CN105575850B - 基板液处理装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种提高来自液处理部的排气的气液分离性的基板液处理装置。本发明的基板液处理装置包括液处理部、第1排气管、以及第2排气管。液处理部用于使用处理液来对基板进行处理。第1排气管的至少一部分配置于比液处理部靠上方的位置。第2排气管的一端侧与液处理部相连接，用于利用排气机构经由第1排气管对液处理部进行排气。另外，第2排气管的另一端侧与第1排气管的配置于比液处理部靠上方的位置的部分相连接。

Description

基板液处理装置
技术领域
本发明涉及一种基板液处理装置。
背景技术
以往，公知有一种用于对硅晶圆、化合物半导体晶圆等基板进行液处理的基板液处理装置。
例如，公知有一种在液处理部的下方设有排气管的收纳空间的基板液处理装置，该排气管供来自液处理部的排气流动(参照专利文献1)。
专利文献1：日本特开2008－34490号公报
发明内容
发明要解决的问题
然而，在所述以往技术中，从提高来自液处理部的排气的气液分离性这点来看，存在进一步改进的余地。
例如，在所述以往技术中，在液处理部设置排液杯和排气杯，独立地自排液杯进行排液和自排气杯进行排气，由此提高了气液分离性。然而，在排气路径中有可能流入有例如雾沫。虽然能够通过例如在排气路径上设置雾沫收集器来在某一程度上抑制雾沫流入到排气路径中，但优选的是将流入到排气路径中的雾沫抑制得更少。
本发明的一技术方案的目的在于，提供一种能够提高来自液处理部的排气的气液分离性的基板液处理装置。
用于解决问题的方案
本发明的一技术方案的基板液处理装置包括液处理部、第1排气管、以及第2排气管。液处理部用于使用处理液来对基板进行处理。第1排气管的至少一部分配置于比液处理部靠上方的位置。第2排气管的一端侧与液处理部相连接，用于利用排气机构经由第1排气管对液处理部进行排气。另外，第2排气管的另一端侧与第1排气管的配置于比液处理部靠上方的位置的部分相连接。
发明的效果
采用一技术方案，能够提高来自液处理部的排气的气液分离性。
附图说明
图1是表示本实施方式的基板处理系统的概略结构的图。
图2是表示处理单元的概略结构的图。
图3是表示处理单元的排气路径的图。
图4是处理站的示意性立体图。
图5是处理站的示意性侧视图。
图6是处理站的示意性俯视图。
图7是排气切换单元的示意性立体图。
图8是排气切换单元的示意性立体图。
图9是表示排气切换单元的结构的图。
图10是表示外部气体导入部的结构的图。
图11是表示排气切换中的状态的图。
图12是流量调整处理的说明图。
图13是流量调整处理的说明图。
图14是表示在基板处理系统中执行的基板处理的处理步骤的一个例子的流程图。
图15是第1变形例的处理站的示意性侧视图。
图16是第2变形例的处理站的示意性俯视图。
具体实施方式
以下，参照附图来详细说明本申请所记载的基板液处理装置的实施方式。此外，本发明并不受以下所示的实施方式的限定。
图1是表示本实施方式的基板处理系统的概略结构的图。以下，为了使位置关系清楚，对互相正交的X轴、Y轴及Z轴进行规定，将Z轴正方向设为铅垂朝上方向。
如图1所示，基板处理系统1包括输入输出站2和处理站3。输入输出站2和处理站3相邻地设置。
输入输出站2包括承载件载置部11和输送部12。在承载件载置部11上载置有多个承载件C，该多个承载件C用于将多张基板、本实施方式中为半导体晶圆(以下称作晶圆W)以水平状态收纳。
输送部12与承载件载置部11相邻地设置，在输送部12的内部具有基板输送装置13和交接部14。基板输送装置13具有用于保持晶圆W的晶圆保持机构。另外，基板输送装置13能够在水平方向和铅垂方向上移动并以铅垂轴线为中心进行旋转，其使用晶圆保持机构在承载件C与交接部14之间输送晶圆W。
处理站3与输送部12相邻地设置。处理站3包括输送部15和多个处理单元16。多个处理单元16以排列在输送部15的两侧的方式设置。
输送部15在内部具有基板输送装置17。基板输送装置17具有用于保持晶圆W的晶圆保持机构。另外，基板输送装置17能够在水平方向和铅垂方向上移动并以铅垂轴线为中心进行旋转，其使用晶圆保持机构在交接部14与处理单元16之间输送晶圆W。
处理单元16用于对利用基板输送装置17输送过来的晶圆W进行规定的基板处理。
另外，基板处理系统1包括控制装置4。控制装置4例如是计算机，其包括控制部18和存储部19。在存储部19中存储有用于对在基板处理系统1中执行的各种处理进行控制的程序。控制部18通过读取并执行被存储在存储部19中的程序来控制基板处理系统1的动作。
此外，该程序既可以是存储在可由计算机读取的存储介质中的程序，也可以是从该存储介质安装到控制装置4的存储部19中的程序。作为可由计算机读取的存储介质，存在例如硬盘(HD)、软盘(FD)、光盘(CD)、光磁盘(MO)以及存储卡等。
在如此构成的基板处理系统1中，首先，输入输出站2的基板输送装置13从载置于承载件载置部11的承载件C取出晶圆W并将取出后的晶圆W载置于交接部14。利用处理站3的基板输送装置17将载置于交接部14的晶圆W自交接部14取出并向处理单元16输入。
在利用处理单元16对被输入到处理单元16中的晶圆W进行处理之后，利用基板输送装置17将该晶圆W自处理单元16输出并将该晶圆W载置于交接部14。然后，利用基板输送装置13将载置于交接部14的处理完成后的晶圆W返回到承载件载置部11的承载件C。
接下来，参照图2说明处理单元16的概略结构。图2是表示处理单元16的概略结构的图。
如图2所示，处理单元16包括腔室20、基板保持机构30、处理流体供给部40、以及回收杯50。
腔室20用于收纳基板保持机构30、处理流体供给部40、以及回收杯50。在腔室20的顶部设有FFU(Fan Filter Unit：风机过滤单元)21。FFU21用于在腔室20内形成下降流。
基板保持机构30包括保持部31、支柱部32、以及驱动部33。保持部31用于水平保持晶圆W。支柱部32是沿铅垂方向延伸的构件，其基端部被支承为利用驱动部33能够旋转，支柱部32在顶端部水平支承保持部31。驱动部33用于使支柱部32绕铅垂轴线旋转。该基板保持机构30通过使用驱动部33使支柱部32旋转，从而使支承于支柱部32的保持部31旋转，由此，使由保持部31保持着的晶圆W旋转。
处理流体供给部40用于对晶圆W供给处理流体。处理流体供给部40与处理流体供给源70相连接。
