JP2016521808A - 調整可能な閉じ込めボックスを備える金属ストリップを溶融めっきするための設備 - Google Patents

Abstract

金属ストリップを溶融めっきするための調節可能な閉じ込めボックスを備える、金属ストリップを溶融めっきするための設備であって、前記金属ストリップを通路に沿って移動させる手段と、溶融槽（４）を収容するためのポット（３）と、ポット（３）の下流の前記通路の両側に配置された少なくとも２つのノズル（７）を備える払拭システムであって、払拭システムは、前記ノズル（７）の上流で金属ストリップの周りの雰囲気を閉じ込めるための下閉じ込め部（１８）と、前記ノズル（７）の下流で金属ストリップの周りの雰囲気を閉じ込めるための上閉じ込め部（３０）と、を備えるボックス（１６）を有し、前記払拭システム（７）はポット（３）に対して下閉じ込め部（１８）を垂直に移動させるための第１移動手段を有する、払拭システム（５）と、を備える設備。ノズルはポット（３）に対して垂直に移動可能である。払拭システム（５）は、ポット（３）および下閉じ込め部（１８）の両方に対して上閉じ込め部（３０）を垂直に移動させるための第２移動手段（１０）を備える。

Description

本発明は、溶融槽を収容するためのポットと、金属槽を出た後にめっき済み金属ストリップを払拭するための払拭システムとを備える、金属ストリップを溶融めっきするための設備に関する。払拭システムは、設備内を通る金属ストリップのめっきの品質および厚さの制御を可能にする。

自動車産業向けのホワイトボディを製造するために使用される鋼板は、一般的に腐食防止のため亜鉛系金属層でめっきされ、亜鉛系液槽内の溶融めっき、または亜鉛イオンを含有する電気めっき槽内の電気溶着によって、溶着される。

溶融亜鉛めっきプロセスとして知られるような連続的な亜鉛めっきプロセスにおいて、連続的に移動している金属ストリップが溶融金属槽の中に浸される。これは後に槽から引き上げられ、過剰な金属を払拭してめっきの厚さを制御するために、乱流スロット噴流が使用される。

独国特許第４０１０８０１号明細書は、溶融槽を収容するポットと、溶融槽を出た後にめっき済み金属ストリップを払拭するための払拭システムとを備える、金属ストリップを溶融めっきするための設備を開示している。払拭システムは、ポットに対して固定されている上閉じ込め部と、ポットおよび上閉じ込め部に対して、溶融槽に部分的に浸漬される底部位置と、閉じ込めボックスの底縁と溶融槽の表面との間に自由空間が存在する上部位置との間で、垂直に変位することが可能な下閉じ込め部とを有する、閉じ込めボックスを備える。

このような設備は、完全に満足のいくものではない。実際には、たとえばラインの速度または払拭圧などのラインの運転パラメータ、ならびにその幅または厚さなどの金属ストリップの形式に応じて、めっきの品質は変動する。したがって、独国特許第４０１０８０１号明細書に開示される設備は、あらゆる種類の製品の十分なめっきを実現するために使用されることはできない。

独国特許第４０１０８０１号明細書

本発明の目的は、柔軟性があって、様々な種類の製品向けの金属ストリップの良好なめっきを生産することが可能な設備を提供することによって、この問題を解決することである。

この目的のために、本発明は、請求項１による金属ストリップを溶融めっきするための設備に関する。

本発明による設備はまた、請求項２から１７に上げられる特徴のうちの１つ以上を備えてもよい。

本発明は、単なる例示として提供される以下の説明を読み、以下の添付図面を参照することで、より良く理解されるだろう。

本発明による金属ストリップを溶融めっきするための設備の斜視図である。 下閉じ込め部が溶融槽内に部分的に浸漬されている、設備の縦側面に対して直角な平面に沿った、図１の設備の概略断面図である。 設備の縦側面と平行な平面に沿った、設備の概略断面図である。

以下の明細書において、表現「下流」および「上流」は、金属ストリップの通路に対して理解されるべきである。

本発明による金属ストリップを溶融めっきするための設備１は、図１に示されている。

設備１は、溶融槽４を収容するポット３またはリザーバを備える。

溶融槽４は、金属ストリップをめっきするように意図される溶融金属を収容する。たとえば、溶融槽４は、亜鉛（Ｚｎ）または亜鉛（Ｚｎ）基合金を備える。溶融槽４は、アルミニウムおよび／またはマグネシウム（Ｍｇ）をさらに収容してもよい。

設備１は、通路に沿って金属ストリップを移動させる手段を、さらに備える。これらのストリップ移動手段は、溶融槽４内に収容された溶融金属で金属ストリップをめっきするために、溶融槽４の中を通じて金属ストリップを移動させるように構成されている。これらはまた、金属ストリップを溶融槽４から垂直に引き上げ、設備１の払拭システム５を通じて垂直に移動させるようにも、構成されている。

金属ストリップが払拭システム５を通じて移動するとき、これは実質的に、以下において縦断面とも称される平面内に延在する。この縦断面はたとえば、垂直方向を含む。金属ストリップの幅方向は、縦方向とも称される。縦方向はたとえば、垂直方向に対して実質的に直角である。

