KR20160019508A - 조절가능한 구속 박스를 포함하는 금속 스트립의 핫 디프 코팅용 설비 - Google Patents

Abstract

본 발명은 금속 스트립의 핫 디프 코팅용 설비에 관한 것으로, 상기 설비는: - 상기 금속 스트립을 경로를 따라서 이동시키는 수단, - 용해조 (4) 를 포함하는 포트 (3), 및 - 상기 포트 (3) 의 하류에서 상기 경로의 양측에 위치된 적어도 두 개의 노즐들을 포함하는 와이핑 시스템으로서, 와이핑 시스템은 상기 노즐들 (7) 의 상류에서 상기 금속 스트립 주위의 대기를 구속하기 위한 하부 구속 부분 (18) 및 상기 노즐들의 하류에서 상기 금속 스트립 주위의 대기를 구속하기 위한 상부 구속 부분 (30) 을 갖는 박스 (16) 를 구비하고, 상기 와이핑 시스템 (7) 은 상기 포트 (3) 에 대하여 상기 하부 구속 부분 (18) 을 수직으로 이동시키기 위한 제 1 이동 수단을 구비하는, 상기 와이핑 시스템을 포함한다. 상기 노즐들은 상기 포트 (3) 에 대하여 수직으로 이동할 수 있다. 상기 와이핑 시스템 (5) 은 상기 포트 (3) 와 상기 하부 구속 부분 (18) 에 대하여 상기 상부 구속 부분 (30) 을 수직으로 이동시키기 위한 제 2 이동 수단 (10) 을 포함한다.

Description

조절가능한 구속 박스를 포함하는 금속 스트립의 핫 디프 코팅용 설비{INSTALLATION FOR HOT DIP COATING A METAL STRIP COMPRISING AN ADJUSTABLE CONFINEMENT BOX}

본 발명은 금속 스트립의 핫 디프 코팅용 설비에 관한 것으로, 상기 설비는 용해조를 포함하는 포트 및 금속 스트립이 용해조를 나온 후에 코팅된 금속 스트립을 와이핑하기 위한 와이핑 시스템을 포함한다. 와이핑 시스템은 설비를 통과하는 금속 스트립의 코팅 품질 및 두께를 제어할 수 있다.

일반적으로, 자동차 산업용의 보디-인-화이트 (bodies-in-white) 를 제조하는데 사용되는 강판들은 아연계 액체조에서의 핫 디프 코팅에 의해 또는 아연 이온들을 포함하는 전기 도금조에서의 전해 석출에 의해 디포짓되는 부식 방지용 아연계 금속층으로 코팅된다.

핫 디프 아연도금 프로세스로서 공지된 연속 아연도금 프로세스에서, 연속적으로 이동하는 금속 스트립은 용융 금속욕 내부로 담긴다. 그 후, 금속 스트립은 욕 외부로 드래깅되고, 난류의 슬롯 제트는 과잉 금속을 와이핑하고 코팅의 두께를 제어하기 위해 사용된다.

DE 40 10　801 는, 용해조를 포함하는 포트 및 금속 스트립이 용해조를 나온 후에 코팅된 금속 스트립을 와이핑하기 위한 와이핑 시스템을 구비하는 금속 스트립의 핫 디프 코팅용 설비를 개시한다. 와이핑 시스템은 포트에 관하여 고정되는 상부 구속 부분, 및 하부 구속 부분이 용해조 내에 부분적으로 담기는 저부 위치와 구속 박스의 저부 엣지와 용해조의 표면 사이에 자유 공간이 존재하는 상부 위치 사이에서 상부 구속 부분에 관하여 그리고 포트에 관하여 수직으로 변위될 수 있는 하부 구속 부분을 구비하는 구속 박스를 포함한다.

이러한 설비는 완전히 만족스럽지 않다. 실제로, 코팅의 품질은, 예를 들어 와이핑 압력 또는 라인 속도와 같은 라인의 작동 파라미터들에 따라, 뿐만 아니라 금속 스트립의 폭 또는 두께와 같은 포맷에 따라 다양할 것이다. 그러므로, DE 40 10　801 에 개시된 설비는 모든 종류의 제품들에 대해 만족스러운 코팅들을 달성하기 위해 사용될 수 없다.

본 발명의 목적은, 유연하고 또한 다양한 종류의 제품들에 대해 금속 스트립의 만족스러운 코팅을 제조할 수 있는 설비를 제공함으로써 이러한 문제를 해결하는 것이다.

이를 위하여, 본 발명은 청구항 1 에 따른 금속 스트립의 핫 디프 코팅용 설비에 관한 것이다.

또한, 본 발명에 따른 설비는 청구항 2 내지 청구항 17 에 기재된 하나 이상의 특징들을 포함할 수도 있다.

본 발명은 첨부 도면들을 참조하여 단지 한 예로서 주어진 이하의 상세한 설명을 읽으면 더 잘 이해될 것이다.

도 1 은 본 발명에 따른 금속 스트립의 핫 디프 코팅용 설비의 사시도이다.
도 2 는, 하부 구속 부분이 용해조 내에 부분적으로 담기는 설비의 길이방향 측들에 수직하는 평면을 따라서 취해진 도 1 의 설비의 개략적인 단면도이다.
도 3 은 설비의 길이방향 측들에 평행하는 평면을 따라서 취해진 설비의 개략적인 단면도이다.

이하의 명세서에서, 표현 "하류" 및 "상류" 는 금속 스트립의 경로에 관하여 이해되어야 한다.

본 발명에 따른 금속 스트립의 핫 디프 코팅용 설비 (1) 는 도 1 에 도시되어 있다.

설비 (1) 는 용해조 (4) 를 포함하는 포트 (3) 또는 저장소를 포함한다.

용해조 (4) 는 금속 스트립을 코팅하도록 되어 있는 용융 금속을 포함한다. 예를 들어, 용해조 (4) 는 아연 (Zn) 또는 아연 (Zn) 계 합금을 포함한다. 용해조 (4) 는 알루미늄 및/또는 마그네슘 (Mg) 을 추가로 포함할 수도 있다.

설비 (1) 는 경로를 따라서 금속 스트립을 이동시키기 위한 수단을 추가로 포함한다. 이러한 스트립 이동 수단은, 금속 스트립을 용해조 (4) 내에 포함된 용융 금속으로 코팅하기 위하여, 용해조 (4) 를 통해 금속 스트립을 이동시키도록 구성된다. 또한, 이러한 스트립 이동 수단은 금속 스트립을 용해조 (4) 외부로 수직하게 드래깅하도록 그리고 금속 스트립을 설비 (1) 의 와이핑 시스템 (5) 을 통해 수직하게 이동시키도록 구성된다.

금속 스트립이 와이핑 시스템 (5) 을 통해 이동할 때에, 금속 스트립은 실질적으로 이하에서 길이방향 평면으로 불리는 평면에서 연장한다. 예컨대 이러한 길이방향 평면은 수직 방향을 포함한다. 금속 스트립의 폭 방향은 가로 방향으로 불린다. 예컨대 가로 방향은 수직 방향과 실질적으로 수직한다.

스트립 이동 수단은 통상적이다. 스트립 이동 수단은 간략화 목적을 위해 도면들에 도시되지 않는다.

와이핑 시스템 (5) 은 과잉의 용융 금속을 제거하기 위하여 그리고 코팅의 두께를 원하는 두께로 조절하기 위하여 용해조 (4) 를 나오는 금속 스트립을 와이핑하도록 되어 있다.

