CN105518176B - 用于热浸涂覆金属带的包括可调节限制箱的设备 - Google Patents

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Abstract

一种用于热浸涂覆金属带的设备,该设备包括一种用于热浸涂覆金属带的可调节限制箱设备,该用于热浸涂覆金属带的设备包括:用于使所述金属带沿着路径移动的装置;罐(3),罐(3)用于容纳熔融浴(4);以及擦拭系统,擦拭系统包括设置在罐(3)的下游的所述路径的两侧的至少两个喷嘴,擦拭系统具有箱(16),箱(16)具有用于限制位于所述喷嘴(7)的上游的金属带周围的大气的下限制部(18)以及用于限制位于所述喷嘴的下游的金属带周围的大气的上限制部(30),所述擦拭系统(7)具有用于使下限制部(18)相对于罐(3)竖向移动的第一移动装置。喷嘴能够相对于罐(3)竖向移动。擦拭系统(5)包括用于使上限制部(30)相对于罐(3)和下限制部(18)两者竖向移动的第二移动装置(10)。

Description

用于热浸涂覆金属带的包括可调节限制箱的设备
技术领域
本发明涉及一种用于热浸涂覆金属带的设备,该设备包括容纳熔融浴的罐以及用于在金属带离开金属浴之后对涂覆过的金属带进行擦拭的擦拭系统。擦拭系统允许控制经过该设备的金属带的涂层的质量和厚度。
背景技术
对于汽车工业而言,用于制造白车身的钢板通常涂覆有锌基金属层以用于防腐蚀,该锌基金属层或者通过在锌基液浴中进行热浸涂覆来沉积或者通过在包含锌离子的电镀浴中进行电沉积来沉积。
在被称为热浸镀锌工艺的连续的镀锌工艺中,不断移动的金属带被浸入到熔融金属浴中。然后从浴中拖出金属带,并且使用紊流狭缝射流来消除多余金属并控制涂层的厚度。
DE 40 10 801公开了一种用于热浸涂覆金属带的设备,该设备包括容纳熔融浴的罐以及用于在金属带离开熔融浴之后对涂覆过的金属带进行擦拭的擦拭系统。擦拭系统包括限制箱,该限制箱具有相对于罐固定的上限制部以及可以相对于罐和上限制部在底部位置与顶部位置之间竖向移位的下限制部,在底部位置中,限制箱部分地浸在熔融浴中,在顶部位置中,在限制箱的底部边缘与熔融浴的表面之间存在自由空间。
这种设备并不是令人完全满意的。实际上,涂层的质量将例如根据生产线的操作参数——例如生产线的速度或擦拭压力——以及根据金属带的样式——例如金属带的宽度或厚度——而变化。因此,DE 40 10 801中公开的设备不能用于获得对于各种生产而言都令人满意的涂层。
发明内容
本发明的一个目的是通过提供下述设备来解决该问题:该设备是灵活的并且可以产生对于各种类型的生产而言都令人满意的金属带涂层。
为此,本发明涉及一种用于热浸涂覆金属带的设备,包括使所述金属带沿着路径移动的装置;罐,所述罐用于容纳熔融浴;以及擦拭系统,所述擦拭系统包括设置在所述罐的下游的所述路径的两侧的至少两个喷嘴,每个喷嘴至少具有气体出口,所述擦拭系统具有箱,所述箱具有用于限制位于所述喷嘴的上游的所述金属带周围的大气的下限制部以及用于限制位于所述喷嘴的下游的所述金属带周围的大气的上限制部,所述擦拭系统具有用于使所述下限制部相对于所述罐竖向移动的第一移动装置,其中,所述喷嘴能够相对于所述罐竖向移动,并且所述擦拭系统包括用于使所述上限制部相对于所述罐和所述下限制部两者竖向移动的第二移动装置。
根据本发明的设备还可以包括以下特征中的一个或多个特征:
所述上限制部与所述喷嘴连接成使得所述喷嘴相对于所述罐的竖向运动导致所述上限制部相对于所述罐和所述下限制部进行同一幅度的竖向运动;
所述下限制部能够在底部位置与顶部位置之间竖向移动,所述下限制部在所述底部位置中意在部分地浸在所述熔融浴中;
所述下限制部包括两个下板,其中,所述路径的两侧各有一个下板,所述下板支承在所述罐上;
所述第一移动装置包括起重器,所述起重器将所述罐连接至所述下板;
所述上限制部包括两个上板,其中,所述路径的两侧各有一个上板,每个上板均能够沿着竖向方向相对于位于所述路径的同一侧上的对应的下板滑动;
