CN106460177A - 镀品的制造方法 - Google Patents

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Abstract

一种镀品的制造方法，用于制造在玻璃基材的表面形成有镀膜图案的镀品，所述制造方法的特征在于，具备：第一工序，向所述玻璃基材的表面的一部分区域照射脉冲激光；第二工序，在所述玻璃基材的表面附着无电解镀催化剂；第三工序，在所述玻璃基材中，有选择地使附着在未被照射所述脉冲激光的部位的所述催化剂失活、或有选择地将所述催化剂去除；第四工序，在第三工序之后进行无电解镀，只在照射了所述脉冲激光的区域有选择地形成镀膜。由此，能够简单地制造在玻璃基材的表面形成有密合性良好的镀膜图案的镀品。

Description

镀品的制造方法
技术领域
本发明涉及在玻璃基材的表面形成有镀膜图案的镀品的制造方法。
背景技术
作为家电或运输设备等制品所使用的电路的基材，目前使用酚醛纸基材、环氧纸基材、环氧玻璃基材、陶瓷基材等。这些基材的电气特性、机械特性、价格各不相同，因此要根据产品所要求的性能或成本分别使用。现在，玻璃基材作为电路基板而受到关注，正在进行在玻璃基板的表面形成金属覆膜图案的尝试。与目前使用的基材相比，玻璃基材具有优异的热稳定性，并且具有便宜的优点。
在专利文献1中记载了一种选择性镀方法，该方法是向作为被镀对象物的绝缘性基板的表面照射能量束，在基板表面的规定部分进行该能量束的照射后，使以化合物的状态含有在化学镀时成为析出核的物质的液体接触上述绝缘性基板的表面，清洗所述基板，将残余的上述流体去除，接下来使上述能量束的照射面与规定的化学镀液接触，通过化学镀使金属在上述被附着物质部分析出。由此，能够制作复杂且微细的金属析出图案。
但是，在专利文献1记载的镀方法中，关于在玻璃基材的表面形成金属覆膜图案的情况没有记载也没有教导。
在专利文献2中，记载了一种在绝缘体的表面形成金属配线的金属配线形成方法，在该金属配线形成方法中，作为激光将脉冲宽度为皮秒等级的皮秒激光或飞秒等级的飞秒激光向对于上述激光的波长透明且含有银离子的绝缘体的表面照射，在该照射区域中将银离子还原成银原子，从而在该照射区域生成银原子，将被照射上述激光且在该照射区域生成了银原子的上述绝缘体在维持在规定温度的无电解镀液中浸泡规定时间，以该银原子作为催化剂核使金属析出，由此，在上述绝缘体上沉积金属膜，形成金属配线。在实施例中，记载了使用感光性玻璃作为绝缘体的例子。由此，能够以简单的处理且通过较少的工序数形成金属配线。
但是，在专利文献2记载的镀方法中，必须使用特殊的玻璃基材，该玻璃基材与目前使用的基材相比价格较高，所以在广泛普及使用该基材的电路方面存在限度。
在先技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开昭60－149783号公报
专利文献2：日本特开2008－41938号公报
发明内容
发明要解决的课题
本发明就是为了解决上述课题而做出的发明，其目的在于提供一种能够简单地制造在玻璃基材的表面形成有密合性良好的镀膜图案的镀品的方法。
用于解决课题的手段
上述课题能够通过提供下述镀品的制造方法来解决，即，一种在玻璃基材的表面形成有镀膜图案的镀品的制造方法，其特征在于，具备：第一工序，向上述玻璃基材的表面的一部分区域照射脉冲激光；第二工序，在上述玻璃基材的表面附着无电解镀催化剂；第三工序，在上述玻璃基材中，有选择地使附着在未被照射上述脉冲激光的部位的上述催化剂失活、或有选择地将上述催化剂去除；第四工序，在第三工序之后进行无电解镀，只在照射了上述脉冲激光的区域有选择地形成镀膜。
