CN104795424A - 柔性衬底基板和显示基板及其制作方法、显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及显示技术领域，公开了一种柔性衬底基板和显示基板及其制作方法、显示装置。所述柔性衬底基板的表面设置有凹槽，并在所述柔性衬底基板具有凹槽的表面设置水氧阻挡薄膜，且所述水氧阻挡薄膜的厚度小于所述凹槽的槽深。从而在所述水氧阻挡薄膜上形成显示元件时，位于凹槽中的水氧阻挡薄膜能够阻挡水汽、氧气从衬底基板的背面和侧面穿透进入显示膜层，影响显示元件的性能，提高了产品的稳定性，保证了显示装置的品质。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种柔性衬底基板和显示基板及其制作方法、显示装置。
背景技术
传统的显示都是平板显示，不可以随意弯曲。未来显示的趋势是希望在柔性体上实现大量信息的展示，即柔性显示。柔性显示屏和柔性显示模组在基板包装、生产、存储、使用、操作、工序衔接、搬运、运输等任何一个步骤都可以实现机械弯曲。实现柔性显示的关键技术可以分为几个方面：显示技术、基板技术、阵列技术和封装技术。目前可以实现柔性显示的基板主要有超薄玻璃基板、金属箔片基板、塑料基板这三种方式。其中，塑料(一般选择PEN、PET、PI、PC等)基板柔韧性更好、质量更轻、更耐冲击，适于制作轻薄化器件，成为柔性显示技术的发展趋势。
但是，塑料为有机材料，水汽、氧气很容易穿透塑料进而影响柔性显示面板的品质，尤其是OLED、TFT的性能。就算从背面外贴阻隔层,水汽/氧气也是会从侧边进入影响产品的品质。
发明内容
本发明提供一种柔性衬底基板和显示基板及其制作方法，用以解决有机材料的柔性衬底基板不能阻隔水汽、氧气，影响产品的品质的问题。
本发明还通过一种显示装置，包括上述的显示基板，能够保证产品的品质。
为解决上述技术问题，本发明实施例中提供一种柔性衬底基板，所述柔性衬底基板的表面具有凹槽，所述柔性衬底基板具有凹槽的表面设置有水氧阻挡薄膜，所述水氧阻挡薄膜的厚度小于所述凹槽的槽深。
如上所述的柔性衬底基板，优选的是，所述凹槽内填充有第一有机材料薄膜，使得柔性衬底基板的表面平坦，且所述第一有机材料薄膜设置在所述水氧阻挡薄膜上。
如上所述的柔性衬底基板，优选的是，所述柔性衬底基板和第一有机材料薄膜的材料为塑料或树脂。
本发明实施例中还提供一种如上所述的柔性衬底基板的制作方法，其特征在于，包括：
在所述柔性衬底基板的表面形成凹槽；
在所述柔性衬底基板具有凹槽的表面形成水氧阻挡膜，所述水氧阻挡薄膜的厚度小于所述凹槽的槽深。
如上所述的制作方法，优选的是，所述制作方法还包括：
在所述水氧阻挡薄膜上形成第一有机材料薄膜，所述第一有机材料薄膜填充在所述凹槽内，使得柔性衬底基板的表面平坦。
如上所述的制作方法，优选的是，所述柔性衬底基板通过以下步骤形成：
提供一无机基板；
在所述无机基板的表面形成第二有机材料薄膜；
在所述第二有机材料薄膜的表面形成所述凹槽。
本发明实施例中还提供一种显示基板，包括柔性衬底基板和设置在所述柔性衬底基板上的显示膜层，所述柔性衬底基板的表面具有凹槽，所述柔性衬底基板具有凹槽的表面设置有水氧阻挡薄膜，所述水氧阻挡薄膜的厚度小于所述凹槽的槽深；