와이핑 시스템 (5) 은 포트 (3) 의 하류에서 금속 스트립의 경로의 양측에 배치된 적어도 두 개의 노즐들 (7) 을 포함한다. 더 구체적으로, 노즐들 (7) 은 그들 사이에서 금속 스트립의 통과를 위한 갭 (9) 을 경계짓는다. 노즐들 (7) 은 과잉의 용융 금속을 씻어 내기 위하여 금속 스트립의 각각의 측을 향해 가스 제트들을 블로잉하도록 이러한 갭 (9) 의 양측에 배치된다. 금속 스트립의 통과를 위한 갭 (9) 은 스트립 평면에 평행하게 연장한다. 노즐들 (7) 은 갭 (9) 의 폭을 설정하기 위하여 수평방향으로 이동될 수 있다.

각각의 노즐 (7) 은 와이핑 가스가 금속 스트립의 각각의 측을 향해 블로잉되는 적어도 하나의 가스 출구 (8) 를 포함한다. 예를 들어, 이러한 가스 출구 (8) 는 노즐 (7) 의 전체 길이를 따라서 가로 방향에 실질적으로 평행하게 연장하는 슬릿에 의해 형성된다. 슬릿형 가스 출구들 (8) 로부터 블로잉된 가스 제트들은 예컨대 금속 스트립이 수직 경로를 따라서 통과하는 커튼을 형성한다. 노즐들 (7) 로부터의 가스 제트들은 와이핑 라인을 따라서 금속 스트립에 영향을 미친다. 커튼은 스트립의 평면에 실질적으로 수직하는, 예컨대 실질적으로 수평한 평면에서 연장한다. 와이핑 라인은 가로 방향을 따라서, 예컨대 실질적으로 수평방향으로 연장한다.

각각의 노즐 (7) 은 금속 스트립을 향해 블로잉되어야 하는 가스를 제공하기에 적합한 와이핑 가스 소스에 연결된다. 와이핑 가스는 예를 들어 질소 (N₂) 또는 임의의 다른 적합한 가스이다.

각각의 노즐 (7) 은, 이러한 예에서, 각각의 노즐 (7) 위에 위치되는 지지 빔 (10) 에 의해 지지된다. 지지 빔들 (10) 은 금속 스트립의 경로의 양측에서 연장한다. 지지 빔들 (10) 은 그들 사이에서 금속 스트립이 그의 경로를 따라서 이동됨에 따라 금속 스트립의 통과를 위한 갭을 경계짓는다. 이러한 갭은 가로 방향에 실질적으로 평행하게 연장한다.

노즐들 (7) 은 노즐 변위 수단을 통해 포트 (3) 에 대해 수직하게 이동할 수 있다. 더 구체적으로, 지지 빔들 (10) 은 포트 (3) 에 대하여 수직하게 이동할 수 있고, 지지 빔들 (10) 에 부착되는 노즐들 (7) 의 상응하는 수직 변위를 야기한다.

노즐들 (7) 은 수직 방향을 따라서 지지 빔들 (10) 의 임의의 변위를 따르도록 지지 빔들 (10) 에 연결된다. 유리하게는, 각각의 노즐 (7) 이 지지 빔 (10) 에 단단하게 연결되고, 상기 지지 빔 (10) 에 의해 각각의 노즐이 지지된다. 하지만, 일부 특정한 프로세스 구성들에서, 스트립 평면이 완전하게 수직인 것이 아니라, 수직 방향에 대해 약간의, 특히 5°미만의 경사를 가진다. 이러한 경우에, 각각의 노즐 (7) 은 양자의 노즐들 (7) 을 접합하는 가상 라인이 스트립 평면을 수직하게 교차하도록 이동될 것이다.

유리하게는, 노즐들 (7) 의 길이는 통상의 금속 스트립들의 폭보다 더 크다. 이러한 특징은 동일한 와이핑 시스템 (5) 으로 상이한 폭들의 금속 스트립들을 와이핑할 수 있다. 그러므로, 사용 시에, 노즐들 (7) 사이의 갭 (9) 의 엣지들에는, 노즐들 (7) 이 금속 스트립의 개제 없이 서로 대면하는 영역들이 존재한다.

와이핑 시스템 (5) 은 와이핑 영역에서 금속 스트립 주위의 대기를 구속하기 위한 박스 (16) 를 추가로 포함한다. 박스 (16) 는 와이핑 영역을 둘러싼다. 박스는 박스 (16) 의 외부 공기가 박스 (16) 에 진입하는 것을 방지한다.

유리하게는, 박스 (16) 는 금속 스트립의 경로에 대해 대칭이다. 이는 금속 스트립이 와이핑 시스템 (5) 을 통과할 때에 금속 스트립이 연장하는 평면에 대해 대칭이다.

박스 (16) 는 노즐들 (7) 의 상류에서 금속 스트립 주위의 대기를 구속하기 위한 하부 구속 부분 및 노즐들 (7) 의 하류에서 금속 스트립 주위의 대기를 구속하기 위한 상부 구속 부분을 포함한다.

와이핑 시스템 (5) 은 포트 (3) 에 대해 수직으로 하부 구속 부분을 이동시키기 위한 제 1 이동 수단, 및 하부 구속 부분 및 포트 (3) 에 대해 수직으로 상부 구속 부분을 이동시키기 위한 제 2 이동 수단을 추가로 포함한다.

제 1 이동 수단은, 하부 구속 부분이 용해조 (4) 내에 적어도 부분적으로 담기는 저부 위치와 예를 들어 하부 구속 부분과 용해조 (4) 의 표면 사이의 공간에 존재하는 상부 위치 사이에서 포트 (3) 에 대해 하부 구속 부분을 이동시키도록 구성된다. 도시된 예에서, 제 1 이동 수단은 또한 포트 (3) 에 대해 하부 구속 부분을 지지한다.

제 2 이동 수단은, 포트 (3) 에 대한 저부 위치와 포트 (3) 에 대한 상부 위치 사이에서 상부 구속 부분을 이동시키도록 구성된다.

상부 구속 부분의 수직 운동은 하부 구속 부분의 수직 운동과 무관하다.

특히, 제 2 이동 수단을 통하여 포트 (3) 에 대한 상부 구속 부분의 수직 운동이 포트 (3) 에 대한 하부 구속 부분의 수직 운동을 초래하진 않는다.

특히, 제 1 이동 수단을 통하여 포트들 (3) 에 대한 하부 구속 부분의 수직 운동이 포트 (3) 에 대한 상부 구속 부분의 수직 운동을 초래하진 않는다.

더 구체적으로, 도 1 에 도시된 예에서, 하부 구속 부분은 금속 스트립의 경로의 양측에 각각 있는 두 개의 하부 플레이트들 (18) 을 포함한다. 하부 플레이트들 (18) 은 포트 (3) 에서 지탱된다. 하부 플레이트들은 서로에 대해 평행하다. 하부 플레이트들은 가로 방향에 실질적으로 수직하게 그리고 평행하게 연장한다.

각각의 하부 플레이트 (18) 는 가로 방향을 따라서 연장하는 상부 길이방향 엣지 (20) 및 하부 길이방향 엣지 (22), 뿐만 아니라 이러한 두 개의 길이방향 엣지들 (20, 22) 사이에서 상부 및 하부 길이방향 엣지들 (20, 22) 에 수직하게 연장하는 두 개의 측방향 엣지들 (24, 26) 을 포함한다.

