CN105264110B - 成膜装置 - Google Patents
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Abstract
提供一种能够不将成膜单元及其上游侧和下游侧单元上下重叠而确保作业空间的成膜装置。成膜装置包括成膜单元(16)、和配置在其左右的上游侧及下游侧单元(14、18)。成膜单元(16)具有:成膜辊(70);多个引导辊(72);主腔室(64),具有成膜辊收纳部(74)及其上侧的引导辊收纳部(76);第1加工腔室和第2加工腔室(66、68),在成膜辊收纳部(74)的左右收纳多个成膜加工用设备(84、86);和加工腔室支承部(104),将加工腔室(66、68)支承为,该加工腔室(66、68)能够在成膜用的通常位置与向左右退避的退避位置之间移动,并且能够在该退避位置与在前后方向上离开的露出位置之间移动。
Description
技术领域
本发明涉及用于在带状的被成膜材的表面上形成功能性薄膜等薄膜的连续成膜装置。
背景技术
以往,作为用于对由长条的薄膜或薄片构成的薄壁的被成膜材连续地进行成膜的装置,已知有这样的结构:将该被成膜材在真空腔室内连续地输送,并在其表面上通过溅镀或蒸镀形成各种功能性薄膜。
作为这样的成膜装置,例如专利文献1公开了包括上部腔室和下部腔室的结构。上述下部腔室收纳能够卷绕由薄膜等构成的被成膜材的成膜辊、和用于对该被成膜材实施成膜处理的多个溅镀源等。该下部腔室具有左右侧壁,在这些侧壁上形成有开口,并且在该侧壁上装配有用来开闭该开口的门。在将该门打开的状态下,经由上述开口进行各批次处理的靶极的更换、划分成膜区域的掩模的更换及清扫、被成膜材的所谓的通纸及更换等各种维护作业。
上述上部腔室配置在上述下部腔室的上方,并且收纳将上述被成膜材展开的展开单元、将所展开的被成膜材加热并从该被成膜材将气体分离的脱气单元、和将上述被成膜材卷取的卷取单元。在该装置中,从上述上部腔室内的上述展开单元展开的被成膜材在穿过上述脱气单元后暂且被运入到下部腔室内,在这里进行了成膜处理后,向上述上部腔室返回并由上述卷取单元卷取。
这样,通过将除了上述成膜辊及其周边设备以外的加工单元收纳到上述上部腔室中,而在下部腔室的左右两侧确保了用来进行上述维护等作业的空间。
在上述的现有装置中,需要在下部腔室的左右的门外侧分别确保充分的作业空间,不能在该下部腔室的左右相邻的位置配置其他单元,所以必须在上述下部腔室的更上侧设置上部腔室,在该上部腔室内收纳要配置到成膜辊的上游侧的展开单元、脱气单元及要配置到成膜辊的下游侧的卷取单元。这导致装置整体的组装作业的复杂化及维护作业的困难化。具体而言,当组装上述装置时,需要在使用起重机等将重量大的上部腔室吊起的状态下在其下方设置下部腔室并在其上连结上述上部腔室的大规模的作业,该作业并不容易。此外,在上部腔室内的各零件的更换及维护时,作业人员必须从处于较高位置的上部腔室的上侧进入该上部腔室来进行作业,用于该作业的脚手架及用于保证安全性的设备成本也增大。
专利文献1:日本特开2010-053382号公报。
发明内容
本发明的目的是提供一种包括含有成膜单元的多个单元的成膜装置,在将这些单元不上下重叠地配置的同时,能够将用于上述成膜单元中装备的各成膜加工用设备的更换及维护的作业空间确保得大。
本发明所提供的成膜装置一边将沿特定方向延伸的带状的被成膜材沿其纵长方向输送,一边对该被成膜材的表面实施成膜,包括成膜单元、配置在比该成膜单元靠上述被成膜材的输送方向的上游侧的上游侧单元、和配置在比上述成膜单元靠上述被成膜材的输送方向下游侧的下游侧单元。上述成膜单元具有:成膜辊,能够绕水平的旋转中心轴旋转;多个成膜加工用设备,配置在该成膜辊的周围;多个引导辊,配置为在上述上游侧单元及上述下游侧单元与上述成膜辊之间进行上述被成膜材的引导;主腔室,具有收纳上述成膜辊的成膜辊收纳部、以及位于该成膜辊收纳部的上侧并收纳上述引导辊的至少一部分的引导辊收纳部;第1加工腔室和第2加工腔室,关于与上述成膜辊的中心轴的方向正交的左右方向分别配置在上述成膜辊收纳部的两侧,分别收纳上述成膜加工用设备的至少一部分,具有朝向上述成膜辊收纳部侧的开口;加工腔室支承部,支承这些第1加工腔室和第2加工腔室。上述成膜辊收纳部具有左右的第1腔室开口侧面, 该左右的第1腔室开口侧面位于上述成膜辊的左右方向的两侧,与上述第1加工腔室和第2加工腔室的上述成膜辊收纳部侧的开口一致。上述引导辊收纳部具有比上述成膜辊收纳部的左右的第1腔室开口侧面向上述左右方向的两侧延伸的部分,这些部分具有与上述上游侧单元及上述下游侧单元分别连接的左右的第2腔室开口侧面。上述加工腔室支承部将上述第1加工腔室和第2加工腔室支承为,能够在通常位置与退避位置之间移动并且能够在该退避位置与露出位置之间移动,所述通常位置是所述加工腔室将上述成膜辊收纳部的开口覆盖并与上述主腔室一起形成成膜空间的位置,所述退避位置是从该通常位置在比上述上游侧单元及上述下游侧单元靠内侧的范围内向左右方向的外侧退避的位置,所述露出位置是从该退避位置沿与上述成膜辊的旋转中心轴平行的方向即前后方向离开的位置,并且在所述露出位置上述加工腔室的内部露出。
另外,本发明中所说的“水平”并不是严格规定的,是也包含相对于完全的水平面稍稍倾斜的方向的概念。
