CN112993190A - 柔性显示基板及其制备方法和显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了柔性显示基板及其制备方法和显示装置,该柔性显示基板包括:第一柔性膜层;设在第一柔性膜层的第一表面上的第一阻挡层;设在第一阻挡层远离第一柔性膜层的一侧的第二阻挡层;设在第一阻挡层和第二阻挡层之间的第二柔性膜层;其中,第一阻挡层远离第一柔性膜层的表面和第二阻挡层靠近第一柔性膜层的表面中的至少之一设有凹槽,第二柔性膜层在第一柔性膜层上的第一正投影与凹槽在第一柔性膜层上的第二正投影至少部分重叠。该柔性显示基板的结构可以有效地延长水汽入侵第二柔性膜层的路径,甚至隔绝第二柔性膜层与大气直接接触,进而可以阻断水汽入侵来源,有效延长GDS出现的时间,降低GDS风险。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,具体的,设计柔性显示基板及其制备方法和显示装置。
背景技术
随着显示技术的不断发展,柔性显示技术越来越受到关注。为了满足柔性显示装置的弯折、卷曲等要求,显示装置需要使用柔性基板,但形成柔性基板的柔性材料通常属于吸水物质,若柔性基板中的无机膜层在工艺过程中产生微裂纹,则会形成水汽入侵的通道,进而产生长大性黑点(GDS)不良。
因而,目前的柔性显示技术仍有待改进。
发明内容
本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此,本发明的目的在于提出一种有效延长GDS出现的时间,降低GDS风险的柔性显示基板及其制备方法和显示装置。
在本发明的一个方面,本发明提供了一种柔性显示基板。根据本发明的实施例,该柔性显示基板包括:第一柔性膜层(PI1);第一阻挡层(Barrier1),所述第一阻挡层设在所述第一柔性膜层的第一表面上;第二阻挡层(Barrier2),所述第二阻挡层设在所述第一阻挡层远离所述第一柔性膜层的一侧;第二柔性膜层(PI2),所述第二柔性膜层设在所述第一阻挡层和所述第二阻挡层之间;其中,所述第一阻挡层远离所述第一柔性膜层的表面和所述第二阻挡层靠近所述第一柔性膜层的表面中的至少之一设有凹槽,所述第二柔性膜层在所述第一柔性膜层上的第一正投影与所述凹槽在所述第一柔性膜层上的第二正投影至少部分重叠。该柔性显示基板的结构可以有效阻止显示基板中间无机膜层裂纹向下扩展,同时由于设置凹槽,可以有效地延长水汽入侵第二柔性膜层的路径,甚至隔绝第二柔性膜层与大气直接接触,进而可以阻断水汽入侵来源,有效延长GDS出现的时间,降低GDS风险。
根据本发明的实施例,所述第二正投影的至少一部分轮廓线位于所述第一正投影的轮廓线的外侧。
根据本发明的实施例,所述第二柔性膜层填充在所述凹槽中。
根据本发明的实施例,所述第一阻挡层和所述第二阻挡层共同限定出封闭的容纳空间,所述第二柔性膜层填充在所述容纳空间中。
根据本发明的实施例,所述第二正投影覆盖所述显示基板的显示区在所述第一柔性膜层上的正投影。
根据本发明的实施例,该柔性显示基板满足以下条件的至少之一:所述第一阻挡层包括第一底层和设在所述第一底层远离所述第一柔性膜层的表面上的第一边框;所述第一底层和所述第一边框是一体成型的;所述第二阻挡层包括第二边框和设在所述第二边框远离所述第一柔性膜层的一侧的第二底层;所述第一阻挡层和所述第二阻挡层中均为等厚膜层。
在本发明的另一方面,本发明提供了一种制备柔性显示基板的方法。根据本发明的实施例,该方法包括:涂覆形成第一柔性膜层;在所述第一柔性膜层的第一表面上沉积第一阻挡层;在所述第一阻挡层远离所述第一柔性膜层的表面上涂覆形成第二柔性膜层;在所述第一阻挡层和所述第二柔性膜层远离所述第一柔性膜层的一侧沉积第二阻挡层,其中,所述第一阻挡层远离所述第一柔性膜层的表面和所述第二阻挡层靠近所述第一柔性膜层的表面中的至少之一设有凹槽,所述第二柔性膜层在所述第一柔性膜层上的第一正投影与所述凹槽在所述第一柔性膜层上的第二正投影至少部分重叠。该方法步骤简单、方便,与现有技术兼容性高,不需要过多的额外步骤,且得到的柔性显示基板可以有效阻止显示基板中间无机膜层裂纹向下扩展,同时可以延长水汽入侵第二柔性膜层的路径,甚至可以有效地隔绝第二柔性膜层与大气直接接触,进而阻断水汽入侵来源,有效延长GDS出现的时间,降低GDS风险。
