延伸的长圆形的长孔，因此，若将夹具的销的轴截面形成为沿框体的周向延伸的长圆形，则夹具孔的内周面与销的外周面面接触。藉此，在将支承框从玻璃基板剥离时，由于应力在夹具孔与销之间集中于一点，因此，能够抑制支承框的变形。
在所述表皮用支承框中，当所述框体包括前、后一对横框部和左、右一对纵框部，且所述框体的外周面形成多个夹具孔的情况下，较为理想的是，在所述两横框部的两端部形成所述夹具孔。
另外，本发明的前、后、左、右是为了容易地理解支承框的结构而设定的，并非对支承框的结构及使用状态进行特定。
在将所述支承框从玻璃基板剥离时，最先将形成于支承框的角部的夹具孔上拉。然后，通过从靠近最先上拉的夹具孔的夹具孔依次上拉各夹具孔，从而能在抑制支承框的变形的同时将支承框从玻璃基板剥离。
发明效果
只要使用本发明的表皮用的支承框，则即使在表皮覆膜较薄的情况下，也能防止在将表皮覆膜粘接于框体时，表皮覆膜受到损伤。
附图说明
图1是表示本实施方式的表皮及玻璃基板的立体图。
图2是表示本实施方式的表皮及玻璃基板的侧剖视图。
图3是表示本实施方式的支承框的示意俯视图。
图4是表示本实施方式的支承框的示意仰视图。
图5(a)是表示本实施方式的支承框的示意侧视图，图5(b)是A-A剖视图，图5(c)是B-B剖视图，图5(d)是C-C剖视图，图5(e)是D-D剖视图。
图6是表示另一实施方式的支承框的示意图，其是以在框体的一个面上形成八个凹槽的方式构成的俯视图。
图7是表示另一实施方式的支承框的示意图，且是以在框体的一个面上形成四个凹槽的方式构成的俯视图。
图8(a)、图8(b)和图8(c)是表示另一实施方式的支承框的示意图，其中，图8(a)是将抽吸孔配置于框体的高度方向的中央部处的结构的侧视图，图8(b)是E-E剖视图，图8(c)是F-F剖视图。
图9(a)和图9(b)是表示另一实施方式的支承框的示意图，其中，图9(a)是形成有长孔的夹具孔的结构的侧视图，图9(b)是将夹具的销插入夹具孔的状态的放大侧视图。
图10是表示另一实施方式的支承框的示意图，其是在横框部、纵框部及角部形成夹具孔的结构的俯视图。
具体实施方式
参照适宜的附图，对本发明的实施方式进行详细说明。
另外，在本实施方式的各附图中，为了容易理解地对支承框的结构进行说明，适度示意性地示出支承框的各部分。
在以下的说明中，前、后、左、右及正面、背面是为了容易理解地对支承框进行说明而设定的，其并不对支承框的结构进行特定。
如图1所示，本实施方式的支承框1A用于表皮P。表皮P是用于防止粉尘等附着在玻璃基板M(光掩膜)的正面Ma上的防尘盖。虽然本实施方式的玻璃基板M使用透明的基板，但其构成并不局限于此。
表皮P包括将绘制于玻璃基板的电路图案(未图示)的整体包围的支承框1A和覆盖设置于支承框1A的正面的表皮覆膜2。
支承框1A在俯视观察时具有长方形的框体10。框体10是对铝合金制的挤压件进行加工而获得的部件。
框体10由前后一对横框部11、11和左右一对纵框部12、12构成。横框部11及纵框部12的轴截面形成为长方形。
两个横框部11、11是作为框体10的长边的部分，两个纵框部12、12是作为框体10的短边的部分。
表皮覆膜2是具有透光性的硅制的薄膜。表皮覆膜2在俯视观察时形成为长方形，并为与支承框1A的外形相同的形状。
在表皮覆膜2的背面的外周缘部设置有在表皮覆膜2的制造时形成的硅制的强化框3。
如图2所示，强化框3是隔着粘接层4与框体10粘接的部位，并形成为与框体10的横框部11及纵框部12具有相同的宽度。在将表皮覆膜2与框体10的正面10a重叠时，框体10的正面10a被强化框3覆盖。
如图3所示，在框体10上形成有多个通孔20、多个正面侧凹槽31～33和多个背面侧的凹槽41～43。
此外，在框体10上形成有多个正面侧的抽吸孔50、多个背面侧的抽吸孔60和多个夹具孔70，其中，多个所述正面侧的抽吸孔50与各正面侧的凹槽31～33连通，多个所述背面侧的抽吸孔60与各背面侧的凹槽41～43连通。另外，一个正面侧的抽吸孔50与正面侧的凹槽31～33中的一个连通，一个背面侧的抽吸孔60与背面侧的凹槽41～44中的一个连通。
通孔20从框体10的外周面10c贯通至内周面10d(参照图5(d))。如图5(a)所示，通孔20的中心轴配置于框体10的高度方向的中央处。
如图3所示，通孔20形成在前后的横框部11、11的左右方向的中央处，并且形成在左右纵框部12、12的前后方向的中央处。即，在框体10中形成有前、后、左、右的四个通孔20。
在框体10的正面10a上，沿框体10的周向并排设置有十个正面侧的凹槽31～33。各凹槽31～33是轴截面为长方形的槽(参照图5(c))。