附图说明
图1是本发明的实施方式的成膜装置的剖面主视图,是图4的I-I线剖视图。
图2是表示上述成膜装置的主要部分的剖面主视图。
图3是图1的III-III线剖视图。
图4是上述成膜装置的俯视图。
具体实施方式
参照附图说明本发明的优选实施方式。
图1所示的成膜装置是用于将例如由塑料制的薄膜构成的长条且带状的被成膜材10一边沿其纵长方向输送一边在该被成膜材10的表面上形成薄膜的装置。该成膜装置以上述被成膜材10的加工的顺序,包括展开单元12、脱气单元14、成膜单元16和卷取单元18。上述单元12、14、16、18沿着上述被成膜材10的输送方向即水平方向依次排列。在该装置中,与后述的成膜辊70的旋转中心轴X正交的水平方向(也包括稍稍倾斜的情况)相当于左右方向,与该旋转中心轴X平行的方向相当于前后方向,上述各单元12、14、16及18依次在左右方向上(在图1中在从左向右的方向上)排列。
上述展开单元12是进行上述被成膜材10的供给的,包括展开滚筒26、分别作为引导辊的多个自由辊28、包围供给用空间22的展开腔室24和门30。展开滚筒26收纳在上述展开腔室24的下部,通过该展开滚筒26的旋转将卷绕在该展开滚筒26上的被成膜材10依次展开。上述各自由辊28在上述展开腔室24内配置在上述展开滚筒26的上方,将从该展开滚筒26展开的被成膜材10向设置在上述展开腔室24的上部的出口32引导。上述展开腔室24具有将上述供给用空间22向该展开腔室24的外侧开放的开口,上述门30经由铰链安装在上述展开腔室24上,以开闭该开口。上述开口在上述展开滚筒26的更换、被成膜材10的所谓通纸及其他维护作业中使用。
上述脱气单元14是作为成膜的前处理工序将展开的被成膜材10加热而将其中含有的气体从该被成膜材10分离的单元,包括多个自由辊40、多片板式加热器42、包围脱气用空间34的脱气腔室36、和配置在该脱气腔室36的下侧的支承框架38,在上述脱气腔室36内收纳上述自由辊40及板式加热器42。
上述脱气腔室36具有与上述展开单元12的出口32连接的入口43、和位于其相反侧的出口44。上述支承框架38将上述脱气腔室36支承在该入口43与上述出口32一致的高度位置。上述脱气腔室36包括上下取位的顶盖45及底盖46,分别形成有维护用的开口,并且经由铰链安装着用来开闭该开口的门47、48。上述支承框架38为了能够从设置在上述底盖46上的开口进行作业,而将作业人员能够进入上述脱气腔室36的下方的作业空间50包围。
上述各自由辊40上下交替地配置,以便将上述被成膜材10一边在上述脱气腔室36内上下输送一边从上述入口43向上述出口44引导。上述各板式加热器42以直立姿势配置在被成膜材10中的在左右方向上彼此相邻的部分彼此之间,其中被成膜材10如上述那样一边沿上下方向被输送一边沿左右方向行进,通过该板式加热器42自己发热,将上述被成膜材10加热,从而执行脱气处理。
上述成膜单元16是对从上述展开单元12经由上述脱气单元14导入的被成膜材10的表面实施成膜处理(在该实施方式中是溅镀)的单元,关于其详细情况在后面详细说明。
上述卷取单元18是进行在上述成膜单元16中被实施了成膜的被成膜材10的卷取的单元,包括包围卷取用空间52的卷取腔室54、收纳在该卷取腔室52内的卷取滚筒56及多个自由辊58和门60。卷取滚筒56收纳在上述卷取腔室54的下部,通过该卷取滚筒56的旋转,将从上述成膜单元16导入的被成膜材10依次卷取。上述各自由辊58配置在上述卷取滚筒56的上方,将从设置在上述卷取腔室54的上部的入口62向卷取用空间52内导入的被成膜材10向上述卷取滚筒56引导。上述卷取腔室54具有将上述卷取用空间52向该卷取腔室54的外侧开放的开口,上述门60经由铰链安装在上述卷取腔室54上,以开闭该开口。上述开口在上述卷取滚筒56的更换、被成膜材10的所谓通纸及其他维护作业中使用。
接着,同时参照图2~图4说明上述成膜单元16的详细情况。
上述成膜单元16包括:主腔室64;左侧加工腔室(第1加工腔室)66;右侧加工腔室(第2加工腔室)68;成膜辊70;多个自由辊,包括左右的辅助辊71及多个引导辊72;多个成膜加工用设备,包括后述的溅镀源84和压力分离用分隔壁88;腔室支承部20,包括加工腔室支承部104。
上述主腔室64是成膜辊收纳部74和引导辊收纳部76一体地相连的结构,与其收纳物一起构成主腔室单元。作为该收纳物,上述成膜辊收纳部74收纳上述成膜辊70、上述辅助辊71、多个成膜用掩模203、上述压力分离用分隔壁88的一部分等,上述引导辊收纳部76收纳上述引导辊72。
上述成膜辊收纳部74具有左右的第1腔室开口侧面77,在各开口侧面77上分别形成有较大的开口80。成膜辊收纳部74的内部空间能够经由上述各开口80与左右加工腔室66、68的内部空间连通。
上述引导辊收纳部76位于上述成膜辊收纳部74的上侧,并且关于左右方向即与被成膜材10的输送方向平行的方向具有比该成膜辊收纳部74长的形状。换言之,引导辊收纳部76的左右方向的两端部比上述成膜辊收纳部74在该左右方向上伸出。这些部分的端面相当于第2腔室开口侧面,在这些第2腔室开口侧面上分别形成有主腔室64的入口81及出口82。上述腔室支承部20将上述主腔室64支承在上述入口81及出口82分别与上述脱气单元14的出口44及上述卷取单元18的入口62相连的高度位置。