此时，优选上述脉冲激光的脉冲宽度为1×10－18～1×10－4秒。另外，优选上述镀膜为选自镍、铜、银、金、钯、铂、铑、钌、锡、铁、钴和它们的合金中的至少一种。
在第三工序中，优选使玻璃基材接触含有使上述催化剂失活的化合物或将上述催化剂去除的化合物的液体。
在第三工序中，优选使上述催化剂失活的化合物为硫化合物。此时，优选上述硫化合物是具有选自硫代羰基、硫醇基、硫醚基中的至少一种官能团的化合物。
另外，在第三工序中，优选将上述催化剂去除的化合物为螯形化合物或氰化物。此时，优选将上述催化剂去除的化合物为选自氨基酸、氨基醇、多胺、多元羧酸、多元酮中的至少一种的螯形化合物。
发明效果
根据本发明，能够简单的制造在玻璃基材的表面形成有密合性良好的镀膜图案的镀品。
附图说明
图1是表示脉冲激光的照射方法的一例的图。
图2是用显微镜拍摄的实施例1中的镀品的图像。
图3是用显微镜拍摄的实施例1中的拉伸试验后的外观的图像。
图4是用显微镜拍摄的实施例2中的镀品的图像。
图5是用显微镜拍摄的比较例1中的镀品的图像。
具体实施方式
本发明涉及在玻璃基材的表面形成镀膜图案的镀品的制造方法。本发明的制造方法具备以下的第一～第四工序。下面，对各工序进行说明。
在第一工序中，向玻璃基材的表面的一部分照射脉冲激光。第一工序中所使用的玻璃基材的种类没有特别限定，可以举出钠钙玻璃、硼硅酸盐玻璃、石英玻璃等。这些玻璃基材可以根据镀品的用途适宜选择。在重视成本的情况下，钠钙玻璃较适合。在重视热稳定性的情况下，石英玻璃和硼硅酸盐玻璃较适合，石英玻璃更适合。在重视玻璃基材中所含的杂质量少的情况下，石英玻璃和硼硅酸盐玻璃较适合，石英玻璃更适合。玻璃基材的厚度没有特别限定，但通常为0.02～5mm。形状也没有特别限定。另外，还可以使用通过热处理提高了机械强度的玻璃基材。作为这种玻璃基材，可以举出：在将玻璃加热后，通过急剧冷却使表层附近产生压缩应力，由此而得到的物理强化玻璃；一边加热玻璃一边通过离子交换处理向玻璃表层导入离子半径大的碱离子，使玻璃表层附近产生压缩应力，由此而得到的化学强化玻璃。
本发明中，重要的是使用脉冲激光。使用脉冲激光时，即使如玻璃那样的透明基材也能够引起多光子吸收。激光的峰值功率(W)越大越容易引起多光子吸收。如果是相同的能量，则脉冲宽度越短，峰值功率(W)越大，因此优选脉冲宽度短。从这样的观点出发，优选脉冲激光的脉冲宽度(秒)为1×10－4秒以下，更优选1×10－7秒以下，进一步优选1×10－9秒以下，特别优选1×10－10秒以下。这样，通过极力缩短脉冲宽度，能够使激光的峰值功率非常高，从而能够引起多光子吸收。脉冲激光的脉冲宽度的下限值没有特别限定，但通常为1×10－18秒以上，最适合为1×10－15秒以上。而且，只要激光的加工点(焦点)被设定为玻璃基材的表面，就能够对玻璃基材的表面进行加工。
优选在加工点的平均输出为0.01～1000W。在加工点的平均输出不足0.01W的情况下，有可能得不到密合性良好的镀膜。另一方面，在加工点的平均输出超过1000W的情况下，对玻璃基材的损害变大。脉冲激光的重复频率没有特别限定，但通常为1KHz～1000MHz。
激光的种类也没有特别限定，可以使用YAG激光、纤维激光、半导体激光等固体激光；二氧化碳激光、受激准分子激光等气体激光。脉冲激光的波长没有特别限定，可以根据所使用的玻璃基材的种类等适宜设定，通常为100～12000nm。从脉冲振荡容易的观点出发，优选YAG激光，更优选钕YAG激光。在钕YAG激光中，产生被称为基本波(第1谐波)的1064nm的激光。通过使用波长变换装置，可以得到被称为第2谐波的波长532nm的激光、被称为第3谐波的波长355nm的激光、被称为第4谐波的266nm的激光。在本发明的制造方法中，可以根据目的而适宜选择上述第1～4谐波。