回收杯50以包围保持部31的方式配置，以收集因保持部31的旋转而自晶圆W飞散的处理液。在回收杯50的底部形成有排液口51，自该排液口51将由回收杯50收集到的处理液排出到处理单元16的外部。另外，在回收杯50的底部形成有排气口52，自该排气口52将自FFU21供给过来的气体排出到处理单元16的外部。
接下来，参照图3说明处理单元16的排气路径。图3是表示处理单元16的排气路径的图。此外，在图3中，主要示出了说明处理单元16的排气路径所必要的构成要件，适当省略了一般的构成要件。
首先，说明本实施方式的处理单元16的结构。如图3所示，处理单元16所包括的处理流体供给部40(相当于“处理液供给部”的一个例子)具有喷嘴41和一端与该喷嘴41相连接的配管42。配管42的另一端分支为多个端部，在分支了的各端部上分别连接有碱系处理液供给源71、酸系处理液供给源72、有机系处理液供给源73以及DIW供给源74。另外，在各供给源71～供给源74与喷嘴41之间设有阀75～阀78。
该处理流体供给部40用于将自各供给源71～供给源74供给过来的碱系处理液、酸系处理液、有机系处理液和DIW(常温的纯水)自喷嘴41向晶圆W的表面(被处理面)供给。
在本实施方式中，作为碱系处理液而使用SC1(氨、过氧化氢以及水的混合液)，作为酸系处理液而使用HF(氟酸)，作为有机系处理液而使用IPA(异丙醇)。此外，酸系处理液、碱系处理液以及有机系处理液并不限定于此。
此外，在本实施方式中，自1个喷嘴41供给碱系处理液、酸系处理液、有机系处理液以及DIW，但处理流体供给部40也可以包括与各处理液相对应的多个喷嘴。
此处，对于在使用SC1时自处理单元16排出的碱系排气、在使用HF时自处理单元16排出的酸系排气、以及在使用IPA时自处理单元16排出的有机系排气，从例如安全性、防止排气管的污染等方面考虑，优选独立地排出。因此，在本实施方式的基板处理系统1中，针对碱系排气、酸系排气以及有机系排气分别设有排气路径。
接着，说明处理单元16的排气路径的结构。基板处理系统1的处理站3包括作为处理单元16的排气路径的、第1排气管100、第2排气管200以及排气切换单元300。
第1排气管100具有多个独立排气管101～独立排气管103。独立排气管101是供碱系排气流动的排气管，独立排气管102是供酸系排气流动的排气管，独立排气管103是供有机系排气流动的排气管。在这些独立排气管101～独立排气管103上分别设有排气机构151～排气机构153。作为排气机构151～排气机构153，能够使用泵等吸气装置。
本实施方式的独立排气管101～独立排气管103的至少一部分配置于比处理单元16靠上方的位置。在后面叙述独立排气管101～独立排气管103的具体配置。
第2排气管200是用于将来自处理单元16的排气向第1排气管100引导的配管。该第2排气管200的一端侧与处理单元16的排气口52相连接，另一端经由后述的排气切换单元300与第1排气管100的配置于比处理单元16靠上方的位置的部分相连接。
第2排气管200具有自处理单元16的排气口52水平地延伸的水平部201和设于水平部201的下游侧且朝向上方铅垂地延伸的上升部202。另外，在上升部202的最下方位置设有用于将第2排气管200内的液体向外部排出的排放部250。
排气切换单元300与第2排气管200的上升部202相连接，用于将来自处理单元16的排气的流出目的地切换为独立排气管101～独立排气管103中的任意一个独立排气管。与第1排气管100同样地，该排气切换单元300也配置于比处理单元16靠上方的位置。
处理单元16的排气路径如所述那样构成，来自处理单元16的排气经由第2排气管200和排气切换单元300流出到独立排气管101～独立排气管103中的任意一个独立排气管中。
此处，在本实施方式的基板处理系统1中，如所述那样，第1排气管100的至少一部分和排气切换单元300配置于比处理单元16靠上方的位置，第2排气管200的另一端侧经由排气切换单元300连接到第1排气管100的配置于比处理单元16靠上方的位置的部分。由此，来自处理单元16的排气在第2排气管200的上升部202中上升之后，自排气切换单元300向第1排气管100流出。
有时在来自处理单元16的排气中含有雾沫。但是，由于雾沫比气体重，因此，与排气相比，雾沫难以在上升部202中上升。因此，含有雾沫的排气在流经上升部202的期间被分离成容易在上升部202中上升的排气和难以在上升部202中上升的雾沫。其结果，排气经由设于上升部202的上方的排气切换单元300自第1排气管100向外部排出，在雾沫因温度降低而液化之后，将其自设于上升部202的最下方位置的排放部250向外部排出。
如上所述，在本实施方式的基板处理系统1中，由于在处理单元16的排气路径上设置上升部202而将来自处理单元16的排气向上方引导，因此能够提高来自处理单元16的排气的气液分离性。另外，由于在上升部202进行气液分离，因此能够防止雾沫所引起的污垢、杂质等附着于配置在比上升部202靠下游侧(上方)的位置的排气切换单元300。
另外，雾沫在液化时会在上升部202中落下而积存于上升部202的最下方位置，因此，通过在上升部202的最下方位置设置排放部250，能够将第2排气管200内的液体向外部高效地排出。
此处，在本实施方式中，上升部202的最下方位置相当于水平部201与上升部202之间的角部。在第2排气管200中流动的雾沫自水平部201向上升部202移动时，存在与所述角部相碰撞而液化的情况。因此，通过在水平部201与上升部202之间设置角部并将排放部250配置于该角部，能够更高效地回收第2排气管200内的液体。
此外，基板处理系统1也可以包括用于自上升部202的上部向上升部202内喷出冷却水的冷却水喷出部。由此，能够利用冷却水将上升部202内的雾沫冷却而积极地使其液化。
由于碱系排气、酸系排气以及有机系排气均流经第2排气管200，因此，有可能产生例如盐等而将第2排气管200内污染。因此，基板处理系统1也可以包括用于向第2排气管200内喷出清洗水的清洗水喷出部。由此，能够利用清洗水将第2排气管200内的污垢去除。
在本实施方式中，示出了将排放部250配置于上升部202的最下方位置(水平部201与上升部202之间的角部)的情况的例子，但也可以将排放部250配置于水平部201。另外，在此，示出了第2排气管200具有水平部201的情况的例子，但并不一定要求第2排气管200具有水平部201。