ストリップ移動手段は従来型である。これらは簡素化目的のため図面には示されない。

払拭システム５は、過剰な溶融金属を除去して、めっきの厚さを所望の厚さに調整するために、溶融槽４を出る金属ストリップを払拭するように意図される。

払拭システム５は、ポット３の下流の金属ストリップの通路の両側に配置された、少なくとも２つのノズル７を備える。より具体的には、ノズル７は、金属ストリップの通過のための間隙９を、その間に画定する。ノズル７は、過剰な溶融金属を拭き取るために金属ストリップのそれぞれの側にガスの噴流を吹き付けるように、この間隙９の両側に配置されている。金属ストリップの通過のための間隙９は、ストリップ平面と平行に延在する。ノズル７は、間隙９の幅を設定するように、水平に移動することが可能である。

各ノズル７は、それを通じて金属ストリップのそれぞれの側に払拭ガスが吹き付けられる、少なくとも１つのガス出口８を備える。このガス出口８はたとえば、ノズル７の全長に沿った縦方向と実質的に平行に延在するスリットによって、形成される。スリット型ガス出口８から吹き付けられるガスの噴流は、それを通じて金属ストリップがたとえば垂直な通路に沿って通過する、カーテンを形成する。ノズル７からのガスの噴流は、払拭線に沿って金属ストリップ上に衝突する。カーテンは、たとえば水平など、ストリップの平面に対して実質的に直角な平面内に延在する。払拭線は縦方向に、たとえば実質的に水平に、延在する。

各ノズル７は、金属ストリップ上に吹き付けられるガスを供給するための、適切な払拭ガス源に接続されている。払拭ガスは、たとえば窒素（Ｎ_２）またはその他いずれかの適切なガスである。

各ノズル７は、この例において各ノズル７の上方に位置する支持梁１０によって、支持されている。支持梁１０は、金属ストリップの通路の両側に延在する。支持梁１０は、その通路に沿って移動する際の金属ストリップの通過のための間隙を、その間に画定する。この間隙は、実質的に縦方向と平行に延在する。

ノズル７は、ノズル変位手段を通じてポット３に対して垂直に移動可能である。より具体的には、支持梁１０は、ポット３に対して垂直に移動可能であり、支持梁１０に取り付けられたノズル７の対応する垂直変位を引き起こす。

ノズル７は、垂直方向に沿った支持梁１０のいかなる変位にも追従するように、支持梁１０に接続されている。有利なことに、各ノズル７は、それによって支持される支持梁１０にしっかりと接続されている。しかしながら、いくつかの具体的なプロセス構成において、ストリップ平面は完全に垂直ではなく、垂直方向に対して、具体的には５°未満のわずかな傾斜を有する。このような場合、各ノズル７は、両方のノズル７を繋ぐ仮想線がストリップ平面と直角に交差するように、移動させられることになる。

有利なことに、ノズル７の長さは従来の金属ストリップの幅よりも大きい。この特徴は、同じ払拭システム５を用いて異なる幅の金属ストリップを払拭することを可能にする。したがって、使用時には、ノズル７の間の間隙９の縁に、金属ストリップを介在させることなくノズル７が互いに向かい合う領域がある。

払拭システム５は、払拭領域内に金属ストリップの周りの雰囲気を閉じ込めるための、ボックス１６をさらに備える。ボックス１６は払拭領域を包囲する。これは、空気がボックス１６の外部からボックス１６に侵入するのを防止する。

有利なことに、ボックス１６は、金属ストリップの通路に対して対称的である。これは、払拭システム５内を通るときに金属ストリップがそれに沿って延在する平面に対して、対称的である。

ボックス１６は、ノズル７の上流で金属ストリップの周りの雰囲気を閉じ込めるための下閉じ込め部と、ノズル７の下流で金属ストリップの周りの雰囲気を閉じ込めるための上閉じ込め部と、を備える。

払拭システム５は、ポット３に対して垂直に下閉じ込め部を移動させるための第１移動手段と、下閉じ込め部およびポット３に対して垂直に上閉じ込め部を移動させるための第２移動手段と、を備える。

第１移動手段は、下閉じ込め部が溶融槽４内に少なくとも部分的に浸漬される底部位置と、たとえば下閉じ込め部と溶融槽４の表面との間に空間がある上部位置との間で、ポット３に対して下閉じ込め部を移動させるように構成されている。図示される例において、第１移動手段はまた、ポット３に対して下閉じ込め部を支持している。

第２移動手段は、ポット３に対する底部位置とポット３に対する上部位置との間で上閉じ込め部を移動させるように、構成されている。

上閉じ込め部の垂直移動は、下閉じ込め部の垂直移動とは無関係である。

具体的には、第２移動手段を通じてのポット３に対する上閉じ込め部の垂直移動は、ポット３に対する下閉じ込め部の垂直移動を引き起こさない。

具体的には、第１移動手段を通じてのポット３に対する下閉じ込め部の垂直移動は、ポット３に対する上閉じ込め部の垂直移動を引き起こさない。

より具体的には、図１に示される例において、下閉じ込め部は、金属ストリップの通路の両側に１つずつ、２つの下プレート１８を備える。下プレート１８はポット３上に位置する。これらは互いに平行である。これらは実質的に垂直に、および縦方向と平行に、延在する。