而且，向玻璃基材的表面的一部分照射脉冲激光。对玻璃基材照射脉冲激光的照射方法没有特别限定，可以举出例如图1所示的方法。图1是表示脉冲激光的照射方法的一例的图。如图1所示，在玻璃基材的表面设定照射区域。在以后的工序中，只在照射了脉冲激光的区域、即该照射区域有选择地形成镀膜。而且，从以St表示的点沿x方向(在图1中为右方向)以规定的扫描速度照射激光后，使激光沿y方向(在图1中为上方向)移动规定间隔，沿－x方向(在图1中为左方向)以规定的扫描速度照射激光后，再次使激光沿y方向移动规定间隔。照射点直径与激光束直径相对应，但照射点不必相互重叠，在照射点之间存在间隔也没关系。在该方法中，通过适宜调节扫描速度及间隔(间距间隔)，可以调节每单位面积的激光照射量。
从镀膜的密合性的观点出发，优选被照射脉冲激光的玻璃表面的算术平均粗糙度(Ra)为0.1μm以上，更优选为0.2μm以上。另一方面，若Ra的值过大，则镀品的强度就有可能降低，所以优选Ra为10μm以下，更优选为5μm以下。本说明书中的Ra是用依照JISB 0601(2001)的方法所得到的值。
接下来，在第二工序中，在玻璃基材的表面附着无电解镀催化剂。作为无电解镀催化剂，没有特别限定，只要是含有对无电解镀液具有催化剂作用的金属元素的催化剂即可。作为该金属元素，可以举出：钯(Pd)、银(Ag)、铜(Cu)、镍(Ni)、铝(Al)、铁(Fe)、钴(Co)、锌(Zn)、金(Au)、铂(Pt)、锡(Sn)等。这些金属元素可根据第四工序中所用的无电解镀液的种类适宜选择。而且，将玻璃基材在含有上述金属元素的水溶液中处理之后，在含有还原剂的水溶液中进行处理，能够使无电解镀催化剂活化。
接下来，在第三工序中，在上述玻璃基材中，有选择地使附着在未被照射上述脉冲激光的部位的上述催化剂失活，或者有选择地将上述催化剂去除。
在第三工序中去除上述催化剂的方法没有特别限定，还可以举出对玻璃基材实施超声波处理的方法或用流水冲洗玻璃基材的表面的方法。但是，从更加有选择地使附着在未被照射脉冲激光的部位的催化剂失活或将其去除的观点出发，优选使玻璃基材与含有使上述催化剂失活的化合物的液体接触的方法或者使玻璃基材与含有将上述催化剂去除的化合物的液体接触的方法。作为使玻璃基材与液体接触的方法，可以举出：将玻璃基材浸泡在含有使催化剂失活的化合物的液体中的方法、将玻璃基材浸泡在含有将催化剂去除的化合物的液体中的方法、在玻璃基材上涂敷含有使催化剂失活的化合物的液体的方法、在玻璃基材涂敷含有将催化剂去除的化合物的液体的方法。
在第三工序中，在使玻璃基材与含有使催化剂失活的化合物的液体接触的情况下，优选该化合物为硫化合物。本发明的发明人等准备附着有钯催化剂的玻璃基材，使用光电子分光装置(XPS)对向含有硫化合物的液体浸泡前的玻璃基材表面的化学组成和在含有硫化合物的液体中浸泡之后的玻璃基材表面的化学组成进行了分析。其结果发现，在含有硫化合物的液体中浸泡后，在基材表面仍存在有钯。另外，还发现，通过在含有硫化合物的液体中浸泡，源于钯的峰的位置发生了变化。本发明的发明人认为，该结果表示硫原子与钯配位，由此推定钯催化剂失活。
优选上述硫化合物为具有选自硫代羰基、硫醇基、硫醚基中的至少一种官能团的化合物。作为具有硫代羰基的硫化合物，可以举出硫脲等。作为具有硫醇基的硫化合物，可以举出三嗪硫醇、巯基苯并噻唑、巯基乙酸、硫氰酸等。作为具有硫醚基的硫化合物，可以举出二甲硫醚、甲硫氨酸等。