图1和图2所示的主腔室64是整体一体地形成的,本发明并不限于此。例如,根据制作的方便,也可以是将成膜辊收纳部74和引导辊76收纳部分别单独地形成后将它们结合的结构。
上述成膜辊70具有以如上所述与装置的前后方向平行的旋转中心轴X为中心的圆筒状的外周面,以在设置为在该外周面上卷绕上述被成膜材10的状态下能够绕该轴X旋转的方式,支承于上述成膜辊收纳部74。
收纳在上述成膜辊收纳部74中的分隔壁88与如后所述收纳在上述第1加工腔室和第2加工腔室66、68中的分隔壁88一起,将成膜辊70的周围的空间划分为多个成膜区204而将各成膜区204的压力相互分离。此外,具有开口的各成膜用掩模203配置在上述成膜辊70的外周面的附近,限制附着区域,以使得溅镀膜仅附着在被成膜材10中的与上述各成膜用掩模203的开口对应的部分上。
上述左右的辅助辊71配置在上述成膜辊70的正上方的位置,引导上述被成膜材10,以使该被成膜材10卷绕到上述成膜辊70的外周面中的除了其上端部分以外的面上。这些辅助辊71也可以不收纳在上述成膜辊收纳部74而是收纳在上述引导辊收纳部76中。此外,各辅助辊71还能够作为检测被成膜材10的张力的张力检测辊使用。
上述引导辊72在上述引导辊收纳部76内以在左右方向上并列的方式排列。这些引导辊72的一部分配置为,将被成膜材10从上述脱气单元14向上述成膜辊70引导,其余配置为将被成膜材10从上述成膜辊70向上述卷取单元18引导。在这些引导辊72中也可以包含驱动式的水冷辊。
另外,该成膜装置中所包含的上述的辊类都能够绕与上述成膜辊70的旋转中心轴X平行的轴(即沿装置的前后方向延伸的轴)旋转地配置,向与这些轴正交的方向输送上述被成膜材10。
上述左右的加工腔室66、68配置为,将设置在上述成膜辊收纳部74的左右开口侧面77上的开口80从左右两外侧封闭,并且与上述成膜辊收纳部74配合地在上述成膜辊70的周围形成成膜用的空间,即由上述分隔壁88划分出的多个成膜区204。各加工腔室66、68收纳上述成膜加工用设备的至少一部分,与其收纳物一起构成能够相对于上述主腔室单元移动的加工腔室单元。各成膜加工用设备沿着上述成膜辊70的外周面配设,对在该成膜辊70的外周面上沿其旋转方向移动的被成膜材10执行成膜加工。
在该实施方式的加工腔室66、68所收纳的成膜加工用设备中,包括多个溅镀源84、多个涡轮分子泵86、上述多个分隔壁88的一部分和未图示的冷阱等。上述各溅镀源84保持用于溅镀的靶极85,并且分别配置在由设置在成膜单元16内的多个位置处的分隔壁88分别包围的成膜区204内,通过在氩气等预定的气体环境中受到高电压的施加,将上述靶极85的一部分经由成膜用掩模溅镀到成膜辊70的外周面上的被成膜材10的表面上。各涡轮分子泵86动作,以进行上述加工腔室66、68内的排气。
上述各加工腔室66、68呈向内开口的形状,即朝向上述成膜辊70及收纳上述成膜辊70的上述成膜辊收纳部74开口的箱状。具体而言,各加工腔室66、68具有分别位于左右两外侧的外侧壁90和从该外侧壁90的周缘向内延伸的周壁92。因而,上述成膜辊收纳部74的左右的第1腔室开口侧面77与上述各加工腔室66、68的上述成膜辊收纳部74侧的开口一致。
各加工腔室66、68由后面详细说明的腔室支承部20支承,同时被允许在图2中用实线表示的通常位置与图2中用双点划线表示的退避位置之间移动。在上述通常位置中,通过各加工腔室66、68将上述开口80封闭(在该实施方式中,各加工腔室66、68的周壁92的内侧端面夹着配设在上述开口80的周围的密封部件79(图3)紧贴),而将成膜辊收纳部74的内部密闭,与该成膜辊收纳部74配合地形成多个成膜区204。
上述退避位置是上述加工腔室66、68分别从上述通常位置向左右方向的外侧以略微的行程退避的位置,是在该加工腔室66、68从该位置沿前后方向移动的情况下能够避免该加工腔室66、68与上述成膜辊70干涉的位置。将从上述通常位置到上述退避位置的行程较大地设定为这样的程度:加工腔室66、68能够从该退避位置不与成膜辊70干涉地沿前后方向移动,并且较小地设定为这样的程度:在该退避位置能够避免各加工腔室66、68与在左右两外侧分别相邻的单元(在该实施方式中是作为上游侧单元的脱气单元14及作为下游侧单元的卷取单元18)的干涉。
在该实施方式中,上述溅镀源84、上述涡轮分子泵86及上述分隔壁88中的许多分别固定在上述加工腔室66、68的外侧壁90及周壁92上,分隔壁88的其余固定在上述主腔室64的内壁上。
上述引导辊收纳部76具有顶盖94,在该顶盖94上形成有多个开口(在该实施方式中是中央开口95及左右开口96),并且经由铰链安装有将各开口95,96分别开闭的门97、98。上述开口95、96通过将收纳在上述引导辊收纳部76中的各引导辊72向上方开放,使得作业人员能够从上方经由这些开口95、96相对于上述各引导辊72到达。
上述腔室支承部20具有设置地基上的底座100、立设在该底座100上的多个支柱102、和组装在上述底座100上的包括后述的导轨110等的左右的加工腔室支承部104。上述支柱102将上述成膜单元16中的主腔室64以静止状态支承。上述左右的加工腔室支承部104将上述左右的加工腔室66、68支承为,分别能够在上述通常位置与从该通常位置退避的位置之间移动。