所述显示膜层设置在所述水氧阻挡薄膜上，且所述显示膜层的至少一部分位于所述凹槽所在的区域。
如上所述的显示基板，优选的是，所述凹槽内填充有第一有机材料薄膜，使得柔性衬底基板的表面平坦，且所述第一有机材料薄膜设置在所述水氧阻挡薄膜上；
所述显示膜层具体设置在所述第一有机材料薄膜上。
如上所述的显示基板，优选的是，整个所述显示膜层位于所述凹槽所在的区域。
如上所述的显示基板，优选的是，所述显示膜层包括有机发光二极管的有机发光层，或薄膜晶体管的有源层，所述有源层为硅半导体材料。
本发明实施例中还提供一种如上所述的显示基板的制作方法，包括：
形成柔性衬底基板；
在所述柔性衬底基板上形成显示膜层，所述制作方法还包括：
在所述柔性衬底基板的表面形成凹槽；
在所述柔性衬底基板具有凹槽的表面形成水氧阻挡薄膜，所述水氧阻挡薄膜的厚度小于所述凹槽的槽深；
在所述水氧阻挡薄膜上形成所述显示膜层，且所述显示膜层的至少一部分位于所述凹槽所在的区域。
如上所述的制作方法，优选的是，所述制作方法还包括：
在所述水氧阻挡薄膜上形成第一有机材料薄膜，所述第一有机材料薄膜填充在所述凹槽内，使得柔性衬底基板的表面平坦；
具体在所述第一有机材料薄膜上形成所述显示膜层。
如上所述的制作方法，优选的是，形成柔性衬底基板的步骤包括：
提供一无机基板；
在所述无机基板表面形成第二有机材料薄膜；
在所述第二有机材料薄膜的表面形成凹槽；
在形成所述显示膜层之后，所述制作方法还包括：
剥离所述无机基板。
本发明实施例中还提供一种显示装置，优选的是，包括如上所述的显示基板。
本发明的上述技术方案的有益效果如下：
上述技术方案中，通过在柔性衬底基板的表面设置凹槽，并在所述柔性衬底基板具有凹槽的表面设置水氧阻挡薄膜，且所述水氧阻挡薄膜的厚度小于所述凹槽的槽深。从而在所述水氧阻挡薄膜上形成显示元件时，位于凹槽中的水氧阻挡薄膜能够阻挡水汽、氧气从衬底基板的背面和侧面穿透进入显示膜层，影响显示元件的性能，提高了产品的稳定性，保证了显示装置的品质。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1-图2表示本发明实施例一中柔性衬底基板的制作过程示意图；
图3-图5表示本发明实施例一中显示基板的制作过程示意图；
图6表示本发明实施例二中柔性衬底基板的结构示意图；
图7-图9表示本发明实施例二中显示基板的制作过程示意图。
具体实施方式
本发明提供一种柔性衬底基板及其制作方法，尤其是有机材料(如塑料、树脂)的柔性衬底基板，用以解决水汽、氧气能够穿透有机材料的柔性衬底基板，影响设置在其上的显示元件的性能的问题，特别是有机发光二极管、薄膜晶体管等有机显示元件。
所述柔性衬底基板的表面具有凹槽，所述柔性衬底基板具有凹槽的表面设置有水氧阻挡薄膜，所述水氧阻挡薄膜的厚度小于所述凹槽的槽深。从而在所述水氧阻挡薄膜上形成显示元件时，位于凹槽中的水氧阻挡薄膜能够阻挡水汽、氧气从衬底基板的背面和侧面穿透进入显示元件，影响显示元件的性能，保证了显示装置的品质。
相应地，所述柔性衬底基板的制作方法包括：
在所述柔性衬底基板的表面形成凹槽；
在所述柔性衬底基板具有凹槽的表面形成水氧阻挡膜，所述水氧阻挡薄膜的厚度小于所述凹槽的槽深。
其中，所述水氧阻挡薄膜可以为无机材料，因为无机材料具有阻隔水汽和氧气的特性。