若含有硫化合物的液体的浓度过低，就有可能不能有选择地使催化剂失活。从这种观点出发，优选硫化合物的浓度为0.001ppm以上。另一方面，若硫化合物的浓度过高，附着在照射了脉冲激光的部位的催化剂也有可能失活。从这种观点出发，优选硫化合物的浓度为100ppm以下。
含有使上述催化剂失活的化合物的液体所使用的溶剂没有特别限定，通常为水或乙醇。在将玻璃基材浸泡在含有使催化剂失活的化合物的液体中的情况下，浸泡玻璃基材时的温度没有特别限定，通常为5～90℃。浸泡玻璃基材的时间也没有特别限定，通常为1秒～30分钟。作为在玻璃基材上涂敷含有使催化剂失活的化合物的液体的方法，可以举出通过喷涂法在玻璃基材上涂敷该液体的方法。
在第三工序中，在使玻璃基材与含有将催化剂去除的化合物的液体接触的情况下，优选该化合物为螯形化合物或氰化物。从可操作性的观点出发，优选将上述催化剂去除的化合物为选自氨基酸、氨基醇、多胺、多元羧酸、多元酮中的至少一种的螯形化合物。作为氨基酸，可以举出：丙氨酸、精氨酸、天门冬酰胺、天门冬氨酸、半胱氨酸、谷氨酰胺、谷氨酸、甘氨酸、组氨酸、异亮氨酸、亮氨酸、蛋氨酸、苯丙氨酸、脯氨酸、丝氨酸、苏氨酸、色氨酸、酪氨酸、缬氨酸等。作为氨基醇，可以举出三乙醇胺等。作为多胺，可以举出乙二胺等。作为多元羧酸，可以举出：柠檬酸、琥珀酸、马来酸、富马酸、酒石酸、酒石酸钾等。作为多元酮，可以举出乙酰丙酮等。
本发明的发明人准备了附着有钯催化剂的玻璃基材，使用光电子分光装置(XPS)对在含有螯形化合物的液体中浸泡前的玻璃基材表面的化学组成和浸泡含有螯形化合物的液体后的玻璃基材表面的化学组成进行了分析。其结果可知，通过在含有螯形化合物的液体中浸泡，基材表面的钯催化剂被去除。另外，使用ICP发光分析装置调查了浸泡过玻璃基材的液体，结果可知，在该液体中含有钯。
作为上述氰化物，可以举出氰化钾或氰化钠等。
若螯形化合物或氰化物的浓度过低，就有可能不能有选择地去除催化剂。从这种观点出发，优选螯形化合物或氰化物的浓度为0.001M以上。另一方面，若螯形化合物或氰化物的浓度过高，附着在照射过脉冲激光的部位的催化剂也有可能被去除。从这种观点出发，螯形化合物或氰化物的浓度优选为3M以下。
含有将上述催化剂去除的化合物的液体所使用的溶剂没有特别限定，通常为水或乙醇。浸泡玻璃基材时的温度没有特别限定，通常为5～90℃。浸泡玻璃基材的时间也没有特别限定，通常为1秒～30分钟。作为在玻璃基材上涂敷含有将催化剂去除的化合物的液体的方法，可以举出通过喷涂法在玻璃基材上涂敷液体的方法。
在第四工序中，在第三工序之后进行无电解镀，只在照射了上述脉冲激光的区域有选择地形成镀膜。这时，优选上述镀膜为选自镍、铜、银、金、钯、铂、铑、钌、锡、铁、钴及它们的合金中的至少一种。在此，上述合金是指含有它们中的至少一种金属元素50质量％以上的合金。
作为第四工序中使用的无电解镀，可以举出：无电解镀镍、无电解镀铜、无电解镀银、无电解镀金、无电解镀钯、无电解镀铂、无电解镀铑、无电解镀钌、无电解镀锡、无电解镀铁、无电解镀钴或它们的无电解镀合金。在此，上述无电解镀合金是指含有它们中的至少一种金属元素50质量％以上的无电解镀。也可以改变无电解镀的种类而进行多次该工序。