根据本发明的实施例,所述第一阻挡层包括第一底层和设在所述第一底层远离所述第一柔性膜层的表面上的第一边框,所述第一阻挡层是通过以下步骤(1)或步骤(2)形成的:(1)依次在所述第一表面上沉积形成所述第一底层和所述第一边框;(2)形成第一预制层,然后对所述第一预制层的中间部分进行蚀刻,在所述第一预制层中间形成凹槽。
根据本发明的实施例,所述第二阻挡层包括第二边框和设在所述第一阻挡层远离所述第一柔性膜层的表面上的第二底层,所述第二阻挡层是通过以下步骤形成的:在所述第一阻挡层远离所述第一柔性膜层的表面上沉积形成第二边框;在所述第二边框远离所述第一柔性膜层的表面上和所述第二柔性膜层远离所述第一柔性膜层的表面上沉积形成第二底层。
在本发明的又一方面,本发明提供了一种显示装置。根据本发明的实施例,该显示装置包括前面所述的柔性显示基板。该显示装置具有前面所述的柔性显示基板的全部特征和优点,在此不再一一赘述。
附图说明
图1是本发明一个实施例的柔性显示基板的平面透视图;
图2是图1中A-A线的剖面结构示意图;
图3是本发明一个实施例的柔性显示基板的剖面结构示意图;
图4是本发明另一个实施例的柔性显示基板的剖面结构示意图;
图5是本发明另一个实施例的柔性显示基板的剖面结构示意图;
图6是本发明另一个实施例的柔性显示基板的剖面结构示意图;
图7是本发明另一个实施例的柔性显示基板的剖面结构示意图;
图8是本发明另一个实施例的柔性显示基板的剖面结构示意图;
图9是本发明另一个实施例的柔性显示基板的剖面结构示意图;
图10是本发明另一个实施例的柔性显示基板的剖面结构示意图;
图11是本发明另一个实施例的柔性显示基板的剖面结构示意图;
图12是本发明另一个实施例的柔性显示基板的剖面结构示意图;
图13是本发明另一个实施例的柔性显示基板的剖面结构示意图;
图14是本发明一个实施例的制备柔性显示基板的方法的流程示意图;
图15是本发明一个实施例的制备第一阻挡层的流程示意图;
图16是本发明另一个实施例的制备第一阻挡层的流程示意图;
图17是本发明一个实施例的制备第二阻挡层的流程示意图;
图18是本发明一个实施例的制备柔性显示基板的流程示意图;
图19是本发明另一个实施例的制备柔性显示基板的流程示意图;
图20是相关技术中柔性显示基板的剖面结构示意图;
图21是相关技术中产生GDS不良案例示意图。
附图标记:
1:玻璃基材 10:第一柔性膜层 20:第一阻挡层 21:第一底层 22:第一边框 23:第一凹槽 30:第二阻挡层 31:第二边框 32:第二底层 33:第二凹槽 40:第二柔性膜层41:第一投影 50:凹槽 51:第二投影 60:预制层 70:缓冲层 PI2:第二柔性膜层Barrier2:第二阻挡层 Buffer:缓冲层 Gate1:栅极 GI:栅绝缘层 ILD:层间绝缘层 SD1:源漏极 PVX:钝化层 PLN1:平坦层
具体实施方式
下面详细描述本发明的实施例。下面描述的实施例是示例性的,仅用于解释本发明,而不能理解为对本发明的限制。实施例中未注明具体技术或条件的,按照本领域内的文献所描述的技术或条件或者按照产品说明书进行。
本发明是发明人基于以下认识和发现而完成的:
相关技术中,目前常用的柔性显示基板由柔性膜层、无机膜层和缓冲层层叠设置形成(结构示意图参照图20),由于无机膜层材料的特性,在制备过程以及之后的储存和加工过程中易产生微裂纹,而第二柔性膜层与外界大气连通,又因第二柔性膜层属于吸水物质,水汽会由第二柔性膜层通过微裂纹向显示基板的显示区渗透,从而容易造成GDS不良,具体产生GDS不良案例示意图参照图21(图中箭头所示为水汽入侵路径)。针对上述问题,发明人研究后发现,通过将第二柔性膜层设在封闭的容纳空间中,阻断其与大气接触,可以有效避免水汽通过微裂纹、第二柔性膜层侵入显示区,进而可以大大降低GDS不良风险。