제 1 이동 수단은 수직 방향을 따라서 포트 (3) 에 대해 하부 플레이트들 (18) 을 상향으로 그리고/또는 하향으로 이동시키도록 구성된다.

저부 위치에서, 하부 플레이트들 (18) 은 용해조 (4) 에 적어도 부분적으로 담긴다. 저부 위치에서 용해조 (4) 내에 담기는 하부 플레이트 (18) 의 일부가 용해조 (4) 의 공격적인 환경을 거스를 수 있도록 디자인된다. 하부 플레이트의 일부는 예를 들어 하부 플레이트 (18) 의 나머지보다 더 두껍다.

상부 위치에서, 하부 플레이트들 (18) 은 용해조 (4) 의 표면 위에서 전체적으로 연장한다. 하부 플레이트들 (18) 의 하부 길이방향 엣지들 (22) 은 용해조 (4) 의 표면으로부터 영이 아닌 거리에서 연장한다. 하부 플레이트들 (18) 의 하부 길이방향 엣지들 (22) 과 용해조 (4) 의 표면 사이에는 자유면이 존재한다.

도 1 에 도시된 예에서, 제 1 이동 수단은 하부 플레이트들 (18) 을 포트 (3) 에 연결시키는 잭들 (28) 을 포함한다. 잭들 (28) 은 하부 플레이트들 (18) 을 그들의 저부 위치와 그들의 상부 위치 사이에서 수직으로 이동시키도록 구성된다. 또한, 잭들 (28) 은 포트 (3) 에 대하여 원하는 위치에 하부 플레이트들 (18) 을 홀딩한다. 하부 플레이트들 (18) 은 잭들 (28) 에 의해 포트 (3) 에서 지탱된다. 잭들 (28) 은 수동으로 또는 자동으로 필요한 대로 제어될 수도 있다.

도시된 예에서, 와이핑 시스템 (5) 은 하부 플레이트들 (18) 의 각각의 측방향 엣지 (24, 26) 에서 하나의 잭 (28) 을 포함한다. 하지만, 와이핑 시스템 (5) 은 임의의 수의 잭들 (28) 을 필요한 만큼 포함할 수도 있다.

대안적으로, 제 1 이동 수단은 하부 플레이트들 (18) 을 포트 (3) 에 대해 수직으로 이동시키기에 적합한, 선택적으로는 하부 플레이트들 (18) 을 포트 (3) 에 대해 원하는 높이로 홀딩하기에 적합한 임의의 기계적인 수단을 포함할 수도 있다.

하부 플레이트들 (18) 은 노즐들 (7) 의 상류에서, 즉 노즐들 (7) 의 아래로 적어도 부분적으로 연장한다. 더 구체적으로는, 하부 플레이트들 (18) 은 금속 스트립의 경로의 양측에 있는 가스 출구들 (8) 에 의해 규정된 와이핑 라인의 상류에서 적어도 부분적으로 연장한다. 그러므로, 하부 플레이트들 (18) 은 노즐들 (7) 의 상류에서 금속 스트립 주위의 대기를 구속한다.

도시된 예에서, 하부 플레이트들 (18) 은 노즐들 (7) 의 하류에서 또한 연장한다.

상부 구속 부분은 금속 스트립의 경로의 양측에 각각 있는 두 개의 상부 플레이트들 (30) 을 포함한다. 상부 플레이트들은 서로에 대해 실질적으로 평행하다. 상부 플레이트들 (30) 은 가로 방향을 따라서 연장한다. 상부 플레이트들은 실질적으로 수직하게 연장한다.

상부 플레이트들 (30) 은 노즐들 (7) 의 하류에서 적어도 부분적으로 연장한다. 그러므로, 상부 플레이트들은 노즐들 (7) 의 하류에서 와이핑 영역에서 금속 스트립 주위의 대기를 구속한다.

상부 플레이트들 (30) 은 주어진 진폭의 포트 (3) 에 대한 노즐들 (7) 의 수직 운동이 동일한 진폭의 포트 (3) 에 대한, 상부 구속 부분 (18) 의, 특히 상부 플레이트들 (30) 의 수직 운동을 야기하도록 노즐들 (7) 과 연결된다. 더 구체적으로는, 각각의 상부 플레이트 (30) 는 금속 스트립의 경로의 동일 측에 위치된 상응하는 지지 빔 (10) 과 단단하게 연결된다. 따라서, 지지 빔 (10) 의 임의의 수직 변위는 지지 빔 (10) 과 연결된 상부 플레이트 (30) 의 상응하는 수직 변위를 야기한다.

유리하게는, 상부 플레이트들 (30) 은 노즐들 (7) 에 제거가능하게 연결된다. 상부 플레이트들 (30) 은 연결 부분들을 손상시키지 않으면서 노즐들 (7) 로부터, 더 구체적으로는 지지 빔들 (10) 로부터 제거될 수 있다. 상부 플레이트들 (30) 은 예를 들어 지지 빔들 (10) 에 나사고정된다.

도시된 예에서, 상부 플레이트 (30) 의 상부 길이방향 엣지 (32) 는 인접한 지지 빔 (10) 에 연결된다. 더 정확하게는, 도면들에 도시된 예에서, 각각의 상부 플레이트 (30) 는 역전된 U 형태를 갖는 상부 길이방향 엣지 (32) 를 갖는다. 상부 플레이트는 상부 플레이트 (30) 에 실질적으로 평행한 내부 플랜지 (36) 와 실질적으로 수평한 웨브 (34) 를 포함한다. 내부 플랜지 (36) 는 예를 들어 리벳들 또는 나사들과 같은 부착 수단을 통해 상응하는 지지 빔 (10) 에 부착된다.

수직 방향을 따르는 노즐들 (7) 의 임의의 운동은 포트 (3) 에 대해 상부 플레이트들 (30) 의 상응하는 수직 변위를 야기한다. 그러므로, 제 2 이동 수단은 노즐들 (7) 을 수직으로 변위시키기 위한 수단을 포함한다.

더 구체적으로, 각각의 상부 플레이트 (30) 는 스트립의 경로의 동일 측에 위치된 인접한 하부 플레이트 (18) 에 실질적으로 평행하게 연장한다. 상부 플레이트 (30) 및 인접한 하부 플레이트 (18) 는 박스 (16) 의 길이방향 벽을 형성한다.

상부 구속 부분은 하부 구속 부분에 대해 수직 방향을 따라서 슬라이딩할 수 있도록 하부 구속 부분에 연결된다.

더 구체적으로는, 각각의 상부 플레이트 (30) 는 금속 스트립의 경로의 동일 측에 위치된 인접한 하부 플레이트 (18) 에 슬라이딩가능하게 연결된다. 더 구체적으로는, 제 2 이동 수단은 수직 방향을 따라서 하부 플레이트 (18) 에 대해 상부 플레이트 (30) 의 이동을 안내하기 위한 안내 수단을 포함한다. 도시된 예에서, 이러한 안내 수단은 인접한 상부 및 하부 플레이트들 (30, 18) 의 대면 측들 사이에 배치된 복수의 안내 레일들 (38) 을 포함한다. 안내 레일들 (38) 은 실질적으로 수직하게 연장한다. 안내 레일들은 가로 방향을 따라서 이격되어 있다.