如以上的说明，根据本发明的制造方法，不必使用特殊的玻璃基材就能够在玻璃基材的表面正确地形成所要求的镀膜图案。如在后述的实施例中也证实的那样，若利用脉冲激光形成图案并在之后进行无电解镀处理，就能够在照射过激光的区域形成镀膜。但是，在未进行第三工序的情况下，不仅在照射过激光的区域形成了镀膜，在未照射激光的区域也形成有镀膜(比较例1)。如果使用本发明的制造方法，就能够有选择地使附着在未照射激光的部位的催化剂失活或有选择地将该催化剂去除，所以能够只在照射过激光的区域有选择地形成镀膜。
另外，用本发明的制造方法所形成的镀膜具有优异的密合性。近年来，随着制品的轻量化和高性能化，镀品所要求的性能也越发严格，正在追求覆膜图案更微细的镀品。但是，若图案的间距变得微细时，就会要求镀膜更高的密合性。因此，在得到具有微细的覆膜图案的镀品的情况下，使用本发明的制造方法的优点更多。
在本发明的制造方法中的第四工序之后，也可以还具备其他工序。作为该其他工序，可以举出电解镀工序或各种表面处理工序。作为电解镀，可以举出：电解镀镍、电解镀铜、电解镀银、电解镀金、电解镀钯、电解镀锡、电解镀铁、电解镀铋、电解镀铂、电解镀铑、电解镀钌、电解镀锌或它们的电解镀合金。在此，上述电解镀合金是指含有它们的至少一种金属元素50质量％以上的电解镀。作为各种表面处理工序，可以举出通过冷喷涂法喷出金属的工序或涂敷金属糊料的工序。此时所使用的金属为：铜、锡、金、银、镍、铁、钯、钌、铑、铱、铟、锌、铝、钨、铬、镁、钛、硅或它们的合金等。这些其他工序也可以进行多次，工序可以相同也可以不同。另外，在第四工序之后，也能够通过热处理提高玻璃基材的机械强度。
实施例
以下，使用实施例进一步详细地说明本发明，但本发明不限定于这些实施例。
实施例1
[激光照射]
(玻璃基材)
作为玻璃基材，准备长76mm×宽26mm×厚度1.1mm的钠钙玻璃(“Matsunami slideglass S7213”)。
(加工方法)
使用Coherent Japan Inc.制的脉冲振荡全固体激光“Talisker HE”。
波长：355nm
平均输出：2W
加工点的平均输出：0.8W
脉冲宽度：20皮秒
频率：50KHz
然后，通过图1所示的方法向玻璃基材照射脉冲激光。具体而言，在玻璃基材的表面设定20mm×10mm的照射区域。在该照射区域中，从以St表示的点沿x方向到照射区域的右端，以100mm/秒的扫描速度照射脉冲激光。然后，使脉冲激光沿y方向移动15μm，沿－x方向以100mm/秒的扫描速度照射脉冲激光，直至照射区域的左端。通过反复进行该操作，对上述照射区域整体照射脉冲激光。
照射脉冲激光后，观察玻璃基材的表面，结果可知，如图1所示，被加工为点(凹部)排列成行。测定一个点的直径，结果为点直径约为15μm。
[无电解镀]
(前处理)
将进行了激光加工的玻璃基材在保温于50℃的氢氧化钾水溶液(浓度：50g/L)中浸泡5分钟。然后，用离子交换水冲洗玻璃基材。接下来，将玻璃基材在保温于50℃的调节液体(浓度：50mL/L，上村工业株式会社制“THRU-CUP MTE-1-A”)中浸泡5分钟。然后，用离子交换水冲洗玻璃基材。
(无电解镀催化剂附着处理)
将进行了前处理的玻璃基材在室温的钯催化剂液(浓度：50mL/L，上村工业株式会社制“Activator A-10X”)中浸泡1分钟。其后，用离子交换水将玻璃基材冲洗三次。
(活化处理)
将附着了钯催化剂的玻璃基材在保温于50℃的次磷酸钠水溶液(浓度：0.27M)中浸泡30秒钟，使钯催化剂活化。然后，用离子交换水冲洗玻璃基材。
(催化剂失活处理)
将进行了活化处理的玻璃基材在保温于50℃的硫脲水溶液(浓度：0.1ppm)中浸泡1分钟，有选择地使附着在未照射脉冲激光的部位的钯催化剂失活。然后，用离子交换水将玻璃基材冲洗三次。
(无电解镀Ni处理)