有鉴于此,在本发明的一个方面,本发明提供了一种柔性显示基板。根据本发明的实施例,参照图1和图2,该柔性显示基板包括:第一柔性膜层10;第一阻挡层20,所述第一阻挡层20设在所述第一柔性膜层10的第一表面上;第二阻挡层30,所述第二阻挡层30设在所述第一阻挡层20远离所述第一柔性膜层10的一侧;第二柔性膜层40,所述第二柔性膜层40设在所述第一阻挡层20和所述第二阻挡层30之间,其中,所述第一阻挡层20远离所述第一柔性膜层10的表面和所述第二阻挡层30靠近所述第一柔性膜层10的表面中的至少之一设有凹槽50,所述第二柔性膜层40在所述第一柔性膜层10上的第一正投影41与所述凹槽50在所述第一柔性膜层10上的第二正投影51至少部分重叠(图1和图2中以第一投影41和第二投影51恰好完全重叠为例说明)。该柔性显示基板的结构可以有效阻止显示基板中间无机膜层裂纹向下扩展,同时设置凹槽可以延长水汽入侵第二柔性膜层的路径,甚至可以有效地隔绝第二柔性膜层与大气直接接触,进而阻断水汽入侵来源,同时降低外界水汽由第二柔性膜层通过微裂纹向显示基板的显示区渗透的风险,有效延长GDS出现的时间,降低GDS风险。
根据本发明的实施例,第一投影和第二投影可以仅一部分重叠,恰好完全重叠,或者第一投影落在第二投影之内。一些具体实施例中,所述第二正投影的至少一部分轮廓线位于所述第一正投影的轮廓线的外侧,即一部分凹槽侧壁位于第二柔性膜层的外侧。由此,位于凹槽的侧壁可以有效延长水汽入侵路径,甚至完全阻挡水汽入侵。
根据本发明的实施例,为了更好地阻挡水汽入侵,参照图2,所述第二柔性膜层40可以填充在所述凹槽50中。由此,第二柔性膜层四周均被凹槽侧壁包围,能够更好地阻挡水汽入侵。进一步的,一些具体实施例中,参照图2,所述第一阻挡层20和所述第二阻挡层30可以共同限定出封闭的容纳空间,所述第二柔性膜层40填充在所述容纳空间中。由此,第二柔性膜层完全不与大气接触,能够达到更好地阻挡水汽入侵的效果,进而可以更好地延缓或者避免GDS不良。
根据本发明的实施例,为了在降低GDS风险的同时避免对显示效果产生影响,参照图1,所述容纳空间在所述第一柔性膜层10上的正投影覆盖所述显示基板的显示区100在所述第一柔性膜层上的正投影。具体的,容纳空间在所述第一柔性膜层10上的正投影可以与所述显示基板的显示区100在所述第一柔性膜层上的正投影恰好重叠;容纳空间在所述第一柔性膜层10上的正投影的面积可以大于所述显示基板的显示区100在所述第一柔性膜层上的正投影的面积(结构示意图参照1和图2)。由此,阻挡水汽入侵的效果更佳,同时不会对显示效果产生影响。
根据本发明的实施例,只要满足上述阻挡水汽入侵的具体要求,第一阻挡层和第二阻挡层的具体结构没有特别限制。具体的,上述凹槽可以仅在第一阻挡层中形成,也可以仅在第二阻挡层中形成,还可以同时在第一阻挡层和第二阻挡层中形成凹槽。而第一阻挡层和第二阻挡层可以为等厚膜层,也可以为不等厚膜层,一些具体实施例中,第一阻挡层和第二阻挡层可以各自独立的构造为底层和边框,底层构成凹槽的底部,边框构成凹槽的侧壁;也可以为等厚膜层,通过膜层的凸起和凹陷形成凹槽。
一些具体实施例中,参照图3、图4和图5,所述第一阻挡层20包括:第一底层21,所述第一底层21覆盖所述第一表面;第一边框22,所述第一边框22设在所述第一底层22远离所述第一柔性膜层10的表面上。进一步的,第一底层21和第一边框22可以限定出第一凹槽23,第二柔性膜层40可以恰好将第一凹槽23填满(结构示意图参照图3),可以第二柔性膜层40的一部分将第一凹槽23填满(结构示意图参照图4),也可以第二柔性膜层40全部设在第一凹槽23内,但并未填满第一凹槽23(结构示意图参照图5)。
根据本发明的实施例,所述第一底层21和所述第一边框22的具体形成方式没有特别限制。一些具体实施例中,所述第一底层21和所述第一边框22是一体成型的;另一些具体实施例中,所述第一底层21和所述第一边框22也可以是单独形成的。