所述箱还包括位于对应的所述下板与所述上板的相对侧之间的引导轨道,所述引导轨道用于引导所述上板沿着所述竖向方向相对于所述下板的运动;
与位于所述金属带的所述路径的同一侧上的对应的所述下板相关联的每个上板形成所述箱的纵向壁,并且所述箱还包括在所述纵向壁之间延伸以用于横向地封闭所述箱的横向壁;
每个横向壁均包括将所述上板彼此连接的上横向板、将所述下板彼此连接的下横向板、以及在所述上横向板与所述下横向板之间延伸的V形连接部,并且其中,所述V的角度根据所述上板与所述下板之间的相对运动而改变;
所述箱还包括纵向挡板,每个纵向挡板在与所述箱的所述纵向壁大致平行的平面中延伸穿过所述V形连接部中的对应的一个V形连接部的横向端部,以封闭所述横向端部;
所述擦拭系统具有至少一个辅助管,所述至少一个辅助管用于将惰性气体注入到所述箱内位于所述喷嘴的下游处;
所述擦拭系统具有至少一个辅助管,所述至少一个辅助管用于将惰性气体注入到所述箱内位于所述喷嘴的上游处;
所述擦拭系统包括氧含量测量装置,所述氧含量测量装置用于测量所述箱内的氧含量;
所述上限制部由封闭盖形成顶部,所述封闭盖朝向所述路径延伸并限定用于所述金属带通过的狭缝;
所述喷嘴之间限定有间隙,所述间隙意在使所述金属带通过,所述设备还包括构造成用于防止从所述喷嘴吹送的气体喷流在所述间隙中相遇的防碰撞装置;
所述熔融浴具有锌或锌基合金;以及
所述熔融浴包括铝和/或镁。
附图说明
本发明将仅通过示例并参照附图来基于阅读在下面给出的描述进行更好地理解,在附图中:
–图1为根据本发明的用于热浸涂覆金属带的设备的立体图;
–图2为沿与设备的纵向侧垂直的平面截取的图1的设备的示意性截面图,下限制部部分地浸在熔融浴中;以及
–图3为沿与设备的纵向侧平行的平面截取的设备的示意性截面图。
在下面的说明书中,词语“下游”和“上游”要相对于金属带的路径进行理解。
具体实施方式
根据本发明的用于热浸涂覆金属带的设备1在图1上被示出。
设备1包括容纳熔融浴4的罐3或容器。
熔融浴4包括用于涂覆金属带的熔融金属。例如,熔融浴4包括锌(Zn)或锌(Zn)基合金。熔融浴4还可以包括铝和/或镁(Mg)。
设备1还包括用于使金属带沿路径移动的装置。这些带移动装置构造成用于使金属带移动通过熔融浴4,以借助于包括在熔融浴4中的熔融金属来涂覆金属带。这些带移动装置也构造成用于将金属带竖向拖出熔融浴4以及用于使金属带竖向移动通过设备1的擦拭系统5。
金属带在其移动通过擦拭系统5时大致在将在下文中被称为纵向平面的平面中延伸。该纵向平面例如包括竖向方向。金属带的宽度方向被称为纵向方向。纵向方向例如与竖向方向大致垂直。
带移动装置是常规的。带移动装置出于简化的目的而未在图上示出。
擦拭系统5用于擦拭离开熔融浴4的金属带,以除去多余的熔融金属并将涂层的厚度调节至所需厚度。
擦拭系统5包括设置在罐3的下游的金属带的路径的两侧的至少两个喷嘴7。更具体地,喷嘴7之间限定有用于金属带通过的间隙9。喷嘴7布置在该间隙9的两侧,以将气体喷流吹送到金属带的相应侧上,以擦去多余的熔融金属。用于金属带通过的间隙9平行于带平面延伸。喷嘴7可以水平地移动,以设定间隙9的宽度。
每个喷嘴7均包括至少一个气体出口8,擦拭气体通过气体出口8被吹送到金属带的相应侧上。该气体出口8例如由沿喷嘴7的整个长度大致平行于纵向方向延伸的狭缝形成。从狭缝状气体出口8吹送的气体喷流形成了帘幕,金属带沿着例如竖向路径穿过该帘幕。来自喷嘴7的气体喷流沿着擦拭线撞击在金属带上。帘幕在与带的平面大致垂直的平面中——例如大致水平的平面中——延伸。擦拭线沿着纵向方向延伸,例如大致水平地延伸。
每个喷嘴7均连接至用以提供要被吹送到金属带上的气体的充足的擦拭气体源。擦拭气体例如为氮气(N2)或任何其他适合的气体。
每个喷嘴7均由支撑梁10支撑,该支撑梁10在本示例中位于每个喷嘴7上方。支撑梁10在金属带的路径的两侧延伸。支撑梁10之间限定有用于金属带在金属带沿着金属带的路径移动时所通过的间隙。该间隙大致平行于纵向方向延伸。
喷嘴7能够通过喷嘴移位装置相对于罐3竖向移动。更具体地,支撑梁10能够相对于罐3竖向移动并引起附接至支撑梁10的喷嘴7的对应的竖向移位。
