CN104570455A - 一种液晶显示面板的制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种液晶显示面板的制作方法，其包括：在第一基板衬底上制作阵列元件，以形成阵列基板；在第二基板衬底上制作黑色矩阵以及彩膜色阻，以形成彩膜基板；在彩膜基板上设置彩膜平坦化层，并在彩膜基板的第二形变区域设置一彩膜平坦化层的凹槽；使用所述阵列基板和所述彩膜基板制作液晶盒，并在液晶盒内注入液晶分子；以及在阵列基板的非显示区域设置驱动芯片，以在阵列基板的第一形变区域形成一所述阵列基板的凸起。本发明的液晶显示面板的制作方法通过彩膜基板的彩膜平坦化层或阵列基板的阵列平坦化层，对由于驱动芯片邦定产生的阵列基板的凸起进行平坦化，避免了液晶盒的间隙不均。

Description

一种液晶显示面板的制作方法
技术领域
本发明涉及液晶显示领域，特别是涉及一种液晶显示面板的制作方法。
背景技术
随着科技的发展，智能手机和平板电脑的出现对于中小尺寸的液晶显示面板提出了更高规格的要求，其中一个方向就是液晶显示面板的窄边框设计。
窄边框设计可以减小液晶显示面板边缘的无效显示区域，在相同的显示面积下，使得液晶显示面板的尺寸更小。但同时液晶显示面板的设计难度也变大许多，比如驱动电路的空间利用率需要提高到极致等。现有的中高端的液晶显示面板在非驱动电路侧的边框设计为小于等于1mm。驱动电路侧的边框设计则为5mm左右。
但是上述驱动电路侧的边框太靠近液晶显示面板的有效显示区域(AA区)，导致对驱动芯片进行邦定(bonding)操作时，有效显示区的基板玻璃由于局部温度过高而受热膨胀，向液晶显示面板的内侧凸出。这样受热膨胀区域的液晶盒的间隙变小，容易出现色斑(mura)的不良。
故，有必要提供一种液晶显示面板的制作方法，以解决现有技术所存在的问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种可以避免液晶盒的间隙不均的液晶显示面板的制作方法，以解决现有的液晶显示面板的制作方法中由于驱动芯片的邦定操作，导致液晶盒的部分间隙变小，从而容易出现色斑不良的技术问题。
为解决上述问题，本发明提供的技术方案如下：
本发明实施例提供一种液晶显示面板的制作方法，其包括：
在第一基板衬底上制作阵列元件，以形成阵列基板；
在第二基板衬底上制作黑色矩阵以及彩膜色阻，以形成彩膜基板；
在所述彩膜基板上设置彩膜平坦化层，并在所述彩膜基板的第二形变区域设置一所述彩膜平坦化层的凹槽；
使用所述阵列基板和所述彩膜基板制作液晶盒，并在所述液晶盒内注入液晶分子；以及
在所述阵列基板的非显示区域设置驱动芯片，以在所述阵列基板的第一形变区域形成一所述阵列基板的凸起，其中所述阵列基板的第一形变区域的位置和所述彩膜基板的第二形变区域的位置相对应，所述凹槽的高度和所述凸起的高度大致相同。
在本发明所述的液晶显示面板的制作方法中，所述在第一基板衬底上制作阵列元件，以形成阵列基板的步骤之后还包括：
在所述阵列基板的显示区域设置第一配向层。
在本发明所述的液晶显示面板的制作方法中，所述在第一基板衬底上制作阵列元件，以形成阵列基板的步骤之后还包括：
在所述阵列基板上设置阵列平坦化层；以及
在所述阵列基板的显示区域的所述阵列平坦化层上设置第一配向层。
在本发明所述的液晶显示面板的制作方法中，所述在所述彩膜基板上设置彩膜平坦化层，并在所述彩膜基板的第二形变区域设置一所述彩膜平坦化层的凹槽的步骤之后还包括：
在所述彩膜基板的所述彩膜平坦化层上设置第二配向层。
在本发明所述的液晶显示面板的制作方法中，所述在彩膜基板上设置彩膜平坦化层，并在所述彩膜基板的第二形变区域设置一所述彩膜平坦化层的凹槽的步骤包括：
在所述彩膜基板上设置彩膜平坦化层；以及
使用半色调光罩，对所述彩膜平坦化层进行图形化处理，使得所述彩膜基板的第二形变区域形成一所述彩膜平坦化层的凹槽。
在本发明所述的液晶显示面板的制作方法中，所述在彩膜基板上设置彩膜平坦化层，并在所述彩膜基板的第二形变区域设置一所述彩膜平坦化层的凹槽的步骤包括：
通过图形化处理，在所述彩膜基板上设置第一彩膜平坦化层，其中所述彩膜基板的第二形变区域并未设置所述第一彩膜平坦化层；以及