상부 플레이트들 (30) 은, 제 2 이동 수단이 포트 (3) 에 대해 수직으로 상부 플레이트들 (30) 을 이동시킬 때에, 즉 노즐들 (7) 이 포트 (3) 에 대해 수직으로 이동될 때에, 하부 플레이트들 (18) 을 따라서 슬라이딩한다. 또한, 상부 플레이트들 (30) 은 하부 플레이트들 (18) 이 제 1 이동 수단에 의해 포트 (3) 에 대해 수직으로 이동될 때에, 하부 플레이트들 (18) 에 대해 슬라이딩한다.

하부 플레이트 (18) 의 하부 길이방향 엣지 (22) 와 인접한 상부 플레이트 (30) 의 상부 길이방향 엣지 (32) 사이에서 측정된 박스 (16) 의 높이는 따라서 조절할 수 있다. 이는 스스로 하부 플레이트 (18) 에 대해 상부 플레이트 (30) 의 슬라이딩 운동을 통해 노즐들 (7) 과 포트 (3) 사이의 새로운 거리로 자동적으로 조절한다.

박스 (16) 는 박스 (16) 의 길이방향 벽들 사이에서 연장하는 두 개의 측방향 벽들 (40) 을 추가로 포함한다. 측방향 벽들 (40) 은 가로 방향에 실질적으로 수직하게 연장하고, 특히 박스 (16) 의 길이방향 벽들에 수직하게 연장한다. 유리하게는, 측방향 벽들 (40) 은 실질적으로 박스 (16) 의 전체 높이에 걸쳐 연장한다.

측방향 벽들 (40) 의 구성은 그 자체가 박스 (16) 의 현재 높이에 대해, 즉 상부 및 하부 플레이트들 (18, 30) 의 상대적인 위치들에 대해 자동적으로 조정된다.

측방향 벽들 (40) 은 하부 및 상부 플레이트들 (18, 30) 의 상대 위치들과 무관하게 박스 (16) 의 전체 높이에 걸쳐 연장한다.

각각의 측방향 벽 (40) 은 대향 하부 플레이트들 (18) 의 측방향 엣지들 (24 또는 26) 을 서로에 연결하는 하부 측방향 플레이트 (42), 대향 상부 플레이트들 (30) 의 측방향 엣지들을 서로에 연결하는 상부 측방향 플레이트 (44), 및 하부 측방향 플레이트 (42) 를 상부 측방향 플레이트 (44) 에 연결하는 연결 부분 (46) 을 포함한다.

도시된 예에서, 하부 측방향 플레이트 (42) 는 두 개의 하부 플레이트들 (18) 사이에서 하부 플레이트들 (18) 에 실질적으로 수직하게 연장한다. 하부 측방향 플레이트는 하부 플레이트들 (18) 에 단단하게 부착된다. 하부 측방향 플레이트는, 하부 측방향 플레이트가 예를 들어 용해조 내에 부분적으로 담기는 저부 위치와, 측방향 플레이트 (42) 의 하부 엣지가 예를 들어 용해조 (4) 의 표면으로부터 거리를 두어 연장하는 상부 위치 사이에서 하부 플레이트들 (18) 과 함께 수직 방향을 따라서 이동할 수 있다. 예를 들어, 측방향 플레이트 (42) 의 하부 엣지는 하부 플레이트들 (18) 의 하부 길이방향 엣지들 (22) 로서 용해조 (4) 의 표면과 동일하게 거리를 두어 연장한다.

하부 측방향 플레이트 (42) 는 이러한 영역에서의 측방향 공기 출입을 방지함으로써 노즐들 (7) 의 상류에서 와이핑 영역에서 금속 스트립 주위의 대기를 구속한다. 이러한 예에서, 하부 측방향 플레이트는 박스 (16) 의 하부 구속 부분의 일부를 형성한다.

상부 측방향 플레이트 (44) 는 두 개의 상부 플레이트들 (30) 사이에서 상부 플레이트들 (30) 에 실질적으로 수직하게 연장한다. 상부 측방향 플레이트는 상부 플레이트들 (30) 에 단단하게 부착된다. 상부 측방향 플레이트는 상부 플레이트들 (30) 과 통합되고 상부 플레이트들의 수직 변위들을 따른다.

상부 측방향 플레이트 (44) 는 이러한 영역에서의 측방향 공기 출입을 방지함으로써 노즐들 (7) 의 하류에서 와이핑 영역에서 금속 스트립 주위의 대기를 구속한다. 상부 측방향 플레이트는 박스 (16) 의 상부 구속 부분의 일부를 형성한다.

연결 부분 (46) 은 V 형이다. V 는 박스 (16) 의 내부를 향해 개방한다.

연결 부분 (46) 은 V 의 레그들 중 하나를 각각 형성하는 하부 연결 플레이트 (47) 와 상부 연결 플레이트 (48) 를 포함한다.

V 의 레그들 사이의 각도는 상부 및 하부 측방향 플레이트들 (42, 44) 의 상대 위치에 따라, 즉 상부 및 하부 구속 부분들의 상대 위치에 따라 다양하다.

예를 들어, 상부 구속 부분이 하부 구속 부분에 대해 상향으로 이동할 때에, V 의 레그들 사이에 형성된 각도는 증가한다. 상부 구속 부분이 하부 구속 부분에 대해 하향으로 이동할 때에, V 의 레그들 사이에 형성된 각도는 감소한다.

연결 부분 (46) 은, 특히 하부 및 상부 측방향 플레이트들 (42, 44) 사이에서, 측방향 벽 (40) 의 우수한 기밀성을 유지하면서, 하부 및 상부 측방향 플레이트들 (42, 44) 의 상대 위치들의 변화들을 수용하기 위한 벨로즈들로서 작용한다.

상부 및 하부 연결 플레이트들 (47, 48) 은 제 1 회전 축선 (X-X') 주위에서 예를 들어 힌지를 통해 서로에 회전가능하게 연결된다. 제 1 회전 축선 (X-X') 은 예를 들어 박스 (16) 의 길이방향 벽들에 실질적으로 수평 및 수직하다.

도시된 예에서, 연결 부분 (46) 은 제 2 회전 축선 (Y-Y') 주위에서 예를 들어 힌지를 통해 상부 측방향 플레이트 (44) 에 추가로 회전가능하게 연결된다. 제 2 회전 축선 (Y-Y') 은 예를 들어 상부 플레이트들 (30) 에 수평 및 수직하다.

연결 부분 (46) 은 예를 들어 힌지를 통해 제 3 회전 축선 (Z-Z') 주위에서 하부 측방향 플레이트 (42) 에 추가로 회전가능하게 연결된다. 제 3 회전 축선 (Z-Z') 은 예를 들어 하부 플레이트들 (18) 에 수평 및 수직하다.

제 1, 제 2 및 제 3 회전 축선들은 서로에 대해 실질적으로 평행하다.

박스 (16) 는 길이방향 셔터들 (50) 을 추가로 포함한다. 도시된 예에서, 각각의 길이방향 셔터 (50) 는 박스 (16) 의 측방향 벽 (40) 의 측방향 단부에 부착된다. 측방향 벽들 (40) 의 측방향 단부들은 박스 (16) 의 길이방향 벽들에 수직한 방향을 따라서 취해진 측방향 벽들 (40) 의 단부들, 즉 박스 (16) 의 길이방향 벽들에 인접한 측방향 벽들 (40) 의 단부들이다.