另外，在本实施方式中，示出了上升部202铅垂地延伸的情况的例子，但上升部202也可以是例如倾斜地延伸的形状、一边蛇行一边延伸的形状、呈螺旋状延伸的形状等。通过使上升部202为这样的形状，与铅垂地延伸情况相比，能够延长上升部202的流路长度。上升部202的流路长度越长，在上升部202中，越多的雾沫会因温度降低而液化，从而能够进一步提高气液分离性。
接下来，参照图4～图7说明所述第1排气管100、第2排气管200以及排气切换单元300的配置。图4是处理站3的示意性立体图。另外，图5是处理站3的示意性侧视图，图6是处理站3的示意性俯视图。此外，在此所说的侧视图是在朝Y轴正方向看处理站3时的图，俯视图是在朝Z轴负方向看处理站3时的图。另外，在图4中，省略了处理站3中的、比输送部15(参照图1)靠Y轴正方向侧的结构。
如图4和图5所示，处理站3包括框构造体400，该框构造体400具有多个柱部401和多个梁部402，在由柱部401和梁部402形成的收纳空间内收纳有多个处理单元16和多个阀箱60。
多个处理单元16沿着输送部15并列配置，且在上下两层层叠。多个阀箱60是用于收纳例如阀75～阀78(参照图3)等的容器，配置于各处理单元16的下部。
下面，有时将以上下两层层叠的处理单元16中的、配置于上层的处理单元16记载为“处理单元16U”，将配置于下层的处理单元16记载为“处理单元16L”。此外，在本实施方式中，示出处理单元16以上下两层层叠的情况的例子，但处理单元16的层叠数并不限定于两层。另外，在图4～图6中，示出5台处理单元16并列配置的情况的例子，但并列配置的处理单元16的台数并不限定于5台。
第1排气管100所具有的独立排气管101～独立排气管103载置于框构造体400的上部。另外，在独立排气管101～独立排气管103的上部载置有与各处理单元16相对应的多个排气切换单元300。
如上所述，在本实施方式的基板处理系统1中，将独立排气管101～独立排气管103和排气切换单元300配置于框构造体400的外部。由此，能够分别输送框构造体400的部分、独立排气管101～独立排气管103以及排气切换单元300的部分。另外，能够使输送作业、设置作业简单化。
另外，采用本实施方式的基板处理系统1，由于第1排气管100和排气切换单元300配置于框构造体400的外部，因此易于根据基板处理的内容来改变第1排气管100和排气切换单元300的构造。
例如，在仅使用碱系处理液和酸系处理液这两种处理液的情况下，易于在框构造体400上设置不具有独立排气管103的第1排气管100和与该第1排气管100相对应的排气切换单元300。这样，采用本实施方式的基板处理系统1，能够提高设计自由度。
另外，采用本实施方式的基板处理系统1，与将第1排气管100和排气切换单元300配置于框构造体400的内部的情况相比，易于在框构造体400的内部设置剩余空间410(参照图5)。能够将剩余空间410设于框构造体400的最下层，能够将剩余空间410用作例如碱系处理液供给源71、酸系处理液供给源72等各种供给源的收纳空间。
另外，本实施方式的排气切换单元300配置于独立排气管101～独立排气管103的上部。换言之，排气切换单元300配置于处理站3的最上部。由此，作业者能够易于进行排气切换单元300的更换、维护。此外，排气切换单元300只要至少配置于比处理单元16靠上方的位置即可，排气切换单元300也可以配置于例如独立排气管101～独立排气管103的下部。
如图4和图5所示，第1排气管100配置于比配置在最上层的处理单元16U靠上方的位置，且分别与上层侧的处理单元16U和下层侧的处理单元16L相对应的第2排气管200U、200L经由排气切换单元300U、300L与第1排气管100相连接。
如上所述，在本实施方式的基板处理系统1中，上层侧的处理单元16U和下层侧的处理单元16L共用第1排气管100。因此，与在上层侧的处理单元16U和下层侧的处理单元16L处分别设置第1排气管100的情况相比，能够将基板处理系统1的制造成本抑制得较低。
此外，如图6所示，基板处理系统1包括与配置于比输送部15靠Y轴负方向侧的处理单元16相对应的第1排气管100和与配置于比输送部15靠Y轴正方向侧的处理单元16相对应的第1排气管100。各第1排气管100分别配置于用于配置所对应的处理单元16的区域的上方。
此处，多个第2排气管200中的、与上层的处理单元16U相连接的第2排气管200U和与下层的处理单元16L相连接的第2排气管200L配置于处理单元16U、16L的相同侧。例如，如图5所示，示出了第2排气管200U、200L配置于朝Y轴正方向看处理站3时的处理单元16U、16L的右侧的情况的例子。
另外，多个排气切换单元300中的、与上层的处理单元16U相对应的排气切换单元300U和与下层的处理单元16L相对应的排气切换单元300L沿着处理单元16的排列方向交替地配置。
并且，排气切换单元300U和排气切换单元300L具有相同的构造且互相面对面地配置。具体而言，如图5所示，在朝Y轴正方向看处理站3时，与上层的处理单元16U相对应的排气切换单元300U和与下层的处理单元16L相对应的排气切换单元300L以与这些处理单元16U、16L相连接的第2排气管200U、200L为中心线X呈线对称配置。
这样，在基板处理系统1中，与上层的处理单元16U相连接的第2排气管200U和与下层的处理单元16L相连接的第2排气管200L配置于处理单元16U、16L的相同侧。另外，与上层的处理单元16U相对应的排气切换单元300U和与下层的处理单元16L相对应的排气切换单元300L以这些第2排气管200U、200L为中心线X呈线对称的方式面对面地配置。通过这样的配置，易于在上层和下层使第2排气管200U、200L、排气切换单元300U、300L共用化。
此外，并不一定要求排气切换单元300U和排气切换单元300L面对面地配置。例如，排气切换单元300U和排气切换单元300L也可以朝向相同方向配置。在该情况下，例如，也可以是，使与下层的处理单元16L相连接的第2排气管200L铅垂地延伸而与排气切换单元300L相连接，并使与上层的处理单元16U相连接的第2排气管200U倾斜地延伸而与排气切换单元300U相连接。
接下来，参照图7和图8说明排气切换单元300的结构。图7和图8是排气切换单元300的示意性立体图。
如图7和图8所示，排气切换单元300U、300L包括排气导入部310、多个切换机构320＿1～切换机构320＿3、外部气体导入部330、以及多个流出部340。另外，排气切换单元300U、300L包括外部气体引入管350、压差部360、以及排气流量调整部370。