各下プレート１８は、縦方向に沿って延在する上縦縁２０および下縦縁２２、ならびに上および下縦縁２０、２２の間でこれら２つの縦縁２０、２２に対して直角に延在する２つの横縁２４、２６を、備える。

第１移動手段は、垂直方向に沿って上向きおよび／または下向きにポット３に対して下プレート１８を移動させるように、構成されている。

その底部位置において、下プレート１８は、溶融槽４内に少なくとも部分的に浸漬されている。底部位置で溶融槽４内に浸漬されている下プレート１８の部分は、溶融槽４の浸食環境に耐えられるように、設計されている。これはたとえば、下プレート１８の残部よりも厚い。

その上部位置において、下プレート１８は、溶融槽４の表面より完全に上方に延在している。下プレート１８の下縦縁２２は、溶融槽４の表面から非ゼロ距離で延在している。下プレート１８の下縦縁２２と溶融槽４の表面との間には、自由空間が存在する。

図１に示される例において、第１移動手段は、下プレート１８をポット３に接続するジャッキ２８を備える。ジャッキ２８は、その底部位置とその上部位置との間で垂直に下プレート１８を移動させるように、構成されている。ジャッキ２８はまた、下プレート１８をポット３に対して所望の位置に保持する。下プレート１８は、ジャッキ２８によってポット３の上に位置する。ジャッキ２８は、必要に応じて手動または自動で制御されてもよい。

図示される例において、払拭システム５は、下プレート１８の各横縁２４、２６に１つのジャッキ２８を備える。しかしながら払拭システム５は、必要に応じていくつのジャッキ２８を備えてもよい。

あるいは、第１移動手段は、ポット３に対して下プレート１８を垂直に移動させ、選択的にポット３に対して所望の高さで下プレート１８を保持するようになっている、いずれかの機械的手段を備えてもよい。

下プレート１８は、少なくとも部分的にノズル７の上流、すなわちノズル７の下方に、延在する。より具体的には、これらは、金属ストリップの通路の両側のガス出口８によって画定された払拭線より部分的に上流に、延在する。したがって、下プレート１８は、ノズル７の上流で金属ストリップの周りの雰囲気を閉じ込める。

図示される例において、下プレート１８はまた、ノズル７の下流にも延在する。

上閉じ込め部は、金属ストリップの通路の両側に１つずつ、２つの上プレート３０を備える。これらは実質的に互いに平行である。上プレート３０は縦方向に沿って延在する。これらは実質的に垂直に延在する。

上プレート３０は、少なくとも部分的にノズル７の上流に延在する。したがって、これらはノズル７の下流で払拭領域内の金属ストリップの周りの雰囲気を閉じ込める。

上プレート３０は、任意の規模のポット３に対するノズル７の垂直移動が、ポット３に対する同じ規模の上閉じ込め部１８の、特に上プレート３０の、垂直移動を引き起こすような方法で、ノズル７と接続されている。より具体的には、各上プレート３０は、金属ストリップの通路の同じ側に位置する、対応する支持梁１０に、しっかりと関連付けられている。このため、支持梁１０のいかなる垂直変位も、支持梁１０に関連付けられた上プレート３０の対応する垂直変位を引き起こす。

有利なことに、上プレート３０は、ノズル７と取り外し可能に接続されている。上プレート３０は、その接続部品を伴わずに、ノズル７から、より具体的には支持梁１０から、取り外されることが可能である。上プレート３０はたとえば、支持梁１０にネジ留めされている。

図示される例において、上プレート３０の上縦縁３２は、隣接する支持梁１０に接続されている。より正確には、図に示される例において、各上プレート３０は、逆Ｕの形状を有する上縦縁３２を有する。これは実質的に水平なウェブ３４および内フランジ３６を備え、これは実質的に上プレート３０と平行である。内フランジ３６は、たとえばリベットまたはネジなどの取り付け手段を通じて、対応する支持梁１０に取り付けられている。

垂直方向に沿ったノズル７のいかなる移動も、ポット３に対する上プレート３０の対応する垂直変位を引き起こす。したがって第２移動手段は、ノズル７を垂直に変位させる手段を備える。

より具体的には、各上プレート３０は、ストリップの通路の同じ側に位置して隣接する下プレート１８と実質的に平行に延在する。上プレート３０および隣接する下プレート１８は、ボックス１６の縦壁を形成する。

上閉じ込め部は、下閉じ込め部に対して垂直方向に沿って摺動可能なように、下閉じ込め部に接続されている。

より具体的には、各上プレート３０は、金属ストリップの通路の同じ側に位置して隣接する下プレート１８と、摺動可能に接続されている。より具体的には、垂直方向に沿って下プレート１８に対する上プレート３０の移動を案内する、第２移動手段を備える。図示される例において、これらの案内手段は、隣接する上および下プレート３０、１８の対向面の間に配置された、複数の案内レール３８を備える。案内レール３８は、実質的に垂直に延在する。これらは縦方向に沿って離間している。