下面将结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。
结合图2所示，本发明实施例中提供一种柔性衬底基板1，柔性衬底基板1的表面具有凹槽2，柔性衬底基板1具有凹槽2的表面设置有水氧阻挡薄膜3，水氧阻挡薄膜3的厚度小于凹槽2的槽深，从而水氧阻挡薄膜3能够阻挡水汽和氧气从凹槽2的槽底和槽避穿透至凹槽2内，当在水氧阻挡薄膜3上形成有机元件时，能够保护位于凹槽2中的有机元件不会受到水汽和氧气的影响，保证元件的品质。
由于无机材料具有阻挡水汽和氧气的特性，水氧阻挡薄膜3的材料具体可以为无机材料。
相应地，结合图1和图2所示，本发明实施例中还提供一种柔性衬底基板的制作方法，包括：
在柔性衬底基板1的表面形成凹槽2；
在柔性衬底基板1具有凹槽2的表面形成水氧阻挡膜3，水氧阻挡薄膜3的厚度小于凹槽2的槽深。
本发明的技术方案能够阻挡水汽和氧气从衬底基板的背面和侧面穿透进入设置在其上的有机元件，保证元件的品质，提高产品的稳定性。
优选地，凹槽2内还填充有第一有机材料薄膜5，且第一有机材料薄膜5设置在水氧阻挡薄膜3上，如图6所示。通过在凹槽2内填充第一有机材料薄膜5，可以使得柔性衬底基板的表面平坦，有利于后续工艺的均匀性。
其中，第一有机材料薄膜5的材料可以选择塑料或树脂
相应地，柔性衬底基板的制作方法还包括：
在水氧阻挡薄膜3上形成第一有机材料薄膜5，第一有机材料薄膜5填充在凹槽2内，使得柔性衬底基板的表面平坦。
在实际工艺过程中，柔性衬底基板1通过以下步骤形成：
提供一无机基板20，如：玻璃基板；
在无机基板20的表面形成第二有机材料薄膜10，第二有机材料薄膜10的材料可以选择塑料或树脂。
具体在第二有机材料薄膜10的表面形成凹槽2。
则，柔性衬底基板1包括无机基板20和设置在无机基板20的表面的第二有机材料薄膜10，第二有机材料薄膜10的表面具有凹槽2。
如图6所示，本发明实施例中的柔性衬底基板具体包括：
无机基板20；
设置在无机基板20表面的第二有机材料薄膜10；
设置在第二有机材料薄膜10表面的凹槽2；
设置在第二有机材料薄膜10具有凹槽2表面的水氧阻挡薄膜3，水氧阻挡薄膜3的厚度小于凹槽2的槽深；
填充在凹槽2内并位于水氧阻挡薄膜3上的第一有机材料薄膜5，使得柔性衬底基板的表面平坦。
优选地，第一有机材料薄膜5和第二有机材料薄膜10的材料相同。
基于同一发明构思，本发明实施例中还提供一种显示基板，如图4所示，所述显示基板包括柔性衬底基板1和设置在柔性衬底基板1上的显示膜层4。其中，柔性衬底基板1的表面具有凹槽2，在柔性衬底基板1具有凹槽2的表面设置有水氧阻挡薄膜3，水氧阻挡薄膜3的厚度小于凹槽2的槽深。显示膜层4设置在水氧阻挡薄膜3上，且显示膜层4的至少一部分位于凹槽2所在的区域。
具体的，设置显示膜层4的至少一部分位于凹槽2中。
上述技术方案中，由于水氧阻挡薄膜3的厚度小于凹槽2的槽深，水氧阻挡薄膜3能够阻挡水汽和氧气从凹槽2的槽底和槽避穿透至凹槽2内，保护位于凹槽2中的显示膜层4不会受到水汽和氧气的影响，提高显示元件的稳定性，保证产品的品质。
相应地，结合图1-图3所述，本发明实施例中还提供一种显示基板的制作方法，包括：
形成柔性衬底基板1；
在柔性衬底基板1的表面形成凹槽2；
在柔性衬底基板1具有凹槽2的表面形成水氧阻挡薄膜3，水氧阻挡薄膜3的厚度小于凹槽2的槽深；