在设置所述第一彩膜平坦化层的所述彩膜基板上设置第二彩膜平坦化层，使得所述彩膜基板的第二形变区域形成一所述第二彩膜平坦化层的凹槽。
本发明实施例还提供一种液晶显示面板的制作方法，其包括：
在第一基板衬底上制作显示元件，以形成阵列基板；
在所述阵列基板上设置阵列平坦化层，并通过图像化处理使得所述阵列基板的第一形变区域上的所述阵列平坦化层形成一凹槽；
在第二基板衬底上制作黑色矩阵以及彩膜色阻，以形成彩膜基板；
在所述彩膜基板上设置彩膜平坦化层；以及
使用所述阵列基板和所述彩膜基板制作液晶盒，并在所述液晶盒内注入液晶分子；
在所述阵列基板的非显示区域设置驱动芯片，以在所述阵列基板的第一形变区域形成一所述阵列基板的凸起；其中所述凹槽的高度和所述凸起的高度大致相同。
在本发明所述的液晶显示面板的制作方法中，所述在所述阵列基板上设置阵列平坦化层，并通过图像化处理使得所述阵列基板的第一形变区域上的所述阵列平坦化层形成一凹槽的步骤之后还包括：
在所述阵列基板的显示区域的所述阵列平坦化层上设置第一配向层；
所述在所述彩膜基板上设置彩膜平坦化层的步骤之后还包括：
在所述彩膜基板的所述彩膜平坦化层上设置第二配向层。
在本发明所述的液晶显示面板的制作方法中，所述在所述阵列基板上设置阵列平坦化层，并通过图像化处理使得所述阵列基板的第一形变区域上的所述阵列平坦化层形成一凹槽的步骤包括：
在所述阵列基板上设置阵列平坦化层；以及
使用半色调光罩，对所述阵列平坦化层进行图形化处理，使得所述阵列基板的第一形变区域上的所述阵列平坦化层形成一凹槽。
在本发明所述的液晶显示面板的制作方法中，所述在所述阵列基板上设置阵列平坦化层，并通过图像化处理使得所述阵列基板的第一形变区域上的所述阵列平坦化层形成一凹槽的步骤包括：
通过图形化处理，在所述阵列基板上设置第一阵列平坦化层，其中所述阵列基板的第一形变区域并未设置所述第一阵列平坦化层；以及
在设置所述第一阵列平坦化层的所述阵列基板上设置第二阵列平坦化层，使得所述阵列基板的第一形变区域上的所述阵列平坦化层形成一凹槽。
相较于现有的液晶显示面板的制作方法，本发明的液晶显示面板的制作方法通过彩膜基板的彩膜平坦化层或阵列基板的阵列平坦化层，对由于驱动芯片邦定产生的阵列基板的凸起进行平坦化，避免了液晶盒的间隙不均；解决了现有的液晶显示面板的制作方法中由于驱动芯片的邦定操作，导致液晶盒的部分间隙变小，从而容易出现色斑不良的技术问题。
为让本发明的上述内容能更明显易懂，下文特举优选实施例，并配合所附图式，作详细说明如下：
附图说明
图1为本发明的液晶显示面板的制作方法的第一优选实施例的流程图；
图2为本发明的液晶显示面板的制作方法的第一优选实施例的步骤S105后的结构示意图；
图3为本发明的液晶显示面板的制作方法的第一优选实施例的步骤S103的流程图之一；
图4A为本发明的液晶显示面板的制作方法的第一优选实施例的步骤S1031A后的彩膜基板的结构示意图；
图4B为本发明的液晶显示面板的制作方法的第一优选实施例的步骤S1032A后的彩膜基板的结构示意图；
图5为本发明的液晶显示面板的制作方法的第一优选实施例的步骤S103的流程图之二；
图6为本发明的液晶显示面板的制作方法的第一优选实施例的步骤S1032B后的彩膜基板的结构示意图；
图7为本发明的液晶显示面板的制作方法的第二优选实施例的流程图；
图8为本发明的液晶显示面板的制作方法的第二优选实施例的步骤S706后的结构示意图；
图9为本发明的液晶显示面板的制作方法的第二优选实施例的步骤S702的流程图之一；
图10A为本发明的液晶显示面板的制作方法的第二优选实施例的步骤S7021A后的彩膜基板的结构示意图；
图10B为本发明的液晶显示面板的制作方法的第二优选实施例的步骤S7022A后的彩膜基板的结构示意图；
图11为本发明的液晶显示面板的制作方法的第二优选实施例的步骤S702的流程图之二；
图12为本发明的液晶显示面板的制作方法的二优选实施例的步骤S7022B后的彩膜基板的结构示意图。
具体实施方式
以下各实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。