一些具体实施例中,参照图6、图7和图8,所述第二阻挡层30包括:第二边框31,所述第二边框31设置在所述第一阻挡层20远离所述第一柔性膜层10的表面上;第二底层32,所述第二底层32设在所述第二边框31远离所述第一柔性膜层10的一侧。进一步的,第二边框31和第二底层32可以限定出第二凹槽33,所述第二柔性膜层40的至少一部分设在所述第二凹槽33中。
另一些具体实施例中,参照图12,所述第一阻挡层20和所述第二阻挡层30均为等厚膜层。
根据本发明的实施例,参照图13,该显示基板还可以包括缓冲层60,缓冲层60设在第二阻挡层30远离第一柔性膜层的表面上。由此,能够避免基材中的成分扩散到P-Si区域而影响显示基板的电学性能,同时还起一定的阻水作用。
根据本发明的实施例,该显示基板中的各层结构的材料没有特别限制,可以根据实际需要灵活选择。一些具体实施例中,第一柔性膜层和第二柔性膜层可以采用聚合物形成,具体可以采用聚酰亚胺(PI)形成;第一阻挡层和第二阻挡层可以采用无机材料形成,具体可以采用SiOx形成,可以避免外部静电对内部电路造成影响;缓冲层可以采用SiNx和SiOx中的至少一种材料形成,具体可以为SiNx和SiOx的双层结构,SiNx致密性好,可以基材中的金属离子扩散到P-Si区域,同时还起一定的阻水作用;而SiOx绝缘性好、隔热性好,能够降低热传导速率,有助于形成较大的结晶晶粒。
本领域技术人员可以理解,除了前面描述的层结构,该显示基板还可以包括常规显示基板具备的其他必要结构,如一些必要的电路结构等,具体可以参照现有技术进行,在此不再一一赘述。
在本发明的另一方面,本发明提供了一种制备柔性显示基板的方法。根据本发明的实施例,参照图14,该方法包括以下步骤:
S100:涂覆形成第一柔性膜层。
具体的,该步骤中可以在刚性基材上涂覆形成第一柔性膜层,例如可以在玻璃基材上涂覆形成第一柔性膜层,而具体的涂覆步骤、参数等均可以根据实际需要参照常规技术进行,在此不再一一赘述。例如,可以将形成第一柔性膜层的材料配置形成浆料,然后在在玻璃基材上涂覆形成第一柔性膜层。
S200:在所述第一柔性膜层的第一表面上沉积第一阻挡层。
具体的,该步骤中可以采用化学气相沉积方法形成第一阻挡层,具体步骤和参数可以根据需要参照常规技术进行。
一些具体实施例中,第一阻挡层为等厚膜层,此时通过一步沉积即可形成第一阻挡层(结构示意图参照图6)。另一些具体实施中,参照图3,所述第一阻挡层20包括第一底层21和第一边框22,所述第一边框22设在所述第一底层21远离所述第一柔性膜层10的表面上,所述第一底层21与所述第一边框22共同限定出第一凹槽23,所述第二柔性膜层40的至少一部分设在所述第一凹槽23中,此时,所述第一阻挡层20可以通过两步沉积形成,具体的,参照图15,依次在所述第一表面上沉积形成所述第一底层21和所述第一边框22;所述第一阻挡层20也可以通过一步沉积和一步蚀刻形成,具体的,参照图16,形成第一预制层60,然后对所述第一预制层60的中间部分进行蚀刻,在所述第一预制层60中间形成所述第一凹槽23,未被蚀刻去除的第一预制层构成第一底层21和第一边框22。
S300:在所述第一阻挡层远离所述第一柔性膜层的表面上涂覆形成第二柔性膜层。
具体的,该步骤中可以将形成第二柔性膜层的材料配置形成浆料,然后在第一阻挡层远离所述第一柔性膜层的表面上涂覆形成第二柔性膜层,而具体的涂覆步骤、参数等均可以根据实际需要参照常规技术进行,在此不再一一赘述。
S400:在所述第一阻挡层和所述第二柔性膜层远离所述第一柔性膜层的表面上沉积第二阻挡层,其中,所述第一阻挡层远离所述第一柔性膜层的表面和所述第二阻挡层靠近所述第一柔性膜层的表面中的至少之一设有凹槽,所述第二柔性膜层在所述第一柔性膜层上的第一正投影与所述凹槽在所述第一柔性膜层上的第二正投影至少部分重叠。
具体的,该步骤中,可以采用化学气相沉积方法形成第二阻挡层,具体步骤和参数可以根据需要参照常规技术进行。