在水氧阻挡薄膜3上形成显示膜层4，且显示膜层4的至少一部分位于凹槽2所在的区域。
优选地，整个显示膜层4位于凹槽2所在的区域，水氧阻挡薄膜3和凹槽2的配合能够保护整个显示膜层4不会受到水汽和氧气的影响。
为了提高显示基板的品质，所述制作方法还包括：
沿图3中的虚线去除显示基板位于凹槽2周边的区域，使得显示膜层4基本上都能够在凹槽2和水氧阻挡薄膜3的配合保护下，不受到水汽和氧气的影响，结合图3和图4所示；
剥离无机基板20，如图5所示。
本发明实施例中，凹槽2内还填充有第一有机材料薄膜5，且第一有机材料薄膜5设置在水氧阻挡薄膜3上，以提供表面平坦的柔性衬底基板，如图6所示。则，显示膜层4具体设置在第一有机材料薄膜5上，提高了成膜的均匀性，如图7所示。
对于有机发光二极管显示基板，显示膜层4具体包括机发光二极管的有机发光层。
对于薄膜晶体管显示基板，显示膜层4具体包括薄膜晶体管的有源层，特别是所述有源层为有机硅半导体材料时。
在实际工艺过程中，柔性衬底基板1通过以下步骤形成：
提供一无机基板20，如：玻璃基板；
在无机基板20的表面形成第二有机材料薄膜10，第二有机材料薄膜10的材料可以选择塑料或树脂。
具体在第二有机材料薄膜10的表面形成凹槽2。
对于上述步骤形成的柔性衬底基板1，本发明实施例中在柔性衬底基板1形成显示膜层4后，形成显示基板的制作方法还包括：
剥离无机基板20。
结合图1、图2以及图6-图9所示，本发明实施例中显示基板的制作方法具体包括：
提供一无机基板20；
在无机基板20表面形成第二有机材料薄膜10；
在第二有机材料薄膜10表面形成凹槽2；
在第二有机材料薄膜10具有凹槽2表面形成水氧阻挡薄膜3，水氧阻挡薄膜3的厚度小于凹槽2的槽深；
在水氧阻挡薄膜3上形成第一有机材料薄膜5，第一有机材料薄膜5填充在凹槽2内，使得柔性衬底基板的表面平坦；
在第一有机材料薄膜5上形成显示膜层4，显示膜层4位于凹槽2所在的区域，包括有机发光二极管的各膜层，或薄膜晶体管的各膜层；
沿图7中的虚线去除显示基板位于凹槽2周边的区域，使得显示膜层4基本上都能够在凹槽2和水氧阻挡薄膜3的配合保护下，不受到水汽和氧气的影响；
剥离无机基板20。
至此完成显示基板的制作。
需要说明的是，本发明实施例中的显示基板为有机发光二极管显示基板或薄膜晶体管显示基板，在此只是举例说明，并不是一种限制。显示膜层4也可以为其他有机元件的各膜层，具体取决于显示基板的类型。
本发明实施例中还提供一种显示装置，包括本发明实施例中的显示基板，能够提高产品的稳定性，保证产品的品质。
本发明的技术方案通过在柔性衬底基板的表面设置凹槽，并在所述柔性衬底基板具有凹槽的表面设置水氧阻挡薄膜，且所述水氧阻挡薄膜的厚度小于所述凹槽的槽深。从而在所述水氧阻挡薄膜上形成显示元件时，位于凹槽中的水氧阻挡薄膜能够阻挡水汽、氧气从衬底基板的背面和侧面穿透进入显示膜层，影响显示元件的性能，提高了产品的稳定性，保证了显示装置的品质。
以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明技术原理的前提下，还可以做出若干改进和替换，这些改进和替换也应视为本发明的保护范围。
Claims (14)