在图中，结构相似的单元是以相同标号表示。
请参照图1和图2，图1为本发明的液晶显示面板的制作方法的第一优选实施例的流程图，图2为本发明的液晶显示面板的制作方法的第一优选实施例的步骤S105后的结构示意图。本优选实施例的液晶显示面板的制作方法包括：
步骤S101，在第一基板衬底上制作阵列元件，以形成阵列基板；
步骤S102，在第二基板衬底上制作黑色矩阵以及彩膜色阻，以形成彩膜基板；
步骤S103，在彩膜基板上设置彩膜平坦化层，并在彩膜基板的第二形变区域设置一彩膜平坦化层的凹槽；
步骤S104，使用阵列基板和彩膜基板制作液晶盒，并在液晶盒内注入液晶分子；
步骤S105，在所述阵列基板的非显示区域设置驱动芯片，以在阵列基板的第一形变区域形成一阵列基板的凸起。
下面详细说明本优选实施例的液晶显示面板的制作方法的各步骤的具体流程。
在步骤S101中，在第一基板衬底上制作阵列元件，该阵列元件可为数据线、扫描线、薄膜晶体管以及像素电极等。在第一基板衬底上沉积多个金属层以及绝缘层，并通过多次图形化处理以在第一基板衬底上制作上述阵列元件，从而形成阵列基板11。
优选的，在阵列基板11的显示区域上还设置有阵列平坦化层13，随后在阵列基板11的阵列平坦化层13上设置有第一配向层14，从而可以使液晶层的液晶分子产生预倾角，改善液晶显示面板的反应速度。随后转到步骤S102。
在步骤S102中，在第二基板衬底上制作黑色矩阵以及彩膜色阻。在第二基板衬底上沉积黑色矩阵层以及彩膜色阻层，并通过多次图形化处理以在第二基板衬底上制作黑色矩阵16以及彩膜色阻(图中未示出)，从而形成彩膜基板15；随后转到步骤S103。
在步骤S103中，在步骤S102形成的彩膜基板15上设置彩膜平坦化层17，并在该彩膜基板15的第二形变区域113设置一彩膜平坦化层17的凹槽；其中该彩膜平坦化层17的凹槽的高度约为2微米。
优选的，在彩膜基板15的彩膜平坦化层17上还设置有第二配向层18，从而可以使液晶层的液晶分子产生预倾角，改善液晶显示面板的反应速度。随后转到步骤S104。
在步骤S104中，对步骤S101形成的阵列基板11以及步骤S103形成的彩膜基板15进行对盒处理，以制作液晶盒，并在液晶盒内注入液晶分子19。随后转到步骤S105。
在步骤S105中，阵列基板11包括用于显示图像的显示区以及用于设置其他部件的非显示区111。这里在阵列基板11的非显示区域111设置驱动芯片12，即在阵列基板11的非显示区域111对驱动芯片12进行邦定操作，这样会使得靠近该驱动芯片12的显示区域的阵列基板11在第一形变区域112形成一凸起。阵列基板11的第一形变区域112的位置和15彩膜基板的第二形变区域113的位置相对应，凹槽的高度和凸起的高度大致相同。
从图2中可以看出在阵列基板11的凸起的位置对应的液晶盒的厚度和其他区域的液晶盒的厚度是一致的，因此阵列基板11上的凸起并不会造成液晶盒的间隙不均，避免了色斑不良的问题的产生。
本优选实施例的液晶显示面板的制作方法结束于步骤S 105。
本优选实施例的液晶显示面板的制作方法通过在彩膜基板上设置与阵列基板上的凸起对应的凹槽，因此避免了阵列基板上的凸起造成的不良影响。
下面具体描述在彩膜基板上设置具有凹槽的彩膜平坦化层的流程。请参照图3，图3为本发明的液晶显示面板的制作方法的第一优选实施例的步骤S103的流程图之一。该步骤S103包括：
步骤S1031A，使用光罩，通过图像化处理在彩膜基板15上设置第一彩膜平坦化层171，其中彩膜基板15的第二形变区域113并未设置第一彩膜平坦化层171。具体如图4A所示，图4A为本发明的液晶显示面板的制作方法的第一优选实施例的步骤S1031A后的彩膜基板的结构示意图。
步骤S1032A，在设置第一彩膜平坦化层171的彩膜基板15上设置第二彩膜平坦化层172，由于在步骤S1041A中，彩膜基板15的第二形变区域113并未设置第一彩膜平坦化层171，使得沉积第二彩膜平坦化层172时，直接会在彩膜基板15的第二形变区域113形成一第二彩膜平坦化层172的凹槽。该第二彩膜平坦化层172的凹槽即为步骤S103中的彩膜平坦化层17的凹槽。具体如图4B所示，图4B为本发明的液晶显示面板的制作方法的第一优选实施例的步骤S1032A后的彩膜基板的结构示意图。