喷嘴7连接至支撑梁10,以随支撑梁10沿着竖向方向的任何移位而动。有利地,每个喷嘴7均刚性地连接至对该喷嘴7进行支撑的支撑梁10。然而,在某些特定的工艺构型中,带平面不完全是竖直的而是相对于竖向方向具有略微的倾斜度,具体地小于5°。在这种情况下,每个喷嘴7都将移动成使得两个喷嘴7相结合的虚拟线与带平面垂直地交叉。
有利地,喷嘴7的长度比常规的金属带的宽度更大。该特征允许借助于同一擦拭系统5来擦拭具有不同宽度的金属带。因此,在使用中,在喷嘴7之间的间隙9的边缘处存在喷嘴7在没有金属带插入的情况下面向彼此的区域。
擦拭系统5还包括用于将金属带周围的大气限制在擦拭区域中的箱16。箱16围绕擦拭区域。这防止来自箱16外部的空气进入箱16。
有利地,箱16相对于金属带的路径是对称的。箱16相对于在金属带经过擦拭系统5时金属带所沿着延伸的平面是对称的。
箱16包括用于限制位于喷嘴7上游的金属带周围的大气的下限制部以及用于限制位于喷嘴7下游的金属带周围的大气的上限制部。
擦拭系统5还包括用于使下限制部相对于罐3竖向移动的第一移动装置,以及用于使上限制部相对于下限制部和罐3竖向移动的第二移动装置。
第一移动装置构造成用于使下限制部相对于罐3在底部位置与顶部位置之间移动,在底部位置中,下限制部至少部分地浸在熔融浴4中,在顶部位置中,在下限制部与熔融浴4的表面之间例如存在空间。在示出的示例中,第一移动装置也相对于罐3支撑下限制部。
第二移动装置构造成用于使上限制部在相对于罐3的底部位置与相对于罐3的顶部位置之间移动。
上限制部的竖向运动独立于下限制部的竖向运动。
特别地,上限制部通过第二移动装置相对于罐3的竖向运动不引起下限制部相对于罐3的竖向运动。
特别地,下限制部通过第一移动装置相对于罐3的竖向运动不引起上限制部相对于罐3的竖向运动。
更具体地,在图1上示出的示例中,下限制部包括两个下板18,金属带的路径的两侧各有一个下板18。下板18支承在罐3上。下板18彼此平行。下板18大致竖向地并且平行于纵向方向延伸。
每个下板18均包括沿着纵向方向延伸的上纵向边缘20和下纵向边缘22,以及在所述两个纵向边缘20、22之间垂直于上纵向边缘20和下纵向边缘22延伸的两个侧边缘24、26。
第一移动装置构造成用于使下板18沿着竖向方向相对于罐3向上和/或向下移动。
下板18在其底部位置中至少部分地浸在熔融浴4中。下板18的在底部位置中浸在熔融浴4中的部分设计成能够抵抗熔融浴4的侵蚀性环境。例如,该部分比下板18的其余部分更厚。
下板18在其顶部位置中完全在熔融浴4的表面上方延伸。下板18的下纵向边缘22以距熔融浴4的表面非零距离的方式延伸。在下板18的下纵向边缘22与熔融浴4的表面之间存在自由空间。
在图1上示出的示例中,第一移动装置包括将下板18连接至罐3的起重器(jack)28。起重器28构造成用于使下板18在其底部位置与顶部位置之间竖向移动。起重器28也将下板18相对于罐3保持为处于所需位置。下板18借助于起重器28支承在罐3上。起重器28可以根据需要手动或自动地控制。
在示出的示例中,擦拭系统5在下板18的每个侧边缘24、26处包括一个起重器28。然而,擦拭系统5可以根据需要包括任意数目的起重器28。
替代性地,第一移动装置可以包括适于使下板18相对于罐3竖向移动以及可选地适于将下板18相对于罐3保持为处于所需高度的任何机械装置。
下板18至少部分地在喷嘴7的上游——在喷嘴7下方——延伸。更具体地,下板18至少部分地在由金属带的路径的两侧的气体出口8限定的擦拭线的上游延伸。因此,下板18限制在喷嘴7的上游的金属带周围的大气。
在示出的示例中,下板18也延伸到喷嘴7的下游。
上限制部包括两个上板30,金属带的路径的两侧各有一个上板30。上板30大致彼此平行。上板30沿着纵向方向延伸。上板30大致竖向延伸。
上板30至少部分地在喷嘴7的下游延伸。因此,上板30可以将金属带周围的大气限制在喷嘴7的下游的擦拭区域中。