在前侧的横框部11的正面10a上形成有左、右两个第一凹槽31、31。第一凹槽31在左右方向上呈直线状延伸。此外，第一凹槽31形成在横框部11的正面10a上的前后方向的中央处。
左、右的第一凹槽31、31以夹着横框部11的左右方向的中央的方式配置。当将通孔20投影到框体10的正面10a时，通孔20配置于相邻的第一凹槽31、31之间。
在前侧的横框部11处，在左侧的第一凹槽31的右端部形成有坑孔35，并且在右侧的第一凹槽31的中间部形成有坑孔35。
坑孔35是有底孔，其内径形成得比第一凹槽31的槽宽度更大。
如图5(e)所示，坑孔35的底面形成得比第一凹槽31的底面更深(更靠背面一侧)。坑孔35的底面配置于框体10的高度方向的中央处。
如图3所示，在后侧的横框部11的正面10a形成有左、右两个第一凹槽31、31。后侧的横框部11的两个第一凹槽31、31以框体10的中央为对称点，处于与前侧的横框部11的两个第一凹槽31、31呈点对称的关系。
在左侧的纵框部12的正面10a形成有第二凹槽32。第二凹槽32在前后方向上呈直线状延伸。此外，第二凹槽32形成在纵框部12的正面10a上的左右方向的中央处。
左侧的纵框部12的第二凹槽32配置于比纵框部12的前后方向的中央更靠前侧。在将通孔20投影到框体10的正面10a时，通孔20配置在第二凹槽32的后侧。
此外，在左侧的第二凹槽32的后端部处形成有坑孔35。第二凹槽32的坑孔35为与第一凹槽31的坑孔35相同的形状。
在右侧的纵框部12的正面10a形成有第二凹槽32。右侧的纵框部12的第二凹槽32以框体10的中央为对称点，处于与左侧的纵框部12的第二凹槽32呈点对称的关系。
在框体10的前、后、左、右的角部的正面10a分别形成有第三凹槽33。第三凹槽33沿框体10的角部弯曲成直角。此外，第三凹槽33形成在纵框部10的正面10a的内外方向的中央处。
左前的第三凹槽33遍及左侧的纵框部12、框体10的左前角部及前侧的横框部11而形成。
左前的第三凹槽33的形成于前侧的横框部11的部位形成得比形成于左侧的纵框部12的部位大。
在左侧的纵框部12处，第二凹槽32和左前的第三凹槽33在前后方向上空开间隔地配置。
在左前的第三凹槽33的延长方向的中间部(横框部11的部位)形成有坑孔35。左前的第三凹槽33的坑孔35为与第一凹槽31的坑孔35相同的形状。
左后的第三凹槽33遍及左侧的纵框部12、框体10的左后角部及后侧的横框部11而形成。
左后的第三凹槽33的形成于左侧的纵框部12的部位形成得比形成于后侧的横框部11的部位小。
在左侧的纵框部12处，第二凹槽32和左后的第三凹槽33夹着纵框部12的前后方向的中央而配置。
在将通孔20投影到纵框部12的正面10a时，通孔20配置于前后相邻的第二凹槽32与左后的第三凹槽33之间。
在左后的第三凹槽33的延长方向的中间部(纵框部12的部位)形成有坑孔35。左后的第三凹槽33的坑孔35为与第一凹槽31的坑孔35相同的形状。
右前的第三凹槽33遍及右侧的纵框部12、框体10的右前角部及前侧的横框部11而形成。此外，右后的第三凹槽33遍及右侧的纵框部12、框体10的右后角部及后侧的横框部11而形成。
右侧的前后的第三凹槽33、33以框体10的中央为对称点，处于与左侧的前后的第三凹槽33、33呈点对称的关系。
正面侧的抽吸孔50从框体10的外周面10c贯通至正面侧的各坑孔35的内周面。正面侧的抽吸孔50经由坑孔35而与正面侧的凹槽31～33连通。
在框体10上沿框体10的周向并排设置有十个正面侧的抽吸孔50。各抽吸孔50以大致相等的间隔配置，且在框体10的各边上至少配置有一个抽吸孔50。各抽吸孔50分别与各凹槽31～33的各坑孔35连通。这样，一个正面侧的抽吸孔50与正面侧的凹槽31～33中的一个连通。
如图5(a)所示，正面侧的通孔50配置于比框体10的高度方向的中央处更靠正面侧。正面侧的抽吸孔50的下部配置于通孔20的左右方向的侧方。
此外，如图5(e)所示，从框体10的正面10a至正面侧的抽吸孔50的壁厚形成得比正面侧的凹槽31的深度大。
如图4所示，在框体10的背面10b，沿框体10的周向并排设置有十个背面侧的凹槽41～43。
各背面侧的凹槽41～43为将形成于框体10的正面10a的各正面侧的凹槽31～33(参照图3)整体前后翻转后的形状。
在前、后的横框部11的背面10b形成有左、右两个第一凹槽41、41。此外，在左、右的纵框部12、12的背面10b形成有第二凹槽42。此外，在框体10的前、后、左、右的角部的背面10b分别形成有第三凹槽43。