더 구체적으로, 각각의 길이방향 셔터 (50) 는 연결 부분 (46) 에, 더 구체적으로는 하부 연결 플레이트 (47) 에 단단하게 부착된다. 그러므로, 길이방향 셔터 (50) 는 연결 플레이트 (47) 와 함께 하부 및 상부 플레이트들 (18, 30) 에 대해 제 3 회전 축선 (Z-Z') 주위에서 회전한다. 도시된 예에서, 박스 (16) 는 박스 (16) 의 각각의 코너에서 하나의 길이방향 셔터 (50) 를 포함한다.

도시된 예에서, 각각의 길이방향 셔터 (50) 는 플레이트에 의해 형성된다. 이러한 플레이트는 예를 들어 만곡된 자유 엣지와 연결 플레이트 (47) 에 연결된 직선 부분으로 이루어지는 윤곽을 가진다. 만곡된 자유 엣지는 볼록하다. 만곡된 자유 엣지는 안내 레일들 (38) 에 의해 방해되지 않으면서 하부 및 상부 플레이트들 (18, 30) 에 대해 제 3 회전 축선 (Z-Z') 주위에서 길이방향 셔터 (50) 의 회전을 허용하도록 디자인된다.

길이방향 셔터들 (50) 은 상응하는 측방향 벽 (40) 에 수직한 평면에서 이러한 V 형 개구들을 가로질러 연장함으로써 측방향 벽들 (40) 의 측방향 단부들에서 V 형 개구들을 밀봉한다.

길이방향 셔터들 (50) 은 박스 (16) 의 길이방향 벽들에 평행한 평면에서 연장한다. 길이방향 셔터들은 그의 측방향 엣지들에서 인접한 하부 및 상부 플레이트들 (18, 30) 사이에서 적어도 부분적으로 연장한다. 그러므로, 길이방향 셔터들 (50) 은 그의 측방향 엣지들에서 인접한 하부 및 상부 플레이트들 (18, 30) 사이에 존재하는 공간을 밀봉하고 또한 이러한 공간을 통해 외부 공기가 박스 (16) 내부로 들어오는 것을 방지한다. 그러므로, 길이방향 셔터들은 이러한 영역들에서 박스 (16) 의 기밀성을 향상시키는데 도움이 된다.

길이방향 셔터들 (50) 은, 하부 및 상부 플레이트들 (18, 30) 의 상대 위치들이 변할 때에, 하부 및 상부 플레이트들 (18, 30) 에 대해 박스 (16) 의 길이방향 벽들에 수직한 축선 주위에서, 더 구체적으로는 제 3 회전 축선 (Z-Z') 주위에서 자동적으로 회전한다. 길이방향 셔터들 (50) 이 하부 및 상부 플레이트들 (18, 30) 에 대해 회전할 때에, 인접한 하부 및 상부 플레이트들 (18, 30) 사이에서 연장하는 셔터 (50) 의 일부는 변한다.

길이방향 셔터들 (50) 은 박스 (16) 의 높이가 증가함에 따라 인접한 하부 및 상부 플레이트들 (18, 30) 사이의 공간 내부로 추가로 회전한다. 대조적으로, 길이방향 셔터들은 제한 박스 (16) 의 높이가 감소함에 따라 인접한 하부 및 상부 플레이트들 (18, 30) 사이의 공간 외부로 부분적으로 회전한다. 그러므로, 인접한 하부 및 상부 플레이트들 (18, 30) 사이에서 연장하는 길이방향 셔터들 (50) 의 일부는 박스 (16) 의 높이가 감소함에 따라 감소한다.

상부 구속 부분은 그의 상부에서 박스 (16) 를 폐쇄하는 캡들 (52) 을 폐쇄시킴으로써 토핑된다. 폐쇄 캡들 (52) 는 그들 사이에서 슬릿 (53) 을 경계짓고, 슬릿을 통해 금속 스트립은 박스 (16) 를 빠져 나온다. 이러한 슬릿 (53) 은 가로 방향을 따라서 연장한다.

도면들에 도시된 예에서, 박스 (16) 는 금속 스트립의 경로의 양측에 위치되고 또한 이를 향해 연장하는 두 개의 폐쇄 캡들 (52) 을 포함한다. 더 구체적으로는, 폐쇄 캡들 (52) 은 지지 빔들 (10) 사이에 형성된 갭 내에서 연장하고 또한 이러한 갭의 폭을 감소시킨다. 폐쇄 캡들 (52) 사이에서 경계지어진 슬릿 (53) 의 폭은 지지 빔들 (10) 사이에 형성된 갭의 폭보다 더 작다. 따라서, 폐쇄 캡들 (52) 은 금속 스트립 주위에서 박스 (16) 의 상부를 밀봉하고 또한 금속 스트립이 구속 박스 (16) 를 빠져 나오는 영역에서 박스 (16) 의 기밀성을 개선한다.

와이핑 시스템 (5) 은 스트립의 엣지들의 오버 코팅을 방지하기 위한 디바이스를 선택적으로 포함할 수도 있다. 스트립의 엣지들의 오버 코팅은 코팅이 스트립의 중앙에서보다 스트립의 엣지들에서 더 두껍다는 것을 의미한다.

더 구체적으로는, 금속 스트립의 엣지들의 오버 코팅을 방지하기 위한 디바이스는 노즐들 (7) 로부터 블로잉된 가스 제트들이 갭 (9) 내에서, 특히 갭 (9) 의 엣지들에서 서로 합류하는 것을 방지하도록 구성된 충돌 방지 디바이스를 포함하고, 여기서, 사용 중에, 금속 스트립의 폭으로 인해, 금속 스트립이 노즐들 (7) 사이에 개제되지 않을 것이다. 따라서, 이러한 영역들에서, 노즐들 (7) 로부터 블로잉된 가스 제트들은, 갭 (9) 내에서 서로 합류하는 대신에, 노즐들 사이에서 연장하는 충돌 방지 디바이스와 상호작용할 것이다.

노즐들 (7) 로부터 블로잉된 가스 제트들이 합류하는 것을 방지하는 것이 유리하다. 실제로, 이것은 금속 스트립의 엣지들의 오버 코팅을 방지하고, 그렇지 않으면 이러한 금속 스트립의 엣지들의 오버 코팅은 상기 만남으로 인해 가스 유동의 교란을 초래할 수도 있다.

제 2 유리한 효과는 소음 방지 효과, 즉 큰 진폭의 음진동 발생의 방지이고, 그렇지 않으면 이러한 소음은 갭 (9) 내에서 가스 제트들의 만남을 초래할 수도 있다.

이러한 충돌 방지 디바이스는 코팅 금속과 상호작용하는 자기장을 발생시키는 전자기 시스템으로 구성될 수도 있다. 이는 또한 기계적인 디바이스일 수도 있다. 도면들에 도시된 예에서, 충돌 방지 디바이스는 두 개의 배플들 (54) 을 포함한다. 각각의 배플 (54) 은, 금속 스트립의 폭으로 인해, 노즐들 (7) 이 금속 스트립의 개제 없이 서로 대면하는 영역에서 대향 노즐들 (7) 사이의 갭 (9) 내에서, 즉 특히 가로 방향을 따라서 취해진 갭 (9) 의 엣지들에서 연장하는 금속 플레이트에 의해 형성된다.