在各排气切换单元300U、300L中，外部气体引入管350与第2排气管200U、200L(参照图8)相连接且流出部340与独立排气管101～独立排气管103(参照图7)相连接。于是，来自第2排气管200U、200L的排气经由压差部360、排气流量调整部370以及排气导入部310流入到切换机构320＿1～切换机构320＿3中的任意一个切换机构中(参照图8)并自切换机构320＿1～切换机构320＿3经由流出部340排出到独立排气管101～独立排气管103中的任意一个独立排气管中。
此外，排气切换单元300U、300L具有使排气导入部310、切换机构320＿1～切换机构320＿3、外部气体导入部330、流出部340、外部气体引入管350、压差部360以及排气流量调整部370单元化而成的结构。因而，排气切换单元300U、300L易于相对于独立排气管101～独立排气管103、第2排气管200安装、拆卸。
排气导入部310具有作为中空状的箱体的主体部311，在主体部311的与切换机构320＿1～切换机构320＿3相对的侧面上形成有与切换机构320＿1～切换机构320＿3的各排气引入口322相连通的多个连通口(未图示)。另外，在主体部311的下表面形成有与排气流量调整部370相连通的连通口(未图示)。该排气导入部310使自第2排气管200经由后述的外部气体引入管350、压差部360以及排气流量调整部370导入的排气向切换机构320＿1～切换机构320＿3流入。
此处，自排气流量调整部370导入到排气导入部310中的排气在与排气导入部310的上表面相碰撞之后流入到切换机构320＿1～切换机构320＿3中的任意一个切换机构中。因此，即使在导入到排气导入部310中的排气中含有雾沫，也能够使该雾沫与排气导入部310的上表面相碰撞而液化，从而能够抑制雾沫流入到切换机构320＿1～切换机构320＿3中。
此外，在本实施方式中，示出了排气导入部310为长方体状的箱体的情况的例子，但排气导入部310的形状并不限定于长方体状。例如，排气导入部310也可以为圆柱状的箱体。通过使排气导入部310为圆柱状，例如，能够使由管等形成的配管和构件共用化。另外，在使排气导入部310为圆柱状的情况下，导入到排气导入部310中的排气也在与排气导入部310的内表面相碰撞之后流入到切换机构320＿1～切换机构320＿3中的任意一个切换机构中。因此，与使排气导入部310为长方体状的情况同样地，也能够使雾沫与排气导入部310的内表面相碰撞而液化。
另外，在本实施方式中，将排气导入部310设成了箱体，但并不一定要求排气导入部310为箱体。例如，排气导入部310也可以是一端与排气流量调整部370相连接且另一端分支为多个而分别与切换机构320＿1～切换机构320＿3相连接的配管。
切换机构320＿1～切换机构320＿3分别与独立排气管101～独立排气管103相对应，且以沿着与独立排气管101～独立排气管103的排列方向相同的方向(Y轴方向)排列的方式配置。在各切换机构320＿1～切换机构320＿3上连接有排气导入部310、外部气体导入部330以及流出部340。排气导入部310和外部气体导入部330以在上下方向隔开规定的间隔的方式与切换机构320＿1～切换机构320＿3的一个侧面相连接。另外，流出部340连接于切换机构320＿1～切换机构320＿3的与连接有排气导入部310和外部气体导入部330的侧面相反的那一侧的侧面。
该切换机构320＿1～切换机构320＿3构成为通过使设于内部的阀芯工作而在将排气导入部310和流出部340相连通的状态与将外部气体导入部330和流出部340相连通的状态之间切换。此处，参照图9说明切换机构320＿1～切换机构320＿3的内部结构。图9是表示排气切换单元300的结构的图。
如图9所示，切换机构320＿1～切换机构320＿3包括主体部321。主体部321具有两端被闭塞的圆筒状的内部空间，在主体部321的内周面上形成有与排气导入部310相连通的排气引入口322、与外部气体导入部330相连通的外部气体引入口323、以及与流出部340相连通的流出口324。
在主体部321的内部空间设有能够沿着主体部321的内周面滑动的阀芯325。阀芯325由设于切换机构320＿1～切换机构320＿3的外部的驱动部326(参照图7)驱动。驱动部326受控制部18的控制。
在形成于主体部321的内周面的排气引入口322、外部气体引入口323以及流出口324之中，排气引入口322和外部气体引入口323中的任意一者成为被阀芯325封堵的状态。换言之，仅排气引入口322和外部气体引入口323中的任意一者成为与流出口324相连通的状态。在切换机构320＿1～切换机构320＿3中，通过使阀芯325沿着主体部321的内周面滑动，从而将与流出口324相连通的开口自排气引入口322切换为外部气体引入口323或者自外部气体引入口323切换为排气引入口322。即，在排气导入部310和流出部340相连通的状态与外部气体导入部330和流出部340相连通的状态之间切换。
外部气体导入部330与切换机构320＿1～切换机构320＿3相连接，从而将外部气体引入到内部并向切换机构320＿1～切换机构320＿3供给外部气体。此处，参照图10说明外部气体导入部330的结构。图10是表示外部气体导入部330的结构的图。此外，在图10中，示意性地示出了外部气体导入部330的俯视截面的形状。
如图10所示，外部气体导入部330包括主体部331。主体部331是中空状的箱体，在主体部331的与切换机构320＿1～切换机构320＿3相对的侧面上形成有与切换机构320＿1～切换机构320＿3的各外部气体引入口323相连通的多个连通口332～连通口334。另外，主体部331的与设有多个连通口332～连通口334的一侧相反的那一侧的侧面上形成有沿着连通口332～连通口334的排列方向开口的狭缝状的开口部335。
外部气体在自开口部335流入到主体部331的内部之后，通过主体部331自连通口332～连通口334中的任意一个连通口流入到切换机构320＿1～切换机构320＿3中的任意一个切换机构中。
此处，开口部335沿着连通口332～连通口334的排列方向形成。由此，能够在主体部331内尽量均等地产生压力损失，在后面叙述该点。此外，在本实施方式中，将开口部335设成了狭缝状，但开口部335的形状并不限定于狭缝状。例如，开口部335也可以是通过将多个小孔沿着多个连通口332～连通口334的排列方向设置而形成的。
此外，外部气体导入部330也可以包括用于使开口部335的开口程度变化的开口调整部。作为开口调整部，例如，能够使用安装于主体部331的形成有开口部335的侧面的、用于将开口部335封堵的开闭器。通过如此设置开口调整部，能够调整在主体部331内产生的压力损失。
