CN104891997B - 一种石墨相氮化碳/硫化钼复合材料的制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种石墨相氮化碳/硫化钼复合材料的制备方法,步骤如下:(1)将MoS2和氮源混合均匀,加入研磨剂研磨30-60min,至充分混合均匀得混合物;MoS2、氮源和研磨剂加入量的比为1mmol:(3-7)mmol:(1-3)ml;(2)将步骤(1)的混合物在N2气氛保护下,升温至500-600℃进行焙烧,焙烧时间为3-5h,得到g-C3N4/MoS2复合材料。所述氮源为单氰胺、双氰胺、三聚氰胺或尿素。采用本发明的方法一步法就能制备得到石墨相氮化碳/硫化钼复合材料,简化了制备工艺,无需添加化学试剂,降低了生产成本。

Description

一种石墨相氮化碳/硫化钼复合材料的制备方法
技术领域
本发明涉及一种石墨相氮化碳/硫化钼复合材料的制备方法,属于无机纳米非金属材料的制备技术领域。
背景技术
石墨相氮化碳/硫化钼(g-C3N4/MoS2)复合材料,由于具有较高的热和化学稳定性,新颖的光学和光电学特性,在催化、能量储存、电化学电池、荧光化学传感器等领域具有广阔的应用前景。
目前g-C3N4/MoS2复合材料制备方法主要包括原位合成法、物理混合等。LeiGe等通过分别单独制备出g-C3N4和MoS2,然后进行混合焙烧制得MoS2-g-C3N4样品(LeiGe,ChangcunHan,XinlaiXiaoandLeleGuo,Int.J.Hydrogen.Energ.2013,38,6960-6969)。QianLi等将g-C3N4和MoS2在乙醇中混合后,通过超声化学法制得MoS2/C3N4异质结构材料(QianLi,NingZhang,YongYang,GuozhongWangandDickonH.L.Ng,Langmuir,2014,30,8965-8972)。HuiZhao等以(NH4)2MoS4为原料在g-C3N4纳米片上通过光分解沉积法制得g-C3N4/MoS2复合材料(HuiZhao,YumingDong,PingpingJiang,HongyanMiao,Guang-LiWangandJingjingZhang,J.Mater.Chem.A,2015)。上述g-C3N4/MoS2复合材料的制备,都是以g-C3N4作为本体材料,然后再在其上面复合少量的MoS2。YidongHou等将C3N4浸渍在(NH4)2MoS4中,再在H2S气氛中焙烧制得MoS2/C3N4复合材料(YidongHou,AndersB.Laursen,JinshuiZhang,GuigangZhang,YongshengZhu,XinchenWang,DahlandIbChorkendorff,Angew.Chem.Int.Ed.2013,52,3621-3625)。上述制备方法多采用两步法或多步法制备,操作步骤相对复杂,不利于g-C3N4/MoS2复合材料的进一步应用。
发明内容
针对上述现有技术的不足,本发明的目的是提供一种石墨相氮化碳/硫化钼复合材料的制备方法。
为实现上述目的,本发明采用下述技术方案:
一种石墨相氮化碳/硫化钼复合材料的制备方法,步骤如下:
(1)将MoS2和氮源混合均匀,加入研磨剂研磨30-60min,至充分混合均匀得混合物;MoS2、氮源和研磨剂加入量的比为1mmol:(3-7)mmol:(1-3)ml;利用研磨剂与材料的表面能匹配的关系,在研磨过程中研磨剂与材料之间相互作用,克服材料层与层之间的范德华力,最小化材料的表面能,进而使材料之间混合更加均匀。
(2)将步骤(1)的混合物在N2气氛保护下,升温至500-600℃进行焙烧,焙烧时间为3-5h,得到g-C3N4/MoS2复合材料。
步骤(1)中,所述氮源为单氰胺、双氰胺、三聚氰胺或尿素。
步骤(1)中,所述研磨剂为甘油或N-甲基吡咯烷酮(NMP)。
优选的,步骤(1)中,所述氮源为三聚氰胺。
优选的,步骤(1)中,MoS2、氮源和研磨剂加入量的比为1mmol:5mmol:2ml。
优选的,步骤(1)中,所述研磨剂为甘油。