在框体10上，与正面侧的抽吸孔50同样地，沿框体10的周向并排设置有十个正面侧的抽吸孔60。各抽吸孔60以大致相等的间隔配置，且在框体10的各边上配置有至少一个抽吸孔60。
背面侧的抽吸孔60从框体10的外周面10c贯通至背面侧的凹槽41～43的坑孔45的内周面。背面侧的抽吸孔60经由坑孔45而与背面侧的凹槽41～43连通。
如图5(a)所示，背面侧的通孔60配置于比框体10的高度方向的中央更靠背面侧。背面侧的抽吸孔60的上部配置于通孔20的左右方向的侧方。
此外，如图5(b)所示，从框体10的背面10b至背面侧的抽吸孔60的壁厚形成得比背面侧的凹槽41的深度大。
如图3所示，在框体10中，投影到框体10的正面10a上的背面侧的抽吸孔60、背面侧的坑孔45及通孔20配置在相邻的正面侧的凹槽31～31彼此之间。
在横框部11处，通孔20配置在正面侧的第一凹槽31、31彼此之间。
此外，在横框部11处，背面侧的抽吸孔60及坑孔45配置在一个正面侧的第一凹槽31与通孔20之间(参照图5(a))。
此外，在横框部11处，背面侧的抽吸孔60及坑孔45配置在正面侧的第一凹槽31与正面侧的第三凹槽33之间(参照图5(a))。
在纵框部12处，通孔20配置在正面侧的第二凹槽32与正面侧的第三凹槽33之间。
此外，在纵框部12处，背面侧的抽吸孔60及背面侧的坑孔45配置在正面侧的第三凹槽33与通孔20之间。
此外，在纵框部12处，背面侧的抽吸孔60及背面侧的坑孔45配置在正面侧的第二凹槽32与正面侧的第三凹槽33之间。
如图4所示，在框体10中，投影到框体10的背面10b上的正面侧的抽吸孔50、正面侧的坑孔35及通孔20配置在相邻的背面侧的凹槽41～43彼此之间。
在横框部11处，通孔20配置在背面侧的第一凹槽41、41彼此之间。
此外，在横框部11处，正面侧的抽吸孔50及坑孔35配置在一个正面侧的第一凹槽41与通孔20之间(参照图5(a))。
此外，在横框部11处，正面侧的抽吸孔50及坑孔35配置在背面侧的第一凹槽41与背面侧的第三凹槽43之间(参照图5(a))。
在纵框部12处，通孔20配置在背面侧的第二凹槽42与背面侧的第三凹槽43之间。
此外，在纵框部12处，正面侧的抽吸孔50及正面侧的坑孔35配置在背面侧的第三凹槽43与通孔20之间。
此外，在纵框部12处，正面侧的抽吸孔50及正面侧的坑孔35配置在背面侧的第二凹槽42与背面侧的第三凹槽43之间。
夹具孔70是形成于框体10的外周面10c的有底的圆形孔。在制造支承框1A时、或是使用表皮P(参照图1)时，对支承框1A进行保持的把持装置的夹具(销)被插入到夹具孔70中。
在本实施方式中，如图5(a)所示，夹具孔70配置在框体10的高度方向的中央处，但夹具孔70的高度并不局限于此，可根据所使用的夹具来设定夹具孔70的高度和形状。
如图3所示，在本实施方式中，夹具孔70形成在前后的横框部11、11的左、右两端部。即，在支承框1A的前、后、左、右形成有四个夹具孔70。
当利用把持装置对支承框1A进行保持时，夹具(销)被插入到各夹具孔70中。此时，横框部11通过夹具而被压入到框体10的内侧，在横框部11上朝向框体10的内侧产生挠曲。
在本实施方式中，夹具孔70形成于横框部11的左、右两端部，因此，左、右的夹具孔70、70间的间隔会变大。因而，当通过夹具对支承框1A进行保持时，能抑制横框部11的挠曲。
另外，在从框体10的左、右的侧缘部至夹具孔70的中心位置的距离设定为框体10的左右方向的长度的15％以内的情况下，能有效地抑制横框部11的挠曲。
接着，如图2所示，对将表皮覆膜2及玻璃基板M粘接在支承框1A上的操作进行说明。
首先，将粘接剂涂覆在框体10的正面10a上，以在框体10的正面10a上形成粘接层4。此时，粘接层4并没有进入各正面侧的凹槽31～33(参照图3)及各坑孔35。
接着，将表皮覆膜2的强化框3与粘接层4重叠。藉此，各正面侧的凹槽31～33(参照图3)被表皮覆膜2填塞。
此外，将粘接剂涂覆于框体10的背面10b，以在框体10的背面10b上形成粘接层5。此时，粘接层5并没有进入各背面侧的凹槽41～43(参照图4)及各坑孔45。
接着，将基板M的正面Ma与粘接层5重叠。藉此，各背面侧的凹槽41～43(参照图4)被玻璃基板M填塞。
将抽吸管6的前端部分别与各抽吸孔50、60的外周面10c侧的开口部连接。各抽吸管6与未图示的吸气装置连结。
当通过吸气装置从各抽吸孔50抽吸各正面侧的凹槽31～33(参照图3)内的空气时，各正面侧的凹槽31～33内会被减压，从而表皮覆膜2会按压于框体10的正面10a。藉此，表皮覆膜2隔着粘接层4粘接于框体10的正面10a，从而形成表皮P。