上板30与喷嘴7连接,使得喷嘴7相对于罐3进行的给定幅度的竖向运动引起了上限制部18具体是上板30相对于罐3进行的相同幅度的竖向运动。更具体地,每个上板30均与位于金属带的路径的同一侧的对应支撑梁10刚性地相关联。因而,支撑梁10的任何竖向移位都导致与支撑梁10相关联的上板30的对应的竖向移位。
有利地,上板30以可移除的方式连接至喷嘴7。上板30可以从喷嘴7移除,并且更具体地在不损坏上板30和支撑梁10的连接部分的情况下从支撑梁10移除。上板30例如拧至支撑梁10。
在示出的示例中,上板30的上纵向边缘32连接至相邻的支撑梁10。更精确地说,在图上示出的示例中,每个上板30均具有倒U形的上纵向边缘32。上纵向边缘32包括大致水平的腹板34以及与上板30大致平行的内凸缘36。内凸缘36通过附接装置——例如铆钉或螺钉——附接至对应的支撑梁10。
喷嘴7沿着竖向方向的任何运动都导致上板30相对于罐3的对应的竖向移位。第二移动装置因此包括用于使喷嘴7竖向移位的装置。
更具体地,每个上板30均大致平行于位于带的路径的同一侧的相邻的下板18延伸。上板30和相邻的下板18形成了箱16的纵向壁。
上限制部连接至下限制部,以便能够沿着竖向方向相对于下限制部滑动。
更具体地,每个上板30均以可滑动的方式连接至位于金属带的路径的同一侧的相邻的下板18。更具体地,第二移动装置包括用于引导上板30沿着竖向方向相对于下板18运动的引导装置。在示出的示例中,这些引导装置包括设置在相邻的上板30与下板18的相面对的侧部之间的多个引导轨道38。引导轨道38大致竖向延伸。引导轨道38沿着纵向方向间隔开。
在第二移动装置使上板30相对于罐3竖向移动时,即在喷嘴7相对于罐3竖向移动时,上板30沿着下板18滑动。上板30在下板18通过第一移动装置相对于罐3竖向移动时也相对于下板18滑动。
在下板18的下纵向边缘22与相邻的上板30的上纵向边缘32之间所测量的箱60的高度因而是可调节的。喷嘴7与罐3之间的距离通过上板30相对于下板18的滑动运动而自动调节至新的距离。
箱16还包括在箱16的纵向壁之间延伸的两个横向壁40。横向壁40大致垂直于纵向方向并且具体地垂直于箱16的纵向壁延伸。有利地,横向壁40在箱16的大致整个高度上延伸。
横向壁40的构型使其自身自动地适应箱16的当前高度,即适应下板18与上板30之间的相对位置。
横向壁40在箱16的整个高度上延伸,而不管下板18与上板30之间的相对位置如何。
每个横向壁40均包括使相对的下板18的侧边缘24或侧边缘26彼此连接的下横向板42、使相对的上板30的侧边缘彼此连接的上横向板44,以及将下横向板42连接至上横向板44的连接部46。
在示出的示例中,下横向板42大致垂直于下板18而在所述两个下板18之间延伸。下横向板42刚性地附接至下板18。下横向板42能够与下板18一起沿着竖向方向在底部位置与顶部位置之间移动,在底部位置中,下横向板42例如部分地浸在熔融浴中,在顶部位置中,横向板42的下边缘例如以距熔融浴4的表面一定距离的方式延伸。例如,横向板42的下边缘与下板18的下纵向边缘22一样以距熔融浴4的表面相同的距离的方式延伸。
下横向板42通过防止横向空气进入擦拭区域中而将限制在喷嘴7的上游的该区域中的金属带周围的大气。在本示例中,下横向板42形成了箱16的下限制部的一部分。
上横向板44大致垂直于上板30而在所述两个上板30之间延伸。上横向板44刚性地附接至上板30。上横向板44与上板30成一体并且上横向板44随上板30的竖向移位而动。
上横向板44通过防止横向空气进入擦拭区域中而限制在喷嘴7的下游的该区域中的金属带周围的大气。上横向板44形成了箱16的上限制部的一部分。
连接部46是V形的。该V形朝向箱16的内部开口。
连接部46包括下连接板47和上连接板48,下连接板47和上连接板48各自形成了V的腿部中的一个腿部。
V的腿部之间的角度根据下横向板42与上横向板44的相对位置并且因而根据上限制部与下限制部之间的相对位置而改变。
例如,当上限制部相对于下限制部向上移动时,V的腿部之间所形成的角度增大。当上限制部相对于下限制部向下移动时,V的腿部之间所形成的角度减小。