충돌 방지 디바이스는 구속 박스 (16) 에서 연장한다. 특히, 이는 구속 박스 (16) 내에 전체적으로 포함된다.

충돌 방지 디바이스는 유리하게는 노즐들 (7) 에 대해 갭 (9) 내에서 변위할 수 있다. 이러한 변위는 충돌 방지 디바이스를 스트립 평면에 대해 수직하게 이동시킴으로써 충돌 방지 디바이스를 스트립 평면과 정렬시키기 위해 이루어질 수 있다. 게다가, 디바이스는 스트립 평면에 평행한 방향을 따라서 또한 이동될 수 있다. 이를 위해, 와이핑 시스템 (5) 은 충돌 방지 디바이스를 변위시키기 위한 작동 디바이스를 추가로 포함한다. 작동 디바이스는 구속 박스 (16) 의 외부로부터 조절할 수 있다. 특히, 도면들에 도시된 예에서, 작동 디바이스는 충돌 방지 디바이스를 변위시키기 위하여 구속 박스 (16) 의 외부로부터 도달될 수 있도록 구속 박스 (16) 의 외부로 적어도 부분적으로 연장한다. 더 구체적으로, 작동 디바이스는 구속 박스 (16) 내에 포함된 충돌 방지 디바이스에 연결되고 또한 폐쇄 캡들 (52) 사이에서 경계지어진 슬릿 (53) 을 통해 연장한다.

도면들에 도시된 예에서, 작동 디바이스는 각각의 배플 (54) 을 변위시키기 위한 적어도 하나의 로드 (55) 를 포함한다. 각각의 로드 (55) 는 상응하는 배플 (52) 에 일체식으로 부착된다. 각각의 로드는 폐쇄 캡들 (52) 사이에서 경계지어진 슬릿 (53) 을 통해 배플 (54) 로부터 상향으로 연장한다. 각각의 로드는 구속 박스 (16) 의 외부로 적어도 부분적으로 연장한다.

유리하게는, 로드들 (55) 은 노즐들 (7) 에 대해 가로 방향을 따라서 이동할 수 있다. 로드들 (55) 은 수직 방향을 따라서 노즐들 (7) 에 대해 고정될 수도 있다.

예를 들어, 로드들 (55) 은 지지 빔들 (10) 에 제공된 레일들에 슬라이딩 가능하게 탑재될 수도 있고, 이러한 로드들은 가로 방향에 실질적으로 평행하다. 이러한 레일들은 지지 빔들 (10) 과 로드들 (55), 따라서 로드들 (55) 과 통합되는 배플들 (54) 사이에서 가로 방향을 따라서 상대 운동을 허용한다. 하지만, 로드들 (55) 은 수직 방향을 따라서 지지 빔들 (10) 의, 따라서 노즐들 (7) 의 운동을 뒤따른다.

충돌 방지 디바이스와 구속 박스 (16) 를 포함하는 와이핑 시스템을 제공하는 것이 유리하다. 실제로, 시스템이 구속 박스 (16) 를 통해 매우 충분히 구속될지라도, 시스템은 여전히 엣지 오버 코팅과 같은 코팅 결함들을 방지하기 위한 충돌 방지 디바이스를 제공할 수 있고 또한 구속 박스 (16) 의 내측에서 필요한 만큼 이러한 충돌 방지 디바이스를 변위시킬 수 있다.

선택적으로는, 와이핑 시스템 (5) 은 노즐들 (7) 의 하류에서 박스 (16) 내부로 불활성 가스를 주입하기 위한 적어도 제 1 보조 파이프 (60) 를 추가로 포함한다. 특히, 와이핑 시스템 (5) 은 금속 스트립의 경로의 양측에 적어도 하나의 제 1 보조 파이프 (60) 를 포함한다.

선택적으로는, 와이핑 시스템은 노즐들 (7) 의 상류에서 박스 (16) 내부로 불활성 가스를 주입하기 위한 적어도 제 2 보조 파이프 (62) 를 추가로 포함한다. 특히, 와이핑 시스템 (5) 은 금속 스트립의 경로의 양측에 적어도 하나의 제 2 보조 파이프 (62) 를 포함한다.

내부 벽들 (40), 그리고 더 구체적으로는 상부 측방향 플레이트들 (44) 은 제 1 및/또는 제 2 보조 파이프들 (60, 62) 이 기밀 방식으로 박스 (16) 내부로 삽입되는 개구들을 포함할 수도 있다.

파이프들 (60, 62) 은 예를 들어 박스 (16) 의 길이방향 측들을 따라서 박스 (16) 내측에서 실질적으로 수평방향으로 연장할 수도 있다. 파이프들은 박스 (16) 내부로 불활성 가스를 블로잉하기 위한 가스 출구들을 포함한다. 각각의 가스 출구는 바람직하게는 박스 (16) 내에 불활성 가스를 균일하게 분배하기 위하여 와이핑 노즐들 (7) 의 전제 길이를 따라서 연장한다. 유리하게는, 파이프들 (60, 62) 의 가스 출구들은 적어도 하나의, 그리고 유리하게는 복수의 길이방향으로 연장하는 슬릿들에 의해 형성된다. 파이프들 (60, 62) 은 불활성 가스의 소스에 연결된다. 불활성 가스는 예를 들어 질소 (N₂) 이다.

1400 ㎜ 초과의 밴드 폭들 때문에, 파이프들 (60, 62) 의 길이가 금속 스트립의 경로의 양측에서 감소될 수도 있다. 이러한 경우에, 각각의 파이프들 (60, 62) 은 파이프들 (60, 62) 의 단부에서 박스 (16) 내에 위치된 불활성 가스를 분배하기 위한 하나의 가스 출구를 포함한다. 제 1 및 제 2 보조 파이프들 (60, 62) 의 가스 출구들은 금속 스트립의 각각의 측방향 엣지를 향하여 더 넓어진다. 그러므로, 불활성 가스는 와이핑 노즐들 (7) 의 전체 길이를 따라서 분배되지 않는다.

예로서, 제 1 보조 파이프들 (60) 은 가스가 노즐들 (7) 의 하류에서 박스 (16) 의 영역에서 이러한 파이프들의 외부로 수평방향으로 블로잉되도록 측에 형성된 그의 가스 출구들을 가진다.

예를 들어, 제 2 보조 파이프들 (62) 은 불활성 가스가 노즐들 (7) 의 상류에서 박스 (16) 의 영역 내부로 상류 방향으로 수직하게 이러한 파이프들 (62) 의 외부로 블로잉되도록 파이프들 (62) 의 저부를 따라서 형성된 그의 가스 출구들을 가진다. 또한, 제 2 보조 파이프들 (62) 로부터의 불활성 가스는 상부 및/또는 하부 플레이트들 (18, 30) 과 노즐들 (7) 사이에 위치된 박스 (16) 의 영역 내부로 블로잉된다.

보조 파이프들 (60, 62) 은 외부 공기가 박스 (16) 내부로 들어가는 것을 방지하는 박스 (16) 의 과압을 형성하도록 박스 (16) 안으로 불활성 가스를 주입하기 위해 사용될 수 있다. 그러므로, 불활성 가스 주입은 박스 (16) 의 기밀을 개선하는데 기여한다.