下面具体描述另一种在彩膜基板上设置具有凹槽的彩膜平坦化层的流程。请参照图5，图5为本发明的液晶显示面板的制作方法的第一优选实施例的步骤S103的流程图之二。该步骤S103包括：
步骤S1031B，在彩膜基板15上设置彩膜平坦化层17；
步骤S1032B，使用半色调光罩，对彩膜平坦化层17进行图形化处理，使得彩膜基板15的第二形变区域113形成一彩膜平坦化层17的凹槽。具体如图6所示，图6为本发明的液晶显示面板的制作方法的第一优选实施例的步骤S1032B后的彩膜基板的结构示意图。
本优选实施例的液晶显示面板的制作方法通过彩膜基板的彩膜平坦化层，对由于驱动芯片邦定产生的阵列基板的凸起进行平坦化，避免了液晶盒的间隙不均。
请参照图7和图8，图7为本发明的液晶显示面板的制作方法的第二优选实施例的流程图，图8为本发明的液晶显示面板的制作方法的第二优选实施例的步骤S706后的结构示意图。本优选实施例的液晶显示面板的制作方法包括：
步骤S701，在第一基板衬底上制作显示元件，以形成阵列基板；
步骤S702，在阵列基板上设置阵列平坦化层，并通过图像化处理使得阵列基板的第一形变区域上的阵列平坦化层形成一凹槽；
步骤S703，在第二基板衬底上制作黑色矩阵以及彩膜色阻，以形成彩膜基板；
步骤S704，在彩膜基板上设置彩膜平坦化层；
步骤S705，使用阵列基板和彩膜基板制作液晶盒，并在液晶盒内注入液晶分子；
步骤S706，在阵列基板的非显示区域设置驱动芯片，以在阵列基板的第一形变区域形成一阵列基板的凸起；其中凹槽的高度和凸起的高度大致相同。
下面详细说明本优选实施例的液晶显示面板的制作方法的各步骤的具体流程。
在步骤S701中，在第一基板衬底上制作阵列元件，该阵列元件可为数据线、扫描线、薄膜晶体管以及像素电极等。在第一基板衬底上沉积多个金属层以及绝缘层，并通过多次图形化处理以在第一基板衬底上制作上述阵列元件，从而形成阵列基板21；随后转到步骤S702。
在步骤S702中，在阵列基板21上设置阵列平坦化层23，并通过图像化处理使得阵列基板21的第一形变区域212上的阵列平坦化层23形成一凹槽。
优选的，在阵列基板21的阵列平坦化层23上设置有第一配向层24，从而可以使液晶层的液晶分子产生预倾角，改善液晶显示面板的反应速度。随后转到步骤S703。
在步骤S703中，在第二基板衬底上制作黑色矩阵以及彩膜色阻。在第二基板衬底上沉积黑色矩阵层以及彩膜色阻层，并通过多次图形化处理以在第二基板衬底上制作黑色矩阵26以及彩膜色阻(图中未示出)，从而形成彩膜基板25；随后转到步骤S704。
在步骤S704中，在步骤S703形成的彩膜基板25上设置彩膜平坦化层27。
优选的，在彩膜基板25的彩膜平坦化层27上还设置有第二配向层28，从而可以使液晶层的液晶分子产生预倾角，改善液晶显示面板的反应速度。随后转到步骤S705。
在步骤S705中，对步骤S702形成的阵列基板21以及步骤S704形成的彩膜基板25进行对盒处理，以制作液晶盒，并在液晶盒内注入液晶分子29。随后转到步骤S706。
在步骤S706中，阵列基板21包括用于显示图像的显示区以及用于设置其他部件的非显示区211。这里在阵列基板21的非显示区域211设置驱动芯片22，即在阵列基板21的非显示区域211对驱动芯片22进行邦定操作，这样会使得靠近该驱动芯片22的显示区域的阵列基板21在第一形变区域212形成一凸起。该凸起的高度与步骤S702中阵列平坦化层23上凹槽的高度大致相同。
从图8中可以看出在阵列基板21的凸起的位置对应的液晶盒的厚度和其他区域的液晶盒的厚度是一致的，因此阵列基板21上的凸起并不会造成液晶盒的间隙不均，避免了色斑不良的问题的产生。
本优选实施例的液晶显示面板的制作方法结束于步骤S706。
本优选实施例的液晶显示面板的制作方法通过在阵列基板上设置可平坦化处理阵列基板上的凸起的阵列平坦化层，因此避免了阵列基板上的凸起造成的不良影响。
下面具体描述在阵列基板上设置阵列平坦化层的流程。请参照图9，图9为本发明的液晶显示面板的制作方法的第二优选实施例的步骤S702的流程图之一。该步骤S702包括：