上述各加工腔室支承部104包括第1支承部106和第2支承部108。各第1支承部106通过将上述加工腔室66、68沿着与上述成膜辊70的中心轴正交的左右方向引导,而将该加工腔室66、68分别支承为,允许该加工腔室66、68在上述通常位置与从该通常位置向上述左右方向的两外侧退避的退避位置之间移动,上述通常位置即各加工腔室66、68将上述主腔室64的开口80分别封闭的位置。第2支承部108通过将上述各加工腔室66、68及支承它们的第1支承部106支承为分别能够沿与上述成膜辊70的中心轴平行的前后方向移动,而允许该加工腔室66、68在与上述各开口80对置的位置(例如上述退避位置)与露出位置之间移动,所述露出位置是通过从与上述各开口80对置的位置沿上述前后方向(在该实施方式中都是后方)离开而使该加工腔室66、68的内部露出的位置。
该实施方式的各第2支承部108具有一对导轨110和一对行进体112。上述各导轨110以沿前后方向延伸的方式铺设在上述底座100上。上述各行进体112一边将上述第1支承部106从下方支承一边沿着上述各轨道110行进。具体而言,行进体112具有能够在各个导轨110上滚动的多个车轮114、和将这些车轮114能够绕左右方向的轴旋转地保持的行进台116,将上述第1支承部106支承在这些行进台116上。各行进体112既可以搭载驱动上述车轮114的自行用马达,也可以由设置在该行进体112的外部的驱动机构(例如滚珠丝杠机构)驱动。或者也可以通过人力或辅助人力的力来运动。
上述各第1支承部106具有前后一对的滑动支承部件118、和固定在上述各加工腔室66、68的底面上的多个滑块120。上述各滑动支承部件118沿左右方向延伸,在相互在前后方向上离开的位置以跨越左右的行进台116的方式架设在这些行进台116上。各滑块120例如由LM导向件等构成,与该滑动支承部件118卡合,以便能够沿着上述滑动支承部件118的纵长方向(即装置的左右方向)滑动,由此,将对应的加工腔室66或68支承为能够沿该左右方向滑动。这些加工腔室66、68的滑动既可以通过例如与该加工腔室66、68连结的缸的上述左右方向的伸缩来进行,也可以通过作业人员的直接的手动操作来进行。
这样,加工腔室支承部104允许上述各加工腔室66、68在上述通常位置(图1和图2所示的成膜用位置)与上述露出位置(如图3和图4所示该加工腔室66、68从主腔室64完全向后方离开而使该加工腔室66、68的内部露出的位置)之间移动。
上述露出位置是用于成膜单元16的维护等的位置,并不一定需要特定为一定的位置。优选的是将该加工腔室的移动行程设定为,上述第1加工腔室和第2加工腔室66、68中的至少一个加工腔室能够以比另一个加工腔室的前后方向的尺寸大的距离从上述主腔室64在前后方向上离开。在图3和图4所示的例子中,将各个行程设定得充分大,以使得双方的加工腔室66、68能够以超过这些加工腔室66、68的前后方向的尺寸的距离从上述主腔室64离开,换言之,例如如图3和图4所示能够采取双方的加工腔室66、68同时从主腔室64离开且相互在左右方向上不重叠的配置。
该实施方式的成膜装置除了以上的构成要素以外,还包括图4所示的左右的电源板121、122、左右的控制板123、124、左右的可动配线收纳部125、126、多个粗真空泵128、成膜辊温度调节单元130等的附属设备,它们都配置在上述成膜单元16的后方的区域中,即上述两加工腔室66、68的露出位置所存在的一侧的区域中。
各电源板121、122及控制板123、124与上述成膜单元16内的适当的设备连接。上述粗真空泵128经由未图示的粗真空配管与上述成膜单元16的涡轮分子泵86连接。在该实施方式中为这样的结构:当朝向通常位置向闭合方向动作的加工腔室66、68与主腔室64连结时,也将粗真空配管彼此连结。上述成膜辊温度调节单元130经由图3所示的温度调节用配管133与上述成膜辊70连接,通过热介质的循环来调节成膜辊70的温度。各可动配线收纳部125、126附设在各加工腔室66、68上,以与其分别一体地移动,将要与该加工腔室66、68连接的配管及配线一起收纳。各溅镀源84的通电例如通过省略图示的插槽插入结构实现,该插槽插入结构与加工腔室66、68的开闭动作连动地将连接开闭。上述粗真空泵128和成膜辊温度调节单元130既可以如图4所示那样配置在成膜装置的主体部分的附近,也可以设置在从该主体部分离开的其他室中。
进而,该成膜装置包括图3和图4所示的前侧及后侧脚手架单元131、132。这些单元131、132在上述成膜单元16及脱气单元14的前后分别形成脚手架,具有配设在适当的高度位置的踏板134、用于相对于踏板134的升降的台阶136、安全用的围栏138等。这些脚手架单元131、132使得作业人员能够经由开口95、96进行上述主腔室64内的通纸及各辊的维护作业,开口95、96是上述主腔室64中的引导辊收纳部76的上侧开口。