와이핑 시스템 (5) 은 불활성 가스를 박스 (16) 로부터 재순환시키기 위한 시스템을 또한 포함할 수도 있다. 이러한 시스템은 예를 들어 펌프에 의해 불활성 가스를 박스 (16) 로부터 제거하도록 그리고 제 1 및/또는 제 2 보조 파이프들 (60, 62) 을 통해 그리고/또는 노즐들 (7) 을 통해 박스 (16) 안으로 재주입하도록 구성된다. 이러한 시스템은 통상적이고 도면들에 도시되지 않는다. 이는 특히 박스 (16) 가 전체적으로 폐쇄된 구성으로 있을 때에 사용될 수도 있고, 여기서 구속 박스 (16) 의 하부 단부는 용해조 내에 담기고 또한 실질적으로 가스가 하부 단부를 통해 박스 (16) 로부터 빠져 나올 수 없다.

마침내, 와이핑 시스템 (5) 은, 특히 금속 스트립에 근접하는 박스 (16) 내의 산소 함량을 측정하기 위한 산소 함량 측정 디바이스를 포함할 수도 있다. 이러한 측정 디바이스는 박스 (16) 내의 상이한 위치들에서 산소 함량을 측정하도록 구성된 하나 또는 수개의 산소 탐침들에 연결된 복수의 파이프들 (64) 을 포함한다. 예를 들어, 디바이스는 금속 스트립의 경로의 양측에 복수의 산소 탐침들을 포함하고, 산소 탐침들은 금속 스트립의 폭을 따라서 상이한 위치에서 금속 스트립에 근접한 산소 함량을 측정하도록 구성된다.

본 발명에 따른 설비 (1) 의 구속 박스 (16) 는 다양한 종류의 제품들에 대해 금속 스트립의 만족스러운 코팅을 생산할 수 있다.

일 종류의 코팅된 금속 스트립 제품을 다른 제품으로 변경될 때, 예를 들어 일 금속 스트립 두께로부터 다른 금속 스트립 두께로 또는 일 코팅 두께로부터 다른 코팅 두께로 이동할 때에, 라인 속도가 변할 수도 있다.

본 발명에 따른 설비 (1) 에 의하면, 동일한 품질의 코팅은 포맷 (폭, 두께) 과 관계 없이 그리고 와이핑 시스템 (5) 을 통과하는 금속 스트립의 속도와 관계 없이 얻어질 수 있다. 실제로, 스트립의 속도가 증가될 때에, 예컨대 주어진 코팅 두께에 대해 더 얇은 금속 스트립을 제조하는 경우에, 일반적으로 와이핑 압력을 그에 맞춰 증가시킬 필요가 있다. 이러한 증가된 압력은 노즐들 (7) 의 가스 출구들 (8) 을 부분적으로 방해할 수도 있는 와이핑 노즐들 (7) 을 향해 금속 스트립으로부터 코팅 금속의 돌출을 초래할 수도 있다. 결국, 이는 코팅이 가스 출구들 (8) 의 방해된 구역들을 향하는 영역들에서 와이핑되지 않을 것이기 때문에 불만족스러운 품질의 코팅으로 이어질 수도 있다. 본 발명에 따른 설비에서, 이는 재돌출을 줄이기 위해 노즐들 (7) 과 조 (4) 사이의 거리를 증가시킴으로써 제한될 수 있다.

게다가, 설비 (1) 는 충돌 방지 디바이스, 예를 들어 배플들 (54) 을 포함하고, 이러한 충돌 방지 디바이스는 특히 엣지 오버 코팅과 같은 결함들을 감소시킴으로써 우수한 레벨의 코팅 품질을 얻는데 기여한다.

게다가, 구속 박스 (16) 가 조와 노즐 간의 거리의 변화에 스스로 적응하기 때문에 조와 노즐 간의 거리가 증가되더라도 코팅의 품질은 만족스럽게 유지되고, 따라서 조와 노즐간의 거리와 무관하게 적합한 구속을 보장하며 또한 와이핑 영역 주위에서 코팅의 산화를 방지한다. 이는 특히 상부 구속 부분이 수직 방향을 따라서 포트 (3) 에 대해 이동할 수 있다는 사실 때문이다. 이러한 박스 (16) 의 적합은, 상부 구속 부분이 노즐들의 수직 변위를 따르기 위하여 노즐들 (7) 에 연결되기 때문에, 또한 자동적이다.

본 발명에 따른 설비는 또한 특히 다능하다. 실제로, 박스 (16) 는, 박스가 서로에 대해 그리고 포트 (3) 에 대해 이동할 수 있는 상부 및 하부 구속 부분을 포함하기 때문에, 조 (4) 의 표면과 노즐들 (7) 사이의 거리와 상관 없이 현존하는 노즐 시스템에 적합해질 수 있다.

게다가, 박스 (16) 의 하부 단부와 포트 (3) 사이의 거리는 간단하게 포트 (3) 에 대해 하부 구속 부분을 이동시킴으로써 매우 용이하게 바뀔 수 있다. 따라서, 이는 개방된 박스 구성으로부터 변경되기 매우 쉽고, 상당히 큰 공간은 전체적으로 밀봉된 구성에 대해 박스 (16) 의 하부 단부와 용해조 (4) 의 표면 사이에 존재하고, 여기서 박스 (16) 의 하부 단부는 용해조 (4) 내에 담긴다. 그러므로, 이러한 특징은 와이핑 조건들에 대해 또는 다양한 용해조 조성들에 대해 구속 박스 (16) 의 용이한 적합을 허용한다. 예를 들어, 이는 특히 높은 가스 기밀이 필요할 경우 용해조 (4) 안으로 하부 구속 부분이 부분적으로 담기게 하는 것을 허용한다. 대안적으로, 이는 예를 들어 세정 목적을 위해 용해조의 표면에 접근하고자 할 경우에 하부 구속 부분과 용해조 표면 사이에 갭을 제공하는 것을 허용한다.

게다가, 측방향 벽들 (40) 과 길이방향 셔터들 (50) 이 박스 (16) 에서 수직 노즐 변위들 및/또는 변화들에 응하여 포트 (3) 까지의 거리로 이동한다는 사실은 또한 노즐 (7) 에서 포트 (3) 까지의 거리 또는 박스 (16) 에서 포트 (3) 까지의 거리로 변화들에 대한 박스 (16) 의 형상의 적합에 기여한다.

본 발명에 따른 와이핑 시스템 (5) 은 또한 이용하기에 그리고 유지하기에 매우 용이하다. 이는 특히 포트 (3) 에 대해 또는 노즐들 (7) 에 대해 하부 구속 부분을 이동시킬 수 있는 가능성 때문이다. 따라서, 실제로 이는 필요 시에 간단하게 하부 구속 부분을 상향으로 수직하게 이동시킴으로써 용해조 표면 또는 노즐들 (7) 을 세정할 수 있다.

게다가, 박스 (16) 가 노즐들 (7) 및 지지 빔들 (10) 과 일체형으로 만들어지지 않을 때에, 박스는 예를 들어 노즐 시스템의 컴포넌트들의 유지를 위해 노즐들 (7) 로부터 용이하게 해제될 수 있다는 추가의 이점을 제공한다.