1.一种柔性衬底基板，其特征在于，所述柔性衬底基板的表面具有凹槽，所述柔性衬底基板具有凹槽的表面设置有水氧阻挡薄膜，所述水氧阻挡薄膜的厚度小于所述凹槽的槽深。
2.根据权利要求1所述的柔性衬底基板，其特征在于，所述凹槽内填充有第一有机材料薄膜，使得柔性衬底基板的表面平坦，且所述第一有机材料薄膜设置在所述水氧阻挡薄膜上。
3.根据权利要求2所述的柔性衬底基板，其特征在于，所述柔性衬底基板和第一有机材料薄膜的材料为塑料或树脂。
4.一种权利要求1-3任一项所述的柔性衬底基板的制作方法，其特征在于，包括：
在所述柔性衬底基板的表面形成凹槽；
在所述柔性衬底基板具有凹槽的表面形成水氧阻挡薄膜，所述水氧阻挡薄膜的厚度小于所述凹槽的槽深。
5.根据权利要求4所述的制作方法，其特征在于，所述制作方法还包括：
在所述水氧阻挡薄膜上形成第一有机材料薄膜，所述第一有机材料薄膜填充在所述凹槽内，使得柔性衬底基板的表面平坦。
6.根据权利要求4或5所述的制作方法，其特征在于，所述柔性衬底基板通过以下步骤形成：
提供一无机基板；
在所述无机基板的表面形成第二有机材料薄膜；
在所述第二有机材料薄膜的表面形成所述凹槽。
7.一种显示基板，包括柔性衬底基板和设置在所述柔性衬底基板上的显示膜层，其特征在于，所述柔性衬底基板的表面具有凹槽，所述柔性衬底基板具有凹槽的表面设置有水氧阻挡薄膜，所述水氧阻挡薄膜的厚度小于所述凹槽的槽深；
所述显示膜层设置在所述水氧阻挡薄膜上，且所述显示膜层的至少一部分位于所述凹槽所在的区域。
8.根据权利要求7所述的显示基板，其特征在于，所述凹槽内填充有第一有机材料薄膜，使得柔性衬底基板的表面平坦，且所述第一有机材料薄膜设置在所述水氧阻挡薄膜上；
所述显示膜层具体设置在所述第一有机材料薄膜上。
9.根据权利要求6或7所述的显示基板，其特征在于，整个所述显示膜层位于所述凹槽所在的区域。
10.根据权利要求6或7所述的显示基板，其特征在于，所述显示膜层包括有机发光二极管的有机发光层，或，薄膜晶体管的有源层，所述有源层为硅半导体材料。
11.一种权利要求7-10任一项所述的显示基板的制作方法，包括：
形成柔性衬底基板；
在所述柔性衬底基板上形成显示膜层，其特征在于，还包括：
在所述柔性衬底基板的表面形成凹槽；
在所述柔性衬底基板具有凹槽的表面形成水氧阻挡薄膜，所述水氧阻挡薄膜的厚度小于所述凹槽的槽深；
在所述水氧阻挡薄膜上形成所述显示膜层，且所述显示膜层的至少一部分位于所述凹槽所在的区域。
12.根据权利要求10所述的制作方法，其特征在于，所述制作方法还包括：
在所述水氧阻挡薄膜上形成第一有机材料薄膜，所述第一有机材料薄膜填充在所述凹槽内，使得柔性衬底基板的表面平坦；
具体在所述第一有机材料薄膜上形成所述显示膜层。
13.根据权利要求11或12所述的制作方法，其特征在于，形成柔性衬底基板的步骤包括：
提供一无机基板；
在所述无机基板表面形成第二有机材料薄膜；
在所述第二有机材料薄膜的表面形成凹槽；
在形成所述显示膜层之后，所述制作方法还包括：
剥离所述无机基板。
14.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求7-10任一项所述的显示基板。
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