如图3所示,在上述成膜单元16的后方空间的上方设置有起重机142,所述后方空间即上述各加工腔室66、68的露出位置所存在的一侧的空间。该起重机142安装在工厂的顶板框架140上,以便能够沿着该顶板框架140在水平方向(至少左右方向)上移动,经由钩144进行比较大的重量(例如40~50kg左右)的靶极85等的吊起。在该实施方式中,在图3和图4所示的第1加工腔室66所存在的位置与主腔室64之间的中间位置的上方以能够沿左右方向移动的方式设置上述起重机142,第1加工腔室66所存在的位置即加工腔室在全行程中后退的位置(图3和图4所示的第2加工腔室68所存在的位置),在该中间位置进行使用上述起重机142的靶极85等的拉起及输送作业。关于该作业,上述底座100也作为脚手架发挥功能。除了该底座100以外,还能够适当地追加如图4所示的脚手架用的蹬踏台146、148。
接着,对该成膜装置的作用进行说明。
首先,在进行成膜时,将成膜单元16的各加工腔室66、68设定到图1和图2所示的通常位置,即这些加工腔室66、68将主腔室64的成膜辊收纳部74的左右开口封闭而与该成膜辊收纳部74一起形成成膜空间的位置。在该状态下,将被成膜材10以展开单元12、脱气单元14、成膜单元16及卷取单元18的顺序沿左右方向输送,在成膜单元16中执行对上述被成膜材10的表面的成膜处理。该成膜处理由成膜辊70和配设在其周围的成膜加工用设备(具体而言是收纳在加工腔室66、68中的溅镀源84、涡轮分子泵86、和收纳在成膜辊收纳部74中的成膜用掩模203等)执行。
在成膜单元16的零件的更换及维护时,除去该成膜单元16中所包含的主腔室单元即由主腔室64及其收纳物构成的单元,使左右的加工腔室单元即由加工腔室66、68及其收纳物构成的单元从上述通常位置移动到例如图3和图4所示的露出位置。该移动如下来实现:使上述各加工腔室66、68从上述通常位置沿着第1支承部108的滑动支承部件112移动到向左右两外侧稍稍离开的退避位置;和从该退避位置沿着第2支承部106的导轨110在前后方向上(在该实施方式中向后方)移动足够的距离,即移动到该加工腔室66、68的内部完全露出的露出位置。在该状态下,能够进行该移动后的加工腔室单元的作业即加工腔室内部的成膜加工用设备的作业,例如溅镀源84所保持的靶极85的更换和分隔壁88的清扫作业,并且能够经由通过该加工腔室的移动而开放的主腔室64的开口80进行主腔室单元的作业,例如各批次的成膜用掩模203的更换、成膜辊70及辅助辊71的清扫等。
这样的作业也可以关于左右的加工腔室66、68依次进行,但通过使这些加工腔室66、68同时移动到露出位置,使得作业效率进一步提高。而且,如果将加工腔室66、68的移动行程设定得充分大,则例如如图3和图4所示,通过使一个加工腔室(在图3和图4中是左侧加工腔室66)移动到最后方位置,并使另一个加工腔室(在图3和图4中是右侧加工腔室68)移动到中间位置,所述中间位置是上述一个加工腔室与主腔室64之间的位置,与这些腔室在左右方向上不重叠(即相互不成为妨碍),能够关于两个加工腔室66、68确保充分大的作业空间。
例如,在图3和图4所示的配置中,作业人员能够从装置的左侧以虚线L1所示的路径到达存在于中间位置的右侧加工腔室68,能够使用设置在该中间位置的起重机142沿着该路径进行靶极85等的运入及运出。该运入运出物例如能够使用省略图示的台车在成膜装置远处的部位与图4所示的蹬踏台146之间移送。此外,以与其相反的路径关于左侧加工腔室66也同样能够进行维护等作业,左侧加工腔室66即从主腔室64离开直到完全超过右侧加工腔室68的位置的加工腔室。具体而言,作业人员例如在图4所示的状态下,能够以由虚线L3表示的路径到达左侧加工腔室66。进而,能够经由通过加工腔室66、68的移动而开放的主腔室64的开口80,以在图4中用虚线L2表示的路径进行成膜用掩模203等的运入运出。此外,通过将左右的加工腔室66、68与图4所示的配置相反地配置,也能够以例如虚线L4所示的路径进行相反侧的掩模203等的运入运出。进而,还能够从装置正面侧以例如虚线L5、L6所示的路径进行成膜用掩模203的运入运出。
本发明并不限定于以上说明的实施方式。
例如,关于上述各加工腔室66、68的前后方向的移动方向也可以设定为彼此相反的方向。例如也可以将导轨110铺设为,使左侧加工腔室66向前侧并使右侧加工腔室68向前侧移动。但是,如果使两加工腔室66、68的移动方向统一,例如如图3和图4所示都设定为后侧,则能够实现装置整体的占用空间的大幅减少,此外,能够进一步提高关于各加工腔室66、68的维护等作业的效率。
本发明的装置也可以包含多个成膜单元16。在此情况下,这些成膜单元16也可以例如以在图1和图2所示的左右方向上并列的方式配置。
此外,本发明的上游侧单元及下游侧单元也没有具体地限定。在图1~图4所示的实施方式中,以成膜单元16为基准,脱气单元14相当于上游侧单元,卷取单元18相当于下游侧单元,但在省略脱气单元14的情况下,有可能展开单元12相当于上游侧单元。相反,在存在进行成膜后的处理的后处理单元的情况下,该后处理单元有可能相当于下游侧单元。