在此，示出了在主体部331的与设有多个连通口332～连通口334的面相反的那一侧的面上设有开口部335的情况的例子，但开口部335只要至少设于与设有连通口332～连通口334的面不同的面即可。例如，在多个连通口332～连通口334设于主体部331的侧面的情况下，开口部335也可以设于主体部331的上表面。
外部气体引入管350是一端侧与第2排气管200相连接且另一端侧向大气敞开的配管(参照图7～图9)。在外部气体引入管350的中途部设有外部气体流量调整部351。外部气体流量调整部351例如为风门(damper)，通过使用驱动部352(参照图7)使风门的开度变化，从而调整流向外部气体引入管350的一端侧的外部气体的流量。此外，驱动部352受控制部18的控制。在切换向处理单元16供气的供气量时使用该外部气体引入管350和外部气体流量调整部351。
此外，在本实施方式中，示出了外部气体引入管350的一端侧与第2排气管200相连接的情况的例子，但外部气体引入管350的一端侧所连接的位置只要至少位于比切换机构320＿1～切换机构320＿3靠上游侧的位置的即可。例如，外部气体引入管350的一端侧也可以与排气导入部310相连接。
压差部360的上游侧的端部与外部气体引入管350的一端侧相连接，下游侧的端部与排气流量调整部370相连接。该压差部360检测上游侧与下游侧之间的压力差并向控制部18输出检测结果。控制部18根据自压差部360取得的检测结果来控制后述的排气流量调整部370，由此能够将流向排气导入部310的排气流量保持为规定的值。此外，压差部360也可以构成为，在中途部设有节流部且能对该节流部的上游侧与下游侧之间的压力差进行检测。
排气流量调整部370的上游侧的端部与压差部360相连接，下游侧的端部与排气导入部310相连接。在排气流量调整部370的内部配置有例如风门。在该排气流量调整部370中，通过使用驱动部371(参照图8)使风门的开度变化，能够调整自压差部360流向排气导入部310的排气的流量。此外，驱动部371受控制部18的控制。
此处，如所述那样，在本实施方式的基板处理系统1中，上层侧的处理单元16U和下层侧的处理单元16L共用被配置在框构造体400上的第1排气管100。在为该结构的情况下，与处理单元16L相连接的第2排气管200L的长度长于与处理单元16U相连接的第2排气管200U的长度。由此，排气流路的流路阻力产生差异而有可能使处理单元16U和处理单元16L的排气量不均等。
与此相对，本实施方式的排气切换单元300包括压差部360和排气流量调整部370。因而，控制部18根据上层侧和下层侧的压差部360的检测结果来控制上层侧和下层侧的排气流量调整部370，由此能够使上层侧的排气流量和下层侧的排气流量均等地一致。
接下来，说明将来自处理单元16的排气的流出目的地在独立排气管101～独立排气管103之间切换的情况的动作。
例如，在图9中示出了使碱系排气流向独立排气管101的情况的例子。在该情况下，排气切换单元300成为如下状态，即，切换机构320＿1的排气引入口322与排气导入部310相连通且其余的切换机构320＿2、320＿3的外部气体引入口323与外部气体导入部330相连通。
这样，在切换机构320＿1与排气导入部310相连通的期间，其余的切换机构320＿2、320＿3成为与外部气体导入部330相连通的状态。由此，使碱系排气流入到独立排气管101中，使外部气体流入到其余的独立排气管102、103中。
接着，研究在将排气的流出目的地自独立排气管101切换为独立排气管102的情况。在该情况下，控制部18通过控制切换机构320＿1、320＿2的驱动部326而使切换机构320＿2的排气引入口322与排气导入部310相连通且使其余的切换机构320＿1、320＿3的外部气体引入口323与外部气体导入部330相连通。由此，使酸系排气流入到独立排气管102，并使外部气体流入到其余的独立排气管101、103中。
这样，在本实施方式的基板处理系统1中，在来自处理单元16的排气向独立排气管101～独立排气管103中的任意一个独立排气管流入的期间，外部气体向其余的独立排气管101～独立排气管103流入。因而，在切换排气的前后，向各独立排气管101～独立排气管103流入的气体的流量不会较大地变动。因而，能够抑制与流量的变动相伴的处理单元16的压力变动。
另外，在本实施方式的基板处理系统1中，通过在切换机构320＿1～切换机构320＿3所具有的外部气体引入口323的前级设置将与各外部气体引入口323相连通的外部气体导入部330，也能够抑制在排气切换中的处理单元16的压力变动。
参照图11说明该点。图11是表示排气切换中的状态的图。
例如，在要将排气的流出目的地自独立排气管101切换为独立排气管102的情况下，使切换机构320＿1的阀芯325自封堵外部气体引入口323的位置向封堵排气引入口322的位置移动且使切换机构320＿2的阀芯325自封堵排气引入口322的位置向封堵外部气体引入口323的位置移动。在其中途，如图11所示，成为切换机构320＿1、320＿2的排气引入口322和外部气体引入口323均与流出口324相连通的状态。
此处，即使在各切换机构320＿1～切换机构320＿3的外部气体引入口323直接向大气敞开的情况下，与在排气引入口322的前级设有排气导入部310的排气的流入路径相比，外部气体的流入路径的压力损失变小。其结果，自压力损失较少的外部气体引入口323流入的外部气体的流量多于自排气引入口322流入的排气的流量。
当向切换机构320＿1、320＿2的主体部321流入的外部气体的流量增加时，自排气引入口322向主体部321流入的排气的流量相对地变少。也就是说，与排气切换的前后的排气流量相比，排气切换中的排气流量变少。在这种情况下，处理单元16内的供气过多，从而有可能产生气氛气体自处理单元16泄露等。
与此相对，在本实施方式的基板处理系统1中，在各切换机构320＿1～切换机构320＿3所具有的外部气体引入口323的前级设置了外部气体导入部330。由此，使外部气体的流入路径与排气的流入路径之间的压力损失的差减少，因此能够抑制排气切换中的外部气体的流量的增加。换言之，由于能够抑制排气切换中的排气流量的减少，因此能够抑制因排气流量的减少而产生的处理单元16的压力变动。