将玻璃基材在保温于75℃的pH4.4的无电解Ni镀液中浸泡35分钟，进行无电解镀Ni处理，在玻璃基材的表面形成膜厚5μm的无电解Ni镀层。然后，用离子交换水将基材冲洗三次。无电解Ni镀液的组成如下所述。
·Electroplating Engineers of Japan Ltd.(EEJA)制“ELN240M2”：150mL/L
·Electroplating Engineers of Japan Ltd.(EEJA)制“ELN240M1”：50mL/L
·Electroplating Engineers of Japan Ltd.(EEJA)制“ELN240R3”：6mL/L
(置换镀Au处理)
将形成有Ni镀层的玻璃基材在保温于55℃的金镀液(EEJA制“PRECIOUSFABIGS8000SPF”)中浸泡10分钟，在Ni镀层之上形成厚度0.05μm的置换Au镀层，获得镀品。
[评价]
(表面观察)
用显微镜观察所得到的镀品的表面。将得到的图像示于图2。图2的1为玻璃基材，2为置换金镀膜。如图2所示，通过进行“催化剂失活处理”，只在照射过脉冲激光的区域有选择地形成了镀膜。
(密合性试验)
密合性试验按照JIS H8504中所记载的焊接试验方法进行。此时的L形金属件为板厚0.5mm的无氧铜板。而且，以使焊接部的面积为5mm×5m的方式挤压成型为规定的形状后，作为基底，实施了膜厚3μm的镀镍，然后实施了膜厚0.05μm镀金。另一方面，在镀品的表面涂敷焊料后，在300℃加热1分钟。然后，将L形金属件与镀品焊接在一起，得到试验片。将得到的试验片安装在Instron公司制的拉伸试验机“3382落地式试验系统”中，进行密合性试验。焊剂使用Tarutin Kester公司制的无铅焊料糊剂“TSC-254-5042SF12-1”。图3表示拉伸试验后的图像。如图3所示，镀膜与玻璃一起被剥掉。
实施例2
在“无电解镀催化剂付着处理”中，将在钯催化剂液中浸泡的时间变更为2分钟，代替“催化剂失活处理”而进行“催化剂去除处理”。在“催化剂去除处理”中，除了将进行了活化处理的玻璃基材在室温的甘氨酸水溶液(浓度：0.05M)中浸泡30秒钟以外，和实施例1同样地操作，得到镀品，用显微镜观察其表面。将得到的图像示于图4。图4的1为玻璃基材，2为置换Au镀膜。如图4所示，通过进行“催化剂去除处理”，只在照射过脉冲激光的区域有选择地形成了镀膜。而且，和实施例1同样地操作进行了密合性试验。其结果为，镀膜与玻璃一起被剥掉。
实施例3
除了将玻璃基材变更为76mm×26mm×1.1mm的硼硅酸盐玻璃(“Matsunami slideglass S1127”)以外，和实施例1同样地操作，得到镀品。然后，和实施例1同样地操作进行了密合性试验。其结果为，镀膜和玻璃一起被剥掉。
实施例4
将玻璃基材变为长70mm×宽30mm×厚度0.55mm的强化玻璃(AGC旭硝子制“Dragontrail”)，且在脉冲激光的照射中，将加工点的平均输出变为1.1W，将y方向的移动距离变为6μm，将扫描速度变为300mm/秒，除此以外，和实施例1同样地向玻璃基材照射脉冲激光。“Dragontrail”为化学强化后的玻璃，是将玻璃表面的Na+交换为K+的玻璃。
使用KEYENCE Corporation制的彩色3D激光显微镜“VK-9700”(观察倍率50倍)，通过依照JIS B 0601(2001)的方法测定照射了脉冲激光的部位的算数平均粗糙度(Ra)。其结果为，Ra为0.41μm。
测定表面粗糙度后，和实施例2同样地操作，在玻璃基材的表面形成镀膜。其结果为，只在照射过脉冲激光的区域有选择地形成了镀膜。然后，和实施例1同样地操作进行了密合性试验，结果为，镀膜与玻璃一起被剥掉。