不论上游侧及下游侧单元是怎样的单元,本发明都起到这样的效果:在将这些单元不配置到成膜单元的上侧而紧凑地配置在其左右两侧的同时,并且确保了用于维护等的充分的作业空间。具体而言,在本发明中,需要构成成膜单元的加工腔室从其通常位置沿左右方向移动到退避位置,但该退避位置只要是以这样的程度从通常位置稍稍离开的位置就足够:能够避免该加工腔室的前后方向的移动所伴随的该加工腔室与成膜辊等的干涉,由此,能够在与该成膜单元的左右两侧相邻的位置配置上述上游侧及下游侧单元。而且,通过使上述加工腔室从上述退避位置到露出位置沿前后方向较大地移动,关于该加工腔室及其余的主腔室两者都能够没有障碍地进行维护等作业。
如上所述,根据本发明,提供一种包括含有成膜单元的多个单元的成膜装置,在将这些单元不上下重叠地配置的同时,能够将用于上述成膜单元中装备的各成膜加工用设备的更换及维护的作业空间确保得大。该成膜装置一边将沿特定方向延伸的带状的被成膜材沿其纵长方向输送,一边对该被成膜材的表面实施成膜,包括成膜单元、配置在比该成膜单元靠上述被成膜材的输送方向的上游侧的上游侧单元、和配置在比上述成膜单元靠上述被成膜材的输送方向下游侧的下游侧单元。上述成膜单元具有:成膜辊,能够绕水平的旋转中心轴旋转;多个成膜加工用设备,配置在该成膜辊的周围;多个引导辊,配置为在上述上游侧单元及上述下游侧单元与上述成膜辊之间进行上述被成膜材的引导;主腔室,具有收纳上述成膜辊的成膜辊收纳部、以及位于该成膜辊收纳部的上侧并收纳上述引导辊的至少一部分的引导辊收纳部;第1加工腔室和第2加工腔室,关于与上述成膜辊的中心轴的方向正交的左右方向分别配置在上述成膜辊收纳部的两侧,分别收纳上述成膜加工用设备的至少一部分,具有朝向上述成膜辊收纳部侧的开口;加工腔室支承部,支承这些第1加工腔室和第2加工腔室。上述成膜辊收纳部具有左右的第1腔室开口侧面, 该左右的第1腔室开口侧面位于上述成膜辊的左右方向的两侧,与上述第1加工腔室和第2加工腔室的上述成膜辊收纳部侧的开口一致。上述引导辊收纳部具有比上述成膜辊收纳部的左右的第1腔室开口侧面向上述左右方向的两侧延伸的部分,这些部分具有与上述上游侧单元及上述下游侧单元分别连接的左右的第2腔室开口侧面。上述加工腔室支承部将上述第1加工腔室和第2加工腔室支承为,能够在通常位置与退避位置之间移动并且能够在该退避位置与露出位置之间移动,所述通常位置是所述加工腔室将上述成膜辊收纳部的开口覆盖并与上述主腔室一起形成成膜空间的位置,所述退避位置是从该通常位置在比上述上游侧单元及上述下游侧单元靠内侧的范围内向左右方向的外侧退避的位置,所述露出位置是从该退避位置沿与上述成膜辊的旋转中心轴平行的方向即前后方向离开的位置,并且在所述露出位置上述加工腔室的内部露出。
根据该成膜装置,相对于成膜单元将上游侧单元及下游侧单元不配置在(成膜单元的上侧)而配置在成膜单元的左右两侧,同时能够充分地确保成膜单元中所包含的各设备例如成膜辊或成膜加工用容器的维护和更换的作业所需要的空间。
具体而言,在该装置中,构成成膜单元的腔室被分割为具有成膜辊收纳部及引导辊收纳部的主腔室和第1加工腔室和第2加工腔室,并且第1加工腔室和第2加工腔室能够在从用于成膜的通常位置向其左右方向的外侧退避的退避位置与该第1加工腔室和第2加工腔室的内部露出的露出位置之间沿前后方向移动,所以通过使该第1加工腔室和第2加工腔室分别移动到上述露出位置,即从上述主腔室及上游侧/下游侧单元在前后方向上离开的位置,能够进行收纳在该第1加工腔室和第2加工腔室中的各成膜加工用设备的维护作业及更换作业(例如靶极或密封板的更换作业、清扫作业),并且能够经由上述第1腔室开口侧面的开口进行上述成膜辊收纳部的作业(例如收纳在该成膜辊收纳部中的成膜辊等的清扫和维护的作业、以及成膜用掩模等的更换作业),并且能够充分地确保用于这些作业的空间。
另一方面,加工腔室从上述通常位置向上述退避位置的左右方向的移动量为使得能够进行从该退避位置向上述露出位置的前后方向的移动的程度(即在其前后方向的移动时能够避免该加工腔室与成膜辊等的干涉的程度)较小即可,所以能够在避免该加工腔室与上述上游侧及下游侧单元的干涉的同时,将这些上游侧及下游侧单元相对于上述成膜单元配置于在左右方向的两侧相邻的位置。
因而,根据该装置,在将成膜单元及其上游侧和下游侧单元在左右方向上紧凑地配置的同时,能够有效地利用该成膜单元的前后方向的空间,充分地确保该成膜单元中所包含的各设备的维护和更换所需要的作业空间。
此外,将构成上述成膜单元的腔室分割为上述主腔室和上述第1加工腔室和第2加工腔室使得该腔室容易消除有关重量或形状、大小的输送限制。
这里优选的是,上述加工腔室支承部以允许上述第1加工腔室和第2加工腔室分别从退避位置关于前后方向向同一侧移动的方式支承。这样,第1加工腔室和第2加工腔室关于前后方向向同一侧移动,即各第1加工腔室和第2加工腔室的露出位置关于前后方向处于同一侧,这能够使为了收纳在这些加工腔室中的成膜加工用设备的维护等所需要的设备及用于其移动的空间关于前后方向集中在同一侧。这能够减少装置整体的占用空间,并提高上述维护等作业的效率。
在此情况下优选的是,上述加工腔室支承部支承所述第1加工腔室和第2加工腔室,以允许该第1加工腔室和第2加工腔室中的至少一个加工腔室以比另一个加工腔室的前后方向的尺寸大的距离从上述主腔室以沿前后方向离开的方式移动。这使得能够实现两加工腔室从各自的退避位置同时且向前后方向的同一侧移动,并且这些加工腔室以相互在左右方向上不重叠的方式定位,即,能够实现上述第1加工腔室和第2加工腔室中的一个加工腔室关于前后方向移动至完全超过另一个加工腔室的位置。根据该配置,能够同时且容易地到达第1加工腔室和第2加工腔室,所以能够使这些加工腔室相互不成为妨碍地同时且高效地进行有关它们的维护等的作业。