上プレート３０は、第２移動手段がポット３に対して垂直に上プレート３０を移動させるとき、すなわちノズル７がポット３に対して垂直に移動させられたときに、下プレート１８に沿って摺動する。上プレート３０もまた、下プレート１８が第１移動手段によってポット３に対して垂直に移動させられたときに、下プレート１８に対して摺動する。

下プレート１８の下縦縁２２と隣接する上プレート３０の上縦縁３２との間で測定されたボックス１６の高さは、このように調整可能である。これは、下プレート１８に対する上プレート３０の摺動運動を通じて、ノズル７とポット３との間の新しい距離に、自動的に自己調整する。

ボックス１６は、ボックス１６の縦壁の間に延在する２つの横壁４０を、さらに備える。横壁４０は、縦方向に対して実質的に直角に、および具体的にはボックス１６の縦壁に対して直角に、延在する。有利なことに、横壁４０は、実質的にボックス１６の全高にわたって延在する。

横壁４０の構成は、ボックス１６の現在の高さ、すなわち下および上プレート１８、３０の相対位置に対して、自動的に適合する。

横壁４０は、下および上プレート１８、３０の相対位置にかかわらず、ボックス１６の全高にわたって延在する。

各横壁４０は、対抗する下プレート１８の横縁２４または２６を互いに接続する下横プレート４２と、対抗する上プレート３０の横縁を互いに接続する上横プレート４４と、下横プレート４２を上横プレート４４に接続する接続部品４６と、を備える。

図示される例において、下横プレート４２は、２つの下プレート１８の間で下プレート１８に対して実質的に直角に延在する。これは下プレート１８にしっかりと取り付けられている。これは、たとえば溶融槽内に部分的に浸漬される底部位置と、横プレート４２の下縁がたとえば溶融槽４の表面から一定距離で延在する上部位置との間で、下プレート１８とともに垂直方向に沿って移動可能である。たとえば、横プレート４２の下縁は、溶融槽４の表面から下プレート１８の下縦縁２２と同じ距離で、延在する。

下横プレート４２は、この領域内の側方空気侵入を防止することによって、ノズル７の上流の払拭領域内で金属ストリップの周りの雰囲気を閉じ込める。この例において、これはボックス１６の下閉じ込め部の一部を形成する。

上横プレート４４は、２つの上プレート３０の間で上プレート３０に対して実質的に直角に延在する。これは上プレート３０にしっかりと取り付けられている。これは上プレート３０と一体であり、その垂直変位に追従する。

上横プレート４４は、この領域内の側方空気侵入を防止することによって、ノズル７の下流の金属ストリップの周りで払拭領域内の雰囲気を閉じ込める。これは、ボックス１６の上閉じ込め部の一部を形成する。

接続部品４６はＶ字型である。Ｖは、ボックス１６の内側に向かって開放している。

接続部品４６は下接続プレート４７および上接続プレート４８を備え、各々がＶの脚のうちの１つを形成している。

Ｖの脚の間の角度は、上および下横プレート４２、４４の相対位置、およびひいては上および下閉じ込め部の相対位置に応じて、異なる。

たとえば、上閉じ込め部が下閉じ込め部に対して上向きに移動するとき、Ｖの脚の間に形成される角度は増加する。上閉じ込め部が下閉じ込め部に対して下向きに移動するとき、Ｖの脚の間に形成される角度は減少する。

接続部品４６は、特に下および上横プレート４２、４４の間で、横壁４０の良好な気密性を維持しながら下および上横プレート４２、４４の相対位置の変化に適応するために、ベローズの役割を果たす。

上および下接続プレート４７、４８は、第１回転軸Ｘ−Ｘ’の周りで、たとえばヒンジを通じて、互いに回転可能に接続されている。第１回転軸Ｘ−Ｘ’はたとえば、実質的に水平であり、ボックス１６の縦壁に対して直角である。

図示される例において、接続部品４６は、第２回転軸Ｙ−Ｙ’の周りで、たとえばヒンジを通じて、上横プレート４４にさらに回転可能に接続されている。第２回転軸Ｙ−Ｙ’は、たとえば水平であって上プレート３０に対して直角である。

接続部品４６は、たとえばヒンジを通じて、第３回転軸Ｚ−Ｚ’の周りで下横プレート４２にさらに回転可能に接続されている。第３回転軸Ｚ−Ｚ’は、たとえば水平であって下プレート１８に対して直角である。

第１、第２、および第３回転軸は、実質的に互いに対して平行である。

ボックス１６は、縦シャッタ５０をさらに備える。図示される例において、各縦シャッタ５０は、ボックス１６の横壁４０の横端に取り付けられている。横壁４０の横端は、ボックス１６の縦壁に対して直角な方向に沿ったときの横壁４０の末端、すなわちボックス１６の縦壁に隣接する横壁の末端である。