此外，当通过吸气装置从各抽吸孔60对各背面侧的凹槽41～43(参照图4)内的空气进行抽吸时，各背面侧的凹槽41～43内会被减压，从而玻璃基板M被按压到框体10的背面10b。藉此，玻璃基板M隔着粘接层5粘接于框体10的背面10b，从而表皮P粘接于玻璃基板M。
这样，当将表皮P粘接于玻璃基板M时，支承框1A会夹在表皮覆膜2与玻璃基板M之间，表皮覆膜2配置在远离玻璃基板M的正面Ma的位置处。
如图3所示，在表皮P中，支承框1A的框体10形成有通孔20。因而，即使在通过表皮覆膜2及玻璃基板M将框体10的正面、背面填塞的状态下，框体10的内部空间也经由通孔20而与外部空间连通，因此，能防止框体10的内部空间与外部空间之间产生压力差。因而，本实施方式的表皮P适合于在真空状态下使用的情况。
如图2所示，在以上这样的支承框1A中，通过对各正面侧的凹槽31～33(参照图3)内进行减压，从而能将表皮覆膜2按压到框体10的正面10a上。藉此，由于在将表皮覆膜2粘接于框体10时，无需将其它部件按压到表皮覆膜2，因此，能防止表皮覆膜2受到损伤。因而，即使在表皮覆膜2较薄的情况下，也能将表皮覆膜2粘接于框体10。
此外，在本实施方式的支承框1A中，通过对各背面侧的凹槽41～43进行减压，从而能将玻璃基板M按压于框体10的背面10b。藉此，在将玻璃基板M粘接于框体10时，由于无需将其它部件按压到玻璃基板M，因此，能防止玻璃基板M受到损伤。
在本实施方式的支承框1A中，如图3及图4所示，多个正面侧的凹槽31～33及背面侧的凹槽41～44沿框体的周向并排设置。通过这种结构，能缩短从凹槽31～33、41～43的端部至抽吸孔50、60的距离。
此外，在抽吸孔50、60与凹槽31～33、41～43的延长方向的中间部连通的情况下，能缩短从凹槽31～33、41～43的两端部至抽吸孔50、60的距离。
藉此，由于在经由抽吸孔50、60对凹槽31～33、41～43内的空气进行抽吸时，凹槽31～33、41～43内产生的压力损失会变小，因此，能高效地对凹槽31～33、41～43内进行减压。
在本实施方式的支承框1A中，在凹槽31～33、41～43的底面形成有有底的坑孔35、45，抽吸孔50、60开口于所述坑孔35、45的内周面(参照图5(b)及图5(e))。通过这种结构，能够将抽吸孔50、60的直径形成得比凹槽31～33、41～43的深度大，因此，能提高抽吸效率。
在本实施方式的支承框1A中，由于多个抽吸孔50、60形成于框体10的各边，因此，能使抽吸力平衡性好地作用于框体10的正面10a整体及背面10b整体。因而，能够将表皮覆膜2同样地按压于框体10的正面10a整体，并且能够平衡性好地将玻璃基板M按压于框体10的背面10b整体。
在本实施方式的支承框1A中，正面侧的抽吸孔50形成于相邻的背面侧的凹槽41～43彼此之间，背面侧的抽吸孔60形成于相邻的正面侧的凹槽31～33彼此之间。这样，构造成抽吸孔50、60与凹槽31～33、41～43在正、背面方向上不发生重叠。
此外，在本实施方式的支承框1A中，通孔20形成在框体10的周向上相邻的凹槽31～33、41～43彼此之间，并且构造成通孔20与凹槽31～33、41～43以在正、背面方向上不发生重叠。
因而，在支承框1A中，即使框体10的壁厚在形成有通孔20或抽吸孔50、60的部位处变大，也能充分地确保框体10的强度。
以上，虽然对本发明的实施方式进行了说明，但本发明并不局限于所述实施方式，能在不脱离其宗旨的范围内进行适当变更。
在本实施方式中，在框体10的正面10a上形成有十个凹槽31～33，在框体10的背面10b上形成有十个凹槽41～43，但凹槽31～33、41～43的个数并不局限于此。
例如，也可以如图6所示的支承框1B那样，在框体10的正面10a上形成八个凹槽31、33，在框体10的背面形成八个凹槽41、43。在这样的结构中，也将正面侧的抽吸孔50配置于相邻的背面侧的凹槽41、43彼此之间，并且将背面侧的抽吸孔60配置于相邻的正面侧的凹槽31、33彼此之间。此外，通孔20形成在框体10的周向上相邻的凹槽31、33、41、43彼此之间。
此外，也可以如图7所示的支承框1C那样，在框体10的正面10a上形成四个凹槽34，在框体10的背面上形成四个凹槽44。在这样的结构中，也将正面侧的抽吸孔50配置于相邻的背面侧的凹槽44、44之间，并且将背面侧的抽吸孔60配置于相邻的正面侧的凹槽33、33彼此之间。此外，通孔20形成在框体10的周向上相邻的凹槽34、44彼此之间。
此外，在本实施方式中，如图3及图4所示，正面侧的凹槽31～33和背面侧的凹槽41～43是相同数量，但正面侧的凹槽31～33和背面侧的凹槽41～43也可以是不同数量。此外，也可以在框体10的正面10a及背面10b上形成一个凹槽。