Claims (17)

1. 금속 스트립의 핫 디프 코팅 (hot dip coating) 용 설비 (1) 로서,
   상기 설비 (1) 는:
   - 경로를 따라서 상기 금속 스트립을 이동시키는 수단,
   - 용해조 (4) 를 포함하는 포트 (3), 및
   - 상기 포트 (3) 의 하류에서 상기 경로의 양측에 위치된 적어도 두 개의 노즐들 (7) 을 포함하는 와이핑 시스템 (5) 으로서, 각각의 노즐 (7) 은 적어도 가스 출구 (8) 를 구비하고, 상기 와이핑 시스템 (7) 은 상기 노즐들 (7) 의 상류에서 상기 금속 스트립 주위의 대기를 구속하기 위한 하부 구속 부분 (18) 및 상기 노즐들 (7) 의 하류에서 상기 금속 스트립 주위의 대기를 구속하기 위한 상부 구속 부분 (30) 을 갖는 박스 (16) 를 구비하고, 상기 와이핑 시스템 (7) 은 상기 포트 (3) 에 대하여 상기 하부 구속 부분 (18) 을 수직으로 이동시키기 위한 제 1 이동 수단을 구비하는, 상기 와이핑 시스템 (5) 을 포함하고,
   상기 노즐들 (7) 은 상기 포트 (3) 에 대하여 수직으로 이동할 수 있고, 상기 와이핑 시스템 (5) 은 상기 포트 (3) 와 상기 하부 구속 부분 (18) 에 대하여 상기 상부 구속 부분 (30) 을 수직으로 이동시키기 위한 제 2 이동 수단 (7, 10) 을 포함하는, 금속 스트립의 핫 디프 코팅용 설비.
2. 제 1 항에 있어서,
   상기 상부 구속 부분 (30) 은 상기 포트 (3) 에 대한 상기 노즐들 (7) 의 수직 운동이 상기 포트 (3) 에 대한 그리고 상기 하부 구속 부분 (18) 에 대한 동일한 진폭의 상기 상부 구속 부분 (18) 의 수직 운동을 야기하도록 상기 노즐들 (7) 과 연결되는, 금속 스트립의 핫 디프 코팅용 설비.
3. 제 2 항에 있어서,
   상기 하부 구속 부분 (18) 은 저부 위치와 상부 위치 사이에서 수직으로 이동할 수 있고, 상기 하부 구속 부분 (18) 은 상기 저부 위치에서 상기 용해조 (4) 내에 부분적으로 담궈지도록 되어 있는, 금속 스트립의 핫 디프 코팅용 설비.
4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 하부 구속 부분은 상기 경로의 양측에 각각 있는 두 개의 하부 플레이트들 (18) 을 포함하고, 상기 하부 플레이트들 (18) 은 상기 포트 (3) 에서 지탱되는, 금속 스트립의 핫 디프 코팅용 설비.
5. 제 4 항에 있어서,
   상기 제 1 이동 수단은 상기 포트 (3) 를 상기 하부 플레이트들 (18) 에 연결하는 잭들 (28) 을 포함하는, 금속 스트립의 핫 디프 코팅용 설비.
6. 제 4 항 또는 제 5 항에 있어서,
   상기 상부 구속 부분은 상기 경로의 양측에 각각 있는 두 개의 상부 플레이트들 (30) 을 포함하고, 각각의 상부 플레이트 (30) 는 상기 경로의 동일 측에 위치된 상응하는 하부 플레이트 (18) 에 대해 수직 방향을 따라서 슬라이딩할 수 있는, 금속 스트립의 핫 디프 코팅용 설비.
7. 제 6 항에 있어서,
   상기 박스 (16) 는 상기 수직 방향을 따라서 상기 하부 플레이트들 (18) 에 대한 상기 상부 플레이트들 (30) 의 운동을 안내하기 위한 상응하는 상기 하부 플레이트 (18) 및 상기 상부 플레이트 (30) 의 대면 측들 사이에 위치된 안내 레일들 (38) 을 추가로 포함하는, 금속 스트립의 핫 디프 코팅용 설비.
8. 제 6 항 또는 제 7 항에 있어서,
   상기 금속 스트립의 상기 경로의 동일 측에 위치된 상응하는 상기 하부 플레이트 (18) 와 관련된 각각의 상부 플레이트 (30) 는 상기 박스 (16) 의 길이방향 벽을 형성하고, 상기 박스 (16) 는 상기 박스 (16) 를 측방향으로 폐쇄하기 위한 상기 길이방향 벽들 사이에서 연장하는 측방향 벽들 (40) 을 추가로 포함하는, 금속 스트립의 핫 디프 코팅용 설비.
9. 제 8 항에 있어서,
   각각의 측방향 벽 (40) 은 상기 상부 플레이트들 (30) 을 서로 연결하는 상부 측방향 플레이트 (44), 상기 하부 플레이트들 (18) 을 서로 연결하는 하부 측방향 플레이트 (42), 및 상기 상부 측방향 플레이트 (44) 와 상기 하부 측방향 플레이트 (42) 사이에서 연장하는 V 형상의 연결 부분 (46) 을 포함하고, 상기 V 형상의 각도는 상기 상부 플레이트 (30) 와 상기 하부 플레이트 (18) 의 상대 운동에 따라 변하는, 금속 스트립의 핫 디프 코팅용 설비.
10. 제 9 항에 있어서,
    상기 박스 (16) 는 길이방향 셔터들 (50) 을 추가로 포함하고, 각각의 길이방향 셔터 (50) 는 상기 V 형상의 연결 부분들 (46) 중 상응하는 부분의 측방향 단부를 폐쇄하기 위하여 상기 측방향 단부를 가로질러 상기 박스 (16) 의 상기 길이방향 벽들에 실질적으로 평행한 평면에서 연장하는, 금속 스트립의 핫 디프 코팅용 설비.
11. 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 와이핑 시스템 (5) 은 상기 노즐들 (7) 의 하류에서 상기 박스 (16) 내부에 불활성 가스를 주입하기 위한 적어도 하나의 보조 파이프 (60) 를 구비하는, 금속 스트립의 핫 디프 코팅용 설비.
12. 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 와이핑 시스템 (5) 은 상기 노즐들 (7) 의 상류에서 상기 박스 (16) 내부에 불활성 가스를 주입하기 위한 적어도 하나의 보조 파이프 (62) 를 구비하는, 금속 스트립의 핫 디프 코팅용 설비.
13. 제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 와이핑 시스템 (5) 은 상기 박스 (16) 내의 산소 함량을 측정하기 위한 산소 함량 측정 디바이스 (64) 를 포함하는, 금속 스트립의 핫 디프 코팅용 설비.
14. 제 1 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 상부 구속 부분 (30) 은 상기 금속 스트립의 통과를 위한 슬릿 (53) 을 경계짓고 상기 경로를 향해 연장하는 폐쇄 캡들 (52) 에 의해 토핑되는, 금속 스트립의 핫 디프 코팅용 설비.
15. 제 14 항에 있어서,
    상기 노즐들 (7) 은 상기 금속 스트립을 통과시키도록 되어 있는 갭 (9) 을 상기 노즐들 (7) 사이에서 경계짓고, 상기 설비는 상기 노즐들 (7) 로부터 블로잉된 가스 제트들이 상기 캡 (9) 내에서 합류하는 것을 방지하도록 구성된 충돌 방지 디바이스 (54) 를 추가로 포함하는, 금속 스트립의 핫 디프 코팅용 설비.
16. 제 1 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 용해조는 Zn 또는 Zn 계 합금을 포함하는, 금속 스트립의 핫 디프 코팅용 설비.
17. 제 16 항에 있어서,
    상기 용해조는 Al 및/또는 Mg 를 포함하는, 금속 스트립의 핫 디프 코팅용 설비.

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