より具体的には、各縦シャッタ５０は接続部品４６に、より具体的には下接続プレート４７に、しっかりと取り付けられている。したがって、縦シャッタ５０は、接続プレート４７とともに、下および上プレート１８、３０に対して第３回転軸Ｚ−Ｚ’の周りを回転する。図示される例において、ボックス１６は、ボックス１６の各コーナーに１つの縦シャッタ５０を備える。

図示される例において、各縦シャッタ５０は、プレートによって形成されている。このプレートはたとえば、接続プレート４７に接続された直線部分と湾曲自由縁とからなる輪郭を有する。湾曲自由縁は凸状である。湾曲自由縁は、案内レール３８によって妨害されることなく下および上プレート１８、３０に対する第３回転軸Ｚ−Ｚ’の周りの縦シャッタ５０の回転を許容するように、設計されている。

縦シャッタ５０は、対応する横壁４０に対して直角な平面内のＶ字型開口を横切って延在することによって、横壁４０の横端のＶ字型開口を封止する。

縦シャッタ５０は、ボックス１６の縦壁と平行な平面内に延在する。これらは、少なくともその横縁において隣接する下および上プレート１８、３０の間に延在する。したがって、縦シャッタ５０は、その横縁において隣接する下および上プレート１８、３０の間に存在する空間を封止し、この空間を通じてボックス１６内に外気が侵入するのを防止する。したがって、これらは、これらの領域内でボックス１６の気密性を向上するのに役立つ。

縦シャッタ５０は、これらのプレート１８、３０の相対位置が変化するとき、下および上プレート１８、３０に対して、ボックス１６の縦壁に対して直角な軸の周り、より具体的には第３回転軸Ｚ−Ｚ’の周りを、自動的に回転する。縦シャッタ５０が下および上プレート１８、３０に対して回転するとき、隣接する上および下プレート１８、３０の間に延在するシャッタ５０の部分は変化する。

縦シャッタ５０は、ボックス１６の高さが増加するにつれて、隣接する下および上プレート１８、３０の間の空間内に向かってさらに回転する。反対に、閉じ込めボックス１６の高さが減少すると、これらは隣接する下および上プレート１８、３０の間の空間から部分的に出るように回転する。したがって、隣接する下および上プレート１８、３０の間に延在する縦シャッタ５０の部分は、ボックス１６の高さが減少するにつれて減少する。

上閉じ込め部には、その上部においてボックス１６を閉鎖する閉鎖キャップ５２が載っている。閉鎖キャップ５２は、それを通じて金属ストリップがボックス１６を離れるスリット５３を、その間に画定する。このスリット５３は、縦方向に沿って延在する。

図に示される例において、ボックス１６は、金属ストリップの通路の両側に位置してこれに向かって延在する、２つの閉鎖キャップ５２を備える。より具体的には、閉鎖キャップ５２は、支持梁１０の間に形成された間隙内に延在し、この間隙の幅を減少させる。閉鎖キャップ５２の間に画定されるスリット５３の幅は、支持梁１０の間に形成された間隙の幅よりも小さい。このため、閉鎖キャップ５２は、金属ストリップの周りのボックス１６の上部を封止して、金属ストリップが閉じ込めボックス１６を離れる領域内のボックス１６の気密性を向上させる。

払拭システム５は、ストリップの縁の上塗りを防止する装置を選択的に備えてもよい。ストリップの縁の上塗りは、ストリップの中央よりもストリップの縁の方がめっきが厚いことを意味する。

より具体的には、金属ストリップの縁の上塗りを防止する装置は、ノズル７から吹き付けられるガスの噴流が間隙９の中で、特に使用時に金属ストリップの幅のため、ノズル７の間に金属ストリップが介在しない間隙９の縁において、互いにぶつかるのを防止するように構成された、衝突防止装置を備える。このため、これらの領域内で、ノズル７から吹き付けられるガスの噴流は、間隙９の中で互いにぶつかるのではなく、その間に延在する衝突防止装置と相互作用する。

対抗するノズル７から吹き付けられるガスの順流がぶつかるのを防止することは、有利である。実際、これは、さもなければこのようなぶつかりによるガスの流れの摂動から生じたかも知れない金属ストリップの縁の上塗りを、防止する。

第２の有利な効果は、ノイズ防止効果、すなわち、さもなければ間隙９の中のガスの噴流のぶつかりから発生したかも知れない、大振幅の音の振動の発生の防止である。

このような衝突防止装置は、めっき金属と相互作用する磁場を発生する磁場システム中にあってもよい。これはまた、機械的装置であってもよい。図に示される例において、衝突防止装置は２つのバッフル５４を備える。各バッフル５４は、金属ストリップの幅のため、ノズル７が、縦方向に沿って、特に間隙９の縁において、金属ストリップの介在を伴わずに互いに向かい合う領域内で、対抗するノズル７の間の間隙９内に延在する金属プレートによって、形成される。