步骤S7021A，使用光罩，通过图形化处理，在阵列基板21上设置第一阵列平坦化层231，其中阵列基板21的第一形变区域212并未设述第一阵列平坦化层231；具体如图10A所示，图10A为本发明的液晶显示面板的制作方法的第二优选实施例的步骤S7021A后的阵列基板的结构示意图。
步骤S7022A，在设置第一阵列平坦化层231的阵列基板21上设置第二阵列平坦化层232，由于在步骤S7021A中，阵列基板21的第一形变区域212并未设置第一阵列平坦化层231，沉积第二阵列平坦化层232时，使得阵列基板21的第一形变区域212上的第二阵列平坦化层232形成一凹槽。该第二阵列平坦化层232的凹槽即为步骤S702中的阵列平坦化层23的凹槽。具体如图10B所示，图10B为本发明的液晶显示面板的制作方法的第二优选实施例的步骤S7022A后的阵列基板的结构示意图。
下面具体描述另一种阵列基板上设置阵列平坦化层的流程。请参照图11，图11为本发明的液晶显示面板的制作方法的第二优选实施例的步骤S702的流程图之二。该步骤S702包括：
步骤S7021B，在阵列基板21上设置阵列平坦化层23；
步骤S7022B，使用半色调光罩，对阵列平坦化层23进行图形化处理，使得阵列基板21的第一形变区域212上的阵列平坦化层23形成一凹槽。具体如图12所示，图12为本发明的液晶显示面板的制作方法的第二优选实施例的步骤S7022B后的阵列基板的结构示意图。
本优选实施例的液晶显示面板的制作方法通过阵列基板的阵列平坦化层，对由于驱动芯片邦定产生的阵列基板的凸起进行平坦化，避免了液晶盒的间隙不均。
本发明的液晶显示面板的制作方法通过彩膜基板的彩膜平坦化层或阵列基板的阵列平坦化层，对由于驱动芯片邦定产生的阵列基板的凸起进行平坦化，避免了液晶盒的间隙不均；解决了现有的液晶显示面板的制作方法中由于驱动芯片的邦定操作，导致液晶盒的部分间隙变小，从而容易出现色斑不良的技术问题。
综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (10)

1.一种液晶显示面板的制作方法，其特征在于，包括：
在第一基板衬底上制作阵列元件，以形成阵列基板；
在第二基板衬底上制作黑色矩阵以及彩膜色阻，以形成彩膜基板；
在所述彩膜基板上设置彩膜平坦化层，并在所述彩膜基板的第二形变区域设置一所述彩膜平坦化层的凹槽；
使用所述阵列基板和所述彩膜基板制作液晶盒，并在所述液晶盒内注入液晶分子；以及
在所述阵列基板的非显示区域设置驱动芯片，以在所述阵列基板的第一形变区域形成一所述阵列基板的凸起，其中所述阵列基板的第一形变区域的位置和所述彩膜基板的第二形变区域的位置相对应，所述凹槽的高度和所述凸起的高度大致相同。
2.根据权利要求1所述的液晶显示面板的制作方法，其特征在于，所述在第一基板衬底上制作阵列元件，以形成阵列基板的步骤之后还包括：
在所述阵列基板的显示区域设置第一配向层。
3.根据权利要求2所述的液晶显示面板的制作方法，其特征在于，所述在第一基板衬底上制作阵列元件，以形成阵列基板的步骤之后还包括：
在所述阵列基板上设置阵列平坦化层；以及
在所述阵列基板的显示区域的所述阵列平坦化层上设置第一配向层。
4.根据权利要求1所述的液晶显示面板的制作方法，其特征在于，所述在所述彩膜基板上设置彩膜平坦化层，并在所述彩膜基板的第二形变区域设置一所述彩膜平坦化层的凹槽的步骤之后还包括：
在所述彩膜基板的所述彩膜平坦化层上设置第二配向层。
5.根据权利要求1所述的液晶显示面板的制作方法，其特征在于，所述在彩膜基板上设置彩膜平坦化层，并在所述彩膜基板的第二形变区域设置一所述彩膜平坦化层的凹槽的步骤包括：
在所述彩膜基板上设置彩膜平坦化层；以及
使用半色调光罩，对所述彩膜平坦化层进行图形化处理，使得所述彩膜基板的第二形变区域形成一所述彩膜平坦化层的凹槽。
6.根据权利要求1所述的液晶显示面板的制作方法，其特征在于，所述在彩膜基板上设置彩膜平坦化层，并在所述彩膜基板的第二形变区域设置一所述彩膜平坦化层的凹槽的步骤包括：
通过图形化处理，在所述彩膜基板上设置第一彩膜平坦化层，其中所述彩膜基板的第二形变区域并未设置所述第一彩膜平坦化层；以及
在设置所述第一彩膜平坦化层的所述彩膜基板上设置第二彩膜平坦化层，使得所述彩膜基板的第二形变区域形成一所述第二彩膜平坦化层的凹槽。
7.一种液晶显示面板的制作方法，其特征在于，包括：
在第一基板衬底上制作显示元件，以形成阵列基板；
在所述阵列基板上设置阵列平坦化层，并通过图像化处理使得所述阵列基板的第一形变区域上的所述阵列平坦化层形成一凹槽；
在第二基板衬底上制作黑色矩阵以及彩膜色阻，以形成彩膜基板；
在所述彩膜基板上设置彩膜平坦化层；以及
使用所述阵列基板和所述彩膜基板制作液晶盒，并在所述液晶盒内注入液晶分子；
在所述阵列基板的非显示区域设置驱动芯片，以在所述阵列基板的第一形变区域形成一所述阵列基板的凸起；其中所述凹槽的高度和所述凸起的高度大致相同。
8.根据权利要求7所述的液晶显示面板的制作方法，其特征在于，所述在所述阵列基板上设置阵列平坦化层，并通过图像化处理使得所述阵列基板的第一形变区域上的所述阵列平坦化层形成一凹槽的步骤之后还包括：
在所述阵列基板的显示区域的所述阵列平坦化层上设置第一配向层；
所述在所述彩膜基板上设置彩膜平坦化层的步骤之后还包括：
在所述彩膜基板的所述彩膜平坦化层上设置第二配向层。
9.根据权利要求7所述的液晶显示面板的制作方法，其特征在于，所述在所述阵列基板上设置阵列平坦化层，并通过图像化处理使得所述阵列基板的第一形变区域上的所述阵列平坦化层形成一凹槽的步骤包括：
在所述阵列基板上设置阵列平坦化层；以及
使用半色调光罩，对所述阵列平坦化层进行图形化处理，使得所述阵列基板的第一形变区域上的所述阵列平坦化层形成一凹槽。
10.根据权利要求7所述的液晶显示面板的制作方法，其特征在于，所述在所述阵列基板上设置阵列平坦化层，并通过图像化处理使得所述阵列基板的第一形变区域上的所述阵列平坦化层形成一凹槽的步骤包括：
通过图形化处理，在所述阵列基板上设置第一阵列平坦化层，其中所述阵列基板的第一形变区域并未设置所述第一阵列平坦化层；以及
在设置所述第一阵列平坦化层的所述阵列基板上设置第二阵列平坦化层，使得所述阵列基板的第一形变区域上的所述阵列平坦化层形成一凹槽。
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DE112014007262.1T DE112014007262B4 (de) 2014-12-19 2014-12-25 Verfahren zur Herstellung einer Flüssigkristalltafel
US14/416,534 US9436050B2 (en) 2014-12-19 2014-12-25 Method of planarizing protrusions on an array substrate of a liquid crystal panel
KR1020177018420A KR101889873B1 (ko) 2014-12-19 2014-12-25 액정 디스플레이 패널 제조방법
JP2017532169A JP6405471B2 (ja) 2014-12-19 2014-12-25 液晶表示パネルの製造方法
GB1710933.1A GB2550073B (en) 2014-12-19 2014-12-25 Method for manufacturing a liquid crystal panel
PCT/CN2014/094905 WO2016095251A1 (zh) 2014-12-19 2014-12-25 一种液晶显示面板的制作方法
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106707392A (zh) * 2016-12-07 2017-05-24 友达光电（昆山）有限公司 彩色滤光片及其膜层厚度测量方法
WO2018149151A1 (zh) * 2017-02-15 2018-08-23 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板及其制备方法、显示装置和涂胶系统
CN109116619A (zh) * 2018-09-26 2019-01-01 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板、显示面板、掩膜板

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107170749B (zh) * 2017-04-27 2020-03-24 上海天马微电子有限公司 一种阵列基板及其制作方法
CN109326614B (zh) * 2018-10-15 2022-07-05 京东方科技集团股份有限公司 显示基板及其制造方法、显示装置
KR102661467B1 (ko) 2018-11-26 2024-04-29 삼성디스플레이 주식회사 디스플레이 장치 및 이의 제조 방법
CN111665665A (zh) * 2020-07-17 2020-09-15 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板及其制作方法、显示面板及显示装置

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20080013030A1 (en) * 2006-07-14 2008-01-17 Nec Lcd Technologies, Ltd. Display device with suppressed occurrence of display unevenness
JP2009260379A (ja) * 2009-07-31 2009-11-05 Casio Comput Co Ltd ボンディング装置およびそれを用いたボンディング方法
CN101620326A (zh) * 2008-07-04 2010-01-06 Nec液晶技术株式会社 显示装置及其制造方法
CN102213877A (zh) * 2010-04-06 2011-10-12 北京京东方光电科技有限公司 阵列基板、液晶面板及其制造方法
CN202102196U (zh) * 2011-06-06 2012-01-04 深圳市华星光电技术有限公司 用于液晶面板的软板上芯片构造

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2643296B2 (ja) * 1988-05-24 1997-08-20 旭硝子株式会社 カラー液晶表示素子
JP2001284342A (ja) * 2000-01-25 2001-10-12 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 電気光学装置の作製方法
JP2001264791A (ja) * 2000-03-17 2001-09-26 Sharp Corp 液晶表示装置
JP2005037466A (ja) * 2003-07-16 2005-02-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd フィルム液晶装置およびその製造方法
JP2005123405A (ja) * 2003-10-16 2005-05-12 Seiko Epson Corp 電気光学装置用基板、半導体装置用基板、素子チップの実装方法、電気光学装置及び電子機器
JP2005292224A (ja) * 2004-03-31 2005-10-20 Seiko Epson Corp 電気光学装置及び電子機器
JP2006201312A (ja) * 2005-01-18 2006-08-03 Nec Corp 液晶表示パネル及び液晶表示装置
KR101371014B1 (ko) * 2006-10-12 2014-03-11 삼성디스플레이 주식회사 오버코트막 형성 방법, 컬러 필터 기판 제조 방법,이로부터 제조된 컬러 필터 기판 및 액정 표시 장치
JP4353263B2 (ja) * 2007-03-16 2009-10-28 セイコーエプソン株式会社 半導体装置の製造方法及び半導体装置
CN101349823B (zh) * 2007-07-19 2012-05-30 北京京东方光电科技有限公司 垂直取向模式液晶显示装置及其制造方法
JP5230384B2 (ja) * 2007-12-07 2013-07-10 株式会社ジャパンディスプレイウェスト 表示装置および電子機器
EP2581784A4 (en) * 2010-06-10 2014-01-01 Sharp Kk LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
KR20140132173A (ko) * 2013-05-07 2014-11-17 삼성디스플레이 주식회사 표시장치 및 이의 제조방법
JP2014238464A (ja) * 2013-06-06 2014-12-18 株式会社ジャパンディスプレイ 液晶表示パネル用多面取り回路基板及び液晶表示パネルの製造方法
CN103941462A (zh) * 2013-12-31 2014-07-23 厦门天马微电子有限公司 一种彩膜基板及其制造方法、显示装置
CN104199220A (zh) * 2014-07-10 2014-12-10 合肥鑫晟光电科技有限公司 一种显示面板和显示装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20080013030A1 (en) * 2006-07-14 2008-01-17 Nec Lcd Technologies, Ltd. Display device with suppressed occurrence of display unevenness
CN101620326A (zh) * 2008-07-04 2010-01-06 Nec液晶技术株式会社 显示装置及其制造方法
JP2009260379A (ja) * 2009-07-31 2009-11-05 Casio Comput Co Ltd ボンディング装置およびそれを用いたボンディング方法
CN102213877A (zh) * 2010-04-06 2011-10-12 北京京东方光电科技有限公司 阵列基板、液晶面板及其制造方法
CN202102196U (zh) * 2011-06-06 2012-01-04 深圳市华星光电技术有限公司 用于液晶面板的软板上芯片构造

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106707392A (zh) * 2016-12-07 2017-05-24 友达光电（昆山）有限公司 彩色滤光片及其膜层厚度测量方法
CN106707392B (zh) * 2016-12-07 2019-02-01 友达光电（昆山）有限公司 彩色滤光片及其膜层厚度测量方法
WO2018149151A1 (zh) * 2017-02-15 2018-08-23 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板及其制备方法、显示装置和涂胶系统
US10884284B2 (en) 2017-02-15 2021-01-05 Boe Technology Group Co., Ltd. Color film substrate and preparation method therefor, display device and glue applying system
CN109116619A (zh) * 2018-09-26 2019-01-01 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板、显示面板、掩膜板
US11175442B2 (en) 2018-09-26 2021-11-16 Ordos Yuansheng Optoelectronics Co., Ltd. Color filter substrate and display panel

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