另外，切换机构320＿1～切换机构320＿3的各排气引入口322能够经由排气导入部310相互连通。另外，构成为，切换机构320＿1～切换机构320＿3的各外部气体引入口323也同样地能够经由外部气体导入部330相互连通。因而，在排气切换中，成为排气导入部310和外部气体导入部330能够经由切换机构320＿1～切换机构320＿3相互连通的状态。
通过设成该结构，在排气切换中，能够利用在外部气体的流入路径侧产生的压力变动来抵消在排气的流入路径侧产生的压力变动。因而，能够有效地抑制排气切换中的处理单元16的压力变动。
接下来，研究将排气的流出目的地自供酸系排气流动的独立排气管102切换为供有机系排气流动的独立排气管103的情况。在该情况下，控制部18控制切换机构320＿2、320＿3的驱动部326而使切换机构320＿3的排气引入口322与排气导入部310相连通并使其余的切换机构320＿1、320＿2的外部气体引入口323与外部气体导入部330相连通。由此，在有机系排气向独立排气管103流入的期间，外部气体向其余的独立排气管101、102流入。
此处，在要将处理单元16所使用的处理液的种类切换为作为有机系处理液的IPA的情况下，控制部18控制FFU21而将向处理单元16供气的供气量自使用其他处理液时的第1流量变更为比第1流量少的第2流量。
当向处理单元16供气的供气量减少时，需要的排气量也减少。在本实施方式的基板处理系统1中，在将向处理单元16供气的供气量自第1流量变更为第2流量的情况下，不是改变排气机构151～排气机构153的排气量，而是利用自外部气体引入管350引入的外部气体来弥补排气机构151～排气机构153的排气量与需要的排气量之差。参照图12和图13说明该处理(以下，记载为“流量调整处理”)。图12和图13是流量调整处理的说明图。
此外，在图12中，示出了向处理单元16供气的供气量为第1流量的情况的例子，在图13中，示出了向处理单元16供气的供气量为第2流量的情况的例子。另外，在图12和图13中，示出了将排气机构151～排气机构153的排气量分别设定为1m3/min的情况的例子。另外，在此，使自外部气体引入管350向压差部360流入的外部气体的流量的初始值为0m3/min。
例如，在处理单元16中使用作为碱系处理液的SC1、作为酸系处理液的HF的情况下，如图12所示，将向处理单元16供气的供气量设定为第1流量(例如1m3/min)。在该情况下，所需的排气量为1m3/min，其与排气机构151～排气机构153的排气量之差为0m3/min。因而，将自外部气体引入管350向压差部360流入的外部气体的流量维持在0m3/min。此外，在图12中，作为一个例子，示出了在处理单元16中使用作为碱系处理液的SC1的情况。
另一方面，在处理单元16中使用作为有机系处理液的IPA的情况下，如图13所示，将向处理单元16供气的供气量自第1流量切换为第2流量(例如0.5m3/min)。在该情况下，所需的排气量为0.5m3/min，其与排气机构151～排气机构153的排气量之差为0.5m3/min。因而，控制部18控制外部气体流量调整部351而将自外部气体引入管350向压差部360流入的外部气体的流量调整至0.5m3/min。
如上所述，在本实施方式的基板处理系统1中，在将向处理单元16内供气的供气量自第1流量切换为比第1流量少的第2流量的情况下，控制外部气体流量调整部351，而进行了使流向外部气体引入管350的一端侧的外部气体的流量增加的流量调整处理。由此，即使在维持排气机构151～排气机构153的排气流量的同时改变向处理单元16供气的供气量的情况下，也能够抑制处理单元16的压力变动。
此外，在本实施方式中，示出了将自FFU21向处理单元16供气的供气量自第1流量变更为第2流量的情况的例子，但将供气量自第1流量变更为第2流量的处理并不限定于所述例子。例如，也可以是将向处理单元16供气的气体的种类从由FFU21供给的气体(例如，清浄空气)切换为由其他供气部(例如，配置于FFU21内的顶部喷嘴)供给的气体(例如，干燥气体)的处理。
接下来，参照图14说明在本实施方式的基板处理系统1中执行的基板处理的一个例子。图14是表示在基板处理系统1中执行的基板处理的处理步骤的一个例子的流程图。
此外，通过控制部18对处理单元16和排气切换单元300等进行控制来执行图14所示的一系列的基板处理。控制部18例如是CPU(Central Processing Unit：中央处理器)，其根据存储在存储部19中的未图示的程序来控制处理单元16和排气切换单元300等。
如图14所示，在处理单元16中，首先，进行第1药液处理(步骤S101)。在该第1药液处理中，首先，驱动部33通过使保持部31旋转而使由保持部31保持的晶圆W以规定的转速旋转。接着，使处理流体供给部40的喷嘴41位于晶圆W的中央上方。之后，通过将阀75打开规定时间，从而自喷嘴41向晶圆W的被处理面供给自碱系处理液供给源71供给过来的SC1。供给到晶圆W上的SC1在随着晶圆W的旋转而产生的离心力的作用下扩展至晶圆W的整个被处理面。由此，利用SC1处理晶圆W的被处理面。
在进行该第1药液处理的期间，自FFU21以第1流量对处理单元16进行供气。维持以第1流量进行的供气，直至完成步骤S104的第2冲洗处理为止。另外，在进行第1药液处理的期间，将作为来自处理单元16的排气的碱系排气自第2排气管200通过排气切换单元300的切换机构320＿1向独立排气管101排出。
接着，在处理单元16中，进行利用DIW冲洗晶圆W的被处理面的第1冲洗处理(步骤S102)。在该第1冲洗处理中，通过将阀78打开规定时间，从而自喷嘴41向晶圆W的被处理面供给自DIW供给源74供给过来的DIW，从而将残留在晶圆W上的SC1冲掉。在进行该第1冲洗处理的期间，将来自处理单元16的排气向例如独立排气管101排出。
接着，在处理单元16中，进行第2药液处理(步骤S103)。在该第2药液处理中，通过将阀76打开规定时间，从而自喷嘴41向晶圆W的被处理面供给自酸系处理液供给源72供给过来的HF。供给到晶圆W上的HF在随着晶圆W的旋转而产生的离心力的作用下扩展至晶圆W的整个被处理面。由此，利用HF处理晶圆W的被处理面。
在开始该第2药液处理之前，控制部18控制排气切换单元300而将排气的流出目的地自独立排气管101切换为独立排气管102。由此，在进行第2药液处理的期间，使作为来自处理单元16的排气的酸系排气自第2排气管200通过排气切换单元300的切换机构320＿2向独立排气管102排出。