衝突防止装置は、閉じ込めボックス１６内に延在する。具体的には、これは完全に閉じ込めボックス１６に含まれる。

衝突防止装置は有利なことに、ノズル７に対して間隙９の中で変位可能である。この変位は、ストリップ平面に対して直角に衝突防止装置を移動させることによって、ストリップ平面に衝突防止装置を合わせるために、行われることが可能である。また、装置は、ストリップ平面と平行な方向に沿って移動させられることも可能である。この目的のため、払拭システム５は、衝突防止装置を変位させるための作動装置をさらに備える。作動装置は、閉じ込めボックス１６の外部から制御可能である。具体的には、図に示される例において、作動装置は、衝突防止装置を変位させるために閉じ込めボックス１６の外部から到達可能なように、少なくとも部分的に閉じ込めボックス１６の外側に延在する。より具体的には、作動装置は、閉じ込めボックス１６に含まれる衝突防止装置に接続され、閉鎖キャップ５２の間に画定されるスリット５３を通じて延在する。

図に示される例において、作動装置は、各バッフル５４を変位させるための、少なくとも１つのロッド５５を備える。各ロッド５５は、対応するバッフル５２に一体に取り付けられている。これは、閉鎖キャップ５２の間に画定されたスリット５３を通じて、バッフル５４から上向きに延在する。これは、少なくとも部分的に閉じ込めボックス１６の外側に延在する。

有利なことに、ロッド５５は、ノズル７に対して縦方向に沿って移動可能である。ロッド５５は、垂直方向に沿ってノズル７に対して固定されていてもよい。

たとえば、ロッド５５は、支持梁１０上に設けられて実質的に縦方向と平行なレール内に、摺動可能に実装されてもよい。これらのレールは、支持梁１０とロッド５５、およびひいてはロッド５５と一体のバッフル５４との間で、縦方向に沿った相対移動を可能にする。しかしながらロッド５５は、垂直方向に沿った支持梁１０およびひいてはノズル７の移動に、追従する。

閉じ込めボックス１６および衝突防止装置を備える払拭システムを提供することは、有利である。実際、システムは閉じ込めボックス１６を通じて非常にうまく閉じ込められるものの、縁上塗りなどのめっき不良を防止するための衝突防止装置を提供すること、ならびに閉じ込めボックス１６の内側で必要に応じてこの衝突防止装置を変位させることは、まだ可能である。

選択的に、払拭システム５は、ノズル７の下流でボックス１６の中に不活性ガスを注入するための、少なくとも１つの第１補助パイプ６０をさらに備える。具体的には、払拭システム５は、金属ストリップの通路の両側に、少なくとも１つの第１補助パイプ６０を備える。

選択的に、払拭システムは、ノズル７の上流でボックス１６の中に不活性ガスを注入するための、少なくとも１つの第２補助パイプ６２をさらに備える。具体的には、払拭システム５は、金属ストリップの通路の両側に、少なくとも１つの第２補助パイプ６２を備える。

横壁４０、より具体的には上横プレート４４は、それを通じて第１および／または第２補助パイプ６０、６２が気密的にボックス１６内に挿入される、開口を備えてもよい。

パイプ６０、６２はたとえば、ボックス１６の縦側面に沿ってボックス１６の中で実質的に水平に延在してもよい。これらは、ボックス１６の中に不活性ガスを吹き込むためのガス出口を備える。各ガス出口は好ましくは、ボックス１６内で不活性ガスを均一に分布させるために、払拭ノズル７の全長に沿って延在する。有利なことに、パイプ６０、６２のガス出口は、少なくとも１つ、有利には複数の、縦方向延在スリットによって形成される。パイプ６０、６２は、不活性ガス源に接続されている。不活性ガスは、たとえば窒素（Ｎ_２）である。

１４００ｍｍを超えるバンド幅では、パイプ６０、６２の長さは、金属ストリップの通路の両側で減少させられてもよい。この場合、各パイプ６０、６２は、パイプ６０、６２の末端に、ボックス１６の中に位置する不活性ガスを分配するための１つのガス出口を備える。第１および第２補助パイプ６０、６２のガス出口は、金属ストリップのそれぞれの横縁に面して開放している。したがって、不活性ガスは、払拭ノズル７の全長に沿って分配されるものではない。

一例として、第１補助パイプ６０は、ノズル７の下流のボックス１６の領域内でパイプから水平にガスが吹き出されるようにその側面に形成されたガス出口を備える。

たとえば、第２補助パイプ６２は、ノズル７の上流のボックス１６の領域内に、上流方向に垂直にこれらのパイプ６２から不活性ガスが吹き出されるように、パイプ６２の底部に沿って形成されたガス出口を有する。第２補助パイプ６２からの不活性ガスはまた、上および／または下プレート１８、３０とノズル７との間に位置するボックス１６の領域内にも、吹き込まれる。

補助パイプ６０、６２は、外気がボックス１６内に侵入するのを防止するボックス１６内の過剰圧力を形成するように、ボックス１６内に不活性ガスを注入するために、使用されることが可能である。したがって、不活性ガス注入は、ボックス１６の気密性の向上に寄与する。