上述加工腔室支承部例如优选的是包括:第1支承部,将上述第1加工腔室和第2加工腔室支承为,该加工腔室能够在上述通常位置与上述退避位置之间沿左右方向移动;和第2支承部,将该第1支承部支承为,上述加工腔室能够在上述退避位置与上述露出位置之间沿前后方向移动。该加工腔室支承部通过上述第1支承部与上述第2支承部的组合,能够以简单的结构实现各加工腔室的从通常位置到露出位置的移动。
优选的是,上述引导辊收纳部具有将该引导辊收纳部所收纳的各引导辊向上方开放的上侧开口,上述成膜装置还包括形成脚手架的脚手架单元,该脚手架配置在上述主腔室的前后方向的至少一侧,用于作业人员经由上述上侧开口进行作业。该构成能够使作业人员从上方到达上述引导辊,例如经由上述开口从上侧高效地进行上述引导辊收纳部的维护和被成膜材的通纸等作业。为了更容易到达,上述上侧开口优选的是在左右方向上排列,尽可能多地形成,优选具备将上述上侧开口分别开闭的盖(例如门)。
Claims (4)
1.一种成膜装置,一边将带状的被成膜材沿其纵长方向输送,一边对该被成膜材的表面实施成膜,其特征在于,
包括成膜单元、配置在比该成膜单元靠上述被成膜材的输送方向的上游侧的上游侧单元、和配置在比上述成膜单元靠上述被成膜材的输送方向下游侧的下游侧单元,
上述成膜单元具有:成膜辊,能够绕水平的旋转中心轴旋转;多个成膜加工用设备,配置在该成膜辊的周围;多个引导辊,配置为在上述上游侧单元及上述下游侧单元与上述成膜辊之间进行上述被成膜材的引导;主腔室,具有收纳上述成膜辊的成膜辊收纳部、以及位于该成膜辊收纳部的上侧并收纳上述引导辊的至少一部分的引导辊收纳部;第1加工腔室和第2加工腔室,关于与上述成膜辊的中心轴的方向正交的左右方向分别配置在上述成膜辊收纳部的两侧,分别收纳上述成膜加工用设备的至少一部分,具有朝向上述成膜辊收纳部侧的开口;加工腔室支承部,支承这些第1加工腔室和第2加工腔室,
上述成膜辊收纳部具有左右的第1腔室开口侧面, 该左右的第1腔室开口侧面位于上述成膜辊的左右方向的两侧,与上述第1加工腔室和第2加工腔室的上述成膜辊收纳部侧的开口一致,
上述引导辊收纳部具有比上述成膜辊收纳部的左右的第1腔室开口侧面向上述左右方向的两侧延伸的部分,这些部分具有与上述上游侧单元及上述下游侧单元分别连接的左右的第2腔室开口侧面,
上述加工腔室支承部将上述第1加工腔室和第2加工腔室支承为,能够在通常位置与退避位置之间移动并且能够在该退避位置与露出位置之间移动,所述通常位置是所述加工腔室将上述成膜辊收纳部的开口覆盖并与上述主腔室一起形成成膜空间的位置,所述退避位置是从该通常位置在比上述上游侧单元及上述下游侧单元靠内侧的范围内向左右方向的外侧退避的位置,所述露出位置是从该退避位置沿与上述成膜辊的旋转中心轴平行的方向即前后方向离开的位置,并且在所述露出位置上述加工腔室的内部露出,
上述加工腔室支承部包括:第1支承部,将上述第1加工腔室和第2加工腔室支承为,该加工腔室能够在上述通常位置与上述退避位置之间沿左右方向移动;和第2支承部,将该第1支承部支承为,上述加工腔室能够在上述退避位置与上述露出位置之间沿前后方向移动。
2.如权利要求1所述的成膜装置,其特征在于,
上述加工腔室支承部以允许上述第1加工腔室和第2加工腔室分别从退避位置关于前后方向向同一侧移动的方式支承。
3.如权利要求2所述的成膜装置,其特征在于,
上述加工腔室支承部支承所述第1加工腔室和第2加工腔室,以允许该第1加工腔室和第2加工腔室中的至少一个加工腔室以比另一个加工腔室的前后方向的尺寸大的距离从上述主腔室以沿前后方向离开的方式移动。
4.如权利要求1所述的成膜装置,其特征在于,
上述引导辊收纳部具有将上述引导辊向上方开放的上侧开口,上述成膜装置还包括形成脚手架的脚手架单元,该脚手架配置在上述主腔室的前后方向的至少一侧,用于作业人员经由上述上侧开口进行作业。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013115045A JP5969953B2 (ja) | 2013-05-31 | 2013-05-31 | 成膜装置 |
JP2013-115045 | 2013-05-31 | ||
PCT/JP2014/062363 WO2014192514A1 (ja) | 2013-05-31 | 2014-05-08 | 成膜装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN105264110A CN105264110A (zh) | 2016-01-20 |
CN105264110B true CN105264110B (zh) | 2017-07-14 |
Family
ID=51988552