一些具体实施例中,第二阻挡层为等厚膜层,此时通过一次沉积即可形成第二阻挡层(结构示意图参照3)。另一些具体实施例中,参照图6,所述第二阻挡层30包括第二边框31和第二底层32,所述第二边框31设置在所述第一阻挡层20远离所述第一柔性膜层10的表面上,所述第二底层32设在所述第二边框31远离所述第一柔性膜层10的一侧,所述第二底层32与所述第二边框31共同限定出第二凹槽33,所述第二柔性膜层40的至少一部分设在所述第二凹槽33中,此时,参照图17,所述第二阻挡层30可以通过以下步骤形成:在所述第一阻挡层20远离所述第一柔性膜层10的表面上沉积形成第二边框31;在所述第二边框31远离所述第一柔性膜层10的表面上和所述第二柔性膜层40远离所述第一柔性膜层10的表面上沉积形成第二底层32。
该方法步骤简单、方便,与现有技术兼容性高,不需要过多的额外步骤,且得到的柔性显示基板可以有效阻止显示基板中间无机膜层裂纹向下扩展,同时第二柔性膜层设在封闭的容纳空间中,可以有效地隔绝第二柔性膜层与大气直接接触,进而阻断水汽入侵来源,有效延长GDS出现的时间,降低GDS风险。
下面以第一阻挡层包括第一底层和第一边框,第二阻挡层为等厚膜层的情况为例详细说明本发明的显示基板的制备方法。
一个具体示例中,参照图18,显示基板是通过以下步骤制备得到的:
1)在玻璃基板1上涂覆形成第一柔性膜层10;
2)依次在第一柔性膜层10远离玻璃基板的第一表面上沉积形成所述第一底层21和所述第一边框22;
3)在第一阻挡层20远离所述第一柔性膜层10的表面上涂覆形成第二柔性膜层40;
4)在第一阻挡层20和第二柔性膜层40远离第一柔性膜层10的表面上沉积第二阻挡层30。
另一个具体示例中,参照图19,显示基板是通过以下步骤制备得到的:
1)在玻璃基板1上涂覆形成第一柔性膜层10;
2)形成第一预制层60;
3)对第一预制层60的中间部分进行蚀刻,在所述第一预制层60中间形成所述第一凹槽23,未被蚀刻去除的第一预制层构成第一底层21和第一边框22;
4)在第一阻挡层20远离所述第一柔性膜层10的表面上涂覆形成第二柔性膜层40;
5)在第一阻挡层20和第二柔性膜层40远离第一柔性膜层10的表面上沉积第二阻挡层30。
可以理解,除了前面描述的步骤,制备该显示基板的方法还可以包括常规显示基板制备必要的步骤,如形成必要电路结构的步骤等等,在此不再一一赘述。
在本发明的又一方面,本发明提供了一种显示装置。根据本发明的实施例,该显示装置包括前面所述的柔性显示基板。该显示装置具有前面所述的柔性显示基板的全部特征和优点,在此不再一一赘述。
根据本发明的实施例,该显示装置的种类没有特别限制,可以为显示面板、手机、电视、游戏机、平板电脑、可穿戴设备等等,而本领域技术人员可以理解,除了前面所述的显示基板,该显示装置还可以包括常规项显示装置必要的结构和部件,以手机为例,其还可以包括发光器件,触控屏、电池、外壳、照相模组、指纹识别模组等等,在此不再一一详细描述。
在本发明的描述中,需要理解的是,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
在本说明书的描述中,参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外,在不相互矛盾的情况下,本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例,可以理解的是,上述实施例是示例性的,不能理解为对本发明的限制,本领域的普通技术人员在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。
Claims (10)
1.一种柔性显示基板,其特征在于,包括:
第一柔性膜层;
第一阻挡层,所述第一阻挡层设在所述第一柔性膜层的第一表面上;
第二阻挡层,所述第二阻挡层设在所述第一阻挡层远离所述第一柔性膜层的一侧;
第二柔性膜层,所述第二柔性膜层设在所述第一阻挡层和所述第二阻挡层之间;
其中,所述第一阻挡层远离所述第一柔性膜层的表面和所述第二阻挡层靠近所述第一柔性膜层的表面中的至少之一设有凹槽,所述第二柔性膜层在所述第一柔性膜层上的第一正投影与所述凹槽在所述第一柔性膜层上的第二正投影至少部分重叠。
2.根据权利要求1所述的柔性显示基板,其特征在于,所述第二正投影的至少一部分轮廓线位于所述第一正投影的轮廓线的外侧。