优选的,步骤(1)中,研磨时间为60min。
步骤(2)中,升温的速率为5℃/min。
优选的,步骤(2)中,焙烧温度为550℃。
优选的,步骤(2)中,焙烧时间为4h。
本发明方法制备得到的石墨相氮化碳/硫化钼复合材料为边长100-300nm的薄片状。
本发明的有益效果:
本发明的制备方法是以氮源(三聚氰胺)作为剥离材料,利用三聚氰胺在形成g-C3N4的过程中产生的气体来剥离MoS2,使MoS2层数降低,层状MoS2具有与体相材料完全不同的性质特征,如MoS2的宏观材料是带隙在1.2eV的间接带隙半导体,而单层的MoS2则是带隙为1.8eV的直接带隙半导体。单层的MoS2与MoS2的宏观材料相比具有更大的比表面积,更强的电子迁移率,在电化学传感器、电致发光、光催化等领域具有更广泛的应用。同时控制焙烧温度和时间等条件使得三聚氰胺聚合停止于g-C3N4,由此得到g-C3N4/MoS2复合材料。采用本发明的方法一步法就能制备得到石墨相氮化碳/硫化钼复合材料,简化了制备工艺,无需添加化学试剂,降低了生产成本,而且制备的g-C3N4/MoS2复合材料性能优异。
附图说明
图1为本发明实施例制备的产物的XRD图;
图2为本发明实施例制备的产物的UV-vis光谱图;
图3为本发明实施例制备的产物的FT-IR图;
图4为本发明实施例2制备的产物的TEM图。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明作进一步的说明,应该说明的是,下述说明仅是为了解释本发明,并不对其内容进行限定。
实施例1:石墨相氮化碳/硫化钼复合材料的制备
具体制备方法如下:
(1)将MoS2和三聚氰胺按摩尔比为1:3(MoS2和三聚氰胺质量分别取0.160g,0.378g)混合均匀,加入2mL甘油后充分研磨60min;
(2)将混合物在N2气氛保护下,以5℃/min的升温速率升温至550℃,焙烧4h,得到g-C3N4/MoS2复合材料。
对制备得到的g-C3N4/MoS2复合材料分别采用XRD、UV-vis和FT-IR进行结构分析和表征,其结果分别如图1、图2、图3所示。
图1中a为MoS2原材料的XRD谱图,b为本实施例制备的g-C3N4/MoS2复合材料的XRD谱图,与MoS2的标准卡片(PDF#73-1508)对比后发现完全对应,说明三聚氰胺的加入没有改变MoS2的结构。但是观察不到g-C3N4的衍射峰,说明g-C3N4的量很少并且均匀分布在MoS2上。
图2中a为MoS2原材料的UV-vis光谱图,b为本实施例制备的g-C3N4/MoS2复合材料的UV-vis光谱图,在403,451,613和674nm处为MoS2的特征吸收峰,未观察到g-C3N4的特征吸收峰,说明g-C3N4的含量很少,与XRD谱图结果相吻合。
图3中a为MoS2原材料的FT-IR图,b为本实施例制备的g-C3N4/MoS2复合材料的FT-IR图,在1255,1327,1418,1571和1636cm-1的峰所对应的是碳氮杂环化合物的典型伸缩模式,说明产物中含有g-C3N4
实施例2:石墨相氮化碳/硫化钼复合材料的制备
具体制备方法如下:
(1)将MoS2和三聚氰胺按摩尔比为1:5(MoS2和三聚氰胺质量分别取0.160g,0.631g)混合均匀,加入2mL甘油后充分研磨60min;
(2)将混合物在N2气氛保护下,以5℃/min的升温速率升温至550℃,焙烧4h,得到g-C3N4/MoS2复合材料。
对制备得到的g-C3N4/MoS2复合材料分别采用XRD、UV-vis、FT-IR和TEM进行结构分析和表征,其结果分别如图1、图2、图3和图4所示。
图1中c为本实施例制备产物的XRD谱图,与MoS2的标准卡片(PDF#73-1508)对比后发现完全对应,说明三聚氰胺的加入没有改变MoS2的结构。但是观察不到g-C3N4的衍射峰,说明g-C3N4的量很少并且均匀分布在MoS2上。
图2中c为本实施例制备产物的UV-vis光谱图,在403,451,613和674nm处为MoS2的特征吸收峰,未观察到g-C3N4的特征吸收峰,说明g-C3N4的含量很少,与XRD谱图结果相吻合。