此外，凹槽的配置并不局限于此，但像本实施方式这样，在框体10的角部形成第三凹槽33、43的情况下，能使表皮覆膜2(参照图1)的角部及玻璃基板M(参照图1)的角部可靠地粘接于框体10。
此外，在本实施方式中，如图3及图4所示，一个抽吸孔50、60与凹槽31～33、41～43中的一个连通，但也可以使多个抽吸孔50、60与凹槽31～33、41～43中的一个连通。
此外，如图8(a)所示，也可以将抽吸孔50、60形成在框体10的高度方向的中央处。在上述结构中，由于能均等地确保从抽吸孔50、60的内周面(孔壁面)至框体10的正面10a的壁厚和从抽吸孔50、60的内周面(孔壁面)至框体10的背面10b的壁厚，因此，能平衡性好地提高支承框1A向正面侧及背面侧弯曲的弯曲强度。
此外，也可以如图8(b)所示，将正面侧的坑孔35的底面35a形成在比抽吸孔50更靠框体10的背面10b一侧，如图8(c)所示，将背面侧的坑孔45的底面45a形成在比抽吸孔60更靠框体10的正面10a一侧。
这样，通过将坑孔35、45的底面35a、45a配置在比抽吸孔50、60更深的位置处，从而能使抽吸孔50、60的轴截面整体可靠地开口于坑孔35、45的内周面。
此外，如图5(a)所示，在本实施方式中，形成有圆形的夹具孔70，但也可以如图9(a)所示的夹具孔70A那样，是沿框体10的周向(左右方向)延伸的长圆形的长孔。在这种结构中，如图9(b)所示，夹具(销)80也形成为长圆形的截面形状。
此外，在将支承框1A从玻璃基板M(参照图1)剥离时，将夹具80插入支承框1A的夹具孔70A，并通过夹具80将使支承框1A与玻璃基板M分开的力施加于支承框1A。此时，由于夹具孔70A的内周面的平面与夹具80的外周面的平面面接触，来自夹具80的力并非集中于一个点，因此，能抑制支承框1A的变形。
此外，也可以如图10所示在框体10的外周面10c形成七个夹具孔71～77。另外，图10所示的各夹具孔71～77形成为长圆形的长孔，但也可以为圆形的夹具孔。
在上述结构中，第一夹具孔71形成在框体10的四个角部中的一个(左前的角部)处。
此外，第二夹具孔72形成在前侧的横框部11的左端部，第四夹具孔74形成在前侧的横框部11的右端部。
此外，第五夹具孔75形成在后侧的横框部11的左端部，第七夹具孔77形成在后侧的横框部11的右端部。
此外，第三夹具孔73形成在左侧的纵框部12的前后方向的中央处，第六夹具孔76形成在右侧的纵框部12的前后方向的中央处。
如上所述，在将具有七个夹具孔71～77的支承框1A从玻璃基板M(参照图1)剥离时，将夹具插入各夹具孔71～77中，并最先将角部的第一夹具孔71上拉。接着，将夹具插入最接近第一夹具孔71的第二夹具孔72中并上拉。然后，通过按照靠近第二夹具孔71的顺序依次上拉第三夹具孔73、第四夹具孔74、第五夹具孔75、第六夹具孔76、第七夹具孔77，从而能在抑制支承框1A的变形的同时将支承框1A从玻璃基板M(参照图1)剥离。
符号说明
1A～1C 支承框；
2 表皮覆膜；
4 粘接层
5 粘接层
10 框体；
10a 正面；
10b 背面；
11 横框部；
12 纵框部；
20 通孔；
31 正面侧的第一凹槽；
32 正面侧的第二凹槽；
33 正面侧的第三凹槽；
35 正面侧的坑孔；
41 背面侧的第一凹槽；
42 背面侧的第二凹槽；
43 背面侧的第三凹槽；
45 背面侧的坑孔；
50 正面侧的抽吸孔；
60 背面侧的抽吸孔；
70～77 夹具孔；
80 夹具；
M 玻璃基板；
P 表皮。

Claims (16)

1.一种表皮用的支承框，具有铝合金制的框体，
在所述框体的正面粘接有表皮覆膜，在所述框体的背面粘接有玻璃基板，
其特征在于，
在所述框体的正面形成有正面侧的凹槽，所述正面侧的凹槽沿着所述框体的周向延伸，
并且形成有正面侧的抽吸孔，所述正面侧的抽吸孔从所述框体的外周面直至所述正面侧的凹槽的内表面。
2.如权利要求1所述的表皮用的支承框，其特征在于，
多个所述正面侧的凹槽在所述框体的周向上并排设置，
所述正面侧的抽吸孔与各所述正面侧的凹槽连通。
3.如权利要求1或2所述的表皮用的支承框，其特征在于，
在所述框体的背面形成有背面侧的凹槽，所述背面侧的凹槽沿着所述框体的周向延伸，
并且形成有背面侧的抽吸孔，所述背面侧的抽吸孔从所述框体的外周面直至所述背面侧的凹槽的内表面。
4.如权利要求3所述的表皮用的支承框，其特征在于，
多个所述背面侧的凹槽在所述框体的周向上并排设置，
所述背面侧的抽吸孔与各所述背面侧的凹槽连通。
5.如权利要求2所述的表皮用的支承框，其特征在于，