3.根据权利要求2所述的柔性显示基板,其特征在于,所述第二柔性膜层填充在所述凹槽中。
4.根据权利要求3所述的柔性显示基板,其特征在于,所述第一阻挡层和所述第二阻挡层共同限定出封闭的容纳空间,所述第二柔性膜层填充在所述容纳空间中。
5.根据权利要求1所述的柔性显示基板,其特征在于,所述第二正投影覆盖所述显示基板的显示区在所述第一柔性膜层上的正投影。
6.根据权利要求1所述的柔性显示基板,其特征在于,满足以下条件的至少之一:
所述第一阻挡层包括第一底层和设在所述第一底层远离所述第一柔性膜层的表面上的第一边框;
所述第一底层和所述第一边框是一体成型的;
所述第二阻挡层包括第二边框和设在所述第二边框远离所述第一柔性膜层的一侧的第二底层;
所述第一阻挡层和所述第二阻挡层中均为等厚膜层。
7.一种制备柔性显示基板的方法,其特征在于,包括:
涂覆形成第一柔性膜层;
在所述第一柔性膜层的第一表面上沉积第一阻挡层;
在所述第一阻挡层远离所述第一柔性膜层的表面上涂覆形成第二柔性膜层;
在所述第一阻挡层和所述第二柔性膜层远离所述第一柔性膜层的一侧沉积第二阻挡层,
其中,所述第一阻挡层远离所述第一柔性膜层的表面和所述第二阻挡层靠近所述第一柔性膜层的表面中的至少之一设有凹槽,所述第二柔性膜层在所述第一柔性膜层上的第一正投影与所述凹槽在所述第一柔性膜层上的第二正投影至少部分重叠。
8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述第一阻挡层包括第一底层和设在所述第一底层远离所述第一柔性膜层的表面上的第一边框,所述第一阻挡层是通过以下步骤(1)或步骤(2)形成的:
(1)依次在所述第一表面上沉积形成所述第一底层和所述第一边框;
(2)形成第一预制层,然后对所述第一预制层的中间部分进行蚀刻,在所述第一预制层中间形成凹槽。
9.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述第二阻挡层包括第二边框和设在所述第一阻挡层远离所述第一柔性膜层的表面上的第二底层,所述第二阻挡层是通过以下步骤形成的:
在所述第一阻挡层远离所述第一柔性膜层的表面上沉积形成第二边框;
在所述第二边框远离所述第一柔性膜层的表面上和所述第二柔性膜层远离所述第一柔性膜层的表面上沉积形成第二底层。
10.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1-6中任一项所述的柔性显示基板。
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Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103299447A (zh) * | 2010-10-25 | 2013-09-11 | 荷兰应用自然科学研究组织Tno | 光电器件和制造光电器件的方法 |
CN104795424A (zh) * | 2015-03-26 | 2015-07-22 | 京东方科技集团股份有限公司 | 柔性衬底基板和显示基板及其制作方法、显示装置 |
US20160351853A1 (en) * | 2014-03-12 | 2016-12-01 | Panasonic Corporation | Organic el device, organic el device designing method and organic el device production method |
CN107623087A (zh) * | 2017-10-30 | 2018-01-23 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 柔性oled显示面板及其制备方法 |
CN109817830A (zh) * | 2019-01-31 | 2019-05-28 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 显示面板以及显示装置 |