连接部46用作在保持横向壁40——特别是下横向板42与上横向板44之间——具有良好的密封性的同时适应下横向板42与上横向板44的相对位置的变化的伸缩件(bellows)。
上连接板48和下连接板47例如通过铰链绕第一旋转轴线X-X’以可旋转的方式彼此连接。第一旋转轴线X-X’例如是大致水平的且与箱16的纵向壁垂直。
在示出的示例中,连接部46还例如通过铰链绕第二旋转轴线Y-Y’以可旋转的方式连接至上横向板44。第二旋转轴线Y-Y’例如是水平的且与上板30垂直。
连接部46还例如通过铰链绕第三旋转轴线Z-Z’以可旋转的方式连接至下横向板42。第三旋转轴线Z-Z’例如是水平的且与下板18垂直。
第一旋转轴线、第二旋转轴线和第三旋转轴线大致彼此平行。
箱16还包括纵向挡板50。在示出的示例中,每个纵向挡板50均附接至箱16的横向壁40的横向端部。横向壁40的横向端部为横向壁40的沿着垂直于箱16的纵向壁的方向所取的端部,即横向壁40的与箱16的纵向壁相邻的端部。
更具体地,每个纵向挡板50均刚性地附接至连接部46,并且更具体地附接至下连接板47。因此,纵向挡板50与连接板47一起绕第三旋转轴线Z-Z’相对于下板18和上板30旋转。在示出的示例中,箱16在其每个拐角处包括一个纵向挡板50。
在示出的示例中,每个纵向挡板50均由板形成。该板例如具有由连接至连接板47的直线部分以及弯曲的自由边缘构成的轮廓。弯曲的自由边缘是凸的。弯曲的自由边缘设计成以便允许纵向挡板50在不受引导轨道38的阻碍的情况下绕第三旋转轴线Z-Z’相对于下板18和上板30旋转。
纵向挡板50通过延伸经过垂直于对应的横向壁40的平面中的V形开口而将在横向壁40的横向端部处的这些V形开口进行密封。
纵向挡板50在与箱16的纵向壁平行的平面中延伸。纵向挡板50在上板18与下板30的侧边缘处至少部分地在相邻的上板18与下板30之间延伸。因此,纵向挡板50在上板18与下板30的侧边缘处将存在于相邻的上板18与下板30之间的空间进行密封,并防止外部空气通过该空间进入箱16。因此,纵向挡板50有助于提高箱16在这些区域中的密封性。
纵向挡板50在下板18与上板30的相对位置变化时自动地绕垂直于箱16的纵向壁的轴线——更具体地绕第三旋转轴线Z-Z’——相对于下板18和上板30旋转。当纵向挡板50相对于下板18和上板30旋转时,挡板50的在相邻的下板18与上板30之间延伸的部分发生变化。
纵向挡板50随着箱16的高度增大而进一步地旋转到相邻的下板18与上板30之间的空间中。相反,纵向挡板50随着限制箱16的高度减小而部分地旋转离开相邻的下板18与上板30之间的空间。因此,纵向挡板50的在相邻的下板18和上板30之间延伸的部分随着箱16的高度的减小而减小。
上限制部由封闭盖52形成顶部,封闭盖52将箱16在箱16的顶部处封闭。封闭盖52之间限定了狭缝53,金属带通过狭缝53离开箱16。狭缝53沿着纵向方向延伸。
在图上示出的示例中,箱16包括位于金属带的路径的两侧并朝向金属带的路径延伸的两个封闭盖52。更具体地,封闭盖52在形成于支撑梁10之间的间隙中延伸并减小了该间隙的宽度。在封闭盖52之间限定的狭缝53的宽度小于在支撑梁10之间形成的间隙的宽度。因而,封闭盖52在金属带周围对箱16的顶部进行密封并提高了箱16的在金属带离开限制箱16的区域中的密封性。
擦拭系统5可以可选地包括用于防止带的边缘的过量涂覆的装置。带的边缘的过量涂覆意味着带的边缘处的涂层比带的中心处的涂层更厚。
更具体地,用于防止金属带的边缘的过量涂覆的装置包括防碰撞装置,该防碰撞装置构造成用于防止从喷嘴7吹送的气体喷流在间隙9中特别地在间隙9的边缘处——在使用中由于金属带的宽度而在该处没有金属带位于喷嘴7之间——彼此相遇。因而,在这些区域中,从喷嘴7吹送的气体喷流将与在喷嘴7之间延伸的防碰撞装置相互作用,而不是在间隙9中彼此相遇。
防止从相对的喷嘴7吹送的气体喷流相遇是有利的。事实上,这防止了由于这种相遇而会由气体流动的扰动以其他方式造成的金属带的边缘的过量涂覆。