在所述框体的背面，沿着所述框体的周向延伸的多个背面侧的凹槽在所述框体的周向上并排设置，
形成有背面侧的抽吸孔，所述背面侧的抽吸孔从所述框体的外周面直至各所述背面侧的凹槽的内表面，
所述正面侧的抽吸孔形成在相邻的所述背面侧的凹槽彼此之间，
所述背面侧的抽吸孔形成在相邻的所述正面侧的凹槽彼此之间。
6.如权利要求5所述的表皮用的支承框，其特征在于，
在所述凹槽的底面形成有有底的坑孔，
所述抽吸孔开口于所述坑孔的内周面。
7.如权利要求6所述的表皮用的支承框，其特征在于，
所述坑孔开口于所述框体的正面侧和背面侧的一方，
所述坑孔的底面形成在比所述抽吸孔更靠所述框体的正面侧和背面侧的另一方。
8.如权利要求1所述的表皮用的支承框，其特征在于，
所述抽吸孔形成在所述框体的高度方向的中央处。
9.如权利要求2所述的表皮用的支承框，其特征在于，
至少一个所述凹槽在所述凹槽的延长方向的中间部处与所述抽吸孔连通。
10.如权利要求4所述的表皮用的支承框，其特征在于，
至少一个所述凹槽在所述凹槽的延长方向的中间部处与所述抽吸孔连通。
11.如权利要求2所述的表皮用的支承框，其特征在于，
形成有通孔，所述通孔从所述框体的外周面直至内周面，
所述通孔形成在所述框体的周向上相邻的所述凹槽彼此之间。
12.如权利要求4所述的表皮用的支承框，其特征在于，
形成有通孔，所述通孔从所述框体的外周面直至内周面，
所述通孔形成在所述框体的周向上相邻的所述凹槽彼此之间。
13.如权利要求1所述的表皮用的支承框，其特征在于，
在所述框体的各边形成有多个所述正面侧的抽吸孔。
14.如权利要求1所述的表皮用的支承框，其特征在于，
所述框体包括前后一对横框部和左右一对纵框部，
在所述框体的外周面形成有多个夹具孔，
所述夹具孔形成在两个所述横框部的两端部。
15.如权利要求1所述的表皮用的支承框，其特征在于，
在所述框体的外周面形成有多个夹具孔，
所述夹具孔是沿所述框体的周向延伸的长孔。
16.如权利要求1所述的表皮用的支承框，其特征在于，
所述框体包括前后一对横框部和左右一对纵框部，
在所述框体的外周面形成有多个夹具孔，
所述夹具孔形成于两个所述横框部，
并且形成在所述框体的四个角部中的至少一个处。
CN201580026872.8A 2014-05-26 2015-05-11 表皮用的支承框 Active CN106687860B (zh)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014107767 2014-05-26
JP2014-107767 2014-05-26
JP2015-024599 2015-02-10
JP2015024599A JP6423730B2 (ja) 2014-05-26 2015-02-10 ペリクル用の支持枠
PCT/JP2015/063505 WO2015182362A1 (ja) 2014-05-26 2015-05-11 ペリクル用の支持枠

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN106687860A true CN106687860A (zh) 2017-05-17
CN106687860B CN106687860B (zh) 2020-07-03

Family

ID=54698702

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201580026872.8A Active CN106687860B (zh) 2014-05-26 2015-05-11 表皮用的支承框

Country Status (7)

Country Link
US (1) US9841670B2 (zh)
EP (1) EP3151065A4 (zh)
JP (1) JP6423730B2 (zh)
KR (1) KR102327470B1 (zh)
CN (1) CN106687860B (zh)
TW (1) TWI654482B (zh)
WO (1) WO2015182362A1 (zh)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6275270B2 (ja) * 2014-09-19 2018-02-07 三井化学株式会社 ペリクル、その製造方法及び露光方法
JP6367342B2 (ja) * 2014-09-19 2018-08-01 三井化学株式会社 ペリクル、ペリクルの製造方法及びペリクルを用いた露光方法