CN110085740A (zh) * | 2018-01-25 | 2019-08-02 | 绵阳京东方光电科技有限公司 | 柔性基板及其制作方法、面板以及电子装置 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105449121B (zh) * | 2016-01-13 | 2017-08-25 | 京东方科技集团股份有限公司 | Oled器件的封装方法、oled封装器件及显示装置 |
DE102016106846A1 (de) * | 2016-04-13 | 2017-10-19 | Osram Oled Gmbh | Mehrschichtige Verkapselung, Verfahren zur Verkapselung und optoelektronisches Bauelement |
US10340475B2 (en) * | 2017-08-28 | 2019-07-02 | Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. | OLED panel fabrication method and OLED panel |
US20190296260A1 (en) * | 2018-03-20 | 2019-09-26 | Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. | Display panel and method for making the same |
CN108493356B (zh) * | 2018-04-25 | 2019-07-02 | 云谷(固安)科技有限公司 | 薄膜封装结构、薄膜封装方法及显示面板 |
-
2021
- 2021-02-07 CN CN202110180157.7A patent/CN112993190A/zh active Pending
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-
2023
- 2023-02-11 US US18/167,838 patent/US20230192539A1/en active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103299447A (zh) * | 2010-10-25 | 2013-09-11 | 荷兰应用自然科学研究组织Tno | 光电器件和制造光电器件的方法 |
US20160351853A1 (en) * | 2014-03-12 | 2016-12-01 | Panasonic Corporation | Organic el device, organic el device designing method and organic el device production method |
CN104795424A (zh) * | 2015-03-26 | 2015-07-22 | 京东方科技集团股份有限公司 | 柔性衬底基板和显示基板及其制作方法、显示装置 |
CN107623087A (zh) * | 2017-10-30 | 2018-01-23 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 柔性oled显示面板及其制备方法 |
CN110085740A (zh) * | 2018-01-25 | 2019-08-02 | 绵阳京东方光电科技有限公司 | 柔性基板及其制作方法、面板以及电子装置 |
CN109817830A (zh) * | 2019-01-31 | 2019-05-28 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 显示面板以及显示装置 |
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