第二有利的作用是防噪声作用,即防止会由气体喷流在间隙9中的相遇以其他方式造成的大幅度的声振动的发生。
这种防碰撞装置可以存在于产生与涂覆金属相互作用的磁场的电磁系统中。防碰撞装置也可以是机械装置。在图中示出的示例中,防碰撞装置包括两个挡板54。每个挡板54均由在相对的喷嘴7之间的间隙9中的区域——在该区域中,由于金属带的宽度,喷嘴7将在金属带不插入的情况下面向彼此——中延伸的金属板形成,特别地由间隙9的沿纵向方向所取的边缘处延伸的金属板形成。
防碰撞装置在限制箱16中延伸。特别地,防碰撞装置完全地包括在限制箱16中。
防碰撞装置有利地能够在间隙9中相对于喷嘴7移位。该移位可以用于通过使防碰撞装置垂直于带平面移动而使防碰撞装置与带平面对准。另外,装置也可以沿与带平面平行的方向移动。为此目的,擦拭系统5还包括用于使防碰撞装置移位的致动装置。该致动装置能够从限制箱16的外部进行控制。具体地,在图中示出的示例中,致动装置至少部分地在限制箱16外面延伸,以便能够从限制箱16的外部来接触,从而使防碰撞装置移位。更具体地,致动装置连接至包括在限制箱16中的防碰撞装置,并且致动装置延伸穿过限定在封闭盖52之间的狭缝53。
在图中示出的示例中,致动装置包括用于使每个挡板54移位的至少一个杆55。每个杆55均一体地附接至对应的挡板52。杆55从挡板54向上延伸穿过限定在封闭盖52之间的狭缝53。杆55至少部分地在限制箱16外部延伸。
有利地,杆55能够沿着纵向方向相对于喷嘴7移动。杆55可以沿着竖向方向相对于喷嘴7固定。
例如,杆55可以以可滑动的方式安装在设置于支撑梁10上的轨道中,并且杆55与纵向方向大致平行。这些轨道允许沿着纵向方向的在支撑梁10与杆55之间的相对运动,并且因而允许沿着纵向方向的在支撑梁10与和杆55是一体的挡板54之间的相对运动。然而,杆55随着支撑梁10沿着竖向方向的运动并且因而随着喷嘴7沿着竖向方向的运动而动。
提供了一种包括限制箱16和防碰撞装置的擦拭系统是有利的。事实上,尽管该系统是通过限制箱16来很好地限制的,但是仍然可以提供一种用于防止诸如边缘过量涂覆之类的涂覆缺陷的防碰撞装置,并且可以根据需要来使该防碰撞装置在限制箱16内移位。
可选地,擦拭系统5至少还包括用于将惰性气体注入到箱16中位于喷嘴7的下游处的第一辅助管60。特别地,擦拭系统5包括位于金属带的路径的两侧的至少一个第一辅助管60。
可选地,擦拭系统5至少还包括用于将惰性气体注入到箱16中位于喷嘴7的上游处的第二辅助管62。特别地,擦拭系统5包括位于金属带的路径的两侧的至少一个第二辅助管62。
横向壁40并且更具体地上横向板44可以包括开口,第一辅助管60和/或第二辅助管62通过该开口以气密方式插入到箱16中。
管60、62例如可以沿着箱16的纵向侧在箱16内大致水平地延伸。管60、62包括用于将惰性气体吹送到箱16中的气体出口。每个气体出口均优选地沿着擦拭喷嘴7的整个长度延伸,以将惰性气体均匀地分配在箱16中。有利地,管60、62的气体出口由至少一个并且优选地由多个纵向延伸的狭缝形成。管60、62连接至惰性气体源。惰性气体例如为氮气(N2)。
对于区域宽度(band width)高于1400mm,金属带的路径的两侧的管60、62的长度可以减小。在这种情况下,每个管60、62均包括用于在管60、62的端部处分配位于箱16中的惰性气体的一个气体出口。第一辅助管60和第二辅助管62的气体出口不面向金属带的相应的侧边缘敞开。因此,惰性气体不沿着擦拭喷嘴7的整个长度进行分配。
作为示例,第一辅助管60具有形成在侧部上的气体出口,使得箱16中的位于喷嘴7的下游的区域中的气体被从这些管水平地吹出。
例如,第二辅助管62具有沿着管62的底部形成的气体出口,使得惰性气体沿上游方向从这些管62中吹出到箱16中的位于喷嘴7的上游的区域中。来自第二辅助管62的惰性气体也被吹入到箱16的位于上板18和/或下板30与喷嘴7之间的区域中。
辅助管60、62可以用于将惰性气体注入到箱16中,以在箱16中产生过压,从而防止外部空气进入箱16。因此,惰性气体的注入有助于提高箱16的密封性。