JP6274079B2 (ja) * 2014-11-04 2018-02-07 日本軽金属株式会社 ペリクル用支持枠および製造方法
JP2016139103A (ja) * 2015-01-29 2016-08-04 日本軽金属株式会社 ペリクル用支持枠
KR20170059526A (ko) * 2015-11-20 2017-05-31 삼성디스플레이 주식회사 마스크 프레임 조립체, 마스크 프레임 조립체 제조 방법 및 표시 장치 제조 방법
CN108473810A (zh) 2016-01-26 2018-08-31 Swimc有限公司 耐损伤涂层
US10126644B2 (en) * 2016-02-09 2018-11-13 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Pellicle for advanced lithography
JP6706575B2 (ja) * 2016-12-22 2020-06-10 信越化学工業株式会社 ペリクルフレーム及びこれを用いたペリクル
US11415878B2 (en) * 2020-09-15 2022-08-16 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Pellicle frame with stress relief trenches

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6055040A (en) * 1992-07-13 2000-04-25 Intel Corporation Pellicle frame
JP2001312048A (ja) * 2000-04-28 2001-11-09 Mitsui Chemicals Inc ペリクル
US20080213679A1 (en) * 2007-03-01 2008-09-04 Nikon Corporation Pellicle frame apparatus, mask, exposing method, exposure apparatus, and device fabricating method
CN102782576A (zh) * 2010-03-10 2012-11-14 旭化成电子材料株式会社 大型膜用框体及大型膜
CN106233201A (zh) * 2014-05-02 2016-12-14 三井化学株式会社 防护膜组件框、防护膜组件及其制造方法、曝光原版及其制造方法、曝光装置以及半导体装置的制造方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61245163A (ja) * 1985-04-23 1986-10-31 Nippon Kogaku Kk <Nikon> マスク保護装置
US4833051A (en) 1984-08-20 1989-05-23 Nippon Kogaku K.K. Protective device for photographic masks
JP3027470B2 (ja) * 1992-03-11 2000-04-04 旭化成電子株式会社 ペリクルの製造方法
JP3279933B2 (ja) * 1996-07-19 2002-04-30 信越化学工業株式会社 リソグラフィー用ペリクルの製造方法
US6264773B1 (en) * 1998-09-01 2001-07-24 Mark Damian Cerio Apparatus and method for temporary and permanent attachment of pellicle frame to photomask substrate
JP2003107678A (ja) * 2001-09-27 2003-04-09 Mitsui Chemicals Inc ペリクル
JP2006215487A (ja) * 2005-02-07 2006-08-17 Tekkusu Iijii:Kk ペリクル
JP4608638B2 (ja) * 2005-06-28 2011-01-12 レーザーテック株式会社 ペリクル装着装置、ペリクル装着方法及びパターン基板の製造方法
US8018578B2 (en) 2007-04-19 2011-09-13 Asml Netherlands B.V. Pellicle, lithographic apparatus and device manufacturing method

