CN104715805A - 一种用于氮化铝衬底的无铅厚膜导体浆料 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种用于氮化铝衬底的无铅厚膜导体浆料,由如下重量份的组分组成,银钯金属粉75~85份,玻璃粉6~12份,有机载体10~20份。本发明所提供的一种用于氮化铝衬底的无铅厚膜导体浆料,主要面对氮化铝(AlN)衬底研制的,适应于制造出大功率、高可靠、高频率、体积小、性能稳定的氮化铝(AlN)功率负载产品;采用的玻璃体系不含有剧毒氧化铅,且具有低熔点、适度膨胀和良好湿润性能等优点,不会与氮化铝(AlN)衬底发生反应,制得的厚膜导体层导电性能好,与氮化铝(AlN)衬底的附着力强。
Description
技术领域
本发明涉及厚膜浆料领域领域,具体涉及一种用于氮化铝衬底的吸附力好、导电性能好的无铅厚膜导体浆料。
背景技术
目前,厚膜浆料工艺中常用的基片材料是性能较好的氧化铝,但随着对基片材料的热导率的要求(在射频产品方面还对介电常数等有要求),行业内首先想到的是发展氧化铍,因为它的功率特性最好;但在几年的发展中,氧化铍刚处于技术工艺半成熟状态时期,欧盟就提出了氧化铍的剧毒性,不够环保,对人体有伤害,因而在很多产品上被限制使用。ROHS(《关于限制在电子电器设备中使用某些有害成分的指令》)的提出更加剧了电子行业在材料上的更新换代,这样的背景下功率特性佳、具有环保特点的氮化铝(AlN)材料备受青睐。
氮化铝材料在厚膜浆料工艺方面的应用,在一些高端领域已逐渐替代了氧化铝陶瓷衬底,而一般传统的厚膜导体浆料主要针对氧化铝衬底发展进行研制,均采用硼硅酸铅体系或硼硅酸铅锌体系,但这些体系均以剧毒的氧化铅(PbO)为主要成分,PbO系玻璃料用于AlN陶瓷基片,在界面上发生反应,产生大量气泡,甚至使AIN陶瓷基片表面氧化,AIN陶瓷基片润湿性变差,导体浆料就失去附着力。硼硅酸铋体系是低熔点、适度膨胀,且具有良好湿润性的玻璃,但其中的主要成分氧化铋具有较高的活性,烧结时与氮化铝(AlN)发生反应释放气体,为了解决以上问题,熔制了氧化铋质量分数小于6的玻璃,研制出适用于AIN陶瓷基片的厚膜导体浆料。
发明内容
本发明的目的提供一种用于氮化铝衬底的无铅厚膜导体浆料,解决上述现有技术问题中的一个或者多个。
根据本发明的一个方面,一种用于氮化铝衬底的无铅厚膜导体浆料,由如下重量份的组分组成,
银钯金属粉75~85份,
玻璃粉6~12份,
有机载体10~20份。
本发明所提供的一种用于氮化铝衬底的无铅厚膜导体浆料,主要面对氮化铝(AlN)衬底研制的,适应于制造出大功率、高可靠、高频率、体积小、性能稳定的氮化铝(AlN)功率负载产品;采用的玻璃体系不含有剧毒氧化铅,且具有低熔点、适度膨胀和良好湿润性能等优点,不会与氮化铝(AlN)衬底发生反应,制得的厚膜导体层导电性能好,与氮化铝(AlN)衬底的附着力强。
在一些实施方式中,所述银钯金属粉的各组分的重量百分比为,银粉80~90%,钯粉10~20%。由此,可以具有电阻浆料的阻值更加稳定,分散更好,元件温度场更加均匀的效果。
在一些实施方式中,所述银粉的粒度为3~8μm,钯粉的粒度为0.5~2μm。此粒度范围的银钯粉所制得的导体浆料效果更好。
在一些实施方式中,玻璃粉包括如下成分,SiO2、B2O3、ZnO、Bi2O3、ZrO2、MgO,玻璃粉的各组分的重量百分比为,SiO2为10~30%,B2O3为10~20%,ZnO为35~55%,Bi2O3为5~15%,ZrO2为1~4%,MgO为1~4%。
在一些实施方式中,有机载体包括有机溶剂、增稠剂、表面活性剂和流平剂,有机载体包括如下重量份的组分,有机溶剂为88~95份,增稠剂为5~10份,表面活性剂为0.5~3份和流平剂为0.5~3份。
在一些实施方式中,所述有机溶剂为丁基卡比醇、二甲苯、无水乙醇的混合物,所述丁基卡比醇、二甲苯、无水乙醇等质量混合。
在一些实施方式中,所述增稠剂为聚乙烯醇缩丁醛、聚乙二醇的混合物,所述聚乙烯醇缩丁醛、聚乙二醇等质量混合。
在一些实施方式中,所述表面活性剂为卵磷脂,所述流平剂为蓖麻油。
一种用于氮化铝衬底的无铅厚膜导体浆料的制作方法,包括如下步骤:
S1,制备固体粉末:将银钯金属粉、玻璃粉按比例充分混合,银钯金属粉与玻璃粉的重量份比为75~85份:6~12份;银钯金属粉中银粉的粒度为3~8μm,形状为球形,钯粉的粒度为0.5~2μm,形状为球形;所述钯粉占银钯金属粉的质量百分比为10~20%;所述玻璃粉中成分以及各成分所占的质量百分比分别为,SiO2为10~30%,B2O3为10~20%,ZnO为35~55%,Bi2O3为5~15%,ZrO2为1~4%,MgO为1~4%;
S2,制备有机载体;称取有机载体的各组成分,在60~90℃温度下,充分搅拌,得到有机载体;
S3,将固体粉末与有机载体混合研磨,得到所需的厚膜导体浆料。
具体实施方式
实施例1:
熔炼法制备玻璃粉
玻璃粉采用熔炼法制得,称取SiO220g、B2O315g、ZnO55g、Bi2O37g、ZrO22.5g、MgO0.5g,充分混合放入坩埚中,在1180℃温度下加热熔化,经过水淬,球磨得到所需的玻璃粉,玻璃粉的粒度为2~8μm;在60℃下,制备有机溶液,称取4.2g丁基卡比醇、4.2g二甲苯、4.2g无水乙醇、0.55g聚乙烯醇缩丁醛、0.55g聚乙二醇、0.15g卵磷脂、0.15g蓖麻油充分搅拌即得;
选取粒度为4μm的Ag粉70g,粒度为0.8μm的Pd粉10g,粒度为2μm的玻璃粉6g充分混合后,加入14g的有机载体中充分混合研磨,得到所需的厚膜导体浆料,将制成的厚膜导体浆料用丝网印刷技术印刷在氮化铝陶瓷衬底上,在空气中,900℃,焙烧15分钟(min),测试其性能,其方阻为4.7mΩ/□(0.6mm×60mm),附着力大于20N(2mm×2mm)。
实施例2:
熔炼法制备玻璃粉
玻璃粉采用熔炼法制得,称取SiO225g、B2O315g、ZnO50g、Bi2O36g、ZrO23g、MgO1g符合上述重量百分比的各成分,充分混合放入坩埚中,在1200℃温度下加热熔化,经过水淬,球磨得到所需的玻璃粉,玻璃粉的粒度为2~8μm;在70℃下,制备有机载体,称取3g丁基卡比醇、3g二甲苯、3g无水乙醇、0.4g聚乙烯醇缩丁醛、0.4g聚乙二醇、0.1g卵磷脂、0.1g蓖麻油充分搅拌即得;
选取粒度为8μm的Ag粉70g,粒度为2μm的Pd粉12g,粒度为4μm的玻璃粉8g充分混合后,加入10g的有机载体中充分混合研磨,得到所需的厚膜导体浆料,将制成的厚膜导体浆料用丝网印刷技术印刷在氮化铝陶瓷衬底上,在空气中,880℃,焙烧15分钟(min),测试其性能,其方阻为5.4mΩ/□(0.6mm×60mm),附着力大于25N(2mm×2mm)。
实施例3:
熔炼法制备玻璃粉
玻璃粉采用熔炼法制得,称取SiO230g、B2O310g、ZnO50g、Bi2O36g、ZrO22g、MgO2g符合上述重量百分比的各成分,充分混合放入坩埚中,在1250℃温度下加热熔化,经过水淬,球磨得到所需的玻璃粉,玻璃粉的粒度为2~8μm;在80℃下,制备有机载体,称取3.52g丁基卡比醇、3.52g二甲苯、3.52g无水乙醇、0.6g聚乙烯醇缩丁醛、0.6g聚乙二醇、0.12g卵磷脂、0.12g蓖麻油充分搅拌即得;
选取粒度为6μm的Ag粉68g,粒度为2μm的Pd粉12g,粒度为3μm的玻璃粉8g充分混合后,加入12g的有机载体中充分混合研磨,得到所需的厚膜导体浆料,将制成的厚膜导体浆料用丝网印刷技术印刷在氮化铝陶瓷衬底上,在空气中,880℃,焙烧10分钟(min),测试其性能,其方阻为5.8mΩ/□(0.6mm×60mm),附着力大于27N(2mm×2mm)。
实施例4:
熔炼法制备玻璃粉
玻璃粉采用熔炼法制得,称取SiO225g、B2O315g、ZnO50g、Bi2O36g、ZrO23g、MgO1g符合上述重量百分比的各成分,充分混合放入坩埚中,在1250℃温度下加热熔化,经过水淬,球磨得到所需的玻璃粉,玻璃粉的粒度为2~8μm;在90℃下,制备有机载体,称取4.4g丁基卡比醇、4.4g二甲苯、4.4g无水乙醇、0.75g聚乙烯醇缩丁醛、0.75g聚乙二醇、0.15g卵磷脂、0.15g蓖麻油充分搅拌即得;
选取粒度为4μm的Ag粉60g,粒度为1μm的Pd粉15g,粒度为2μm的玻璃粉10g,加入15g的有机载体中充分混合研磨,得到所需的厚膜导体浆料,将制成的厚膜导体浆料用丝网印刷技术印刷在氮化铝陶瓷衬底上,在空气中,850℃,焙烧15分钟(min),测试其性能,其方阻为6.2mΩ/□(0.6mm×60mm),附着力大于40N(2mm×2mm)。
实施例5
熔炼法制备玻璃粉
玻璃粉采用熔炼法制得,称取SiO225g、B2O315g、ZnO50g、Bi2O36g、ZrO23g、MgO1g符合上述重量百分比的各成分,充分混合放入坩埚中,在1250℃温度下加热熔化,经过水淬,球磨得到所需的玻璃粉,玻璃粉的粒度为2~8μm;在90℃下,制备有机载体,称取6g丁基卡比醇、6g二甲苯、6g无水乙醇、0.6g聚乙烯醇缩丁醛、0.6g聚乙二醇、0.4g卵磷脂、0.4g蓖麻油充分搅拌即得;
选取粒度为3μm的Ag粉70g,粒度为0.5μm的Pd粉15g,粒度为2μm的玻璃粉12g,加入20g的有机载体中充分混合研磨,得到所需的厚膜导体浆料,将制成的厚膜导体浆料用丝网印刷技术印刷在氮化铝陶瓷衬底上,在空气中,850℃,焙烧15分钟(min),测试其性能,其方阻为6.0mΩ/□(0.6mm×60mm),附着力大于35N(2mm×2mm)。
实施例6
熔炼法制备玻璃粉
玻璃粉采用熔炼法制得,称取SiO225g、B2O315g、ZnO50g、Bi2O36g、ZrO23g、MgO1g符合上述重量百分比的各成分,充分混合放入坩埚中,在1250℃温度下加热熔化,经过水淬,球磨得到所需的玻璃粉,玻璃粉的粒度也为2~8μm;在90℃下,称取3g丁基卡比醇、3g二甲苯、3g无水乙醇、0.3g聚乙烯醇缩丁醛、0.3g聚乙二醇、0.2g卵磷脂、0.2g蓖麻油充分搅拌即得;
选取粒度为3μm的Ag粉65g,粒度为0.5μm的Pd粉10g,粒度为2μm的玻璃粉6g,加入10g的有机载体中充分混合研磨,得到所需的厚膜导体浆料,将制成的厚膜导体浆料用丝网印刷技术印刷在氮化铝陶瓷衬底上,在空气中,850℃,焙烧15分钟(min),测试其性能,其方阻为5.9mΩ/□(0.6mm×60mm),附着力大于38N(2mm×2mm)。
实施例7
熔炼法制备玻璃粉
玻璃粉采用熔炼法制得,称取SiO225g、B2O315g、ZnO50g、Bi2O36g、ZrO23g、MgO1g符合上述重量百分比的各成分,充分混合放入坩埚中,在1250℃温度下加热熔化,经过水淬,球磨得到所需的玻璃粉,玻璃粉的粒度也为2~8μm;在90℃下,称取4.5g丁基卡比醇、4.5g二甲苯、4.5g无水乙醇、0.45g聚乙烯醇缩丁醛、0.45g聚乙二醇、0.3g卵磷脂、0.3g蓖麻油充分搅拌即得;
选取粒度为3μm的Ag粉65g,粒度为0.5μm的Pd粉15g,粒度为2μm的玻璃粉8g,加入15g充分混合研磨,得到所需的厚膜导体浆料,将制成的厚膜导体浆料用丝网印刷技术印刷在氮化铝陶瓷衬底上,在空气中,850℃,焙烧15分钟(min),测试其性能,其方阻为5.2mΩ/□(0.6mm×60mm),附着力大于25N(2mm×2mm)。
以上所述仅是本发明的优选方式,应当指出,对于本领域普通技术人员来说,在不脱离本发明创造构思的前提下,还可以做出若干相似的变形和改进,这些也应视为本发明的保护范围之内。
Claims (9)
1.一种用于氮化铝衬底的无铅厚膜导体浆料,其特征在于,由如下重量份的组分组成,
银钯金属粉75~85份,
玻璃粉6~12份,
有机载体10~20份。
2.根据权利要求1所述的一种用于氮化铝衬底的无铅厚膜导体浆料,其特征在于,所述银钯金属粉的各组分的重量百分比为,银粉80~90%,钯粉10~20%。
3.根据权利要求2所述的一种用于氮化铝衬底的无铅厚膜导体浆料,其特征在于,所述银粉的粒度为3~8μm,钯粉的粒度为0.5~2μm。
4.根据权利要求1所述的一种用于氮化铝衬底的无铅厚膜导体浆料,其特征在于,所述玻璃粉包括如下成分,SiO2、B2O3、ZnO、Bi2O3、ZrO2、MgO,所述玻璃粉的各组分的重量百分比为,SiO2为10~30%,B2O3为10~20%,ZnO为35~55%,Bi2O3为5~15%,ZrO2为1~4%,MgO为1~4%。
5.根据权利要求1所述的一种用于氮化铝衬底的无铅厚膜导体浆料,其特征在于,所述有机载体包括有机溶剂、增稠剂、表面活性剂和流平剂,所述有机载体包括如下重量份的组分,有机溶剂为88~95份,增稠剂为5~10份,表面活性剂为0.5~3份和流平剂为0.5~3份。
6.根据权利要求5所述的一种用于氮化铝衬底的无铅厚膜导体浆料,其特征在于,所述有机溶剂为丁基卡比醇、二甲苯、无水乙醇的混合物,所述丁基卡比醇、二甲苯、无水乙醇等质量混合。
7.根据权利要求5所述的一种用于氮化铝衬底的无铅厚膜导体浆料,其特征在于,所述增稠剂为聚乙烯醇缩丁醛、聚乙二醇的混合物,所述聚乙烯醇缩丁醛、聚乙二醇等质量混合。
8.根据权利要求5所述的一种用于氮化铝衬底的无铅厚膜导体浆料,其特征在于,所述表面活性剂为卵磷脂,所述流平剂为蓖麻油。
9.一种用于氮化铝衬底的无铅厚膜导体浆料的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:
S1,制备固体粉末:将银钯金属粉、玻璃粉按比例充分混合,银钯金属粉与玻璃粉的重量份比为75~85份:6~12份;银钯金属粉中银粉的粒度为3~8μm,形状为球形,钯粉的粒度为0.5~2μm,形状为球形;所述钯粉占银钯金属粉的质量百分比为10~20%;所述玻璃粉中成分以及各成分所占的质量百分比分别为,SiO2为10~30%,B2O3为10~20%,ZnO为35~55%,Bi2O3为5~15%,ZrO2为1~4%,MgO为1~4%;
S2,制备有机载体;称取有机载体的各组成分,在60~90℃温度下,充分搅拌,得到有机载体;
S3,将固体粉末与有机载体混合研磨,得到所需的厚膜导体浆料。
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