擦拭系统5还可以包括用于使惰性气体从箱16进行再循环的系统。该系统构造成例如借助于泵来将惰性气体从箱16除去,并且构造成用于通过第一辅助管60和/或第二辅助管62以及/或者喷嘴7将惰性气体再注入到箱60中。这种系统是常规的并且未在图上示出。这特别可以在箱16处于完全封闭构型——在完全封闭构型中,限制箱16的下端部浸到熔融浴中并且基本上没有气体可以从箱16通过箱16的下端部逸出——时使用。
最后,擦拭系统5可以包括用于测量箱16内特别是金属带附近的氧含量的氧含量测量装置。该测量装置包括连接至一个或多个氧探头的多个管64,所述一个或多个氧探头构造成用于测量箱16内的不同位置处的氧含量。例如,装置包括位于金属带的路径的两侧的多个氧探头,氧探头构造成用于测量沿着金属带的宽度在不同位置处的金属带附近的氧含量。
根据本发明的设备1的限制箱16可以产生用于不同种类的生产的令人满意的金属带涂层。
当从一种类型的涂覆过的金属带生产变化成另一种类型的涂覆过的金属带生产时,例如当从一个金属带厚度变化至另一金属带厚度或者从一个涂层厚度变化成另一涂层厚度时,生产线速度会改变。
根据本发明的设备1,不管经过擦拭系统5的金属带的速度和样式(宽度、厚度)如何,都可以获得同一质量的涂层。事实上,当带的速度增大时,例如在对于给定的涂层厚度而言产生较薄的金属带的情况下,相应地通常需要增大擦拭压力。该增大的压力可能导致涂覆金属从金属带突出到擦拭喷嘴7上,这会部分地阻塞喷嘴7的气体出口8。这又由于涂层在面向气体出口8的被阻塞区域的区域中将不进行擦拭而可能导致涂层的不符合要求的质量。在根据本发明的设备中,这可以通过增大喷嘴7与浴4之间的距离来限制,以便减少再突出。
此外,当设备1包括防碰撞装置例如挡板54时,该防碰撞装置有助于通过减少例如特别是边缘过量涂覆之类的缺陷来获得良好水平的涂覆质量。
另外,尽管浴至喷嘴的距离由于限制箱16使限制箱16自身适应浴至喷嘴的距离的变化而增大,但是涂层的质量保持令人满意,因而确保了适当的限制而不管浴至喷嘴的距离如何,并且防止了擦拭区域周围的涂层的氧化。由于事实上上限制部能够沿着竖向方向相对于罐3移动,因此这是值得注意的。由于上限制部连接至喷嘴7以随喷嘴7的移位而动,因而箱16的适应进一步自动化。
根据本发明的设备还特别是通用的。事实上,由于箱16包括能够相对于彼此移动以及相对于罐3移动的上限制部和下限制部,因此箱16可以适于任何现有的喷嘴系统,而不管喷嘴7与浴4的表面之间的距离如何。
另外,箱16的下端部与罐3之间的距离可以简单地通过使下限制部相对于罐3移动而非常容易地改变。因此特别易于从敞开的箱构型切换至完全密封的构型,在敞开的箱构型中,熔融浴4的表面与箱16的下端部之间存在相当大的空间,在完全密封的构型中,箱16的下端部浸在熔融浴4中。因此,该特征允许限制箱16容易地适应擦拭状态或改变熔融浴组分。例如,在需要特别高的气密性的情况下,允许下限制部部分地浸到熔融浴4中。替代性地,在例如出于清洁的目的而需要触及熔融浴的表面的情况下,允许在熔融浴表面与下限制部之间设置间隙。
另外,事实上,横向壁40和纵向挡板50响应于竖向的喷嘴移位以及/或者箱16至罐3的距离的变化而移动,这还有助于使箱16的形状适应喷嘴7至罐3的距离或箱16至罐3的距离的变化。
根据本发明的擦拭系统5还非常易于利用和维护。由于可以使下限制部相对于罐3或相对于喷嘴7移动,因此这是值得注意的。因而,事实上,可以在需要时简单地通过使下限制部竖向向上移动来清洁熔融浴表面或喷嘴7。
另外,当箱16与喷嘴7和支撑梁10不制成一个件时,箱16提供了例如出于维修喷嘴系统的部件的目的而可以容易地将其从喷嘴7拆下的额外的优点。

Claims (17)

1.一种用于热浸涂覆金属带的设备(1),所述设备(1)包括:
使所述金属带沿着路径移动的装置,
罐(3),所述罐(3)用于容纳熔融浴(4),以及