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201480031318.4A Expired - Fee Related CN105264110B (zh) | 2013-05-31 | 2014-05-08 | 成膜装置 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20160071699A1 (zh) |
EP (1) | EP3006596B1 (zh) |
JP (1) | JP5969953B2 (zh) |
KR (1) | KR101733336B1 (zh) |
CN (1) | CN105264110B (zh) |
TW (1) | TWI543859B (zh) |
WO (1) | WO2014192514A1 (zh) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018006283A (ja) * | 2016-07-08 | 2018-01-11 | 株式会社小糸製作所 | 車両用灯具 |
EP3532652B1 (fr) * | 2016-10-27 | 2022-03-16 | Coating Plasma Innovation | Installation de traitement de surface d'un substrat en mouvement sous atmosphere controlee, et son procede de dimensionnement |
JP6930878B2 (ja) * | 2017-08-28 | 2021-09-01 | 株式会社アルバック | 真空処理装置 |
CN107697600B (zh) * | 2017-11-08 | 2023-09-08 | 无锡基隆电子有限公司 | 一种适用于多种电源板的全自动生产、测试生产线 |
EP3482912A1 (en) * | 2017-11-08 | 2019-05-15 | CL Schutzrechtsverwaltungs GmbH | Apparatus for additively manufacturing three-dimensional objects |
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-
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- 2013-05-31 JP JP2013115045A patent/JP5969953B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2014
- 2014-05-08 EP EP14804632.9A patent/EP3006596B1/en not_active Not-in-force
- 2014-05-08 CN CN201480031318.4A patent/CN105264110B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2014-05-08 WO PCT/JP2014/062363 patent/WO2014192514A1/ja active Application Filing
- 2014-05-08 KR KR1020157032888A patent/KR101733336B1/ko active IP Right Grant
- 2014-05-08 US US14/782,885 patent/US20160071699A1/en not_active Abandoned
- 2014-05-20 TW TW103117635A patent/TWI543859B/zh not_active IP Right Cessation
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3006596A1 (en) | 2016-04-13 |
KR20150143824A (ko) | 2015-12-23 |
KR101733336B1 (ko) | 2017-05-08 |
JP5969953B2 (ja) | 2016-08-17 |
JP2014234523A (ja) | 2014-12-15 |
TWI543859B (zh) | 2016-08-01 |
TW201501917A (zh) | 2015-01-16 |
US20160071699A1 (en) | 2016-03-10 |
EP3006596A4 (en) | 2017-03-01 |
WO2014192514A1 (ja) | 2014-12-04 |
CN105264110A (zh) | 2016-01-20 |
EP3006596B1 (en) | 2018-01-03 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20170714 |
|
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |