CN104650635A - 硬质涂膜、透明导电性膜以及电容触控面板 - Google Patents

硬质涂膜、透明导电性膜以及电容触控面板 Download PDF

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Abstract

本发明涉及硬质涂膜、透明导电性膜以及电容触控面板。本发明提供一种防止硬质涂膜彼此的粘连且透明性优异的硬质涂膜和具备这种硬质涂膜的透明导电性膜以及电容触控面板。硬质涂膜，其在基材膜的至少单面具备硬质涂层，该硬质涂膜的特征在于，该硬质涂膜的规定的雾度值为1.0%以下；硬质涂层由至少包含（A）能量射线固化性树脂和（B）疏水化硅溶胶的硬质涂层形成材料的固化物构成；（B）疏水化硅溶胶的配合量相对于前述（A）能量射线固化性树脂100重量份以固体成分换算计为0.3~25重量份的范围内的值；（B）疏水化硅溶胶偏析于将硬质涂层形成材料固化后的硬质涂层的与基材膜相反一侧的表面。

Description

硬质涂膜、透明导电性膜以及电容触控面板
[技术领域]
本发明涉及硬质涂膜、透明导电性膜以及电容触控面板，特别涉及具有耐粘连性的硬质涂膜、具备这种硬质涂膜的透明导电性膜以及电容触控面板。
一直以来，作为具有液晶显示器的液晶显示装置，使用有例如便携式电子记事薄、信息终端等，但近年来，逐渐广泛使用装载有能够直接触碰显示部进行输入的触控面板的液晶显示装置。
作为这样的触控面板，可列举出电容方式、电阻膜方式、电磁感应方式等，检视手指等接触时产生的微弱电流、即电容的变化来检测输入位置的电容方式触控面板逐渐普及。
在这样的液晶显示装置中，为了使透明导电膜等的耐划伤性、处理容易性提高，大多在透明导电膜的表面具备硬质涂膜。
作为这样的硬质涂膜，已知的是在基材的表面具备硬质涂层的硬质涂膜。
例如，公开了在透明聚酯膜的单面或两面依次层叠易滑易粘接层、硬质涂层以及防反射层而成的显示器用硬质涂膜（例如，参照专利文献1）。
即，专利文献1中公开了作为硬质涂层而具有规定的表面硬度、规定的厚度、表面的水接触角为40~80°、且含有无机微粒的显示器用硬质涂膜。
另一方面，从生产率、处理性的观点出发，具有硬质涂布性的膜有时在涂布硬质涂层后被卷取成卷状而以卷的状态保存数日，可见如下问题：膜的表面彼此贴合（粘连）、硬质涂层表面产生伤痕等，或者在使用发生了粘连的硬质涂膜时在表面产生不均。
因而，例如提出了：在制造工序中将硬质涂膜用辊进行卷取时，为了防止硬质涂膜彼此贴合或难以剥离所导致的生产率降低，从而在光透射性基材的两面具有规定硬质涂层的光学层叠体、透明导电性膜以及电容触控面板（例如，参照专利文献2）。
更具体而言，公开了一种光学层叠体，其中，硬质涂层是使用包含粘结剂树脂、流平剂以及易滑剂的硬质涂层用组合物而形成的层，易滑剂为选自二氧化硅颗粒和有机硅颗粒中的至少1种。
另外，公开了透明性高、耐划伤性提高了的能够将以往用多层形成的功能赋予至单一层且生产率优异的硬质涂膜的制造方法（例如，参照专利文献3）。
更具体而言，提出了一种硬质涂膜的制造方法，其为在透明基材膜的至少单面侧设置硬质涂膜的硬质涂膜的制造方法，硬质涂层的涂布组合物包含规定的金属氧化物微粒、电离辐射线固化性树脂、以及含有酮类与醇类的有机溶剂，硬质涂层中含有的金属氧化物微粒形成局部相（localized phase ）。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2001-109388号公报（权利要求书、说明书）
专利文献2：日本特开2012-66409号公报（权利要求书、说明书）
专利文献3：日本特开2013-60481号公报（权利要求书、说明书）。
发明内容
发明要解决的问题
然而，专利文献1中公开的显示器用硬质涂膜的硬质涂层表面是亲水性的，因此尽管具有规定的铅笔硬度，但可见易滑性不充分、无法有效地防止膜彼此的密合的问题。
另外，专利文献2中记载的光学层叠体通过使用比较大的二氧化硅颗粒作为易滑剂，虽然可以防止光学层叠体彼此贴合，并在一定程度上防止膜彼此的密合，但由于易滑剂是较大的颗粒，因此可见光学层叠体的透明性有时变得不充分的问题。
另外，专利文献3中记载的硬质涂膜的制造方法中，由于利用两种溶剂的蒸发速度差和微粒表面的交联成分彼此的吸引、键合作用而使金属氧化物微粒在表面上局部化，因此可见制造方法复杂，难以稳定地制造的问题。
因而，本发明人等对这样的问题进行了深入研究，结果发现：通过在基材膜的至少单面具备硬质涂层，并向形成该硬质涂层的硬质涂层形成材料中配合规定量的规定的疏水化硅溶胶，从而可获得能够有效地防止硬质涂膜彼此的压接、且透明性优异的硬质涂膜，从而完成了本发明。
即，本发明的目的在于，提供能够有效地防止硬质涂膜彼此的粘连（贴合）（抗粘连性）且透明性优异的硬质涂膜、具备这种硬质涂膜的透明导电性膜以及电容触控面板。
用于解决技术问题的手段
根据本发明，可提供下述硬质涂膜，从而可以解决上述问题，所述硬质涂膜在基材膜的至少单面具备硬质涂层，该硬质涂膜的特征在于，该硬质涂膜的根据JIS K 7105测定的雾度值为1.0%以下，硬质涂层由至少包含（A）能量射线固化性树脂和（B）疏水化硅溶胶的硬质涂层形成材料的固化物构成，（B）疏水化硅溶胶的配合量相对于（A）能量射线固化性树脂100重量份以固体成分换算计为0.3~25重量份的范围内的值，（B）疏水化硅溶胶偏析于将硬质涂层形成材料固化后的硬质涂层的与基材膜相反一侧的表面。
即，通过使用疏水化硅溶胶来作为硬质涂层形成材料，疏水化硅溶胶相分离地存在于将硬质涂层形成材料固化后的硬质涂层的与基材膜相反一侧的表面，因而在硬质涂膜表面产生微细的凹凸，能够防止硬质涂膜彼此的贴合。
另外，通过使用疏水化硅溶胶，即使添加量较少，也能够有效地在硬质涂层内偏析于表面，能够有效地提高硬质涂膜的透明性。
另外，在构成本发明的硬质涂膜时，（B）疏水化硅溶胶的平均粒径优选为10~100nm的范围内的值。
通过这样地构成，能够维持或有效地提高硬质涂膜的透明性、获得充分的光透射性。
另外，在构成本发明的硬质涂膜时，优选的是，使水与将（B）疏水化硅溶胶制成涂膜时的涂膜的接触角为100°以上的值。
通过这样地构成，能够有效地防止硬质涂膜彼此的粘连。
另外，在构成本发明的硬质涂膜时，优选的是，（A）能量射线固化性树脂含有（a1）多官能（甲基）丙烯酸酯化合物以及（a2）环氧乙烷或环氧丙烷加成型的多官能（甲基）丙烯酸酯化合物，（a1）多官能（甲基）丙烯酸酯化合物与（a2）环氧乙烷或环氧丙烷加成型的多官能（甲基）丙烯酸酯化合物的含有重量比为100:0~20:80的范围内的值。
通过这样地构成，能够适宜地调整硬质涂膜的硬度。
另外，在构成本发明的硬质涂膜时，优选的是，硬质涂层形成材料进一步包含（C）流平剂。
通过这样地构成，在基材膜上形成硬质涂层的过程中，流平剂取向于涂膜的最表面，从而能够防止涂膜表面产生浮起、斑纹等。
另外，在构成本发明的硬质涂膜时，硬质涂层的厚度优选为1~10μm的范围内的值。
通过这样地构成，能够获得耐划伤性优异的硬质涂膜、且能够维持硬质涂膜的适宜的光学特性。
另外，在构成本发明的硬质涂膜时，硬质涂层的表面的根据JIS B 0601-1994测定的算术平均粗糙度Ra优选为1.5~5nm的范围内的值。
通过这样地构成，能够在所得硬质涂膜的表面获得微细的凹凸，能够适宜地防止硬质涂膜彼此的粘连。
另外，如果硬质涂层的表面的算术平均粗糙度为这种范围内的值，则能够获得具有优异光学特性的硬质涂膜。
另外，本发明的其它方式是在上述硬质涂膜的至少单面具备透明导电层的透明导电性膜。
即，通过这样地在透明性优异、硬质涂膜彼此难以贴合的硬质涂膜上具备透明导电层，由于不需要使用保护膜来防止膜彼此的粘连，因此能够获得生产率优异、廉价的透明导电性膜。
另外，本发明的另一个其它方式是电容触控面板，其包含具备防玻璃飞散膜的盖板玻璃、第一透明导电性膜、第二透明导电性膜、以及液晶显示体，该电容触控面板的特征在于，第一透明导电性膜在第一硬质涂膜的至少单面具备第一透明导电层，第二透明导电性膜在第二硬质涂膜的至少单面具备第二透明导电层，第一硬质涂膜和第二硬质涂膜是在基材膜的至少单面具备硬质涂层的硬质涂膜，该硬质涂膜的根据JIS K 7105测定的雾度值为1.0%以下，硬质涂层由至少包含（A）能量射线固化性树脂和（B）疏水化硅溶胶的硬质涂层形成材料的固化物构成，（B）疏水化硅溶胶的配合量相对于（A）能量射线固化性树脂100重量份以固体成分换算计为0.3~25重量份的范围内的值，（B）疏水化硅溶胶偏析于将硬质涂层形成材料固化后的硬质涂层的与基材膜相反一侧的表面。
即，只要是使用了在这种透明性优异且具有耐粘连性的硬质涂膜上具备透明导电层的透明导电性膜的电容触控面板，则能够获得可见性优异的电容触控面板。
另外，本发明的其它方式是硬质涂膜的制造方法，所述硬质涂膜在基材膜的至少单面具备硬质涂层，该制造方法的特征在于，硬质涂膜的根据JIS K 7105测定的雾度值为1.0%以下，该制造方法包括下述工序（1）~（3）。
（1）准备硬质涂层形成材料的工序，所述硬质涂层形成材料至少包含（A）能量射线固化性树脂、以及相对于（A）能量射线固化性树脂100重量份以固体成分换算计为0.3~25重量份的范围内的值的（B）疏水化硅溶胶；
（2）将硬质涂层形成材料涂布于基材膜的至少单面的工序；
（3）将硬质涂层形成材料固化，从而形成具备（B）疏水化硅溶胶偏析于硬质涂层的与基材膜相反一侧的表面的硬质涂层的硬质涂膜的工序。
即，通过这样地实施，能够有效地制造二氧化硅颗粒偏析存在于基材膜的相反侧的表面的硬质涂膜。
因此，即使在以辊对辊（Roll To Roll）来制造硬质涂膜的情况下，也能够有效地防止硬质涂膜彼此的贴合、提高生产率。
附图说明
图1：图1（a）~（b）是供于说明本发明的硬质涂膜的方式的图。
图2：图2（a）是示出本发明的疏水化硅溶胶的偏析的照片，图2（b）是供于示意性地说明疏水化硅溶胶的偏析状态的图。
图3：图3是供于说明硅溶胶的配合量与雾度值的关系的图。
图4：图4（a）~（b）是供于说明本发明的透明导电性膜的方式的图。
图5：图5是供于说明本发明的电容用触控面板的方式的图。
图6：图6是供于说明水与硅溶胶涂膜的接触角和硬质涂膜的耐粘连性的关系的图。
图7：图7是供于说明表面包含亲水性硅溶胶的硬质涂膜的图。
具体实施方式
[第一实施方式]
第一实施方式为一种硬质涂膜，其在基材膜的至少单面具备硬质涂层，该硬质涂膜的特征在于，该硬质涂膜的根据JIS K 7105测定的雾度值为1.0%以下，硬质涂层由至少包含（A）能量射线固化性树脂和（B）疏水化硅溶胶的硬质涂层形成材料的固化物构成，（B）疏水化硅溶胶的配合量相对于（A）能量射线固化性树脂100重量份以固体成分换算计为0.3~25重量份的范围内的值，（B）疏水化硅溶胶偏析于将硬质涂层形成材料固化后的硬质涂层的与基材膜相反一侧的表面。
以下，针对第一实施方式的硬质涂膜，参照适当的附图来具体地说明。
1. 基材膜
（1）种类
作为图1（a）~（b）中例示的基材膜10所使用的树脂，只要是柔软性和透明性优异的树脂就没有特别限定，可列举出聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯膜；聚碳酸酯膜、聚乙烯膜、聚丙烯膜、玻璃纸、二乙酰基纤维素膜、三乙酰基纤维素膜、乙酰基纤维素丁酸酯膜、聚氯乙烯膜、聚偏二氯乙烯膜、聚乙烯醇膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物膜、聚苯乙烯膜、聚甲基戊烯膜、聚砜膜、聚醚醚酮膜、聚醚砜膜、聚醚酰亚胺膜、聚酰亚胺膜、氟树脂膜、聚酰胺膜、丙烯酸树脂膜、聚氨酯树脂膜、降冰片烯系树脂膜、环烯烃树脂膜等其它塑料膜。
这些之中，从透明性优异且具备通用性的观点出发，优选使用由聚对苯二甲酸乙二醇酯或聚碳酸酯构成的透明树脂膜。
（2）厚度
另外，优选使图1的（a）~（b）中例示的基材膜10的厚度为25~188μm的范围内的值。
其原因在于，基材膜的厚度为不足25μm的值时，容易产生褶皱等，处理性显著降低，另一方面，基材膜的厚度超过188μm时，有时处理性降低、特别难以制成卷状。
因此，从机械强度与光透射性之间的平衡变得更良好的观点出发，更优选使基材膜的厚度为25~125μm的范围内的值。
（3）底漆层
另外，虽然未作图示，但通过在基材膜的表面设置底漆层，能够提高基材膜与硬质涂层形成材料的固化物的密合性、进一步提高硬质涂层的耐划伤性。
此处，作为底漆层的构成材料，可列举出氨基甲酸酯树脂、丙烯酸类树脂、环氧树脂、聚酯树脂、有机硅树脂等中的单独一种或两种以上的组合。
另外，优选使底漆层的厚度为0.01~20μm的范围内的值。
其原因在于，底漆层的厚度为不足0.01μm的值时，有时不会表现出底漆效果。另一方面，底漆层的厚度为超过20μm的值时，在构成硬质涂膜的情况中，光透射性有时会降低。
因此，从底漆效果与光透射性之间的平衡变得更良好的观点出发，更优选使底漆层的厚度为0.1~15μm的范围内的值。
2. 硬质涂层形成材料
（1）（A）能量射线固化性树脂
（1）-1.种类
作为构成硬质涂层形成材料的（A）能量射线固化性树脂的种类，没有特别限定，可以从现有公知的树脂中选择，可列举出能量射线固化性的单体、低聚物、树脂、或包含它们的组合物等。
作为具体例，可列举出多官能（甲基）丙烯酸酯、氨基甲酸酯（甲基）丙烯酸酯、聚酯（甲基）丙烯酸酯、聚醚（甲基）丙烯酸酯、有机硅（甲基）丙烯酸酯等中的单独一种或两种以上的组合。
作为多官能（甲基）丙烯酸酯，可列举出1,4-丁二醇二（甲基）丙烯酸酯、1,6-己二醇二（甲基）丙烯酸酯、新戊二醇二（甲基）丙烯酸酯、乙二醇二（甲基）丙烯酸酯、丙二醇二（甲基）丙烯酸酯、己二醇二（甲基）丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三（甲基）丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三（甲基）丙烯酸酯、季戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、季戊四醇四（甲基）丙烯酸酯等季戊四醇多官能（甲基）丙烯酸酯；二季戊四醇五（甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇六（甲基）丙烯酸酯等二季戊四醇多官能（甲基）丙烯酸酯；甘油三（甲基）丙烯酸酯、三烯丙基（甲基）丙烯酸酯等。
这些之中，由于能够对硬质涂层赋予适度的坚硬性，因此更优选季戊四醇多官能（甲基）丙烯酸酯或二季戊四醇多官能（甲基）丙烯酸酯。
另外，多官能（甲基）丙烯酸酯还优选包含EO（环氧乙烷）或PO（环氧丙烷）加成型的多官能（甲基）丙烯酸酯。
EO（环氧乙烷）或PO（环氧丙烷）加成型的多官能（甲基）丙烯酸酯是指通过将EO或PO加成型的多元醇用丙烯酸进行酯化而得到的化合物，更具体而言，可列举出EO或PO改性甘油三丙烯酸酯、EO或PO改性三羟甲基丙烷丙烯酸酯、EO或PO改性季戊四醇四丙烯酸酯、EO或PO改性二季戊四醇六丙烯酸酯等。
这些之中，由于能够通过对硬质涂层赋予适度的柔软性来防止硬质涂层的裂纹或破裂，因此更优选为EO或PO改性二季戊四醇六丙烯酸酯、EO或PO改性三羟甲基丙烷四丙烯酸酯。
另外，对于EO或PO加成型多官能（甲基）丙烯酸酯而言，为了对硬质涂层赋予适度的柔软性，EO或PO加成量优选为6~18摩尔的范围内的值、更优选为8~16摩尔。
（1）-2.配合量
另外，优选的是，构成硬质涂层形成材料的（A）能量射线固化性树脂含有（a1）多官能（甲基）丙烯酸酯化合物以及（a2）环氧乙烷或环氧丙烷加成型的多官能（甲基）丙烯酸酯化合物，（a1）多官能（甲基）丙烯酸酯化合物与（a2）环氧乙烷或环氧丙烷加成型的多官能（甲基）丙烯酸酯化合物的含有重量比为100:0~20:80的范围内的值。
其原因在于，硬质涂层形成材料通过以规定的含量含有通过照射能量射线会变为较高硬度的多官能（甲基）丙烯酸酯化合物和即使照射能量射线也会具有较高柔软性的环氧乙烷或环氧丙烷加成型的多官能化合物，从而能够容易地调整硬质涂层的硬度。
即，这是因为：（a1）多官能（甲基）丙烯酸酯化合物的含有重量比为不足20的值时，有时固化后的硬质涂层的耐划伤性会降低。
因此，（a1）多官能（甲基）丙烯酸酯化合物与（a2）环氧乙烷或环氧丙烷加成型的多官能（甲基）丙烯酸酯化合物的含有重量比更优选为95:5~30:70的范围内的值、进一步优选为90:10~50:50的范围内的值。
（1）-3.（D）光聚合引发剂
另外，本发明的硬质涂层形成材料中，优选根据期望含有（D）光聚合引发剂。
其原因在于，通过含有光聚合引发剂，对硬质涂层形成材料照射活性能量射线时，能够有效地形成硬质涂层。
此处，光聚合引发剂是指通过照射紫外线等活性能量射线而产生自由基种的化合物。
作为光聚合引发剂，可列举出例如苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻异丙基醚、苯偶姻正丁基醚、苯偶姻异丁基醚、苯乙酮、二甲氨基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2,2-二乙氧基-2-苯基苯乙酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1-羟基环己基苯基酮、2-甲基-1-[4-（甲硫基）苯基]-2-吗啉代丙烷-1-酮、4-（2-羟基乙氧基）苯基-2-（羟基-2-丙基）酮、二苯甲酮、对苯基二苯甲酮、4,4-二乙氨基二苯甲酮、二氯二苯甲酮、2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-叔丁基蒽醌、2-氨基蒽醌、2-甲基噻吨酮、2-乙基噻吨酮、2-氯噻吨酮、2,4-二甲基噻吨酮、2,4-二乙基噻吨酮、苄基二甲基缩酮、苯乙酮二甲基缩酮、对二甲基胺苯甲酸酯、低聚[2-羟基-2-甲基-1-[4-（1-甲基乙烯基）苯基]丙烷]等，这些之中，可以单独使用一种，也可以将两种以上组合使用。
需要说明的是，作为含有（D）光聚合引发剂时的含量，相对于（A）能量射线固化性树脂100重量份，优选为0.2~20重量份的范围内的值、更优选为0.5~15重量份的范围内的值、进一步优选为1~13重量份的范围内的值。
（2）（B）疏水化硅溶胶
（2）-1.种类
另外，硬质涂层形成材料的特征在于，包含（B）疏水化硅溶胶。
此处，作为硅溶胶的种类，可列举出烷氧基硅烷化合物、氯硅烷化合物等二氧化硅微粒的溶胶。
作为烷氧基硅烷化合物，只要是具有水解性的烷氧基的硅化合物，就没有特别限定，可列举出例如通式（1）所示的化合物。
R1 nSi（OR2）4-n  （1）
（式中，R1表示氢原子或非水解性基团，具体而言，表示烷基、取代烷基（取代基：卤素原子、环氧原子、（甲基）丙烯酰氧基等）、烯基、芳基、或芳烷基，R2表示低级烷基。n为0~2的整数，R1和OR2分别为多个时，多个R1可以相同也可以不同，另外，多个OR2可以相同也可以不同。）
此处，作为通式（1）所示的烷氧基硅烷化合物，优选为四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四正丙氧基硅烷、四异丙氧基硅烷、四正丁氧基硅烷、四异丁氧基硅烷、四仲丁氧基硅烷、四叔丁氧基硅烷、三甲氧基硅烷氢化物、三乙氧基硅烷氢化物、三丙氧基硅烷氢化物、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、甲基三丙氧基硅烷、甲基三异丙氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷、丙基三乙氧基硅烷、丁基三甲氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、γ-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、甲基苯基二甲氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、二乙烯基二甲氧基硅烷、二乙烯基二乙氧基硅烷等中的单独一种或两种以上的组合。
此时，作为烷氧基硅烷化合物，若将n为0或n为1~2且R1为氢原子的化合物进行完全水解，则能够获得无机二氧化硅系固化物，若进行部分水解，则能够获得聚有机硅氧烷系固化物或无机二氧化硅系与聚有机硅氧烷系的混合系固化物。
另一方面，n为1~2且R1为非水解性基团的化合物中具有非水解性基团，因此可通过部分水解或完全水解而获得聚有机硅氧烷系固化物。
作为氯硅烷化合物，可列举出乙基二氯硅烷、乙基三氯硅烷、二甲基二氯硅烷、三氯硅烷、三甲基氯硅烷、二甲基二氯硅烷、甲基三氯硅烷等。
另外，硅溶胶是二氧化硅微粒在水或有机溶剂中以溶胶状态分散而成的。
所述有机溶剂没有特别限定，可列举出甲醇、乙醇、异丙醇、乙二醇、正丙基溶纤剂、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、二甲基乙酰胺、丙二醇单甲基醚、环己酮、苯、甲苯等，特别优选为沸点较高的甲基异丁基酮、丙二醇单甲基醚。
另外，本发明的硅溶胶的特征在于，其为二氧化硅颗粒表面的硅烷醇基的一部分或全部用具有疏水性基团的表面改性剂进行了处理的疏水化硅溶胶。
此处，作为表面改性剂，可列举出同时具备能够与二氧化硅颗粒表面上的硅烷醇基发生反应的官能团和疏水基团的硅烷偶联剂。
更具体而言，作为疏水化硅溶胶，可列举出例如CIK NANOTEC CO., LTD.制造的SIRPGM15WT%-E26等。
（2）-2. 疏水化度
另外，硅溶胶的疏水化度如下判断：将硅溶胶涂布在PET膜上，将溶剂除去而制作硅溶胶涂膜，测定水与所述涂膜的接触角，从而判断。
更具体而言，优选使水与将硅溶胶制成涂膜时的涂膜的接触角为100°以上的值。
即，如果水与硅溶胶的涂膜的接触角为100°以上的值，则可以判断硅溶胶的表面是疏水性的。
此处，图2的（a）示出本发明的硬质涂层的SEM照片，图2的（b）示出说明硅溶胶的存在状态的示意图。
更具体而言，本发明的疏水化硅溶胶16在硬质涂层12内大量存在于与PET表面10相反一侧的表面，可理解在PET表面附近和硬质涂层内存在的比例低。需要说明的是，在图2的（a）的SEM照片中，硬质涂层的上部是用于样品制备的粘接剂层11。
因此，通过添加少量的疏水化硅溶胶而能够对硬质涂层的表面赋予适度的表面粗糙度，因此即使在硬质涂膜彼此重叠并随经过时间的情况下，也能够防止膜彼此产生粘连（压接）。
即，由于能够通过较少量的添加发挥出规定的耐粘连性（有时称为抗粘连性）的效果，因此可理解能够获得透明性高的硬质涂膜。
需要说明的是，水与疏水化硅溶胶的涂膜的接触角变得过高时，在硬质涂膜上进一步层叠透明导电层等时密合性有可能降低，因此更优选使水与疏水化硅溶胶的涂膜的接触角为100~130°的范围内的值。
另一方面，水与硅溶胶的涂膜的接触角为不足100°的值、亲水性变高时，如图7所示那样，确认到硅溶胶18以在硬质涂层内整体分散的状态存在，而不是仅偏析于与基材膜相反一侧的表面。
因此，可理解：为了对硬质涂层赋予规定的表面粗糙度，需要配合较多的量。
需要说明的是，水与硅溶胶的涂膜的接触角的测定方法在实施例1中具体地说明。
（2）-3. 平均粒径
另外，本发明的疏水化硅溶胶的平均粒径优选为10~100nm的范围内的值。
其原因在于，疏水化硅溶胶的平均粒径为不足10nm的值时，难以获得规定的表面粗糙度，尤其是有时利用少量的配合难以防止粘连的产生。
另一方面，是因为：疏水化硅溶胶的平均粒径为超过100nm的值时，硬质涂膜的光学特性有时会过度降低。
因此，疏水化硅溶胶的平均粒径更优选为10~50nm的范围内的值、进一步优选为15~40nm的范围内的值。
需要说明的是，硅溶胶的平均粒径为使用激光衍射散射式粒度分布测定装置求得的粒度分布中的累积值为50%时的粒径（中值粒径D50）。
（2）-4. 配合量
另外，本发明的疏水化硅溶胶的配合量的特征在于，其相对于（A）能量射线固化性树脂100重量份以固体成分换算计为0.3~25重量份的范围内的值。
其原因在于，疏水化硅溶胶的配合量为不足0.3重量份的值时，有时难以表现出防止硬质涂膜彼此粘连的效果。
另一方面，是因为：疏水化硅溶胶的配合量为超过25重量份的值时，有时硬质涂膜的光学特性会过度降低。
因此，疏水化硅溶胶的配合量相对于（A）能量射线固化性树脂100重量份以固体成分换算计更优选为0.3~10重量份的范围内的值、进一步优选为0.4~3.0重量份的范围内的值。
此处，使用图3来说明疏水化硅溶胶的配合量与雾度值的关系。
即，示出了图3的横轴采取疏水化硅溶胶的配合量、纵轴采取硬质涂膜的雾度值的特性曲线。
根据特性曲线可理解：雾度值随着疏水化硅溶胶的配合量上升而上升，疏水化硅溶胶的配合量为30重量份以上的值时，雾度值为1.0%以上的值。
因此，可理解：为了获得良好的光学特性，硅溶胶的配合量优选为少，如果为疏水化硅溶胶，则通过较少量的配合即可满足光学特性与耐粘连特性这两者。
需要说明的是，雾度值的测定方法记载于实施例1。
（3）（C）流平剂
另外，作为硬质涂层形成材料，优选进一步包含（C）流平剂。
其原因在于，通过包含流平剂，在硬质涂层形成材料的干燥过程中，流平剂取向于涂膜的最表面，涂膜的表面张力变得均匀，能够防止浮起、斑点、缩孔等，改善对被涂布物的润湿性。
即，在硬质涂层上形成透明导电层时，能够提高其与所述透明导电性层的密合性。
此处，作为流平剂的种类，没有特别限定，可列举出氟系、有机硅系的流平剂。
需要说明的是，更优选为较廉价且充分地发挥流平性的有机硅系流平剂。
另外，优选的是，以相对于（A）能量射线固化性树脂100重量份为0.01~5重量份的范围内的值进一步配合（C）流平剂。
其原因在于，通过使流平剂为这种范围内的值，在硬质涂层上形成透明导电层时，能够提高其与透明导电性层的密合性。
更具体而言，是因为：流平剂的配合量为不足0.01重量份的值时，有时难以使硬质涂层表面变得均匀。
另一方面，是因为：流平剂的配合量为超过5重量份的值时，有时耐划伤性变得不充分或抗粘连性降低。
因此，更优选使（D）流平剂的配合量为0.02~3重量份的范围内的值、进一步优选为0.05~2重量份的范围内的值。
（4）其它添加剂
另外，在不损害本发明效果的范围内，可以适当包含其它添加剂。
作为其它添加剂，可列举出例如抗氧化剂、紫外线吸收剂、抗静电剂、聚合促进剂、阻聚剂、红外线吸收剂、增塑剂以及稀释溶剂等。
需要说明的是，关于其它添加剂的含量，通常相对于（A）能量射线固化树脂100重量份，优选为0.01~5重量份的范围内的值、更优选为0.02~3重量份的范围内的值、进一步优选为0.05~2重量份的范围内的值。
（5）厚度
另外，优选使图1中例示的硬质涂层12的厚度为1~10μm的范围内的值。
其原因在于，所述硬质涂层的厚度为不足1μm的值时，有时耐划伤性会显著变低。
另一方面，是因为：硬质涂层的厚度为超过10μm的值时，有时卷曲会变大。
因此，更优选使硬质涂层的厚度为1~5μm的范围内的值、进一步优选为1.5~4μm的范围内。
3. 硬质涂膜的特性
（1）硬质涂层的表面粗糙度
另外，图1的（a）~（b）中例示出的硬质涂层12、12′的表面的根据JIS B 0601-1994测定的算术平均粗糙度（Ra）优选为1.5~5nm的范围内的值。
其原因在于，所述算术平均粗糙度（Ra）为不足1.5nm的值时，有时难以防止硬质涂膜彼此贴合，即所谓的粘连。
另一方面，是因为：算术平均粗糙度（Ra）为超过5nm的值时，有时光透射性会显著降低。
因此，硬质涂层的表面的算术平均粗糙度（Ra）更优选为2.0~4nm的范围内的值、进一步优选为2.5~3.5nm的范围内的值。
（2）硬质涂层的铅笔硬度
另外，图1的（a）~（b）中例示的硬质涂层的根据JIS K 5600-5-4测定的铅笔硬度优选为HB以上。
其原因在于，所述铅笔硬度为不足HB的值时，在用于电容触控面板的情况下，有时耐划伤性变得不充分。
（3）硬质涂膜的雾度值
另外，其特征在于，图1的（a）~（b）中例示的硬质涂膜20的根据JIS K 7105测定的雾度值为1.0%以下的值。
其原因在于，所述雾度值为超过1.0%的值时，在用于手机等的情况下，有时可见液晶显示装置的显示变得模糊。
[第二实施方式]
第二实施方式是硬质涂膜的制造方法，其为在基材膜的至少单面具备硬质涂层的硬质涂膜的制造方法，其特征在于，硬质涂膜的根据JIS K 7105测定的雾度值为1.0%以下，该制造方法包括下述工序（1）~（3）。
（1）准备硬质涂层形成材料的工序，所述硬质涂层形成材料至少包含（A）能量射线固化性树脂、以及相对于（A）能量射线固化性树脂100重量份以固体成分换算计为0.3~25重量份的范围内的值的（B）疏水化硅溶胶；
（2）将硬质涂层形成材料涂布于基材膜的至少单面的工序；
（3）将硬质涂层形成材料固化，从而形成具备（B）疏水化硅溶胶偏析于硬质涂层的与基材膜相反一侧的表面的硬质涂层的硬质涂膜的工序。
以下，对于所使用的基材膜和硬质涂层，由于可以为与第一实施方式相同的内容，因此以硬质涂膜的制造方法的相关事项为中心进行说明。
（1）工序1：硬质涂层形成材料的准备工序
工序（1）为准备硬质涂层形成材料的工序，所述硬质涂层形成材料至少包含（A）能量射线固化性树脂、以及相对于（A）能量射线固化性树脂100重量份以固体成分换算计为0.3~25重量份的范围内的值的（B）疏水化硅溶胶。
更具体而言，是将前述的硬质涂层形成材料与稀释溶剂均匀混合的工序。
作为溶剂，可列举出例如甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、异丁醇、戊醇、乙基溶纤剂、苯、甲苯、二甲苯、乙苯、环己烷、乙基环己烷、乙酸乙酯、乙酸丁酯、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮、四氢呋喃、丙二醇单甲基醚和水等，也可以组合两种以上的溶剂。
尤其是，由于能够容易地溶解丙烯酸类单体等能量射线固化性树脂，因此优选使用丙二醇单甲基醚、甲苯、甲基乙基酮、乙酸乙酯、乙酸正丁酯、环己酮、甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、异丁醇、戊醇等。
需要说明的是，规定的硬质涂层形成材料的构成如上所述，因而省略。
（2）工序2：硬质涂层形成材料对基材膜的涂布工序
工序（2）是将硬质涂层形成材料涂布于基材膜的至少单面的工序。
更具体而言，是准备基材膜10，并在其上将工序（1）中制备的硬质涂层形成材料以固化后的硬质涂层的膜厚达到1~10μm的范围内的值的方式进行涂布的工序。
需要说明的是，对于硬质涂层形成材料的涂布方法，没有特别限定，可以使用公知的方法、例如棒涂法、凹版涂布法、刀涂法、辊涂法、板涂法、模涂法等。
（3）工序3：固化工序
工序（3）是将前述硬质涂层形成材料固化，从而形成具备（B）疏水化硅溶胶偏析于硬质涂层的与基材膜相反一侧的表面的硬质涂层的硬质涂膜的工序。
更具体而言，优选的是，对经由干燥工序而使溶剂蒸发了的硬质涂层形成材料的涂布物照射能量射线、例如紫外线或电子射线从而使其固化。
这是因为：这样地实施时，能够迅速地形成硬质涂层，同时能够与基材膜牢固地密合，并且使疏水化硅溶胶有效地偏析于硬质涂层的与基材膜相反一侧的表面。
因此，能够提高硬质涂层的机械强度，同时能够有效地防止硬质涂膜彼此的压接。
另外，优选的是，在形成硬质涂层时，例如在照射紫外线的情况下，使对硬质涂层形成材料的照射量（累积光量）为100~1000mJ/cm2的范围内的值。
其原因在于，所述紫外线照射量为不足100mJ/cm2的值时，有时硬质涂层的固化变得不充分。
另一方面，是因为：所述紫外线照射量为超过1000mJ/cm2的值时，有时硬质涂层和基材膜会因为紫外线而劣化。
需要说明的是，对于要使用的能量射线照射装置的种类没有特别限定，例如可以使用利用了高压汞灯、氙灯、金属卤化物灯、FUSION H灯等的紫外线照射装置等。
（4）工序4：基材膜的另外的面上的硬质涂层形成工序
工序（4）是如图1（a）所示那样在基材膜10的一个表面形成硬质涂层12后，在基材膜的另外的面上形成硬质涂层12′的工序。
即，是在前述基材膜的一个表面上形成硬质涂层后，利用同样的方法在基材膜的另外的面上涂布硬质涂层形成材料并进行固化，从而在基材膜的两面形成硬质涂层的工序。
需要说明的是，涂布工序、固化工序与前述相同，因此省略详情。
[第三实施方式]
第三实施方式是在前述硬质涂膜的至少单面具备透明导电层的透明导电性膜。
以下，以与第一实施方式和第二实施方式中所述内容不同的部分为中心，参照附图，对透明导电性膜进行具体说明。
即，本发明的透明导电性膜是如图4（a）所示那样在硬质涂膜20的至少单面具备透明导电层30的透明导电性膜40。
另外，使用了本发明的硬质涂膜的透明导电性膜由于耐粘连性优异，因此不需要使用用于防止膜彼此粘连的保护膜。
因此，也不需要用于贴合保护膜的粘合剂，结果，形成透明导电膜时的出气的影响减少，因此能够得到生产率高且廉价的透明导电性膜。
（1）透明导电层
作为构成本发明的透明导电层的材料，只要是透明导电层的550nm下的可见光线透射率为70%以上，就没有特别限定，可列举出例如铂、金、银、铜等金属；石墨烯、碳纳米管等碳材料；聚苯胺、聚乙炔、聚噻吩、聚对苯乙炔、聚乙烯二氧噻吩、聚吡咯等有机导电材料；碘化酮、硫化酮等无机导电性材料；硫族化物（chalcogenide）、六硼化镧、氮化钛、碳化钛等非氧化化合物；氧化锌、二氧化锌、镓掺杂氧化锌、铝掺杂氧化锌、氧化锌掺杂氧化铟（IZO）、氧化锡、氧化铟、氧化镉、锡掺杂氧化铟（ITO）、锡和镓掺杂氧化铟（IGZO）、氟掺杂氧化铟、锑掺杂氧化锡、氟掺杂氧化锡（FTO）等导电性金属氧化物等。
这些之中，从能够更简便地获得具有优异的透明导电性的透明导电性膜的观点出发，优选导电性金属氧化物。
（2）形成方法
透明导电层可以利用以往公知的方法来形成。可列举出例如溅射法、离子镀法、真空蒸镀法、化学气相沉积法、棒涂法或微型凹版涂布法等涂布方法等。
这些之中，从能够简便地形成透明导电层的观点出发，优选溅射法。
（3）厚度
透明导电层的厚度优选为5nm~500nm的范围内的值、更优选为5~200nm的范围内的值、进一步优选为10~100nm的范围内的值。
（4）图案化
可以对所形成的透明导电层如图4（b）所示那样地根据需要进行图案化30′。作为图案化的方法，可列举出基于光刻法等的化学蚀刻、使用了激光等的物理蚀刻、使用了掩膜的真空蒸镀法或溅射法、剥离法（lift off method）、印刷法等。
[第四实施方式]
第四实施方式是下述电容触控面板，其包含：具备防玻璃飞散膜的盖板玻璃、第一透明导电性膜、第二透明导电性膜、以及液晶显示体；该电容触控面板的特征在于，第一透明导电性膜在第一硬质涂膜的至少单面具备第一透明导电层，第二透明导电性膜在第二硬质涂膜的至少单面具备第二透明导电层，第一硬质涂膜和第二硬质涂膜是在基材膜的至少单面具备硬质涂层的硬质涂膜，该硬质涂膜的根据JIS K 7105测定的雾度值为1.0%以下，硬质涂层由至少包含（A）能量射线固化性树脂和（B）疏水化硅溶胶的硬质涂层形成材料的固化物构成，（B）疏水化硅溶胶的配合量相对于（A）能量射线固化性树脂100重量份以固体成分换算计为0.3~25重量份的范围内的值，（B）疏水化硅溶胶偏析于将硬质涂层形成材料固化后的硬质涂层的与基材膜相反一侧的表面。
以下，以与第一实施方式~第三实施方式中所述内容不同的部分为中心，参照附图，对电容触控面板进行具体说明。
作为电容触控面板的基本构成，没有特别限定。可列举出例如电容触控面板100是如图5所示那样在液晶显示装置70上经由光学用粘合剂50而层叠有具备硬质涂层的硬质涂膜20、透明导电层30（第一电极）、光学用粘合剂50、具备硬质涂层的硬质涂膜20′、透明导电层30′′（第二电极）、光学用粘合剂50′′、具备光学用粘合剂层的防玻璃飞散膜60、以及盖板玻璃80的电容触控面板。
另外，本发明中，除了上述层之外，还可根据需要设置其它层。
需要说明的是，本发明的电容触控面板可以是表面型电容方式，也可以是投影型电容方式。
本发明的电容触控面板具备不需要使用保护膜的硬质涂膜，因此能够制成更廉价且生产率优异的电容触控面板。
实施例
以下，通过实施例更详细地说明本发明。但以下的说明是例示地示出本发明，本发明并不限定于这些记载。
[实施例1]
1.硬质涂膜的制作
（1）硬质涂层形成材料的准备工序
如表1所示，由作为（A）成分的能量射线固化性树脂、作为（B）成分的疏水化硅溶胶、作为（D）成分的光聚合引发剂、以及作为（C）成分的流平剂来制备实施例1的硬质涂层形成材料。
更具体而言，将作为（A）成分的（a1）季戊四醇三丙烯酸酯（新中村化学工业株式会社制造的NK ESTER、A-TMM-3L）200重量份、作为（D）成分的光聚合引发剂（Ciba Specialty Chemicals Inc.制、IRGACURE 184）10重量份、作为（B）成分的疏水化硅溶胶A（CIK NANOTEC CO., LTD.制、SIRPGM15WT%-E26、平均粒径为30nm）0.8重量份、作为（C）成分的流平剂（Dow Corning Toray Co.,Ltd.制造的SH-28）0.1重量份用作为稀释溶剂的丙二醇单甲基醚492.1重量份进行稀释，从而制备硬质涂层形成材料（固体成分浓度为30重量%）。
（2）硬质涂层形成材料的涂布工序
接着，使用迈耶棒将硬质涂层形成材料以干燥后的膜厚达到3μm的方式涂布在作为基材膜的、两面实施了易粘接处理的带易粘接层的PET膜（东丽株式会社制、Lumilar U48、膜厚100μm）的单面上。
（3）干燥工序
接着，将涂布于基材膜的硬质涂层形成材料中所包含的稀释溶剂除去。
即，使用热风干燥装置，在70℃、1分钟的条件下进行加热干燥，充分除去稀释溶剂。
（4）固化工序
接着，使用高压汞灯，以300mJ/cm2照射紫外线，使硬质涂层形成材料进行光固化，从而得到硬质涂膜。
需要说明的是，虽未作图示，但使用扫描型电子显微镜（SEM）（日立制作所制、S-4700型）在加速电压10kV、倍率20000倍的条件下对实施例1中制造的硬质涂膜的剖面进行拍摄时，可确认疏水化硅溶胶偏析于硬质涂层的与基材膜相反一侧的面。
2. 硬质涂膜的评价
（1）疏水化度测定
用迈耶棒#8将分散在甲基异丁基酮中的疏水化硅溶胶A（固体成分浓度为15%）涂布在PET膜（东丽株式会社制、Lumilar U48、膜厚100μm）上。
接着，用90℃的烘箱干燥1分钟，得到干燥后的厚度为1μm的硅溶胶涂膜。
接着，测定水与所述硅溶胶涂膜的接触角，评价疏水化度。
即，将在平坦的玻璃基板上形成了所述硅溶胶涂膜的PET膜静置，使玻璃基板的斜率为0度时，滴加水滴2μL，在液滴静止时，利用Young方程求出水接触角。将所得结果示于表1。
（2）铅笔硬度评价
根据JIS K 5600-5-4，使用铅笔刮擦硬度试验机（安田精机制作所制、No.553-M）来测定所得硬质涂膜的铅笔硬度。需要说明的是，刮擦速度设为1mm/秒。将所得结果示于表1。
（3）耐粘连性评价
将所得硬质涂膜切割成100×100mm的大小，将两张硬质涂膜重合（将该状态作为初期）。
接着，在施加了10kg/m2荷重的状态下，在初期和在23℃、50%RH的保存环境下经过5天后（将该状态记作经时后）分别在荧光灯下剥离重合的膜，目视观察其状态，按照下述基准来评价粘连的有无。将所得结果示于表1。
○：在初期和经时后均完全没有发生粘连，膜面彼此未发生贴合。
△：在初期未发生粘连，但在经时后发生了粘连（膜面彼此的贴合面积为3成以上）。
×：从初期就发生了粘连（膜面彼此的贴合面积为3成以上）。
另外，图6中示出横轴采取水与硅溶胶涂膜的接触角、纵轴采取硬质涂膜的耐粘连性（相对值）时的特性曲线。耐粘连性的相对值是按照○：3、△：1、以及：0的基准进行相对值化的值。
（4）雾度值
根据JIS K7105，使用雾度计（日本电色工业株式会社制、NDH-2000）测定所得硬质涂膜的雾度值。将所得结果示于表1。
[实施例2]
在实施例2中，除了使（B）疏水化硅溶胶A的配合量为2.7重量份之外，通过与实施例1相同的方法来制作硬质涂膜并进行评价。将所得结果示于表1。
需要说明的是，虽未作图示，与实施例1同样地利用扫描型电子显微镜（SEM）对实施例2中制造的硬质涂膜的剖面进行拍摄时，可确认疏水化硅溶胶偏析于硬质涂层的与基材膜相反一侧的面。
[实施例3]
实施例3中，作为（A）能量射线固化性树脂，配合（a1）季戊四醇三丙烯酸酯（新中村化学工业株式会社制、NK ESTER、A-TMM-3L）100重量份与（a2）二季戊四醇六丙烯酸酯（EO12摩尔加成物）（新中村化学工业株式会社制、A-DPH-12E）100重量份，作为（B）成分，配合疏水化硅溶胶B（CIK NANOTEC CO., LTD.制、SIRMIBK15WT%-E83、平均粒径为30nm）2.7重量份，除此之外，通过与实施例1相同的方法来制作硬质涂膜并进行评价。将所得结果示于表1。
需要说明的是，虽未作图示，但与实施例1同样地用扫描型电子显微镜（SEM）对实施例3中制造的硬质涂膜的剖面进行拍摄时，可确认疏水化硅溶胶偏析于硬质涂层的与基材膜相反一侧的面。
[实施例4]
在实施例4中，作为（B）成分配合22.5重量份的疏水化硅溶胶A，除此之外，通过与实施例3相同的方法来制作硬质涂膜并进行评价。将所得结果示于表1。
需要说明的是，虽未作图示，但与实施例1同样地用扫描型电子显微镜（SEM）对实施例4中制造的硬质涂膜的剖面进行拍摄时，可确认疏水化硅溶胶偏析于硬质涂层的与基材膜相反一侧的面。
[实施例5]
在实施例5中，作为（B）成分配合50重量份的疏水化硅溶胶A，除此之外，通过与实施例3相同的方法来制作硬质涂膜并进行评价。将所得结果示于表1。
需要说明的是，虽未作图示，但与实施例1同样地用扫描型电子显微镜（SEM）对实施例5中制造的硬质涂膜的剖面进行拍摄时，可确认疏水化硅溶胶偏析于硬质涂层的与基材膜相反一侧的面。
[比较例1]
比较例1中，作为（B）成分配合60重量份的疏水化硅溶胶A，除此之外，通过与实施例3相同的方法来制作硬质涂膜并进行评价。将所得结果示于表1。
[比较例2]
比较例2中，作为（B）成分配合180重量份的疏水化硅溶胶A，除此之外，通过与实施例3相同的方法来制作硬质涂膜并进行评价。将所得结果示于表1。
[比较例3]
比较例3中，作为（A）能量射线固化树脂，配合（a1）季戊四醇三丙烯酸酯（A-TMM-3L）25重量份和（a2）二季戊四醇六丙烯酸酯（EO12摩尔加成物）（A-DPH-12E）175重量份，除此之外，通过与比较例1相同的方法来制作硬质涂膜并进行评价。将所得结果示于表1。
[比较例4]
比较例4中，作为（B）成分配合5.4重量份的硅溶胶I（CIK NANOTEC CO., LTD.制、SIRMIBK15WT%-K18、平均粒径为100nm），除此之外，通过与实施例3相同的方法来制作硬质涂膜并进行评价。将所得结果示于表1。
[比较例5]
比较例5中，作为（B）成分使用硅溶胶J（日挥触媒株式会社制、OSCAL-1632、平均粒径为30nm），除此之外，通过与比较例4相同的方法来制作硬质涂膜并进行评价。将所得结果示于表1。
[比较例6]
比较例6中，作为（B）成分使用硅溶胶K（日产化学工业株式会社制、MIBK-ST、平均粒径为15nm），除此之外，通过与比较例4相同的方法来制作硬质涂膜并进行评价。将所得结果示于表1。
[比较例7]
比较例7中，作为（B）成分使用硅溶胶D（CIK NANOTEC CO., LTD.制、SIRMIBK-E65、平均粒径为100nm），除此之外，通过与比较例4相同的方法来制作硬质涂膜并进行评价。将所得结果示于表1。
[表1]
*（）内表示相对于（A）能量射线固化树脂100重量份的（B）硅溶胶的配合量（重量份）。
使用了规定的疏水化硅溶胶的实施例1~5能够获得膜彼此没有发生粘连、雾度值也为1.0%以下、且还具有耐划伤性的硬质涂膜。
另一方面，过度地配合了疏水化硅溶胶的比较例1和2虽然能够防止膜彼此的粘连，但得到了透明性差的结果。
另外，使用了不具有规定的接触角、即表面为亲水性的硅溶胶的比较例4~7难以用较少的添加量来防止膜彼此的粘连。
需要说明的是，（a2）的配合量过度的比较例3得到了耐划伤性略差的结果。
产业实用性
如上所述，根据本发明的硬质涂膜，其为在基材膜的至少单面具备硬质涂层的硬质涂膜，该硬质涂层由包含规定的疏水化硅溶胶等的硬质涂层形成材料的固化物构成，所述疏水化硅溶胶在硬质涂层内偏析于与基材膜相反一侧的表面，从而可得到防止膜彼此的粘连且透明性优异的硬质涂膜。
另外，通过具有所述硬质涂膜，能够有效地获得透明性优异、耐划伤性也优异的透明导电性膜。
因此，本发明的硬质涂膜能够有效地用于电容触控面板等，因此期待能够将其有效地装载于特别要求机械强度等的手机等便携信息机器。
符号说明
10：基材膜
11：粘接剂层（测定用）
12、12′硬质涂层
16：疏水化硅溶胶
18：亲水性硅溶胶
20、20′：硬质涂膜
30、30′、30′′：透明导电层
40：透明导电性膜
50、50′、50′′：光学用粘合剂
60：防玻璃飞散膜
70：液晶显示装置
80：盖板玻璃
100：电容触控面板。

Claims (10)

1.硬质涂膜，其在基材膜的至少单面具备硬质涂层，该硬质涂膜的特征在于，
该硬质涂膜的根据JIS K 7105测定的雾度值为1.0%以下，
所述硬质涂层由至少包含（A）能量射线固化性树脂和（B）疏水化硅溶胶的硬质涂层形成材料的固化物构成，
所述（B）疏水化硅溶胶的配合量相对于所述（A）能量射线固化性树脂100重量份以固体成分换算计为0.3~25重量份的范围内的值，
所述（B）疏水化硅溶胶偏析于将所述硬质涂层形成材料固化后的所述硬质涂层的与所述基材膜相反一侧的表面。
2.权利要求1所述的硬质涂膜，其特征在于，所述（B）疏水化硅溶胶的平均粒径为10~100nm的范围内的值。
3.权利要求1所述的硬质涂膜，其特征在于，使水与将所述（B）疏水化硅溶胶制成涂膜时的涂膜的接触角为100°以上的值。
4.权利要求1所述的硬质涂膜，其特征在于，所述（A）能量射线固化性树脂含有（a1）多官能（甲基）丙烯酸酯化合物以及（a2）环氧乙烷或环氧丙烷加成型的多官能（甲基）丙烯酸酯化合物，所述（a1）多官能（甲基）丙烯酸酯化合物与所述（a2）环氧乙烷或环氧丙烷加成型的多官能（甲基）丙烯酸酯化合物的含有重量比为100:0~20:80的范围内的值。
5.权利要求1所述的硬质涂膜，其特征在于，所述硬质涂层形成材料进一步包含（C）流平剂。
6.权利要求1所述的硬质涂膜，其特征在于，所述硬质涂层的厚度为1~10μm的范围内的值。
7.权利要求1所述的硬质涂膜，其特征在于，所述硬质涂层的表面的根据JIS B 0601-1994测定的算术平均粗糙度Ra为1.5~5nm的范围内的值。
8.透明导电性膜，其特征在于，其在权利要求1所述的硬质涂膜的至少单面具备透明导电层。
9.电容触控面板，其包含：具备防玻璃飞散膜的盖板玻璃、第一透明导电性膜、第二透明导电性膜、以及液晶显示体，该电容触控面板的特征在于，
所述第一透明导电性膜在第一硬质涂膜的至少单面具备第一透明导电层，
所述第二透明导电性膜在第二硬质涂膜的至少单面具备第二透明导电层，
所述第一硬质涂膜和所述第二硬质涂膜是在基材膜的至少单面具备硬质涂层的硬质涂膜，
该硬质涂膜的根据JIS K 7105测定的雾度值为1.0%以下，
所述硬质涂层由至少包含（A）能量射线固化性树脂和（B）疏水化硅溶胶的硬质涂层形成材料的固化物构成，
所述（B）疏水化硅溶胶的配合量相对于所述（A）能量射线固化性树脂100重量份以固体成分换算计为0.3~25重量份的范围内的值，
所述（B）疏水化硅溶胶偏析于将所述硬质涂层形成材料固化后的所述硬质涂层的与所述基材膜相反一侧的表面。
10.硬质涂膜的制造方法，所述硬质涂膜在基材膜的至少单面具备硬质涂层，该制造方法的特征在于，
所述硬质涂膜的根据JIS K 7105测定的雾度值为1.0%以下，
该制造方法包括下述工序（1）~（3）：
（1）准备硬质涂层形成材料的工序，所述硬质涂层形成材料至少包含（A）能量射线固化性树脂、以及相对于所述（A）能量射线固化性树脂100重量份以固体成分换算计为0.3~25重量份的范围内的值的（B）疏水化硅溶胶；
（2）将所述硬质涂层形成材料涂布于所述基材膜的至少单面的工序；
（3）将所述硬质涂层形成材料固化，从而形成具备所述（B）疏水化硅溶胶偏析于所述硬质涂层的的与所述基材膜相反一侧的表面的硬质涂膜的工序。
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