擦拭系统(5),所述擦拭系统(5)包括设置在所述罐(3)的下游的所述路径的两侧的至少两个喷嘴(7),每个喷嘴(7)至少具有气体出口(8),所述擦拭系统(5)具有箱(16),所述箱(16)具有用于限制位于所述喷嘴(7)的上游的所述金属带周围的大气的下限制部以及用于限制位于所述喷嘴(7)的下游的所述金属带周围的大气的上限制部,所述擦拭系统(5)具有用于使所述下限制部相对于所述罐(3)竖向移动的第一移动装置,
其中,所述喷嘴(7)能够相对于所述罐(3)竖向移动,并且所述擦拭系统(5)包括用于使所述上限制部相对于所述罐(3)和所述下限制部两者竖向移动的第二移动装置。
2.根据权利要求1所述的设备(1),其中,所述上限制部与所述喷嘴(7)连接成使得所述喷嘴(7)相对于所述罐(3)的竖向运动导致所述上限制部相对于所述罐(3)和所述下限制部进行同一幅度的竖向运动。
3.根据权利要求2所述的设备(1),其中,所述下限制部能够在底部位置与顶部位置之间竖向移动,所述下限制部在所述底部位置中至少部分地浸在所述熔融浴(4)中。
4.根据权利要求1或2所述的设备(1),其中,所述下限制部包括两个下板(18),其中,所述路径的两侧各有一个下板(18),所述下板(18)支承在所述罐(3)上。
5.根据权利要求4所述的设备,其中,所述第一移动装置包括起重器(28),所述起重器(28)将所述罐(3)连接至所述下板(18)。
6.根据权利要求4所述的设备(1),其中,所述上限制部包括两个上板(30),其中,所述路径的两侧各有一个上板(30),每个上板(30)均能够沿着竖向方向相对于位于所述路径的同一侧上的对应的下板(18)滑动。
7.根据权利要求6所述的设备(1),其中,所述箱(16)还包括位于对应的所述下板(18)与所述上板(30)的相对侧之间的引导轨道(38),所述引导轨道(38)用于引导所述上板(30)沿着所述竖向方向相对于所述下板(18)的运动。
8.根据权利要求6所述的设备(1),其中,与位于所述金属带的所述路径的同一侧上的对应的所述下板(18)相关联的每个上板(30)形成所述箱(16)的纵向壁,并且所述箱(16)还包括在所述纵向壁之间延伸以用于横向地封闭所述箱(16)的横向壁(40)。
9.根据权利要求8所述的设备(1),其中,每个横向壁(40)均包括将所述上板(30)彼此连接的上横向板(44)、将所述下板(18)彼此连接的下横向板(42)、以及在所述上横向板(44)与所述下横向板(42)之间延伸的V形连接部(46),并且其中,所述V形连接部(46)的V形的角度根据所述上板(30)与所述下板(18)之间的相对运动而改变。
10.根据权利要求9所述的设备(1),其中,所述箱(16)还包括纵向挡板(50),每个纵向挡板(50)在与所述箱(16)的所述纵向壁大致平行的平面中延伸穿过所述V形连接部(46)中的对应的一个V形连接部的横向端部,以封闭所述横向端部。
11.根据权利要求1或2所述的设备(1),其中,所述擦拭系统(5)具有至少一个辅助管(60),所述至少一个辅助管(60)用于将惰性气体注入到所述箱(16)内位于所述喷嘴(7)的下游处。
12.根据权利要求1或2所述的设备(1),其中,所述擦拭系统(5)具有至少一个辅助管(62),所述至少一个辅助管(62)用于将惰性气体注入到所述箱(16)内位于所述喷嘴(7)的上游处。
13.根据权利要求1或2所述的设备(1),其中,所述擦拭系统(5)包括氧含量测量装置(64),所述氧含量测量装置(64)用于测量所述箱(16)内的氧含量。
14.根据权利要求1或2所述的设备(1),其中,所述上限制部由封闭盖(52)形成顶部,所述封闭盖(52)朝向所述路径延伸并限定用于所述金属带通过的狭缝(53)。
15.根据权利要求14所述的设备(1),其中,所述喷嘴(7)之间限定有间隙(9),所述间隙(9)意在使所述金属带通过,所述设备还包括构造成用于防止从所述喷嘴(7)吹送的气体喷流在所述间隙(9)中相遇的防碰撞装置(54)。
16.根据权利要求1或2所述的设备(1),其中,所述熔融浴具有锌或锌基合金。
17.根据权利要求16所述的设备(1),其中,所述熔融浴包括铝和/或镁。
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