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6055040A (en) * 1992-07-13 2000-04-25 Intel Corporation Pellicle frame
JP2001312048A (ja) * 2000-04-28 2001-11-09 Mitsui Chemicals Inc ペリクル
US20080213679A1 (en) * 2007-03-01 2008-09-04 Nikon Corporation Pellicle frame apparatus, mask, exposing method, exposure apparatus, and device fabricating method
CN102782576A (zh) * 2010-03-10 2012-11-14 旭化成电子材料株式会社 大型膜用框体及大型膜
CN106233201A (zh) * 2014-05-02 2016-12-14 三井化学株式会社 防护膜组件框、防护膜组件及其制造方法、曝光原版及其制造方法、曝光装置以及半导体装置的制造方法

Also Published As

Publication number Publication date
TW201546539A (zh) 2015-12-16
TWI654482B (zh) 2019-03-21
JP2016006481A (ja) 2016-01-14
KR102327470B1 (ko) 2021-11-16
EP3151065A1 (en) 2017-04-05
US20170212418A1 (en) 2017-07-27
US9841670B2 (en) 2017-12-12
CN106687860B (zh) 2020-07-03
WO2015182362A1 (ja) 2015-12-03
EP3151065A4 (en) 2018-05-09
JP6423730B2 (ja) 2018-11-14
KR20170020325A (ko) 2017-02-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN106687860A (zh) 表皮用的支承框
CN105118391B (zh) 用于显示面板与盖板的装配方法及装置
US10739081B2 (en) Manufacturing method of vapor chamber water-filling section sealing structure
KR20110080425A (ko) 유리 패널의 배기구 형성 방법 및 이를 이용하여 제조한 유리 패널 제품
CN107077062A (zh) 表皮用支承框及制造方法
CN107209452A (zh) 表皮用支承框
CN104728592B (zh) 用于制造空心型材的方法和空心型材
US11114581B2 (en) Method for producing solar cell module
CN1853851A (zh) 热管压合封口方法及其结构
CN104597637B (zh) 液晶显示屏的制备方法
KR101192028B1 (ko) 유리 패널의 배기구 형성 방법 및 이를 이용하여 제조한 유리 패널 제품
CN206773339U (zh) 一种基于eled结构的液晶显示器
CN102815874A (zh) 一种复合真空玻璃
CN109872633B (zh) 可弯折的oled显示器及其制造方法
KR102423119B1 (ko) 패드 이탈을 방지한 케이스 탑 및 이를 포함하는 디스플레이 장치
CN1707741A (zh) 显示装置、显示模件以及显示面板
CN106678367B (zh) 用于密封多结合面的密封结构
CN210457971U (zh) 一种真空玻璃
CN115782211A (zh) 贴合装置
CN203430304U (zh) 一种铝塑门窗框结构
TW201821287A (zh) 剝離可撓性基板的方法
CN1209786C (zh) 阴极射线管用玻璃锥及阴极射线管用玻璃壳
CN104401855A (zh) 一种电梯轿顶
CN207846797U (zh) 一种铝包钢幕墙结构
CN205955564U (zh) 带有嵌件的中空玻璃

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant