CN104871118B - 基膜、包括该基膜的层压结构以及显示装置 - Google Patents

基膜、包括该基膜的层压结构以及显示装置 Download PDF

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Abstract

本发明涉及一种基膜、包括该基膜的层压结构以及显示装置。更具体地，本发明涉及一种基膜、包括该基膜的层压结构以及显示装置，所述基膜包含：具有基于环烯烃重复单元的聚合物，所述环烯烃重复单元具有特定含量以上的外型异构体；以及基于苯乙烯的重复单元和基于马来酰亚胺的重复单元的共聚物。所述基膜是透明的，由于具有高的玻璃化转变温度使得耐热性优异，并具有高透光率。

Description

基膜、包括该基膜的层压结构以及显示装置
技术领域
本发明涉及一种基膜、包括该基膜的层压结构和显示装置，更具体地，涉及一种显示出高玻璃化转变温度而因此具有优异的耐热性并具有高透光率的基膜，以及涉及一种包括该基膜的层压结构和显示装置。
本申请要求于2013年9月30日向韩国知识产权局(KIPO)提交的第10-2013-0116560号韩国专利申请以及于2014年9月26日向KIPO提交的第10-2014-0129369号韩国专利申请的优先权，上述申请的全部内容在此通过引用并入本申请。
背景技术
一般而言，触摸面板，是安装在显示装置的表面上并将物理接触(如用户的手指、触摸笔等)转换成电信号的装置，以及其被应用到液晶显示器、等离子体显示面板、EL(电致发光)装置等。
这些触摸面板商业化的有：利用红外线的光学型；透明电极型，其利用通过在聚合物基膜上涂布金属氧化物形成的透明导电膜的接触点；检测电容变化的电容型；位置传感型，其将力量分布的位置传感到压力传感器；等等。
在各种类型的触摸面板中，透明电极型需要透明的基于金属氧化物的导电膜。由于通过将氧化铟锡(ITO)涂布到聚合物基膜上形成的ITO膜是透明的并具有优异的导电性，其已经得到了广泛使用。
特别是，基于金属氧化物的导电膜可以在聚合物基膜或玻璃基板上通过真空沉积或溅射金属氧化物来制备。因此，由于必须进行在高温下进行的如真空沉积法、溅射法等处理，耐热性成为所述基膜的基本特征之一。
在一般情况下，耐热性可以由玻璃化转变温度进行评价，并且为了获得在其上形成光学优异的透明的基于金属氧化物的导电膜的基膜，需要在等于或大于约150℃的温度下、优选等于或大于约200℃的温度下进行溅射，从而对于基膜而言需要比所述溅射温度更高的玻璃化转变温度和优异的机械物理性能。
此外，为了将所述基膜进行处理并应用于显示装置等，除了上述的高玻璃化转变温度之外，在可见光区域的透明度也是重要特征，并且需要90％以上的透光率。
然而，在通常用作基膜的聚合物膜(例如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚碳酸酯(PC)等)具有120℃以下的低玻璃化转变温度，从而产生在形成透明的基于金属氧化物的导电膜的过程中变形的问题。此外，由于聚酰亚胺(PI)膜的优异的耐热性以及400℃以上的高的玻璃化转变温度而在最近被大量研究，但是这种膜是不透明的，并且显示橙色，因而不适合用于显示领域中。
此外，由于聚合物膜(例如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)等)具有高相位差，可用作外部基膜；然而，其不能用作内部基膜。
因此，需要开发一种具有高玻璃化转变温度、耐热性等以及低相位差性能且透明的基膜，包括该基膜的层压结构以及包括该层压结构的显示装置。
发明内容
【技术问题】
本发明的一个目的是提供一种显示出高玻璃化转变温度从而具有优异的耐热性并具有高透光率的基膜。
另外，本发明另一个目的是提供一种包括所述基膜的层压结构。
另外，本发明又一个目的是提供一种包括所述层压结构的显示装置。
【技术方案】
本发明提供一种基膜，其包含：具有基于环烯烃的重复单元的聚合物；以及包含基于苯乙烯的重复单元和基于马来酰亚胺的重复单元的共聚物；其中，在所述基于环烯烃的重复单元中，外型异构体的含量为50mol％以上，并且在所述基膜上形成透明的基于金属氧化物的导电膜。
本发明还提供一种层压结构，其包括所述基膜，以及在所述基膜上形成的透明的基于金属氧化物的导电膜。
本发明还提供一种显示装置，其包括所述层压结构。
下文中，将对根据本发明具体的实施方式的基膜、包括所述基膜的层压结构以及显示装置进行更加详细地说明。
根据本发明的一个实施方式，提供一种基膜，其包含：具有基于环烯烃的重复单元的聚合物；以及包含基于苯乙烯的重复单元和基于马来酰亚胺的重复单元的共聚物；其中，在所述基于环烯烃的重复单元中，外型异构体的含量为50mol％以上，并且在所述基膜上形成透明的基于金属氧化物的导电膜。
在所述基膜中，基于环烯烃的重复单元可以由以下化学式1来表示，并且所述具有基于环烯烃的重复单元的聚合物可以包含通过由以下化学式2表示的基于降冰片烯的单体中的一种单体加成聚合所制备的均聚物，或者通过由以下化学式2表示的单体中的两种或更多种单体加成聚合所制备的共聚物：
[化学式1]
[化学式2]
在化学式1和2中，
q为0至4的整数，
m为50至5000，
R1至R4独立地为极性官能团或非极性官能团，或者选自R1与R2，以及R3与R4的至少一种组合可以彼此连接以形成C1至C10烷叉基(alkylidene group)，或者R1或R2可以与R3和R4中的一个连接以形成C4-C12饱和或不饱和脂族环或C6-C24芳族环。
本发明人研究了具有高玻璃化温度、耐热性、透明度等性能且可以适用于显示领域的基膜，特别是作为包括在其上面形成透明的基于金属氧化物的导电膜的基膜，并通过实验证实，当基膜包含具有基于环烯烃的重复单元的聚合物和包含基于苯乙烯的重复单元和基于马来酰亚胺的重复单元的共聚物，且在所述基于环烯烃的重复单元中，外型异构体的含量为50mol％以上时，可以制备具有高玻璃化转变温度并且在可见光区显示高透光率的基膜，从而完成了本发明。
特别是，所述基膜包含具有基于环烯烃的重复单元(例如，基于降冰片烯的重复单元)的聚合物，从而显示出高玻璃化转变温度，并且在所述基于环烯烃的重复单元中，包含50mol％以上的外型异构体，从而显示高的透光率和透明度。
所述基膜包含含有基于苯乙烯的重复单元和基于马来酰亚胺的重复单元的共聚物以及具有基于环烯烃的重复单元的聚合物，从而降低了在厚度方向上的相位差。
一个实施方式的基膜，可以在所述基于环烯烃的重复单元中包含50mol％以上的外型异构体，或者50至100mol％的外型异构体。在所述基于环烯烃的重复单元中的外型异构体，其特征在于，当聚合时，分子量和产率增加，在反应后很容易除去催化剂，特别是残留的催化剂量很低，因而耐热性优异，并且在溶剂中的溶解性高，因而与包含内型异构体的基膜相比，包含过量外型异构体的基膜可以显示出高耐热性和高透明度。
所述具有基于环烯烃的重复单元的聚合物可以具有约10,000至1,000,000、优选为约200,000至500,000的重均分子量。此外，形成具有基于环烯烃的重复单元的聚合物的化学式1的重复单元可以具有约30至5,000、优选约300至1,500的聚合度。
一个实施方式的基膜可以包含含有基于苯乙烯的重复单元和基于马来酰亚胺的重复单元的共聚物，并且所述共聚物可以包含1至50wt％、优选5至20wt％的基于苯乙烯的重复单元。所述含有基于苯乙烯的重复单元和基于马来酰亚胺的重复单元的共聚物可以在厚度方向上抑制分子分层(lamination)，从而在保持面内方向上的相位差的同时降低了在厚度方向上的相位差。特别是，由于在共聚物中的基于苯乙烯的重复单元显示出发挥控制共聚物的相位差的功能，如果基于苯乙烯的重复单元在共聚物中的含量过小，则上述的效果可能不能充分地表现出来。
所述包含基于苯乙烯的重复单元和基于马来酰亚胺的重复单元的共聚物可以具有约500至1,000,000的重均分子量。
另外，所述具有基于环烯烃的重复单元的聚合物和所述包含基于苯乙烯的重复单元和基于马来酰亚胺的重复单元的共聚物可以以99:1至50:50的重量比、优选以90:10至70:30重量比进行混合。
在化学式1和2中，所述非极性官能团可以选自：氢；卤素；取代或未取代的C1-C20直链或支链烷基；取代或未取代的C2-C20直链或支链烯基；取代或未取代的C2-C20直链或支链炔基；取代或未取代的C3-C12环烷基；C6-C40芳基；以及取代或未取代的C7-C15芳烷基。
所述极性官能团可以包含选自氧、氮、磷、硫、硅和硼的至少一种原子，具体地，其可以选自如下所列的官能团：-R5OR6、-OR6、-OC(O)OR6、-R5OC(O)OR6、-C(O)OR6、-R5C(O)OR6、-C(O)R6、-R5C(O)R6、-OC(O)R6、-R5OC(O)R6、-(R5O)p-OR6、-(OR5)p-OR6、-C(O)-O-C(O)R6、-R5C(O)-O-C(O)R6、-SR6、-R5SR6、-SSR6、-R5SSR6、-S(＝O)R6、-R5S(＝O)R6、-R5C(＝S)R6-、-R5C(＝S)SR6、-R5SO3R6、-SO3R6、-R5N＝C＝S、-N＝C＝S、-NCO、-R5-NCO、-CN、-R5CN、-NNC(＝S)R6、-R5NNC(＝S)R6、-NO2、-R5NO2、
在所述极性官能团中，p独立地为1至10的整数，R5可以选自：取代或未取代的C1-20直链或支链亚烷基；取代或未取代的C2-20直链或支链亚烯基；取代或未取代的C2-20直链或支链的亚炔基；取代或未取代的C3-12亚环烷基；取代或未取代的C6-40亚芳基；取代或未取代的C7-15亚芳烷基；取代或未取代的C1-20亚烷氧基；和取代或未取代的C1-20亚羰基氧基(carbonyloxylene)，以及R6、R7和R8可以独立地选自氢、卤素、取代或未取代的C1-20直链或支链烷基；取代或未取代的C2-20直链或支链烯基；取代或未取代的C2-20直链或支链炔基；取代或未取代的C3-12环烷基；取代或未取代的C6-40芳基；取代或未取代的C7-15芳烷基；取代或未取代的C1-20烷氧基；和取代或未取代的C1-20羰基氧基。
在上述环烯烃化合物的结构中，各取代基的具体定义如下：
首先，“烷基”是指具有1-20个碳原子、优选1-10个碳原子的直链或支链、饱和的一价烃基。所述烷基可以包括被下文将述的特定的取代基取代的烷基以及未取代的烷基。所述烷基的实例可以包括甲基、乙基、丙基、2-丙基、正丁基、异丁基、叔丁基、戊基、己基、十二烷基、氟代甲基、二氟甲基、三氟甲基、氯代甲基、二氯甲基、三氯甲基、碘代甲基、溴代甲基等。
术语“烯基”是指具有2-20个碳原子、优选2-10个碳原子的包括至少一个碳-碳双键的直链或支链一价烃基。所述烯基可以通过包括碳-碳双键的碳原子或饱和碳原子键合。所述烯基可以包括被下文将述的特定的取代基取代的烯基以及未取代的烯基。所述烯基的实例可以包括乙烯基、1-丙烯基、2-丙烯基、2-丁烯基、3-丁烯基、戊烯基、5-己烯基、十二碳烯基等。
术语“环烷基”是指具有3-20个碳原子的饱和或不饱和的非芳族的一价的单环、双环或三环烃基，并且可以包括由下文将述的特定的取代基取代的环烷基。所述环烷基的实例可以包括环丙基、环丁基、环戊基、环戊烯基、环己基、环己烯基、环庚基、环辛基、十氢萘基、金刚烷基、降冰片基(即双环[2,2,1]庚-5-烯基)等。
术语“芳基”是指具有6-40个环原子、优选6-12个环原子的一价的单环、双环或三环芳族烃基，并且可以包括由下文将述的特定的取代基取代的芳基。所述芳基的实例可以包括苯基、萘基、芴基等。
术语“烷氧基芳基”是指上述定义的芳基中的至少一个氢原子被烷氧基取代。所述烷氧基芳基的实例可以包括甲氧基苯基、乙氧基苯基、丙氧基苯基、丁氧基苯基、戊氧基苯基、己氧基苯基、庚氧基、辛氧基、壬氧基、甲氧基联苯基、甲氧基萘基、甲氧基芴基、甲氧基蒽基等。
术语“芳烷基”是指其至少一个氢原子被芳基取代的上述定义的烷基，并且可以包括被下文将述的特定的取代基取代的芳烷基。所述芳烷基的实例可以包括苄基、二苯甲基、三苯甲基等。
术语“炔基”是指具有2-20个碳原子、优选2-10个碳原子、更优选为2-6个碳原子且包含至少一个碳-碳三键的直链或支链一价烃基。所述炔基可以通过包含碳-碳三键的碳原子或饱和碳原子键合。所述炔基可以包括被下文将述的特定的取代基进一步取代的炔基。所述炔基的实例可以包括乙炔基、丙炔基等。
术语“亚烷基”是指具有1-20个碳原子、优选1-10个碳原子、更优选1-6个碳原子的直链或支链饱和二价烃基。所述亚烷基可以包括被卤素基团取代的亚烷基。所述亚烷基的实例可以包括亚甲基、亚乙基、亚丙基、亚丁基、亚己基等。
术语“亚烯基”是指具有2-20个碳原子、优选2-10个碳原子、更优选2-6个碳原子且包含至少一个碳-碳双键的直链或支链二价烃基。所述亚烯基可以通过包含碳-碳双键的碳原子和/或饱和碳原子键合。所述亚烯基可以包括被下文将述的特定的取代基取代的亚烯基。
术语“亚环烷基”是指具有3-12个碳原子的饱和或不饱和的非芳族二价的单环、双环或三环烃基，并且其可以包括被下文将述的特定的取代基取代的亚环烷基。所述亚环烷基的实例可以包括亚环丙基、亚环丁基等。
术语“亚芳基”是指具有6-20个环原子、优选6-12个环原子的二价的单环、双环或三环芳族烃基，并且其可以包括被下文将述的特定的取代基取代的亚芳基。所述芳族基团仅包括碳原子。所述亚芳基的实例包括亚苯基等。
术语“亚芳烷基”是指其至少一个氢原子被芳基取代的以上定义的亚烷基的二价基团，并且可以包括被下文将述的特定的取代基取代的亚芳烷基。所述亚芳烷基的实例可以包括亚苄基等。
术语“亚炔基”是指具有2-20个碳原子、优选2-10个碳原子、更优选2-6个碳原子且包含至少有一个碳-碳三键的直链或支链的二价烃基。所述亚炔基可以通过包含碳-碳三键的碳原子或饱和碳原子键合。所述亚炔基可以包括被下文将述的特定的取代基取代的亚炔基。所述亚炔基的实例可以包括亚乙炔基、亚丙炔基等。
术语“烷叉基(alkylidene group)”可以由＝CR1R2表示，并可以通过双键与降冰片烯环连接，其中，R1和R2可以独立地为烃基，具体而言，可以是如上所述的非极性官能团或极性官能团。
“取代或未取代”的取代基的描述是指包括各取代基本身和被特定的取代基取代的取代基。在本说明书中，除非明确限定，各个取代基可以被进一步取代的取代基的实例可以包括卤素、烷基、烯基、炔基、卤代烷基、卤代烯基、卤代炔基、芳基、卤代芳基、芳烷基、卤代芳烷基、烷氧基、卤代烷氧基、羰基氧基、卤代羰基氧基、芳氧基、卤代芳氧基、甲硅烷基、甲硅烷氧基或者上述包含氧、氮、磷、硫、硅或硼的极性官能团等。
尽管所述具有基于环烯烃的重复单元的聚合物可以仅包含基于环烯烃的重复单元；然而，除了所述基于环烯烃的重复单元之外，其可以是进一步包含不同类型的重复单元的共聚物。所述不同类型的重复单元的实例可以包含任何基于烯烃的重复单元、任何基于丙烯酸酯的重复单元、任何基于环烯烃的重复单元等。
在一个实施方式的基膜中，由化学式2表示的降冰片烯单体可以优选地包括选自以下单体中的至少一种单体：包含羧酸烷基酯官能团的单体；包含极性官能团的单体；包含乙酸酯基的单体；包含烷基的单体；以及包含芳基的单体。
更具体地，所述包含羧酸烷基酯官能团的单体的实例可以包括5-降冰片烯-2-羧酸甲酯、5-降冰片烯-2-羧酸乙酯、5-降冰片烯-2-羧酸丁酯、5-降冰片烯-2-羧酸异冰片基酯等；所述包含极性官能团的单体的实例可以包括5-降冰片烯-2-羧酸羟基乙基酯等；所述包含乙酸酯基的单体的实例可以包括5-降冰片烯-2-乙酸甲酯等。此外，所述包含烷基的单体的实例可以包括5-丁基-2-降冰片烯等，以及包含芳基的单体的实例可以包括5-苯基-2-降冰片烯等。
由于基于降冰片烯的单体具有基于酯的取代基，所述单体可以包含吸电子基团(EWG)。因此，根据一个实施方式的包含基于降冰片烯的单体的基膜可以表现出比其他膜(特别是ITO膜)优异的粘合性。
包含基于苯乙烯的重复单元和基于马来酰亚胺的重复单元的共聚物的基于苯乙烯的重复单元可以是衍生自选自以下化合物的重复单元：苯乙烯、α-甲基苯乙烯、3-甲基苯乙烯、4-甲基苯乙烯、2,4-二甲基苯乙烯、2,5-二甲基苯乙烯、2-甲基-4-氯苯乙烯、2,4,6-三甲基苯乙烯、顺-β-甲基苯乙烯、反-β-甲基苯乙烯、4-甲基-α-甲基苯乙烯、4-氟-α-甲基苯乙烯、4-氯-α-甲基苯乙烯、4-溴-α-甲基苯乙烯、4-叔丁基苯乙烯、2-氟苯乙烯、3-氟苯乙烯、4-氟苯乙烯、2,4-二氟苯乙烯、2,3,4,5,6-五氟苯乙烯、2-氯苯乙烯、3-氯苯乙烯、4-氯苯乙烯、2,4-二氯苯乙烯、2,6-二氯苯乙烯、八氯苯乙烯、2-溴苯乙烯、3-溴苯乙烯、4-溴苯乙烯、2,4-二溴苯乙烯、α-溴苯乙烯、β-溴苯乙烯、2-羟基苯乙烯、和4-羟基苯乙烯，以及优选地，其可以是苯乙烯或4-羟基苯乙烯。
所述基于马来酰亚胺的重复单元可以是衍生自选自以下化合物的重复单元：(R)-(+)-N-(1-苯乙基)马来酰亚胺、(S)-(-)-N-(1-苯乙基)马来酰亚胺、1,1'-(亚甲基二-4,1-亚苯基)双马来酰亚胺、1-(2-甲氧基-5-甲基苯基)马来酰亚胺、2,3-二溴-N-甲基马来酰亚胺、2,3-二溴马来酰亚胺、2,3-二氯-N-苯基马来酰亚胺、2-甲基-N-苯基马来酰亚胺、4-二甲基氨基苯基偶氮苯基-4'-马来酰亚胺(4-dimethylaminophenylazophenyl-4'-maleimide)、生物素-马来酰亚胺、双吲哚基马来酰亚胺I盐酸盐、双吲哚基马来酰亚胺Ⅱ、双吲哚基马来酰亚胺Ⅳ、双吲哚基马来酰亚胺V、双吲哚基马来酰亚胺Ⅶ、双吲哚基马来酰亚胺Ⅷ、乙酸盐、双吲哚基马来酰亚胺X、盐酸盐、双吲哚基马来酰亚胺XI、荧光素二乙酸酯5-马来酰亚胺、马来酰亚胺、N,N'-(邻-亚苯基)二马来酰亚胺、N,N'-(对-亚苯基)二马来酰亚胺、N,N'-1,2-亚苯基二马来酰亚胺、N,N'-1,3-亚苯基二马来酰亚胺、N,N'-1,4-亚苯基二马来酰亚胺、N-(1-萘基)-马来酰亚胺、N-(1-芘基)马来酰亚胺、N-(2,3二甲苯基)马来酰亚胺、N-(2-氨基乙基)马来酰亚胺三氟乙酸盐、N-(2-乙基苯基)马来酰亚胺、N-(2-甲氧基苯基)马来酰亚胺、N-(3-荧蒽基)马来酰亚胺(N-(3-fluoranthyl)maleimide)、N-(3-甲氧基苯基)马来酰亚胺、N-(4-苯胺基-1-萘基)马来酰亚胺、N-(4-氯苯基)马来酰亚胺、N-(4-乙基苯基)马来酰亚胺、N-(4-氟苯基)马来酰亚胺、N-(4-碘苯基)马来酰亚胺、N-(4-硝基苯基)马来酰亚胺、N-(4-苯氧基苯基)马来酰亚胺、N-(7-二甲基氨基-4-甲基-3-香豆素基)马来酰亚胺、N-(7-二甲基氨基-4-甲基香豆素-3-基)-马来酰亚胺)、N-(9-吖啶基)马来酰亚胺、N-(邻-甲苯基)马来酰亚胺、N-(对-甲苯基)马来酰亚胺、N-苄基-2,3-二溴马来酰亚胺、N-苄基马来酰亚胺、N-丁基马来酰亚胺、N-环己基马来酰亚胺、N-乙基马来酰亚胺、N-羟基马来酰亚胺、N-甲氧基羰基马来酰亚胺、N-甲基马来酰亚胺、N-苯基马来酰亚胺、N-丙基马来酰亚胺、N-叔丁基马来酰亚胺、N-[4-(2-苯并咪唑基)苯基]马来酰亚胺和链霉亲和素-马来酰亚胺，优选地，其可以是马来酸酐。
根据一个实施方式的包含具有基于环烯烃的重复单元的聚合物和具有基于苯乙烯的重复单元和基于马来酰亚胺的重复单元的共聚物的基膜可以具有约250℃以上、约250℃至约450℃、约250℃至400℃、或约300℃至约350℃的玻璃化转变温度(Tg)。也就是说，所述基膜是在主链的所有单体单元中具有坚固且庞大的环结构的无定形聚合物，因而其结构坚固。所述基膜在基于环烯烃的重复单元中包含50mol％以上的外型异构体，从而显示约250℃以上的玻璃化转变温度，优选约250℃至450℃的高玻璃化转变温度，因而显示出比以前已知的基膜(例如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚碳酸酯(PC)等)更优异的热稳定性。
所述基膜在约400至800nm的波长区域可以具有90％以上的透光率。由于一个实施方式的基膜包含通过使用均相催化剂加成聚合得到的基于环烯烃的聚合物，因而在主链的所有单体单元中具有坚固且庞大的环结构，其不会产生由散射引起的光损失，并且由于π共轭，在可见光区域的光吸收小，从而显示高透光率。
特别地，所述基膜具有低介电常数、电优异各向同性以及在厚度方向上的低相位差(Rth)，因而，当用于显示装置时，所述基膜可以作为内部以及外部的基膜。
所述基膜的厚度可以为20至200μm，优选为20至60μm。
一个实施方式的基膜顶上形成的透明的基于金属氧化物的导电膜可以是ITO膜、ATO膜、IZO(氧化铟锌)膜、铟膜、氧化锡膜、氧化锌膜、氧化钛膜、氧化锑膜等。所述透明的基于金属氧化物的导电膜例如可以在高温下通过溅射法形成，但不限于上述种类和制备方法。
所述基膜可以用于触摸面板的ITO膜的基底，或显示装置的基底。
除了包含具有上述基于环烯烃的重复单元的聚合物以及包含基于苯乙烯的重复单元和基于马来酰亚胺的重复单元的共聚物之外，所述基膜可以通过使用公知的组分和常规的基膜制备方法来制备。
例如，将10wt％至30wt％的具有基于环烯烃的重复单元的聚合物以及包含基于苯乙烯的重复单元和基于马来酰亚胺的重复单元的共聚物，与余量的溶剂混合，以制备涂布溶液，将所述涂布溶液用刮刀涂布机或刮条涂布机流延到镜面抛光的基板(例如金属或玻璃)上，然后干燥溶剂以制备基膜。干燥温度可以根据所使用的溶剂种类而选择，镜面抛光的基板(例如金属或玻璃)的表面温度可以优选为室温以下。
所述溶剂没有特别限制，例如，其可以包括：环状饱和烃，例如环己烷、环庚烷、环辛烷等；芳香烃，例如苯、甲苯、二甲苯、乙苯、异丙基苯等；卤代烷烃或卤代芳烃，例如氯丁烷、溴己烷、二氯甲烷、二氯乙烷、氯苯、氯仿、四氯乙烯等；饱和羧酸酯，例如乙酸乙酯、乙酸正丁酯、丙酸甲酯等；醚，例如二丁基醚、四氢呋喃等；以及醇，例如甲醇、乙醇等；所述溶剂可以单独使用或组合使用。另外，也可以通过额外地与溶剂混合而使用烷烃(例如戊烷、己烷、辛烷、壬烷、癸烷等)。
根据本发明另一个实施方式，提供一种层压结构，其包括上述基膜和在所述基膜上形成的透明的基于金属氧化物的导电膜。
如上所述，由于所述基膜包含具有基于环烯烃的重复单元的聚合物，以及包含基于苯乙烯的重复单元和基于马来酰亚胺的重复单元的共聚物，在所述基于环烯烃的重复单元中包含50mol％以上的外型异构体从而具有高玻璃化转变温度，并在可见光区显示高透光率，包括该基膜和透明的基于金属氧化物的导电膜的层压结构可以显示出优异的耐热性和透明度，可以应用于显示装置等。
对于一个实施方式的基膜的描述可以无限制地应用于所述基膜和在所述基膜上的形成的透明的基于金属氧化物的导电膜。
根据本发明另一个实施方式，提供包括上述层压结构的显示装置。
如上所述，由于包括基膜和透明的基于金属氧化物的导电膜的层压结构包含具有特定的重复单元的聚合物以及包含苯乙烯重复单元和马来酰亚胺重复单元的共聚物，并且在特定的重复单元中包含50mol％以上的外型异构体，从而显示优异的耐热性和透明度，其可以适合应用于显示装置。
除了包括包含前述的具有基于环烯烃的重复单元的聚合物以及包含基于苯乙烯的重复单元和基于马来酰亚胺的重复单元的共聚物的基膜之外，由于显示装置的结构与一般装置的结构相同，因而省略其详细的描述。
【有益效果】
根据本发明，提供表现出高玻璃化转变温度从而具有优异的耐热性且具有高透光率的基膜、包括该基膜的层压结构以及显示装置。
附图说明
图1是显示根据实施例1制备的基膜的粘合强度的评估结果的照片。
图2是显示根据比较例1制备的基膜的粘合强度的评估结果的照片。
具体实施方式
参考下列实施例对本发明进行更详细地说明。然而，这些实施例仅用于说明本发明，本发明的范围不限于此。
<实施例和比较例：基于环烯烃的聚合物以及基膜的制备>
[实施例1]
(1)基于环烯烃的聚合物的制备
在室温下，将具有71mol％外型异构体比例的5-降冰片烯-2-羧酸丁酯(100g)和具有71mol％外型异构体比例的5-降冰片烯-2-羧酸甲酯(900g)加入反应器中，并在其中加入甲苯(3000g)。在反应器中另加入1-辛炔(10.8g)，将反应器的内部用氮气置换，然后将反应器的温度升高至105℃。然后，将溶解在二氯甲烷溶剂中的催化剂乙酸钯三聚体(0.288g)和三环己基膦鎓四(五氟苯基)硼酸盐(2.46g)加入反应器中，搅拌18小时以进行反应。反应18小时后，利用丙酮和乙醇以得到白色的聚合物沉淀。用过滤器过滤沉淀物以回收聚合物，该聚合物在真空烘箱中60℃下进行干燥24小时以制备5-降冰片烯-2-羧酸丁酯和5-降冰片烯-2-羧酸甲酯的共聚物。
(2)基膜的制备
将80wt％的在(1)中得到的5-降冰片烯-2-羧酸丁酯和5-降冰片烯-2-羧酸甲酯的共聚物和20wt％的苯乙烯-马来酰亚胺共聚物(具有15wt％的马来酰亚胺单体含量)混合并溶解于二氯甲烷(MC)溶剂中，使得固体含量变为20wt％。然后，使用具有0.45μm孔的过滤器清洁地过滤该溶液以制备涂布溶液。
利用刮刀涂布机或刮条涂布机将涂布溶液流延在玻璃基板上，然后在室温下干燥1小时，并在氮气气氛下在100℃下再干燥1小时。干燥后，在水中浸渍30秒，然后剥离玻璃基板上的膜以获得具有均匀厚度(厚度偏差小于2％)的透明膜。制备的膜的厚度、在400至800nm的透光率、玻璃化转变温度示于下表1中。
[实施例2至5和比较例1至2]
除了5-降冰片烯-2-羧酸丁酯和5-降冰片烯-2-羧酸甲酯的含量和外形异构体的比例如下表1所示变化之外，通过与实施例1相同的方法制备5-降冰片烯-2-羧酸丁酯和5-降冰片烯-2-羧酸甲酯的共聚物。
将上述制备的基于环烯烃的聚合物和具有15wt％的马来酰亚胺单体含量的苯乙烯-马来酰亚胺共聚物以如下表1所示的比例混合以制备透明膜。
[表1]
<实验例1：物理性能的测量>
通过下列测量方法测量实施例1至5和比较例1和2制备的各基膜的物理性能，结果示于在下表2中。
(1)相位差的测量
使用Axoscan(由Axomatrix Co.Ltd.制造)测量由实施例得到的各基膜的相位差，并同时测量膜的厚度。
其中，在平面方向上的相位差表示为Re，当入射光与膜表面之间的角度为50°时的相位差表示为Rθ，膜的厚度方向与在平面内的y轴之间的相位差表示为Rth。
<等式1>
在上述等式1中，Rth表示在厚度方向上的相位差，θf表示内角。
(2)透光率的测量
用浊度计(hazemeter)测量实施例和比较例得到的各基膜的透光率。
(3)雾度的测量
用浊度计测量实施例和比较例得到的各基膜的雾度。
(4)折射率的测量
用棱镜耦合器测量实施例和比较例得到的各基膜的折射率。
(5)玻璃化转变温度的测量
通过热机械分析仪(TMA)测量实施例和比较例得到的各基膜的玻璃化转变温度，其中，确认根据温度的膜的起始点(on-set point)。
[表2]
如上表2中所示，包括具有基于环烯烃的重复单元(具有50％或更高含量的外型异构体)的聚合物的实施例1至4的基膜显示90％或更高的透光率，而比较例1中制备的具有低含量的外型异构体的基膜，对溶剂具有低溶解度，因而其基膜是不透明的，并显著表现出与实施例相比的30％以下的低透光率。由于该膜的透明度极低，比较例的膜的相位差和折射率是不可测的。
此外，在实施例中制备的基膜在每单位μm厚度方向上显示低的相位差值(Rth)，从而当用于显示装置时，可以适用作为内部以及外部的基膜。
<实验例2：粘合强度的评估>
实施例1和比较例1中制备的基膜分别涂布在COP上，然后通过将3M胶带贴附到所述基膜并瞬间分离，然后确定该膜的状态以测试粘合强度。
实施例1和比较例1的粘合试验后的基膜的照片分别示于图1和图2中。
参照图1，根据本发明的实施例的包含具有基于环烯烃的重复单元(50mol％以上含量的外型异构体)的聚合物的基膜在粘合测试中几乎不剥离，从而显示出良好的粘合强度。
与此相反，参见图2，根据比较例的具有小于50mol％含量的外型异构体的基膜，发生基膜从COP膜的很多脱层，从而表现出较劣的粘合强度。

Claims (17)

1.一种基膜，其包含：具有基于环烯烃的重复单元的聚合物；和包含基于苯乙烯的重复单元和基于马来酰亚胺的重复单元的共聚物；
其中，在所述基于环烯烃的重复单元中，外型异构体的含量为50mol％以上，并且
在所述基膜上形成透明的基于金属氧化物的导电膜，
其中，所述基膜的玻璃化转变温度为250℃以上，并且在400至800nm下透光率为90％以上。
2.根据权利要求1所述的基膜，其中，所述具有基于环烯烃的重复单元的聚合物为通过由以下化学式2表示的基于降冰片烯的单体中的一种单体加成聚合所制备的均聚物，或者通过由化学式2表示的两种或更多种单体加成聚合所制备的共聚物：
[化学式2]
在化学式2中，
q为0至4的整数；
R1至R4独立地为极性官能团或非极性官能团，或者
选自R1与R2，以及R3与R4的至少一种组合可以彼此连接以形成C1至C10烷叉基，或者R1或R2可以与R3和R4中的一个连接以形成C4-C12饱和或不饱和脂族环或C6-C24芳族环中。
3.根据权利要求1所述的基膜，其中，在所述基于环烯烃的重复单元中外型异构体的含量为50至100mol％。
4.根据权利要求1所述的基膜，
其中，所述具有基于环烯烃的重复单元的聚合物具有10,000至1,000,000的重均分子量。
5.根据权利要求1所述的基膜，
其中，所述包含基于苯乙烯的重复单元和基于马来酰亚胺的重复单元的共聚物包含1至50wt％的所述基于苯乙烯的重复单元。
6.根据权利要求1所述的基膜，
其中，所述包含基于苯乙烯的重复单元和基于马来酰亚胺的重复单元的共聚物具有500至1,000,000的重均分子量。
7.根据权利要求1所述的基膜，
其中，所述具有基于环烯烃的重复单元的聚合物和所述包含基于苯乙烯的重复单元和基于马来酰亚胺的重复单元的共聚物以99:1至50:50的重量比进行混合。
8.根据权利要求2所述的基膜，其中，所述非极性官能团选自：氢；卤素；取代或未取代的C1-20直链或支链烷基；取代或未取代的C2-20直链或支链烯基；取代或未取代的C2-20直链或支链炔基；取代或未取代的C3-12环烷基；C6-40芳基；以及取代或未取代的C7-15芳烷基。
9.根据权利要求2所述的基膜，其中，所述极性官能团选自：-R5OR6、-OR6、-OC(O)OR6、-R5OC(O)OR6、-C(O)OR6、-R5C(O)OR6、-C(O)R6、-R5C(O)R6、-OC(O)R6、-R5OC(O)R6、-(R5O)p-OR6、-(OR5)p-OR6、-C(O)-O-C(O)R6、-R5C(O)-O-C(O)R6、-SR6、-R5SR6、-SSR6、-R5SSR6、-S(＝O)R6、-R5S(＝O)R6、-R5C(＝S)R6-、-R5C(＝S)SR6、-R5SO3R6、-SO3R6、-R5N＝C＝S、-N＝C＝S、-NCO、-R5-NCO、-CN、-R5CN、-NNC(＝S)R6、-R5NNC(＝S)R6、-NO2、-R5NO2、
在所述极性官能团中，
p独立地为1至10的整数，
R5选自：取代或未取代的C1-20直链或支链亚烷基；取代或未取代的C2-20直链或支链亚烯基；取代或未取代的C2-20直链或支链的亚炔基；取代或未取代的C3-12亚环烷基；取代或未取代的C6-40亚芳基；取代或未取代的C7-15亚芳烷基；取代或未取代的C1-20亚烷氧基；和取代或未取代的C1-20亚羰基氧基，以及
R6、R7和R8独立地选自氢、卤素、取代或未取代的C1-20直链或支链烷基；取代或未取代的C2-20直链或支链烯基；取代或未取代的C2-20直链或支链炔基；取代或未取代的C3-12环烷基；取代或未取代的C6-40芳基；取代或未取代的C7-15芳烷基；取代或未取代的C1-20烷氧基；和取代或未取代的C1-20羰基氧基。
10.根据权利要求2所述的基膜，
其中，所述由化学式2表示的基于降冰片烯的单体包括选自以下单体中的至少一种单体：包含羧酸烷基酯官能团的单体；包含极性官能团的单体；包含乙酸酯基的单体；包含烷基的单体；以及包含芳基的单体。
11.根据权利要求1所述的基膜，
其中，所述基于苯乙烯的重复单元是衍生自选自以下化合物的重复单元：苯乙烯、α-甲基苯乙烯、3-甲基苯乙烯、4-甲基苯乙烯、2,4-二甲基苯乙烯、2,5-二甲基苯乙烯、2-甲基-4-氯苯乙烯、2,4,6-三甲基苯乙烯、顺-β-甲基苯乙烯、反-β-甲基苯乙烯、4-甲基-α-甲基苯乙烯、4-氟-α-甲基苯乙烯、4-氯-α-甲基苯乙烯、4-溴-α-甲基苯乙烯、4-叔丁基苯乙烯、2-氟苯乙烯、3-氟苯乙烯、4-氟苯乙烯、2,4-二氟苯乙烯、2,3,4,5,6-五氟苯乙烯、2-氯苯乙烯、3-氯苯乙烯、4-氯苯乙烯、2,4-二氯苯乙烯、2,6-二氯苯乙烯、八氯苯乙烯、2-溴苯乙烯、3-溴苯乙烯、4-溴苯乙烯、2,4-二溴苯乙烯、α-溴苯乙烯、β-溴苯乙烯、2-羟基苯乙烯和4-羟基苯乙烯。
12.根据权利要求1所述的基膜，
其中，所述基于马来酰亚胺的重复单元是衍生自选自以下化合物的重复单元：(R)-(+)-N-(1-苯乙基)马来酰亚胺、(S)-(-)-N-(1-苯乙基)马来酰亚胺、1,1'-(亚甲基二-4,1-亚苯基)双马来酰亚胺、1-(2-甲氧基-5-甲基苯基)马来酰亚胺、2,3-二溴-N-甲基马来酰亚胺、2,3-二溴马来酰亚胺、2,3-二氯-N-苯基马来酰亚胺、2-甲基-N-苯基马来酰亚胺，4-二甲基氨基苯基偶氮苯基-4'-马来酰亚胺、生物素-马来酰亚胺、双吲哚基马来酰亚胺I盐酸盐、双吲哚基马来酰亚胺Ⅱ、双吲哚基马来酰亚胺Ⅳ、双吲哚基马来酰亚胺V、双吲哚基马来酰亚胺Ⅶ、双吲哚基马来酰亚胺Ⅷ、乙酸酯、双吲哚基马来酰亚胺X、盐酸盐、双吲哚基马来酰亚胺XI、荧光素二乙酸酯5-马来酰亚胺、马来酰亚胺、N,N'-(邻-亚苯基)二马来酰亚胺、N,N'-(对-亚苯基)二马来酰亚胺、N,N'-1,2-亚苯基二马来酰亚胺、N,N'-1,3-亚苯基二马来酰亚胺、N,N'-1,4-亚苯基二马来酰亚胺、N-(1-萘基)-马来酰亚胺、N-(1-芘基)马来酰亚胺、N-(2,3二甲苯基)马来酰亚胺、N-(2-氨基乙基)马来酰亚胺三氟乙酸盐、N-(2-乙基苯基)马来酰亚胺、N-(2-甲氧基苯基)马来酰亚胺、N-(3-荧蒽基)马来酰亚胺、N-(3-甲氧基苯基)马来酰亚胺、N-(4-苯胺基-1-萘基)马来酰亚胺、N-(4-氯苯基)马来酰亚胺、N-(4-乙基苯基)马来酰亚胺、N-(4-氟苯基)马来酰亚胺、N-(4-碘苯基)马来酰亚胺、N-(4-硝基苯基)马来酰亚胺、N-(4-苯氧基苯基)马来酰亚胺、N-(7-二甲基氨基-4-甲基-3-香豆素基)马来酰亚胺、N-(7-二甲基氨基-4-甲基香豆素-3-基)-马来酰亚胺)、N-(9-吖啶基)马来酰亚胺、N-(邻-甲苯基)马来酰亚胺、N-(对-甲苯基)马来酰亚胺、N-苄基-2,3-二溴马来酰亚胺、N-苄基马来酰亚胺、N-丁基马来酰亚胺、N-环己基马来酰亚胺、N-乙基马来酰亚胺、N-羟基马来酰亚胺、N-甲氧基羰基马来酰亚胺、N-甲基马来酰亚胺、N-苯基马来酰亚胺、N-丙基马来酰亚胺、N-叔丁基马来酰亚胺、N-[4-(2-苯并咪唑基)苯基]马来酰亚胺和链霉亲和素-马来酰亚胺。
13.根据权利要求1所述的基膜，其中，所述基膜厚度为20至200μm。
14.根据权利要求1所述的基膜，其中，所述透明的基于金属氧化物的导电膜为选自ITO膜、ATO膜、IZO(氧化铟锌)膜、氧化锡膜、氧化锌膜、氧化钛膜和氧化锑膜的至少一种。
15.根据权利要求1所述的基膜，其中，所述基膜用作用于触摸面板的ITO膜的基底，或显示装置的基底。
16.一种层压结构，其包括：
根据权利要求1所述的基膜；和
在所述基膜上形成的透明的基于金属氧化物的导电膜。
17.一种显示装置，其包括权利要求16所述的层压结构。
CN201480003545.6A 2013-09-30 2014-09-29 基膜、包括该基膜的层压结构以及显示装置 Active CN104871118B (zh)

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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7375493B2 (ja) * 2019-11-22 2023-11-08 Dic株式会社 光学材料用樹脂組成物、光学フィルム及び画像表示装置

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101641389A (zh) * 2007-03-22 2010-02-03 Lg化学株式会社 光反应性富外型降冰片烯聚合物及其制备方法
CN101661129A (zh) * 2008-04-09 2010-03-03 日东电工株式会社 层压光学膜,使用层压光学膜的液晶面板和液晶显示装置
CN102300889A (zh) * 2009-01-29 2011-12-28 昭和电工株式会社 降冰片烯共聚物及其制造方法

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5705503A (en) 1995-05-25 1998-01-06 Goodall; Brian Leslie Addition polymers of polycycloolefins containing functional substituents