払拭システム５はまた、ボックス１６からの不活性ガスを再循環させるシステムを備えてもよい。このシステムは、たとえばポンプによってボックス１６から不活性ガスを除去し、第１および／または第２補助パイプ６０、６２を通じて、および／またはノズル７を通じて、これをボックス１６内に再注入するように、構成されている。このようなシステムは従来型であり、図面には示されていない。これは具体的には、ボックス１６が、閉じ込めボックス１６の下端が溶融槽内に浸漬していてその下端を通じてボックス１６から事実上全くガスが漏れない完全閉鎖構成にあるときに、使用される。

最後に、払拭システム５は、特に金属ストリップの付近に、ボックス１６の中の酸素の含有量を測定する酸素含有量測定装置を備えてもよい。この測定装置は、ボックス１６の中の異なる箇所で酸素含有量を測定するように構成された、１つまたはいくつかの酸素プローブに接続された複数のパイプ６４を備える。たとえば、装置は金属ストリップの通路の両側に複数の酸素プローブを備え、酸素プローブは、金属ストリップの幅に沿って異なる箇所で金属ストリップ付近の酸素含有量を測定するように構成されている。

本発明による設備１の閉じ込めボックス１６は、様々な製品向けの金属ストリップの十分なめっきを製造することができる。

ある種のめっき済み金属ストリップ製造から別のものに切り替えるとき、たとえばある金属ストリップ厚から別のものへ、またはあるめっき厚から別のものへ移行するとき、ライン速度が変化してもよい。

本発明による設備１を用いると、払拭システム５を通る金属ストリップの形式（幅、厚さ）および速度にかかわらず、同じめっき品質が得られる。実際、たとえば任意のめっき厚でより薄い金属ストリップを製造する場合など、ストリップの速度が上昇するとき、通常は払拭圧を相応に上昇させる必要がある。この圧力上昇の結果、金属ストリップから払拭ノズル７上へのめっき金属の突起が生じる可能性があり、これはノズル７のガス出口８を部分的に妨害する可能性がある。ガス出口８の妨害領域に面する領域ではめっきが払拭されないので、これはひいては不十分なめっきの品質を招く可能性がある。本発明による設備では、再突起を減少させるようにノズル７と槽４との間の距離を増加させることによって、これは制限されることが可能である。

さらに、設備１がたとえばバッフル５４などの衝突防止装置を備えるとき、この衝突防止装置は、具体的には縁上塗りなどの不具合を低減することによって、良好なレベルのめっきを得るのに貢献する。

また、閉じ込めボックス１６は槽とノズルとの距離の変化に自己適応し、このため槽とノズル間距離に関わらず十分な閉じ込めを保証して払拭領域の周りのめっきの酸化を防止するので、槽とノズルとの距離が増加しても、めっきの品質は十分なままである。これは特に、上閉じ込め部が垂直方向に沿ってポット３に対して移動可能であるという事実によるものである。上閉じ込め部はそれらの垂直変位に追従するようにノズル７に接続されているので、ボックス１６のこの適応はさらに自動的である。

本発明による設備はさらに、とりわけ多用途向けである。実際、ボックス１６は、相互におよびポット３に対して移動可能な上および下閉じ込め部を備えるので、ノズル７と槽４の表面との間の距離にかかわらず、いずれの既存ノズルシステムにも適応可能である。

また、ボックス１６の下端とポット３との間の距離は、単純にポット３に対して下閉じ込め部を移動させることによって、非常に簡単に変化させられることが可能である。したがって、溶融槽４の表面とボックス１６の下端との間にかなり大きい空間が存在する開放ボックス構成から、ボックス１６の下端が溶融槽４内に浸漬されている完全封止構成に切り替えることは、非常に簡単である。したがってこの特徴は、払拭条件または異なる溶融槽成分への閉じ込めボックス１６の容易な適応を、可能にする。たとえば、特に高いガス気密性が望ましい場合に、これは溶融槽４内への下閉じ込め部の部分的な浸漬を可能にする。あるいはこれは、たとえば洗浄目的のために溶融槽の表面へのアクセスが望まれる場合に、溶融槽表面と下閉じ込め部との間に間隙を提供できるようにする。

また、横壁４０および縦シャッタ５０が垂直ノズル変位および／またはボックス１６とポット３間距離の変化に応えて移動するという事実もまた、ノズル７とポット３との距離またはボックス１６とポット３との距離の変化へのボックス１６の形状の適応に貢献する。

本発明による払拭システム５は、さらに非常に利用および維持しやすい。これはとりわけ、ポット３またはノズル７に対する下閉じ込め部の移動可能性によるものである。実際、これにより、単に下閉じ込め部を垂直に上向きに移動させることによって、必要なときに溶融槽表面またはノズル７を洗浄することが可能である。

また、ボックス１６がノズル７および支持梁１０と一体に作られていないとき、これはたとえばノズルシステムの構成要素の保守のため、ノズル７から容易に取り外し可能であるという、付加的な利点を提供する。

Claims (17)

