KR100454241B1 - 웨이퍼 건조 장비 - Google Patents
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- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H01L21/67034—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for drying
Abstract
Description
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- 반도체기판을 건조시키는 건조 장비에 있어서,액체가 채워지는 그리고 액체가 배출되는 배출포트가 바닥에 형성된 처리조(bath)와, 상기 처리조의 상부에 설치되는 커버를 갖는 챔버와;상기 반도체기판을 세척하기 위한 상기 처리조 내부로 액체의 유동을 제공하고, 상기 처리조로부터 액체 배출을 위해 상기 배출포트에 연결되는 제1배수관을 갖는 액체 유동시스템과 ;상기 반도체기판을 건조시키기 위한 기체를 분출시키는 기체 분배기와;상기 처리조에 상기 기체가 분출되기 전에 상기 챔버 내부의 공기를 제거하는 감압수단 ; 및상기 챔버 내부로 공급된 상기 기체를 강제 배기시키기 위한 수단을 포함하되;상기 기체 분배기는 상기 커버에 설치되며, 상기 처리조의 바닥을 향해 상기 기체를 분사하는 제1,2노즐들을 포함하고,상기 강제 배기 수단은 상기 제1 배수관에 연결되는 제1배기관, 상기 제1배기관에 설치되는 그리고 상기 액체의 배출시에는 닫히고, 상기 액체의 배출이 완료되면 열리는 off/on 밸브를 포함하여,상기 처리조 내부에는 상기 제1,2노즐들을 통해 분사되는 기체가 처리조의 상부에서 하부로 흐르는 안정저인 기류 흐름을 제공하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 건조 장비.
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- 제 7 항에 있어서,감압수단은상기 커버에 형성된 배기포트와;상기 배기포트에 연결되는 진공배기관 및;상기 진공배기관을 단속하는 밸브를 구비하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 건조 장비.
- 제 7 항에 있어서,상기 액체 유동 시스템은 상기 기체 분배기와 함께 액체의 유동 및 배출을 제어하여 마란고니 건조 원리를 달성하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 건조 장비.
- 제 7 항에 있어서,상기 액체 유동 시스템은 상기 처리조 내의 액체의 수위 및 배출을 조절하기 위해. 상기 액체를 상기 처리조로부터 지속적으로 배출시키거나, 상기 액체를 상기 처리조내로 지속적으로 공급하는 수단을 갖는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 건조 장비.
- 제 12 항에 있어서,상기 액체를 지속적으로 배출시키는 상기 수단은 상기 제1배수관에 연결되는 그리고 상기 제1배수관보다 직경이 작은 제2배수관 및 상기 제1,2배수관 상에 각각 설치되는 조절밸브를 더 포함하되; 상기 처리조 내의 액체의 수위 조절은 상기 조절밸브의 제어에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 건조 장비.
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- 제 7 항에 있어서,상기 처리조 내에 상기 반도체기판을 지지하는 가이드를 더 포함하고,상기 액체를 상기 처리조 내로 지속적으로 공급하는 수단은 상기 처리조 하단에 상기 가이드의 길이 방향으로 설치되는 그리고, 다수의 분사공들이 형성된 분배관을 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 건조 장비.
- 제 7 항에 있어서,상기 처리조와 상기 커버 사이에 설치되는 밀봉부재를 더 포함하되;상기 밀봉부재는 오-링 또는 가스켓인 것을 특징으로 하는 웨이퍼 건조 장비.
- 제 7 항에 있어서,상기 액체는 탈이온수이고, 상기 기체는 이소프로필 알코올와 질소가스인 것을 특징으로 하는 웨이퍼 건조 장비.
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