接着，在处理单元16中，进行利用DIW冲洗晶圆W的被处理面的第2冲洗处理(步骤S104)。在该第2冲洗处理中，通过将阀78打开规定时间，从而自喷嘴41向晶圆W的被处理面供给自DIW供给源74供给过来的DIW，从而将残留在晶圆W上的HF冲掉。在进行该第2冲洗处理的期间，将来自处理单元16的排气向例如独立排气管102排出。
接着，在处理单元16中，进行干燥处理(步骤S105)。在该干燥处理中，通过将阀77打开规定时间，从而自喷嘴41向晶圆W的被处理面供给自有机系处理液供给源73供给过来的IPA。供给到晶圆W上的IPA在随着晶圆W的旋转而产生的离心力的作用下扩展至晶圆W的整个被处理面。由此，将残留在晶圆W的被处理面上的DIW置换为挥发性高于DIW的挥发性的IPA。之后，在处理单元16中，通过增加晶圆W的转速来将晶圆W上的IPA甩出而使晶圆W干燥。
在开始干燥处理之前，控制部18控制排气切换单元300而将排气的流出目的地自独立排气管102切换为独立排气管103。由此，在进行干燥处理的期间，使作为来自处理单元16的排气的有机排气自第2排气管200通过排气切换单元300的切换机构320＿3向独立排气管103排出。
另外，在开始干燥处理之前，控制部18将来自FFU21的供气量自第1流量切换为比第1流量少的第2流量。另外，控制部18通过控制外部气体流量调整部351来增加自外部气体引入管350向压差部360流入的外部气体的流量。由此，即使在维持排气机构151～排气机构153的排气流量的同时改变向处理单元16供气的供气量情况下，也能够抑制处理单元16的压力变动。
之后，在处理单元16中，停止利用驱动部33使晶圆W旋转，之后，利用基板输送装置17(参照图1)将晶圆W自处理单元16输出。由此，完成针对1张晶圆W的一系列的基板处理。
如上所述，本实施方式的基板处理系统1(相当于“基板液处理装置”的一个例子)包括处理单元16(相当于“液处理部”的一个例子)、第1排气管100、以及第2排气管200。处理单元16使用处理液对晶圆W进行处理。第1排气管100的至少一部分配置于比处理单元16靠上方的位置。第2排气管200的一端侧与处理单元16相连接，该第2排气管200利用排气机构151～排气机构153经由第1排气管100对处理单元16进行排气。另外，第2排气管200的另一端侧与第1排气管100的配置于比处理单元16靠上方的位置的部分相连接。
因而，采用本实施方式的基板处理系统1，能够提高来自处理单元16的排气的气液分离性。
变形例
接下来，参照图15和图16说明本实施方式的基板处理系统1的变形例。图15是第1变形例的处理站的示意性侧视图，图16是第2变形例的处理站的示意性俯视图。此外，在以下的说明中，对于与已经说明的部分相同的部分，标注与已经说明的部分相同的附图标记而省略重复说明。
在所述本实施方式中，示出了配置于上层侧的处理单元16U和配置于下层侧的处理单元16L共用第1排气管100的情况的例子，但基板处理系统也可以为分别具有上层用的第1排气管100和下层用的第1排气管100的结构。
例如，如图15所示，第1变形例的处理站3A包括与配置于上层的处理单元16U相对应的第1排气管100U和与配置于下层的处理单元16L相对应的第1排气管100L。在第1排气管100U上设有排气切换单元300U，在第1排气管100L上设有排气切换单元300L。
第1排气管100U配置于框构造体400A的上部。另外，第1排气管100L配置于框构造体400A的内部。具体而言，框构造体400A在用于配置上层侧的阀箱60的空间与用于配置下层侧的处理单元16L的空间之间具有第1排气管100L和排气切换单元300L的收纳空间。并且，第1排气管100L和排气切换单元300L配置于该收纳空间内。
如上所述，在第1变形例的处理站3A中，与配置于上层的处理单元16U相对应的第1排气管100U配置于处理单元16U的上方，与配置于下层的处理单元16L相对应的第1排气管100L配置于处理单元16L的上方且处理单元16U的下方。换言之，各第1排气管100U、100L配置于比配置在所对应的层的处理单元16U、16L靠上方的位置且比配置在所对应的层的上一层的处理单元16U、16L靠下方的位置。
通过设成该结构，能够在上层侧和下层侧使第2排气管200U、200L的长度一致。由此，能够不易在处理单元16U和处理单元16L中使排气流路的流路阻力产生偏差。因此，能够不易在处理单元16U和处理单元16L中使排气量产生差异。
另外，在所述本实施方式中，示出了与配置于比输送部15靠Y轴负方向侧的多个处理单元16相对应的第1排气管100和与配置于比输送部15靠Y轴正方向侧的多个处理单元16相对应的第1排气管100分别配置于用于配置所对应的处理单元16的区域的上方的情况的例子(参照图6)。但是，第1排气管100的配置并不限定于所述例子。例如，如图16所示的第2变形例的处理站3B那样，第1排气管100也可以配置于输送部15的上方。
本领域的技术人员能够容易地得出进一步的效果、变形例。因此，本发明的更广泛的形态并不限定于以上那样表示和记载的特定的详细内容以及代表性的实施方式。因而，本发明能够在不脱离附带的权利要求书和由其同等范围所定义的概括性的发明的概念的精神或范围的情况下进行各种变更。
附图标记说明
1、基板处理系统；3、处理站；15、输送部；16、处理单元；18、控制部；52、排气口；71、碱系处理液供给源；72、酸系处理液供给源；73、有机系处理液供给源；74、DIW供给源；100、第1排气管；101～103、独立排气管；151～153、排气机构；200、第2排气管；201、水平部；202、上升部；250、排放部；300、排气切换单元；310、排气导入部；320＿1～320＿3、切换机构；321、主体部；322、排气引入口；323、外部气体引入口；324、流出口；325、阀芯；326、驱动部；330、外部气体导入部；331、主体部；332～334、连通口；335、开口部；340、流出部；350、外部气体引入管；360、压差部370、排气流量调整部；371、驱动部；400、框构造体；401、柱部；402、梁部。

Claims (11)

1.一种基板液处理装置，其特征在于，
该基板液处理装置包括：
液处理部，其用于使用处理液来对基板进行处理；
第1排气管，其至少一部分配置于比所述液处理部靠上方的位置；以及
第2排气管，其一端侧与所述液处理部相连接，用于利用排气机构经由所述第1排气管对所述液处理部进行排气，
所述第2排气管的另一端侧与所述第1排气管的配置于比所述液处理部靠上方的位置的部分相连接，
所述液处理部具有用于供给多种处理液的处理液供给部，