JP5191447B2 (ja) 1999-12-16 2013-05-08 富士フイルム株式会社 位相差板、その製造方法、及びそれを利用した円偏光板、１／２波長板並びに反射型液晶表示装置
JP2003196029A (ja) * 2001-12-25 2003-07-11 Fuji Photo Film Co Ltd タッチパネル及びタッチパネル付き液晶表示装置
WO2004007564A1 (en) 2002-07-10 2004-01-22 Lg Chem, Ltd. Method for preparing norbornene based addition polymer containing ester or acetyl functional group
KR100561068B1 (ko) 2002-07-10 2006-03-15 주식회사 엘지화학 노보넨-에스테르계 부가중합체 및 이의 제조방법
KR100733923B1 (ko) * 2004-07-07 2007-07-02 주식회사 엘지화학 극성 작용기를 갖는 고리형 올레핀 중합체 제조용 촉매시스템, 이를 이용한 중합체 제조방법과 이 방법에 의해제조된 올레핀 중합체 및 상기 중합체를 포함하는 광학이방성 필름
DE102005019669A1 (de) 2005-02-08 2006-10-12 Röhm Gmbh Folienmembran mit hervorragender Witterungsbeständigkeit, hoher Durchlässigkeit für solare Wärmestrahlung, effektiver Zurückhaltung der von der Erde emittierten Wärmestrahlung und hoher mechanischer Festigkeit sowie Verfahren zur Herstelung der Folienmembran
KR101267713B1 (ko) * 2005-02-28 2013-05-24 도레이 카부시키가이샤 스티렌계 수지 조성물 및 그의 제조 방법
JP4991170B2 (ja) 2005-03-17 2012-08-01 富士フイルム株式会社 光学樹脂フィルム、偏光板及び液晶表示装置
CN101489975B (zh) * 2006-06-26 2013-01-30 Lg化学株式会社 制备降冰片烯单体组合物的方法、由其制备的降冰片烯聚合物、包含该降冰片烯聚合物的光学膜以及制备该降冰片烯聚合物的方法
KR20080026944A (ko) 2006-09-22 2008-03-26 주식회사 엘지화학 극성 작용기를 갖는 고리형 올레핀계 고분자의 제조방법 및이에 의하여 제조된 고리형 올레핀계 고분자
KR100916085B1 (ko) 2006-11-22 2009-09-08 주식회사 엘지화학 네가티브 ｃ-플레이트형 광학 이방성 필름 및 이를포함하는 액정 표시 장치
JPWO2009084382A1 (ja) 2007-12-28 2011-05-19 Jsr株式会社 射出成形体および重合体組成物
KR101314538B1 (ko) 2008-06-24 2013-10-04 코오롱인더스트리 주식회사 노보넨계 중합체
JP5769711B2 (ja) * 2009-08-18 2015-08-26 エルジー・ケム・リミテッド 新規な化合物、これを含む触媒組成物およびこれを用いた環状オレフィン系重合体の製造方法
JP2011043628A (ja) 2009-08-20 2011-03-03 Gunze Ltd 位相差フィルム、タッチパネル用透明導電性積層体の製造方法およびタッチパネル
JP5570329B2 (ja) 2010-07-08 2014-08-13 サン・トックス株式会社 保護フィルム及びその製造方法
JP5925447B2 (ja) * 2011-09-02 2016-05-25 日東電工株式会社 粘着剤層付き透明導電性フィルム、その製造方法及びタッチパネル
JP5937324B2 (ja) * 2011-09-29 2016-06-22 株式会社日本触媒 偏光子保護フィルム及びその利用

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101641389A (zh) * 2007-03-22 2010-02-03 Lg化学株式会社 光反应性富外型降冰片烯聚合物及其制备方法
CN101661129A (zh) * 2008-04-09 2010-03-03 日东电工株式会社 层压光学膜,使用层压光学膜的液晶面板和液晶显示装置
CN102300889A (zh) * 2009-01-29 2011-12-28 昭和电工株式会社 降冰片烯共聚物及其制造方法

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