实施例5
在脉冲激光的照射中，将加工点的平均输出变为1.1W，将y方向的移动距离变为10μm，将扫描速度变为50mm/秒，除此以外，和实施例4同样地操作，对玻璃基材照射脉冲激光。然后，和实施例4同样地操作，测定照射了脉冲激光的部位的算数平均粗糙度(Ra)。其结果是，Ra为2.81μm。
测定表面粗糙度后，和实施例2同样地操作，在玻璃基材的表面形成镀膜。其结果为，只在照射过脉冲激光的区域有选择地形成了镀膜。然后，和实施例1同样地操作进行了密合性试验，结果为，镀膜与玻璃一起被剥掉。
比较例1
除了不进行“催化剂失活处理”及“置换Au镀处理”以外，和实施例1同样地操作，得到镀品，用显微镜观察其表面。将得到的图像示于图5。图5的31为在照射过脉冲激光的部位形成的Ni镀膜，32为在玻璃基材表面的未照射脉冲激光的部位形成的Ni镀膜。如图5所示，如果没有进行“催化剂失活处理”或“催化剂去除处理”的任一处理，就在玻璃基材的整个面形成镀膜。另外，在未照射脉冲激光的部位形成的Ni镀膜很容易被透明胶带剥掉。
比较例2
在脉冲激光的照射中，将加工点的平均输出变为1W，将y方向的移动距离变为10μm，将扫描速度变为300mm/秒，除此以外，和实施例4同样地操作，向玻璃基材照射脉冲激光。然后，和实施例4同样地操作，测定照射了激光的部位的算数平均粗糙度(Ra)。其结果为，Ra为0.03μm。
测定表面粗糙度后，和实施例2同样地操作，在玻璃的表面形成镀膜。其结果为，虽然只在照射过脉冲激光的区域有选择地形成了镀膜，但该镀膜能够很容易被透明胶带剥掉。
符号说明
1 玻璃基材
2 置换Au镀膜
31 在照射了脉冲激光的部位形成的Ni镀膜
32 在玻璃基材表面的未照射脉冲激光的部位形成的Ni镀膜

Claims (8)

1.一种镀品的制造方法，用于制造在玻璃基材的表面形成有镀膜图案的镀品，所述制造方法的特征在于，具备：
第一工序，向所述玻璃基材的表面的一部分区域照射脉冲激光；
第二工序，在所述玻璃基材的表面附着无电解镀催化剂；
第三工序，在所述玻璃基材中，有选择地使附着在未被照射所述脉冲激光的部位的所述催化剂失活、或有选择地将所述催化剂去除；和
第四工序，在第三工序之后进行无电解镀，只在照射了所述脉冲激光的区域有选择地形成镀膜。
2.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于：
所述脉冲激光的脉冲宽度为1×10－18～1×10－4秒。
3.如权利要求1或2所述的制造方法，其特征在于：
所述镀膜为选自镍、铜、银、金、钯、铂、铑、钌、锡、铁、钴和它们的合金中的至少一种。
4.如权利要求1～3中任一项所述的制造方法，其特征在于：
在第三工序中，使玻璃基材接触含有使所述催化剂失活的化合物或将所述催化剂去除的化合物的液体。
5.如权利要求1～4中任一项所述的制造方法，其特征在于：
在第三工序中，使所述催化剂失活的化合物为硫化合物。
6.如权利要求5所述的制造方法，其特征在于：
所述硫化合物是具有选自硫代羰基、硫醇基、硫醚基中的至少一种官能团的化合物。
7.如权利要求1～4中任一项所述的制造方法，其特征在于：
在第三工序中，将所述催化剂去除的化合物为螯形化合物或氰化物。
8.如权利要求7所述的制造方法，其特征在于：
将所述催化剂去除的化合物为选自氨基酸、氨基醇、多胺、多元羧酸、多元酮中的至少一种螯形化合物。
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