所述第1排气管具有多个与所述多种处理液中的至少1种处理液相对应的独立排气管，
该基板液处理装置还包括排气切换单元，该排气切换单元用于将在所述第2排气管内流动的排气的流出目的地切换为所述独立排气管中的任意一个独立排气管，
所述排气切换单元配置于比所述液处理部靠上方的位置，
在所述液处理部的底部形成用于对所述液处理部进行排气的排气口和用于对所述液处理部进行排液的排液口，其中所述第2排气管的所述一端侧与所述排气口相连接，
所述第2排气管具有自所述排气口水平地延伸的水平部和设于该水平部的下游侧且朝向上方延伸的上升部，在该上升部的最下方位置设有用于将所述第2排气管内的液体向外部排出的排放部，以及
所述排气切换单元包括排气导入部、外部气体导入部、以及分别与各个独立排气管相对应的多个切换机构和多个流出部，其中，所述排气导入部使自所述第2排气管导入的排气向各个切换机构流入，各个切换机构构成为通过使设于内部的阀芯工作而在将所述排气导入部和所述流出部相连通的状态与将所述外部气体导入部和所述流出部相连通的状态之间切换。
2.根据权利要求1所述的基板液处理装置，其特征在于，
所述排气切换单元配置于所述独立排气管的上部。
3.根据权利要求1或2所述的基板液处理装置，其特征在于，
该基板液处理装置包括：
多层地配置的多个所述液处理部；以及
以与多个所述液处理部的各层相对应的方式设置的多个第1排气管，
所述第1排气管配置于比配置在所对应的层的所述液处理部靠上方的位置和比配置在所对应的层的上一层的所述液处理部靠下方的位置。
4.根据权利要求3所述的基板液处理装置，其特征在于，
分别与多个所述液处理部对应的多个所述第2排气管配置于多个所述液处理部的相同侧。
5.根据权利要求1或2所述的基板液处理装置，其特征在于，
该基板液处理装置包括：
输送部，其用于输送所述基板；以及
沿着所述输送部并列配置的多个所述液处理部，
所述第1排气管配置于多个所述液处理部所并列配置的区域的上方。
6.根据权利要求1或2所述的基板液处理装置，其特征在于，
该基板液处理装置包括：
输送部，其用于输送所述基板；以及
沿着所述输送部并列配置的多个所述液处理部，
所述第1排气管配置于所述输送部的上方。
7.根据权利要求1或2所述的基板液处理装置，其特征在于，
该基板液处理装置包括框构造体，该框构造体具有多个柱部和多个梁部，而将所述液处理部收纳在由所述柱部和所述梁部形成的收纳空间内，
所述第1排气管配置于所述框构造体的上部。
8.一种基板液处理装置，其特征在于，
该基板液处理装置包括：
液处理部，其用于使用处理液来对基板进行处理；
第1排气管，其至少一部分配置于比所述液处理部靠上方的位置；以及
第2排气管，其一端侧与所述液处理部相连接，用于利用排气机构经由所述第1排气管对所述液处理部进行排气，
所述第2排气管的另一端侧与所述第1排气管的配置于比所述液处理部靠上方的位置的部分相连接，
该基板液处理装置包括多层层叠的多个所述液处理部，
所述第1排气管配置于比多个所述液处理部中的配置在最上层的所述液处理部靠上方的位置且与分别同多个所述液处理部相对应的多个所述第2排气管相连接，
所述液处理部具有用于供给多种处理液的处理液供给部，
所述第1排气管具有分别与所述多种处理液相对应的多个独立排气管，
该基板液处理装置还包括多个排气切换单元，该多个排气切换单元针对各个所述液处理部进行设置，用于将在所述第2排气管内流动的排气的流出目的地切换至所述独立排气管中的任意一个独立排气管，
所述排气切换单元包括用于对自所述第2排气管流入的排气的流量进行调整的排气流量调整部，
在各个所述液处理部的底部形成用于对该液处理部进行排气的排气口和用于对该液处理部进行排液的排液口，其中与该液处理部相对应的第2排气管的所述一端侧与所述排气口相连接，
所述第2排气管具有自所述排气口水平地延伸的水平部和设于该水平部的下游侧且朝向上方延伸的上升部，在该上升部的最下方位置设有用于将所述第2排气管内的液体向外部排出的排放部，以及
所述排气切换单元包括排气导入部、外部气体导入部、以及分别与各个独立排气管相对应的多个切换机构和多个流出部，其中，所述排气导入部使自所述第2排气管导入的排气向各个切换机构流入，各个切换机构构成为通过使设于内部的阀芯工作而在将所述排气导入部和所述流出部相连通的状态与将所述外部气体导入部和所述流出部相连通的状态之间切换。
9.根据权利要求8所述的基板液处理装置，其特征在于
所述多个排气切换单元中的一个所述排气切换单元和另一个所述排气切换单元面对面地配置。
10.一种基板液处理装置，其特征在于，
该基板液处理装置包括：
液处理部，其用于使用处理液来对基板进行处理；
第1排气管，其至少一部分配置于比所述液处理部靠上方的位置；以及
第2排气管，其一端侧与所述液处理部相连接，用于利用排气机构经由所述第1排气管对所述液处理部进行排气，
所述第2排气管的另一端侧与所述第1排气管的配置于比所述液处理部靠上方的位置的部分相连接，
该基板液处理装置包括：
多层地配置的多个所述液处理部；以及
以与多个所述液处理部的各层相对应的方式设置的多个第1排气管，
所述第1排气管配置于比配置在所对应的层的所述液处理部靠上方的位置和比配置在所对应的层的上一层的所述液处理部靠下方的位置，
在所述液处理部的底部形成用于对所述液处理部进行排气的排气口和用于对所述液处理部进行排液的排液口，其中所述第2排气管的所述一端侧与所述排气口相连接，
所述第2排气管具有自所述排气口水平地延伸的水平部和设于该水平部的下游侧且朝向上方延伸的上升部，在该上升部的最下方位置设有用于将所述第2排气管内的液体向外部排出的排放部，
所述液处理部具有用于供给多种处理液的处理液供给部，所述第1排气管具有分别与多种处理液相对应的多个独立排气管，该基板液处理装置还包括多个排气切换单元，该多个排气切换单元针对各个液处理部进行设置，用于将在所述第2排气管内流动的排气的流出目的地切换至独立排气管中的任意一个独立排气管，以及
所述排气切换单元包括排气导入部、外部气体导入部、以及分别与各个独立排气管相对应的多个切换机构和多个流出部，其中，所述排气导入部使自所述第2排气管导入的排气向各个切换机构流入，各个切换机构构成为通过使设于内部的阀芯工作而在将所述排气导入部和所述流出部相连通的状态与将所述外部气体导入部和所述流出部相连通的状态之间切换。
11.根据权利要求10所述的基板液处理装置，其特征在于，
分别与多个所述液处理部对应的多个所述第2排气管配置于多个所述液处理部的相同侧。
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