图3中c为本实施例制备产物的的FT-IR图,在1255,1327,1418,1571和1636cm-1的峰所对应的是碳氮杂环化合物的典型伸缩模式,此外,在808cm-1处开始出现振动峰,应属于S-三嗪环,说明产物中含有g-C3N4
图4为本实施例制备产物的TEM图,由图可以看出:所制备的复合材料为边长100-300nm的薄片状。
实施例3:石墨相氮化碳/硫化钼复合材料的制备
具体制备方法如下:
(1)将MoS2和三聚氰胺按摩尔比为1:7(MoS2和三聚氰胺质量分别取0.160g,0.883g)混合均匀,加入2mL甘油后充分研磨60min;
(2)将混合物在N2气氛保护下,以5℃/min的升温速率升温至550℃,焙烧4h,得到g-C3N4/MoS2复合材料。
对制备得到的g-C3N4/MoS2复合材料分别采用XRD、UV-vis和FT-IR进行结构分析和表征,其结果分别如图1、图2和图3所示。
图1中d为本实施例制备产物的XRD图,与MoS2的标准卡片(PDF#73-1508)对比后发现完全对应,说明三聚氰胺的加入没有改变MoS2的结构。但是观察不到g-C3N4的衍射峰,说明g-C3N4的量很少并且均匀分布在MoS2上。
图2中d为本实施例制备产物的UV-vis光谱图,在403,451,613和674nm处为MoS2的特征吸收峰,。并且在315nm处有吸收峰,对应g-C3N4的特征吸收。
图3中d为本实施例制备的产物的FT-IR图,在1255,1327,1418,1571和1636cm-1的峰所对应的是碳氮杂环化合物的典型伸缩模式,此外,在808cm-1处的峰增强,说明产物中含有g-C3N4,并且其含量在增加。
实施例4:石墨相氮化碳的制备
将三聚氰胺在N2气氛保护下,以5℃/min的升温速率升温至550℃,焙烧4h,得到g-C3N4
图1中e为本实施例制备的产物的XRD图,在13.0°和27.4°的衍射峰分别对应g-C3N4的(100)和(002)面的衍射峰,说明已制备出g-C3N4。图2中e为本实施例制备的产物的UV-vis光谱图,在230和315nm处有吸收峰,对应g-C3N4的特征吸收。图3中e为本实施例制备的产物的FT-IR图,在1255,1327,1418,1571和1636cm-1的峰所对应的是碳氮杂环化合物的典型伸缩模式,此外,在808cm-1处的峰应属于S-三嗪环。

Claims (8)

1.一种石墨相氮化碳/硫化钼复合材料的制备方法,其特征在于,步骤如下:
(1)将MoS2和氮源混合均匀,加入研磨剂研磨30-60min,至充分混合均匀得混合物;MoS2、氮源和研磨剂加入量的比为1mmol:(3-7)mmol:(1-3)ml;
(2)将步骤(1)的混合物在N2气氛保护下,升温至500-600℃进行焙烧,焙烧时间为3-5h,得到g-C3N4/MoS2复合材料;
步骤(1)中,所述氮源为单氰胺、双氰胺、三聚氰胺或尿素;
所述研磨剂为甘油或N-甲基吡咯烷酮。
2.如权利要求1所述的石墨相氮化碳/硫化钼复合材料的制备方法,其特征在于,步骤(1)中,所述氮源为三聚氰胺。
3.如权利要求1所述的石墨相氮化碳/硫化钼复合材料的制备方法,其特征在于,步骤(1)中,所述研磨剂为甘油。
4.如权利要求1所述的石墨相氮化碳/硫化钼复合材料的制备方法,其特征在于,步骤(1)中,MoS2、氮源和研磨剂加入量的比为1mmol:5mmol:2ml。
5.如权利要求1所述的石墨相氮化碳/硫化钼复合材料的制备方法,其特征在于,步骤(1)中,研磨时间为60min。
6.如权利要求1所述的石墨相氮化碳/硫化钼复合材料的制备方法,其特征在于,步骤(2)中,升温的速率为5℃/min。
7.如权利要求1所述的石墨相氮化碳/硫化钼复合材料的制备方法,其特征在于,步骤(2)中,焙烧温度为550℃,焙烧时间为4h。
8.权利要求1至7任一项所述的制备方法制备得到的石墨相氮化碳/硫化钼复合材料,其特征在于,所述复合材料的边长为100-300nm。
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