1. 金属ストリップを溶融めっきするための設備（１）であって、前記設備（１）は、
   前記金属ストリップを通路に沿って移動させる手段と、
   溶融槽（４）を収容するためのポット（３）と、
   ポット（３）の下流の前記通路の両側に配置された少なくとも２つのノズル（７）を備える払拭システム（５）であって、各ノズル（７）は少なくとも１つのガス出口（８）を有し、払拭システム（７）は、前記ノズル（７）の上流で金属ストリップの周りの雰囲気を閉じ込めるための下閉じ込め部（１８）と、前記ノズル（７）の下流で金属ストリップの周りの雰囲気を閉じ込めるための上閉じ込め部（３０）と、を備えるボックス（１６）を有し、前記払拭システム（７）はポット（３）に対して下閉じ込め部（１８）を垂直に移動させるための第１移動手段を有する、払拭システム（５）と、
   を備え、
   ノズル（７）はポット（３）に対して垂直に移動可能であり、払拭システム（５）は、ポット（３）および下閉じ込め部（１８）の両方に対して上閉じ込め部（３０）を垂直に移動させるための第２移動手段（７、１０）を備える、
   設備（１）。
2. 上閉じ込め部（３０）が、ポット（３）に対するノズル（７）の垂直移動がポット（３）および下閉じ込め部（１８）に対して同じ規模の上閉じ込め部（１８）の垂直移動を引き起こすように、ノズル（７）と接続されている、請求項１に記載の設備（１）。
3. 下閉じ込め部（１８）が、底部位置と上部位置との間で垂直に移動可能であり、下閉じ込め部（１８）は底部位置において溶融槽（４）の中に部分的に浸漬されるように意図される、請求項２に記載の設備（１）。
4. 下閉じ込め部が、通路の両側に１つずつ、２つの下プレート（１８）を備え、前記下プレート（１８）はポット（３）の上に位置する、請求項１から３のいずれか一項に記載の設備（１）。
5. 第１移動手段が、ポット（３）を下プレート（１８）に接続するジャッキ（２８）を備える、請求項４に記載の設備。
6. 上閉じ込め部が、通路の両側に１つずつ、２つの上プレート（３０）を備え、各上プレート（３０）は、通路の同じ側に位置する対応する下プレート（１８）に対して垂直方向に摺動可能である、請求項４または５に記載の設備（１）。
7. ボックス（１６）が、垂直方向に沿って下プレート（１８）に対する上プレート（３０）の移動を案内するために、対応する下および上プレート（１８、３０）の対向面の間に位置する案内レール（３８）をさらに備える、請求項６に記載の設備（１）。
8. 金属ストリップの通路の同じ側に位置する対応する下プレート（１８）に関連付けられた各上プレート（３０）が、ボックス（１６）の縦壁を形成し、ボックス（１６）は、ボックス（１６）を側方で閉鎖するために縦壁の間に延在する横壁（４０）をさらに備える、請求項６または７に記載の設備（１）。
9. 各横壁（４０）が、上プレート（３０）を互いに接続する上横プレート（４４）と、下プレート（１８）を互いに接続する下横プレート（４２）と、上横プレート（４４）と下横プレート（４２）との間に延在するＶ字型接続部品（４６）と、を備え、Ｖの角度は上および下プレート（１８、３０）の相対移動に応じて変化する、請求項８に記載の設備（１）。
10. ボックス（１６）が、縦シャッタ（５０）をさらに備え、各縦シャッタ（５０）は、横端を閉鎖するように、Ｖ字型接続部品（４６）のうちの対応する１つの横端を横切ってボックス（１６）の縦壁と実質的に平行な平面内に延在する、請求項９に記載の設備（１）。
11. 払拭システム（５）が、ノズル（７）の下流でボックス（１６）の中に不活性ガスを注入するための少なくとも１つの補助パイプ（６０）を有する、請求項１から１０のいずれか一項に記載の設備（１）。
12. 払拭システム（５）が、ノズル（７）の上流でボックス（１６）の中に不活性ガスを注入するための少なくとも１つの補助パイプ（６２）を有する、請求項１から１１のいずれか一項に記載の設備（１）。
13. 払拭システム（５）が、ボックス（１６）の中の酸素含有量を測定する酸素含有量測定装置（６４）を備える、請求項１から１２のいずれか一項に記載の設備（１）。
14. 上閉じ込め部（３０）には、通路に向かって延在して金属ストリップの通過のためのスリット（５３）を画定する閉鎖キャップ（５２）が載っている、請求項１から１３のいずれか一項に記載の設備（１）。
15. ノズル（７）が、金属ストリップの通過のための間隙（９）を前記ノズル間に画定し、前記設備は、ノズル（７）から吹き付けられるガスの噴流が間隙（９）の中でぶつかるのを防止するように構成された衝突防止装置（５４）をさらに含む、請求項１４に記載の設備（１）。
16. 前記溶融槽が、ＺｎまたはＺｎ基合金のものである、請求項１から１５のいずれか一項に記載の設備（１）。
17. 前記溶融槽が、Ａｌおよび／またはＭｇを備える、請求項１６に記載の設備（１）。

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